JPH0710858A - 新規タキソール誘導体 - Google Patents
新規タキソール誘導体Info
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- JPH0710858A JPH0710858A JP5155673A JP15567393A JPH0710858A JP H0710858 A JPH0710858 A JP H0710858A JP 5155673 A JP5155673 A JP 5155673A JP 15567393 A JP15567393 A JP 15567393A JP H0710858 A JPH0710858 A JP H0710858A
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Landscapes
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Medicines Containing Plant Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】水溶性を向上させた新規タキソール誘導体を製
造し、臨床上優れた治療効果を示す注射剤等を提供す
る。 【構成】式 [式中、R1はジメチルホスフィニル、2,2,2−ト
リクロロエトキシカルボニル、または水素原子であり、
R2はジメチルホスフィニル、または水素原子である]
で表わされるタキソール誘導体。
造し、臨床上優れた治療効果を示す注射剤等を提供す
る。 【構成】式 [式中、R1はジメチルホスフィニル、2,2,2−ト
リクロロエトキシカルボニル、または水素原子であり、
R2はジメチルホスフィニル、または水素原子である]
で表わされるタキソール誘導体。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は抗腫瘍活性を有する新規
なタキソール誘導体に関する。
なタキソール誘導体に関する。
【0002】
【従来の技術】タキソールは西洋イチイの樹皮から得ら
れる下記式(I)で表される構造を有する抗腫瘍性化合
物である。
れる下記式(I)で表される構造を有する抗腫瘍性化合
物である。
【0003】
【0004】既に、WO90/10443(ヴィ.ジェ
イ.ステラら)、合衆国特許第5,059,699号
(デー.ジー.アイ.キングストンら)、合衆国特許第
5,157,049号(アール.デー.ホーウィッツ
ら)等に水溶性を向上させたタキソール誘導体が開示さ
れている。
イ.ステラら)、合衆国特許第5,059,699号
(デー.ジー.アイ.キングストンら)、合衆国特許第
5,157,049号(アール.デー.ホーウィッツ
ら)等に水溶性を向上させたタキソール誘導体が開示さ
れている。
【0005】それら開示化合物は何れもタキソールの2
´位あるいは7位の水酸基をアシル化したものであり、
その多くはアシル側鎖中にカルボン酸塩、4級アンモニ
ウム塩、スルホン酸塩等の水溶性官能基を有する誘導体
である。
´位あるいは7位の水酸基をアシル化したものであり、
その多くはアシル側鎖中にカルボン酸塩、4級アンモニ
ウム塩、スルホン酸塩等の水溶性官能基を有する誘導体
である。
【発明が解決しようとする課題】タキソールは臨床上、
卵巣癌及び乳癌等に優れた治療効果を示すことが報告さ
れているが、水溶性がきわめて低いため、注射剤等の製
剤化に大きな問題点がある。 上述の化合物は何れもタ
キソールの2´位あるいは7位の水酸基をアシル化した
ものであり、その多くはアシル側鎖中にカルボン酸塩、
4級アンモニウム塩、スルホン酸塩等の水溶性官能基を
有する誘導体である。
卵巣癌及び乳癌等に優れた治療効果を示すことが報告さ
れているが、水溶性がきわめて低いため、注射剤等の製
剤化に大きな問題点がある。 上述の化合物は何れもタ
キソールの2´位あるいは7位の水酸基をアシル化した
ものであり、その多くはアシル側鎖中にカルボン酸塩、
4級アンモニウム塩、スルホン酸塩等の水溶性官能基を
有する誘導体である。
【0006】本発明の目的は、従来の化合物と異なるタ
イプの新規タキソール誘導体、すなわち、タキソールの
2´位または7位、及び2´位と7位に高極性なジメチ
ルホスフィニル基を導入することにより水溶性を向上さ
せた新規タキソール誘導体を提供することにある。
イプの新規タキソール誘導体、すなわち、タキソールの
2´位または7位、及び2´位と7位に高極性なジメチ
ルホスフィニル基を導入することにより水溶性を向上さ
せた新規タキソール誘導体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】本発明の抗腫瘍活性を有
する水溶性タキソール誘導体は、
する水溶性タキソール誘導体は、
【0007】式(II)
【0008】[式中、R1はジメチルホスフィニル、
2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル、または水
素原子であり、R2はジメチルホスフィニル、または水
素原子である]で表わされる。
2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル、または水
素原子であり、R2はジメチルホスフィニル、または水
素原子である]で表わされる。
【0009】次に、本発明化合物(II)の製造法につ
いて概説する。
いて概説する。
【0010】(1)R1がジメチルホスフィニルで、R2
が水素原子及びR1がジメチルホスフィニルで、R2がジ
メチルホスフィニルである化合物は、タキソールにジメ
