JPH07111297A - 電子部品とその製造方法 - Google Patents
電子部品とその製造方法Info
- Publication number
- JPH07111297A JPH07111297A JP25684993A JP25684993A JPH07111297A JP H07111297 A JPH07111297 A JP H07111297A JP 25684993 A JP25684993 A JP 25684993A JP 25684993 A JP25684993 A JP 25684993A JP H07111297 A JPH07111297 A JP H07111297A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal film
- electrode
- substrate
- cover
- electronic component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
Landscapes
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は電子部品とその製造方法に関するも
ので、水分の浸入を防止することを目的とするものであ
る。 【構成】 そしてこの目的を達成するために本発明は、
樹脂製の基板と、カバー10とを備え、前記基板1は複
数の貫通電極5とこの貫通電極5の下端に接続された外
部電極2を有し、前記貫通電極5の上端に対応する基板
1上の第1の金属膜3の外周部分を陽極酸化させると共
に、この陽極酸化層により囲まれた電極4と素子8の電
極8aを電気的に接続したものである。
ので、水分の浸入を防止することを目的とするものであ
る。 【構成】 そしてこの目的を達成するために本発明は、
樹脂製の基板と、カバー10とを備え、前記基板1は複
数の貫通電極5とこの貫通電極5の下端に接続された外
部電極2を有し、前記貫通電極5の上端に対応する基板
1上の第1の金属膜3の外周部分を陽極酸化させると共
に、この陽極酸化層により囲まれた電極4と素子8の電
極8aを電気的に接続したものである。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は素子を基体とカバーで覆
った電子部品と、その製造方法に関するものである。
った電子部品と、その製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来この種の電子部品においては、基板
上に素子を実装し、この素子をほこり等の異物付着から
保護するために、該基板上にカバーを被せて素子を覆っ
た構成としている。
上に素子を実装し、この素子をほこり等の異物付着から
保護するために、該基板上にカバーを被せて素子を覆っ
た構成としている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記構成においては、
基板とカバーにより素子をほこりなどから保護すること
が出来るが、水分の浸入についてはさらに改善を要する
ものであった。即ち基板或いはカバーを生産性を高める
ために樹脂材料で成型した場合、大気中の水分等がその
樹脂構成部分を浸透して素子部分まで浸入し、素子の特
性を劣化させてしまうことがある。そこで本発明は、こ
の水分の浸入を防ぎ素子の特性劣化を防止するものであ
る。
基板とカバーにより素子をほこりなどから保護すること
が出来るが、水分の浸入についてはさらに改善を要する
ものであった。即ち基板或いはカバーを生産性を高める
ために樹脂材料で成型した場合、大気中の水分等がその
樹脂構成部分を浸透して素子部分まで浸入し、素子の特
性を劣化させてしまうことがある。そこで本発明は、こ
の水分の浸入を防ぎ素子の特性劣化を防止するものであ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】そしてこの目的を達成す
るために本発明は、樹脂素材からなる基板と、この基板
の上面側に設けた金属膜と、この金属膜上に実装された
素子と、この素子を覆う如く前記金属膜上に被せられる
と共にその下面側に少なくとも金属表面を有するカバー
を備え、前記基板は複数の貫通電極とこの貫通電極の下
端に接続された外部電極を有し、前記貫通電極の上端に
対応する金属膜の外周部位を陽極酸化させると共に、こ
の陽極酸化層部に囲まれた金属膜部分と前記素子の電極
を電気的接続手段で接続したものである。
るために本発明は、樹脂素材からなる基板と、この基板
の上面側に設けた金属膜と、この金属膜上に実装された
素子と、この素子を覆う如く前記金属膜上に被せられる
と共にその下面側に少なくとも金属表面を有するカバー
を備え、前記基板は複数の貫通電極とこの貫通電極の下
端に接続された外部電極を有し、前記貫通電極の上端に
対応する金属膜の外周部位を陽極酸化させると共に、こ
の陽極酸化層部に囲まれた金属膜部分と前記素子の電極