チルホスフィニッククロリドを不活性溶媒中、塩基存在
下で反応させることにより得ることができる。
が水素原子及びR1がジメチルホスフィニルで、R2がジ
メチルホスフィニルである化合物は、タキソールにジメ
チルホスフィニッククロリドを不活性溶媒中、塩基存在
下で反応させることにより得ることができる。
【0011】(2)R1が2,2,2−トリクロロエト
キシカルボニルで、R2がジメチルホスフィニルである
化合物は、公知の方法で得られる2´−(2,2,2−
トリクロロエトキシカルボニル)タキソールにジメチル
ホスフィニッククロリドを不活性溶媒中、塩基存在下で
反応させることにより得ることができる。
キシカルボニルで、R2がジメチルホスフィニルである
化合物は、公知の方法で得られる2´−(2,2,2−
トリクロロエトキシカルボニル)タキソールにジメチル
ホスフィニッククロリドを不活性溶媒中、塩基存在下で
反応させることにより得ることができる。
【0012】(3)R1が水素原子で、R2がジメチルホ
スフィニルである化合物は、上記反応(2)で得られる
R1が2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルで、
R2がジメチルホスフィニルである化合物に酢酸中また
は酢酸と溶媒の混合液中、亜鉛粉末を加え反応させるこ
とにより得られる。
スフィニルである化合物は、上記反応(2)で得られる
R1が2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルで、
R2がジメチルホスフィニルである化合物に酢酸中また
は酢酸と溶媒の混合液中、亜鉛粉末を加え反応させるこ
とにより得られる。
【0013】上記反応(1)、(2)で用いられる塩基
としては、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基が
好ましい。また、上記反応(1)、(2)で用いられる
不活性溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン等の
ハロゲン系溶媒が最適である。
としては、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基が
好ましい。また、上記反応(1)、(2)で用いられる
不活性溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレン等の
ハロゲン系溶媒が最適である。
【0014】上記反応(3)で用いられる最適な溶媒と
しては、メタノール、エタノールなどのアルコール系溶
媒があげられる。
しては、メタノール、エタノールなどのアルコール系溶
媒があげられる。
【0015】上記反応は何れも0℃から室温で行うのが
好ましく、通常は数時間から数日間で完了する。目的物
(II)は一般的な単離、精製法、例えば抽出、クロマ
トグラフィー、再結晶により得ることができる。
好ましく、通常は数時間から数日間で完了する。目的物
(II)は一般的な単離、精製法、例えば抽出、クロマ
トグラフィー、再結晶により得ることができる。
【0016】本発明の代表的な化合物の構造式を表1に
示す。
示す。
【0017】化合物番号は後述する実施例番号に対応す
る。
る。
【0018】
【表1】
【0019】
【発明の効果】本発明化合物はタキソールと同等の強い
抗腫瘍活性を示し、かつタキソールを上回る水溶性有し
ており、抗腫瘍剤として有用である。
抗腫瘍活性を示し、かつタキソールを上回る水溶性有し
ており、抗腫瘍剤として有用である。
【実施例】以下、実施例及び試験例を示し、本発明を具
体的に説明する。
体的に説明する。
【0020】実施例12´−ジメチルホスフィニルタキソール(化合物1)の
合成 タキソール 0.30gを塩化メチレン 6.0mlに溶解し、窒素
雰囲気下、ジメチルホスフィニッククロリド 0.395gを
塩化メチレン 0.79mlに溶解した溶液を加え、次いでト
リエチルアミン 0.49mlを滴下し、20℃にて24時間
攪拌した。反応液をろ過した後、溶媒を留去して得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[クロロ
ホルム:メタノール=30:1(v/v)にて溶出]に
付し、先に溶出する当該化合物画分を酢酸エチル−ヘキ
サンにて再結晶して、化合物1を0.167g(収率 51.1%)
得た。
合成 タキソール 0.30gを塩化メチレン 6.0mlに溶解し、窒素
雰囲気下、ジメチルホスフィニッククロリド 0.395gを
塩化メチレン 0.79mlに溶解した溶液を加え、次いでト
リエチルアミン 0.49mlを滴下し、20℃にて24時間
攪拌した。反応液をろ過した後、溶媒を留去して得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[クロロ
ホルム:メタノール=30:1(v/v)にて溶出]に
付し、先に溶出する当該化合物画分を酢酸エチル−ヘキ
サンにて再結晶して、化合物1を0.167g(収率 51.1%)
得た。
【0021】mp193−196℃ IR(KBr)νcm-1:1723,1245,1072
【0022】1H−NMR(CDCl3)δ:1.10
(3H,s),1.18(3H,s),1.43(3
H,d,J=13Hz),1.54(3H,d,J=1
3Hz),1.66(3H,s),1.68−1.82
(1H,m),1.87(3H,d,J=1Hz),
2.03(1H,d,J=8Hz),2.10(1H,
d,J=8Hz),2.23(3H,s),2.42
(3H,s),2.48−2.63(1H,m),3.