を電気的接続手段で接続したものである。
【0005】
【作用】上記構成とすれば基板上の金属膜及びカバーの
基板側面の金属表面により、水分の素子部分への浸入を
防ぐことが出来、その結果として素子の特性劣化を防止
出来るのである。
基板側面の金属表面により、水分の素子部分への浸入を
防ぐことが出来、その結果として素子の特性劣化を防止
出来るのである。
【0006】
【実施例】図1において1は例えばエポキシ樹脂よりな
る基板で、その裏面側には図2に示す如く6個の外部電
極2が設けられている。またこの基板1の表面側にはA
lからなる第1の金属膜3が全面に設けられている。そ
してこの第1の金属膜3の前記外部電極2に対応する部
分には夫々図1に示す如く電極4が形成され、この電極
4と前記外部電極2とは基板1に予め形成された貫通電
極5により接続されている。この電極4は図3,図4に
示す工程を経て作られている。即ちまず図3に示す如く
外部電極2と、貫通電極5を各々6個ずつ図2に示すよ
うに配置した基板1の上面に、Alからなる第1の金属
膜3を全面的に設ける。次に図4に示す如く、下層がC
r,Ti或いはNiなど、上層がAu層もしくはSn層
からなる第2の金属膜6を設ける。
る基板で、その裏面側には図2に示す如く6個の外部電
極2が設けられている。またこの基板1の表面側にはA
lからなる第1の金属膜3が全面に設けられている。そ
してこの第1の金属膜3の前記外部電極2に対応する部
分には夫々図1に示す如く電極4が形成され、この電極
4と前記外部電極2とは基板1に予め形成された貫通電
極5により接続されている。この電極4は図3,図4に
示す工程を経て作られている。即ちまず図3に示す如く
外部電極2と、貫通電極5を各々6個ずつ図2に示すよ
うに配置した基板1の上面に、Alからなる第1の金属
膜3を全面的に設ける。次に図4に示す如く、下層がC
r,Ti或いはNiなど、上層がAu層もしくはSn層
からなる第2の金属膜6を設ける。
【0007】この第2の金属膜6は図1に示す如く、電
極4の外周部域上の部分がドーナツ状(環状)に切欠か
れた形状で、第1の金属膜3上に印刷、或いは蒸着、も
しくはメッキ法により形成されたものであり、同形状を
形成するためにホトレジスト等のマスク材を用いた場合
は、同マスク材を同層上に残置させても良い。
極4の外周部域上の部分がドーナツ状(環状)に切欠か
れた形状で、第1の金属膜3上に印刷、或いは蒸着、も
しくはメッキ法により形成されたものであり、同形状を
形成するためにホトレジスト等のマスク材を用いた場合
は、同マスク材を同層上に残置させても良い。
【0008】この図4に示す状態の基板1を、例えばリ
ン酸第1アンモニウム水溶液中に浸漬し、外部電極部に
電源の陽極を、電源の陰極を水溶液中に浸漬した陰極電
極に接続して溶液中で通電すれば、図4に示す如く電極
4上の外周部で第2の金属膜が設けられていない部分、
即ち図1における第2の金属膜6のドーナツ状切欠部6
aに対応する第1の金属膜3であるAl膜が露出してい
る部分において、その膜厚全体にわたりドーナツ状の陽
極酸化層が形成される。この後ホトレジスト等のマスク
材を金属膜6上に残置させた場合は、同マスク材を除去
する。これにより電極4はその外周部の陽極酸化層部4
aにより、その外周の第1の金属膜とは電気的に絶縁分
離された電極となる。この独立した電極4上には、第2
の金属膜6による電極6bが設けられており、この電極
6bと第2の金属膜6上に図5に示す如く、接着剤7に
よって実装された素子8の図1に示す電極8aとがワイ
ヤー9により接続されている。この場合電極8aはA
l、ワイヤー9はAu、電極6bはAuにより構成され
ている。つまり素子8の電極8aはワイヤー9、電極6
b及び4、貫通電極5を介して外部電極2に引出されて
いるのである。またその場合例えば図2に示す中部の外
部電極2が入出力用電極、上下4個の外部電極2はアー
ス用電極となる。
ン酸第1アンモニウム水溶液中に浸漬し、外部電極部に
電源の陽極を、電源の陰極を水溶液中に浸漬した陰極電
極に接続して溶液中で通電すれば、図4に示す如く電極
4上の外周部で第2の金属膜が設けられていない部分、
即ち図1における第2の金属膜6のドーナツ状切欠部6
aに対応する第1の金属膜3であるAl膜が露出してい
る部分において、その膜厚全体にわたりドーナツ状の陽
極酸化層が形成される。この後ホトレジスト等のマスク
材を金属膜6上に残置させた場合は、同マスク材を除去
する。これにより電極4はその外周部の陽極酸化層部4
aにより、その外周の第1の金属膜とは電気的に絶縁分
離された電極となる。この独立した電極4上には、第2
の金属膜6による電極6bが設けられており、この電極
6bと第2の金属膜6上に図5に示す如く、接着剤7に
よって実装された素子8の図1に示す電極8aとがワイ
ヤー9により接続されている。この場合電極8aはA
l、ワイヤー9はAu、電極6bはAuにより構成され