75(1H,d,J=7Hz),4.16(1H,d,
J=8Hz),4.27(1H,d,J=8Hz),
4.32−4.46(1H,m),4.94(1H,d
d,J=10,3Hz),5.31(1H,dd,J=
13,7Hz),5.62(1H,d,J=7Hz),
5.83(1H,t,J=7Hz),6.16(1H,
dt,J=8,1Hz),6.25(1H,s),7.
20−7.69(11H,m),7.86−7.95
(2H,m),8.06−8.15(2H,m),8.
19(1H,d,J=7Hz)
(3H,s),1.18(3H,s),1.43(3
H,d,J=13Hz),1.54(3H,d,J=1
3Hz),1.66(3H,s),1.68−1.82
(1H,m),1.87(3H,d,J=1Hz),
2.03(1H,d,J=8Hz),2.10(1H,
d,J=8Hz),2.23(3H,s),2.42
(3H,s),2.48−2.63(1H,m),3.
75(1H,d,J=7Hz),4.16(1H,d,
J=8Hz),4.27(1H,d,J=8Hz),
4.32−4.46(1H,m),4.94(1H,d
d,J=10,3Hz),5.31(1H,dd,J=
13,7Hz),5.62(1H,d,J=7Hz),
5.83(1H,t,J=7Hz),6.16(1H,
dt,J=8,1Hz),6.25(1H,s),7.
20−7.69(11H,m),7.86−7.95
(2H,m),8.06−8.15(2H,m),8.
19(1H,d,J=7Hz)
【0023】 FABMS(+KI)m/z:968(MK+) 高分解能FABMS(+KI)m/z:Calcd for C49
H56NO15PK,968.3023;Found,968.
3050
H56NO15PK,968.3023;Found,968.
3050
【0024】実施例22´,7−ビス(ジメチルホスフィニル)タキソール
(化合物2)の合成 実施例1におけるカラムクロマトグラフィーにて、化合
物1の後に溶出する画分より、化合物2を 0.073g(収
率 20.7%)得た。
(化合物2)の合成 実施例1におけるカラムクロマトグラフィーにて、化合
物1の後に溶出する画分より、化合物2を 0.073g(収
率 20.7%)得た。
【0025】mp236−240℃ IR(KBr)νcm-1:1747,1724,124
3,1205
3,1205
【0026】1H−NMR(CDCl3)δ:1.13
(6H,s),1.45(3H,d,J=13Hz),
1.48(3H,d,J=13Hz),1.54(3
H,d,J=13Hz),1.55(3H,d,J=1
3Hz),1.63−1.73(1H,m),1.76
(3H,s),1.97(3H,s),2.00−2.
13(2H,m),2.17(3H,s),2.37
(3H,s),2.80−2.98(1H,m),3.
83(1H,d,J=6Hz),4.16(1H,d,
J=8Hz),4.28(1H,d,J=8Hz),
4.83−4.98(2H,m),5.28(1H,d
d,J=13,7Hz),5.63(1H,d,J=6
Hz),5.80(1H,t,J=7Hz),6.12
(1H,t,J=8Hz),6.47(1H,s),
7.20−7.70(11H,s),7.89−7.9
8(2H,m),8.03−8.13(2H,m),
8.30(1H,d,J=7Hz)
(6H,s),1.45(3H,d,J=13Hz),
1.48(3H,d,J=13Hz),1.54(3
H,d,J=13Hz),1.55(3H,d,J=1
3Hz),1.63−1.73(1H,m),1.76
(3H,s),1.97(3H,s),2.00−2.
13(2H,m),2.17(3H,s),2.37
(3H,s),2.80−2.98(1H,m),3.
83(1H,d,J=6Hz),4.16(1H,d,
J=8Hz),4.28(1H,d,J=8Hz),
4.83−4.98(2H,m),5.28(1H,d
d,J=13,7Hz),5.63(1H,d,J=6
Hz),5.80(1H,t,J=7Hz),6.12
(1H,t,J=8Hz),6.47(1H,s),
7.20−7.70(11H,s),7.89−7.9
8(2H,m),8.03−8.13(2H,m),
8.30(1H,d,J=7Hz)
【0027】 FABMS(+KI)m/z:1044(MK+) 高分解能FABMS(+KI)m/z:Calcd for C
51H61NO16P2K,1044.3100;Found, 10
44.3120
51H61NO16P2K,1044.3100;Found, 10
44.3120
【0028】実施例32´−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル)
−7−ジメチルホスフィニルタキソール(化合物3)の
合成 2´−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル)
タキソール 0.38gを塩化メチレン 11.8mlに溶解し、窒
素雰囲気下、ジメチルホスフィニッククロリド0.83gを
塩化メチレン 1.66mlに溶解した溶液を加え、次いでピ
リジン 0.60mlを滴下し、20℃にて3時間攪拌した。
反応液に塩化メチレンを加え、0.1M塩酸、0.05
M炭酸水素ナトリウム及び水にて順次洗浄し、無水硫酸
マグネシウムにて乾燥後溶媒を留去して粗生成物を得
た。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー[クロロホルム:メタノール=30:1(v/v)に
て溶出]に付し、得られた当該化合物画分を酢酸エチル
−ヘキサンにて再結晶して化合物3を 0.356g(収率 8
7.3%)得た。
−7−ジメチルホスフィニルタキソール(化合物3)の
合成 2´−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル)
タキソール 0.38gを塩化メチレン 11.8mlに溶解し、窒
素雰囲気下、ジメチルホスフィニッククロリド0.83gを
塩化メチレン 1.66mlに溶解した溶液を加え、次いでピ
リジン 0.60mlを滴下し、20℃にて3時間攪拌した。
反応液に塩化メチレンを加え、0.1M塩酸、0.05
M炭酸水素ナトリウム及び水にて順次洗浄し、無水硫酸
マグネシウムにて乾燥後溶媒を留去して粗生成物を得
た。この粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー[クロロホルム:メタノール=30:1(v/v)に