ている。つまり素子8の電極8aはワイヤー9、電極6
b及び4、貫通電極5を介して外部電極2に引出されて
いるのである。またその場合例えば図2に示す中部の外
部電極2が入出力用電極、上下4個の外部電極2はアー
ス用電極となる。
【0009】次に第2の金属膜6上に図6に示す如く、
樹脂等からなるカバー10が固着させられる。即ちカバ
ー10は下面が開口した箱型であり、その下面全域には
図6に示す如く第3の金属膜10aが設けられている。
この第3の金属膜10aは、少なくとも表層はSnで構
成されており、第2の金属膜6に当接させると共に加熱
することで、Sn−Au共晶合金が形成され、この結果
としてカバー10は基板1上に気密状態で固定されるこ
とになる。また第2の金属膜6をSnで構成した場合
は、第3の金属膜10aは少なくとも表層がAuで形成
した構成とし、カバー10を基板1の第2の金属膜6上
に当接加熱した際には前記の場合と同様にSn−Au共
晶合金が形成される構造となっている。
樹脂等からなるカバー10が固着させられる。即ちカバ
ー10は下面が開口した箱型であり、その下面全域には
図6に示す如く第3の金属膜10aが設けられている。
この第3の金属膜10aは、少なくとも表層はSnで構
成されており、第2の金属膜6に当接させると共に加熱
することで、Sn−Au共晶合金が形成され、この結果
としてカバー10は基板1上に気密状態で固定されるこ
とになる。また第2の金属膜6をSnで構成した場合
は、第3の金属膜10aは少なくとも表層がAuで形成
した構成とし、カバー10を基板1の第2の金属膜6上
に当接加熱した際には前記の場合と同様にSn−Au共
晶合金が形成される構造となっている。
【0010】またカバー10の第3の金属膜10aを半
田金属で構成した場合には、基板1の第2の金属膜6の
Au或いはSnとの間で、半田溶融接合が当接部でなさ
れ、前記の場合と同様にカバー10と基板1が気密状態
で接合固定される。
田金属で構成した場合には、基板1の第2の金属膜6の
Au或いはSnとの間で、半田溶融接合が当接部でなさ
れ、前記の場合と同様にカバー10と基板1が気密状態
で接合固定される。
【0011】以上の如く素子8は基板1とカバー10に
より、ほこり等の外気から保護され、またこれらが樹脂
製であって、それらの素材中に水分が浸入したとして
も、その水分は第1の金属膜3と第3の金属膜10aに
より上下で完全に遮断され、その結果として容器中に実
装した素子8はほこりだけでなく、外部から浸入する水
分からも完全に保護され、素子の性能劣化を起こさない
ものとなる。
より、ほこり等の外気から保護され、またこれらが樹脂
製であって、それらの素材中に水分が浸入したとして
も、その水分は第1の金属膜3と第3の金属膜10aに
より上下で完全に遮断され、その結果として容器中に実
装した素子8はほこりだけでなく、外部から浸入する水
分からも完全に保護され、素子の性能劣化を起こさない
ものとなる。
【0012】さらに素子8の上下をこの様に第1の金属
膜3と第3の金属膜10aで包囲した構成となり、外部
からの素子8に対する電磁気波の遮蔽がなされ、この点
からもその性能劣化及び誤動作を防ぐことが出来る。
膜3と第3の金属膜10aで包囲した構成となり、外部
からの素子8に対する電磁気波の遮蔽がなされ、この点
からもその性能劣化及び誤動作を防ぐことが出来る。
【0013】なお、上記実施例においては、電極6bと
8aをワイヤー9で接続したが、例えば貫通電極5の上
端を基板1上面へ突出させ、その状態で上記と同じく電
極4,6bを形成すれば、電極6bは図1の状態から上
方へ突出した形態で形成される。そしてこの場合には素
子8を反転させてその電極8aを直接この突出した電極
6b上に電気的に接続しても良い。勿論この時はワイヤ
ー9は廃止されることになる。
8aをワイヤー9で接続したが、例えば貫通電極5の上
端を基板1上面へ突出させ、その状態で上記と同じく電
極4,6bを形成すれば、電極6bは図1の状態から上
方へ突出した形態で形成される。そしてこの場合には素
子8を反転させてその電極8aを直接この突出した電極
6b上に電気的に接続しても良い。勿論この時はワイヤ
ー9は廃止されることになる。
【0014】また、図1に示したものでは、素子8のA
l電極8aと電極6bをAuワイヤー9により接続した
が、電極4のAl上の電極6bのAu或いはSnからな
る金属層を廃止し、電極4のAlと素子8の電極8aの
Alを、Alからなるワイヤーで接続しても良く、この
様に接続する3者のすべてをAlとすれば異種金属接合
による金属間化合物の生成を防いだ電極接合法とするこ
ともできる。
l電極8aと電極6bをAuワイヤー9により接続した
が、電極4のAl上の電極6bのAu或いはSnからな
る金属層を廃止し、電極4のAlと素子8の電極8aの
Alを、Alからなるワイヤーで接続しても良く、この
様に接続する3者のすべてをAlとすれば異種金属接合
による金属間化合物の生成を防いだ電極接合法とするこ
ともできる。
【0015】
【発明の効果】以上の様に本発明は、樹脂製の基板とこ
の基板の上面側に設けた金属膜と、この金属膜上に実装
された素子と、この素子を覆う如く前記金属膜上に被せ
られると共に、その下面側に少なくとも金属表面を有す
るカバーとを備え、前記基板は複数の貫通電極とこの貫
通電極の下端に接続された外部電極を有し、前記貫通電
極の上端に対応する金属膜の外周部分を陽極酸化させる
と共に、この陽極酸化層により囲まれた金属膜部分と前
記素子の電極を電気的に接続したものである。
の基板の上面側に設けた金属膜と、この金属膜上に実装
された素子と、この素子を覆う如く前記金属膜上に被せ
られると共に、その下面側に少なくとも金属表面を有す
るカバーとを備え、前記基板は複数の貫通電極とこの貫
通電極の下端に接続された外部電極を有し、前記貫通電
極の上端に対応する金属膜の外周部分を陽極酸化させる
と共に、この陽極酸化層により囲まれた金属膜部分と前
記素子の電極を電気的に接続したものである。
【0016】そして以上の構成とすれば基板上の金属膜
及びカバーの基板側面の金属表面により、水分の素子部
への浸入を防ぐことが出来、その結果として素子の特性
劣化を防止出来るのである。
及びカバーの基板側面の金属表面により、水分の素子部
への浸入を防ぐことが出来、その結果として素子の特性
劣化を防止出来るのである。
【図1】本発明の一実施例の一部切欠斜視図
【図2】その基板の平面図
【図3】その製造工程を示す断面図
【図4】その製造工程を示す断面図
【図5】その製造工程を示す断面図
【図6】その断面図
1 基板 2 外部電極 3 第1の金属膜 4 電極 4a 陽極酸化部 5 貫通電極 6 第2の金属膜 8 素子 8a 電極 9 ワイヤー 10 カバー
Claims (8)
- 【請求項1】 樹脂素材からなる基板と、この基板の上
面側に設けた金属膜と、この金属膜上に実装された素子
と、この素子を覆う如く前記金属膜上に被せられると共
にその下面側に少なくとも金属表面を有するカバーを備
え、前記基板は複数の貫通電極とこの貫通電極の下端に
接続された外部電極を有し、前記貫通電極の上端に対応
する金属膜の外周部位を陽極酸化させると共に、この陽
極酸化層部に囲まれた金属膜部分と前記素子の電極を電
気的接続手段で接続した電子部品。 - 【請求項2】 金属膜の陽極酸化層部分を除く全面には
陽極酸化時にマスクとなる第2の金属膜層を設け、この
第2の金属膜上にカバーの金属表面を当接させた状態で
固着させた請求項1に記載の電子部品。 - 【請求項3】 金属膜層をAlで形成し、第2の金属膜
は少なくともAu或いはSnを表面層とした薄膜からな
る請求項2に記載の電子部品。 - 【請求項4】 陽極酸化層で囲まれた金属膜部分に、A
lのワイヤーを介して、素子のAl電極とを接続した請
求項3に記載の電子部品。 - 【請求項5】 カバーの金属表面はSn,Au、半田金
属の少なくとも一つの金属膜より形成した請求項3に記
載の電子部品。 - 【請求項6】 カバーを樹脂で形成すると共に、その下
面側には第3の金属膜を設けた請求項5に記載の電子部
品。 - 【請求項7】 複数の貫通電極を有する樹脂基板の上面
側に金属膜を設け、この金属膜の前記貫通電極の上端に
対応する外周部分を陽極酸化処理し、その後この金属膜
上に素子を実装すると共に、この素子の電極と前記陽極
酸化層に囲まれた金属膜部分とを電気的に接続し、その
後この素子を覆う如く前記金属膜上にカバーを被せ、次
にこのカバーの基板側面に設けた金属表面と、前記金属
膜とを当接させた状態で、カバーを基板上の金属膜に固
定する電子部品の製造方法。 - 【請求項8】 金属膜上に陽極酸化時にマスクとなる第
2の金属膜を設けた、請求項7に記載の電子部品の製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25684993A JP3036324B2 (ja) | 1993-10-14 | 1993-10-14 | 電子部品とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25684993A JP3036324B2 (ja) | 1993-10-14 | 1993-10-14 | 電子部品とその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07111297A true JPH07111297A (ja) | 1995-04-25 |
JP3036324B2 JP3036324B2 (ja) | 2000-04-24 |
Family
ID=17298271