て溶出]に付し、得られた当該化合物画分を酢酸エチル
−ヘキサンにて再結晶して化合物3を 0.356g(収率 8
7.3%)得た。
【0029】mp187−190℃ IR(KBr)νcm -1:1724,1241
【0030】1H−NMR(CDCl3)δ:1.21
(6H,s),1.45(3H,d,J=13Hz),
1.60(3H,d,J=13Hz),1.78(3
H,s),2.00(3H,s),2.08−2.17
(1H,m),2.18(3H,s),2.26(1
H,d,J=8Hz),2.40(1H,d,J=8H
z), 2.47(3H,s),2.87−3.06
(1H,m),3.90(1H,d,J=6Hz),
4.18(1H,d,J=8Hz),4.33(1H,
d,J=8Hz),4.76(1H,d,J=12H
z),4.81(1H,d,J= 12Hz),4.8
6−4.98(2H,m),5.54(1H,d,J=
3 Hz),5.71(1H,d,J=6Hz),6.
05(1H,dd,J=10,3Hz),6.26(1
H,t,J=8Hz),6.46(1H,s),6.9
1(1H,d,J=10Hz),7.31−7.68
(11H,m),7.72−7.81(2H,m),
8.09−8.18(2H,m)
(6H,s),1.45(3H,d,J=13Hz),
1.60(3H,d,J=13Hz),1.78(3
H,s),2.00(3H,s),2.08−2.17
(1H,m),2.18(3H,s),2.26(1
H,d,J=8Hz),2.40(1H,d,J=8H
z), 2.47(3H,s),2.87−3.06
(1H,m),3.90(1H,d,J=6Hz),
4.18(1H,d,J=8Hz),4.33(1H,
d,J=8Hz),4.76(1H,d,J=12H
z),4.81(1H,d,J= 12Hz),4.8
6−4.98(2H,m),5.54(1H,d,J=
3 Hz),5.71(1H,d,J=6Hz),6.
05(1H,dd,J=10,3Hz),6.26(1
H,t,J=8Hz),6.46(1H,s),6.9
1(1H,d,J=10Hz),7.31−7.68
(11H,m),7.72−7.81(2H,m),
8.09−8.18(2H,m)
【0031】 FABMS(+KI)m/z:1142(MK+) 高分解能FABMS(+KI)m/z:Calcd for C52
H57Cl3NO17PK,1142.2053;Found,1
142.2060
H57Cl3NO17PK,1142.2053;Found,1
142.2060
【0032】実施例47−ジメチルホスフィニルタキソール(化合物4)の合
成 化合物3 0.30gをメタノール−酢酸(9:1)10mlに溶
解し、亜鉛粉末 0.53gを加え20℃にて2時間攪拌し
た。反応終了後、反応液をろ過し、溶媒を留去して得ら
れた残渣に塩化メチレンを加え溶解し、0.1M塩酸、
0.05M炭酸水素ナトリウム、飽和食塩水にて順次洗
浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を留去
して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー[酢酸エチル:メタノール=20:1(v/v)にて
溶出]に付し、当該化合物画分を酢酸エチル−ヘキサン
にて再結晶し、化合物4を 0.189g(収率 75.0%)得
た。
成 化合物3 0.30gをメタノール−酢酸(9:1)10mlに溶
解し、亜鉛粉末 0.53gを加え20℃にて2時間攪拌し
た。反応終了後、反応液をろ過し、溶媒を留去して得ら
れた残渣に塩化メチレンを加え溶解し、0.1M塩酸、
0.05M炭酸水素ナトリウム、飽和食塩水にて順次洗
浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を留去
して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー[酢酸エチル:メタノール=20:1(v/v)にて
溶出]に付し、当該化合物画分を酢酸エチル−ヘキサン
にて再結晶し、化合物4を 0.189g(収率 75.0%)得
た。
【0033】mp192−194℃ IR(KBr)νcm -1:1727,12411 H−NMR(CDCl3)δ:1.19(6H,s),
1.42(3H,d,J=14Hz),1.57(3
H,d,J=14Hz),1.77(3H,s),1.
88(3H,s),2.04−2.16(1H,m),
2.18(3H,s),2.31(2H,d,J=8H
z),2.37(3H,s),2.80−2.99(1
H,m),3.87(3H,s),4.18(1H,
d,J=8Hz),4.31(1H,d,J=8H
z),4.78(1H,d,J=3Hz),4.82−
4.97(2H,m),5.69(1H,d,J=6H
z),5.78(1H,dd,J=9,3Hz),6.
17(1H,t,J=8Hz),6.45(1H,
s),7.18(1H,d,J=9Hz),7.28−
7.68(11H,m),7.72−7.82(2H,
m),8.06−8.16(2H,m)
1.42(3H,d,J=14Hz),1.57(3
H,d,J=14Hz),1.77(3H,s),1.
88(3H,s),2.04−2.16(1H,m),
2.18(3H,s),2.31(2H,d,J=8H
z),2.37(3H,s),2.80−2.99(1
H,m),3.87(3H,s),4.18(1H,
d,J=8Hz),4.31(1H,d,J=8H
z),4.78(1H,d,J=3Hz),4.82−
4.97(2H,m),5.69(1H,d,J=6H
z),5.78(1H,dd,J=9,3Hz),6.
17(1H,t,J=8Hz),6.45(1H,
s),7.18(1H,d,J=9Hz),7.28−
7.68(11H,m),7.72−7.82(2H,
m),8.06−8.16(2H,m)
【0034】 FABMS(+KI)m/z:968(MK+) 高分解能FABMS(+KI)m/z:Calcd for C49
H56NO15PK,968.3022;Found,968.
3043
H56NO15PK,968.3022;Found,968.
3043
【0035】試験例1〔KB細胞に対する増殖阻害作用
(In vitro)〕 (1)試験方法 平底の96穴プレートの各穴にKB細胞1×103個/
0.1mlの細胞浮遊液(10%牛胎児血清添加MEM
培地に浮遊)を添加し24時間培養した。これに、ジメ
チルスルホキシドに溶解し、培地で希釈した本発明化合
物液100μl(ジメチルスルホキシド最終濃度0.5
%)を添加し、さらに72時間培養した。培養後、4,
5−ジメチルチアゾール−2−イル−2,5−ジフェニ
ルテトラゾリウム ブロマイド試薬(発色試薬)を添加
し、さらに4時間培養した。
(In vitro)〕 (1)試験方法 平底の96穴プレートの各穴にKB細胞1×103個/
0.1mlの細胞浮遊液(10%牛胎児血清添加MEM
培地に浮遊)を添加し24時間培養した。これに、ジメ
チルスルホキシドに溶解し、培地で希釈した本発明化合
物液100μl(ジメチルスルホキシド最終濃度0.5
%)を添加し、さらに72時間培養した。培養後、4,
5−ジメチルチアゾール−2−イル−2,5−ジフェニ
ルテトラゾリウム ブロマイド試薬(発色試薬)を添加
し、さらに4時間培養した。
【0036】コントロールとして培地100μl(ジメ
チルスルホキシド最終濃度0.5%)を添加し、同様に
培養した。培養終了後、培地を除き、細胞を150μl
のジメチルスルホキシドに溶解して吸光度を測定し、コ
ントロール群の吸光度に対する本発明化合物の吸光度の
比を求め、50%増殖阻害濃度(IC50)を計算した。
チルスルホキシド最終濃度0.5%)を添加し、同様に
培養した。培養終了後、培地を除き、細胞を150μl
のジメチルスルホキシドに溶解して吸光度を測定し、コ
ントロール群の吸光度に対する本発明化合物の吸光度の
比を求め、50%増殖阻害濃度(IC50)を計算した。
【0037】(2)試験結果 化合物1のKB細胞に対するIC50値はタキソールと同
等の値を示した。
等の値を示した。
【0038】試験例2〔水に対する溶解度の測定〕 (1)試験方法 検体 5mgに水 5mlを加え、超音波にて5分間処理し検体
を分散させ、さらに室温にて30分間振とうした。次い
で 0.45μmメンブランフィルターにてろ過し、ろ液中に
存在する被検物質をHPLCにて定量した。
を分散させ、さらに室温にて30分間振とうした。次い
で 0.45μmメンブランフィルターにてろ過し、ろ液中に
存在する被検物質をHPLCにて定量した。
【0039】(2)HPLC測定条件 カラム:ODS−80TM 5μm(4.6mmID×
150mm) カラム温度:50℃ 溶離液:H2O(0.1%CF3CO2H):CH3CN=
1:1 流速:1.0ml/min 検出波長:230nm (3)試験結果 化合物1及びタキソールの水に対する溶解度を表2に示
す。
150mm) カラム温度:50℃ 溶離液:H2O(0.1%CF3CO2H):CH3CN=
1:1 流速:1.0ml/min 検出波長:230nm (3)試験結果 化合物1及びタキソールの水に対する溶解度を表2に示
す。
【0040】
【表2】
【0041】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A61K 35/78 C 8217−4C (72)発明者 畑山 勝男 東京都豊島区高田3丁目24番1号 大正製 薬株式会社内
Claims (1)
- 【請求項1】式 [式中、R1はジメチルホスフィニル、2,2,2−ト
リクロロエトキシカルボニル、または水素原子であり、
R2はジメチルホスフィニル、または水素原子である]
で表わされるタキソール誘導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5155673A JPH0710858A (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 新規タキソール誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5155673A JPH0710858A (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 新規タキソール誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0710858A true JPH0710858A (ja) | 1995-01-13 |
Family
ID=15611084
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5155673A Pending JPH0710858A (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 新規タキソール誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0710858A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996006852A1 (fr) * | 1994-08-26 | 1996-03-07 | Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. | Nouveau derive du taxol |
-
1993
- 1993-06-25 JP JP5155673A patent/JPH0710858A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996006852A1 (fr) * | 1994-08-26 | 1996-03-07 | Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. | Nouveau derive du taxol |
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