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25684993A Expired - Fee Related JP3036324B2 (ja) | 1993-10-14 | 1993-10-14 | 電子部品とその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3036324B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100735310B1 (ko) * | 2006-04-21 | 2007-07-04 | 삼성전기주식회사 | 다층 반사 면 구조를 갖는 엘이디 패키지 및 그 제조방법 |
JP2007258714A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 高温工程に適した絶縁構造体及びその製造方法 |
-
1993
- 1993-10-14 JP JP25684993A patent/JP3036324B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007258714A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 高温工程に適した絶縁構造体及びその製造方法 |
US7998879B2 (en) | 2006-03-20 | 2011-08-16 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Insulation structure for high temperature conditions and manufacturing method thereof |
US9231167B2 (en) | 2006-03-20 | 2016-01-05 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Insulation structure for high temperature conditions and manufacturing method thereof |
KR100735310B1 (ko) * | 2006-04-21 | 2007-07-04 | 삼성전기주식회사 | 다층 반사 면 구조를 갖는 엘이디 패키지 및 그 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3036324B2 (ja) | 2000-04-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6426537B2 (en) | Ultra-thin piezoelectric resonator | |
US3588628A (en) | Encapsulated electrical component with planar terminals | |
US4138691A (en) | Framed lead assembly for a semiconductor device comprising insulator reinforcing strips supported by a frame and made integral with lead strips | |
GB2040561A (en) | Piezoelectric bar resonator | |
KR100230893B1 (ko) | 전자부품장치와 그 제조방법 | |
JP3036324B2 (ja) | 電子部品とその製造方法 | |
JPH09116047A (ja) | セラミックパッケージの構造 | |
JPS6134632Y2 (ja) | ||
JPH0412677Y2 (ja) | ||
JP3419358B2 (ja) | 金属キャップの絶縁膜形成方法 | |
JPH0353779B2 (ja) | ||
JP2550991B2 (ja) | ピングリッドアレイ半導体モジュ−ル | |
JPH0121552Y2 (ja) | ||
JPS634349B2 (ja) | ||
JP3419357B2 (ja) | 金属キャップの絶縁膜形成方法 | |
JPH0132330Y2 (ja) | ||
JPH0529870A (ja) | チツプ型表面波デバイス | |
JP2576010Y2 (ja) | 半導体素子収納用パッケージ | |
JP3892949B2 (ja) | キャップ端子付電解コンデンサ | |
JPH06132460A (ja) | リードフレーム及びその製造方法 | |
JPH08274240A (ja) | 半導体装置 | |
JPH0357252A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JPH0766672A (ja) | 表面実装型圧電部品 | |
JPH10163787A (ja) | 振動子とその製造方法 | |
JP2001135754A (ja) | 電気回路装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |