JPH07104488A - 電子写真感光体浸漬塗工装置 - Google Patents
電子写真感光体浸漬塗工装置Info
- Publication number
- JPH07104488A JPH07104488A JP12876593A JP12876593A JPH07104488A JP H07104488 A JPH07104488 A JP H07104488A JP 12876593 A JP12876593 A JP 12876593A JP 12876593 A JP12876593 A JP 12876593A JP H07104488 A JPH07104488 A JP H07104488A
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- Japan
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- coated
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 乾燥ムラのない品質の良い電子写真感光体を
製造すること。 【構成】 浸漬塗工装置に移動あるいは形状変化可能蒸
発調整用被覆を設ける。
製造すること。 【構成】 浸漬塗工装置に移動あるいは形状変化可能蒸
発調整用被覆を設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真感光体の浸漬
塗工装置に関するもので、特に乾燥ムラの無い電子写真
特性の良好な電子写真感光体の製造に用いる浸漬塗工装
置に関する。
塗工装置に関するもので、特に乾燥ムラの無い電子写真
特性の良好な電子写真感光体の製造に用いる浸漬塗工装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の浸漬塗工法による電子写真感光体
の製造は、図５に示すように、一般に被塗布物１を保持
装置２に取りつけ、その保持装置２を上下する事によ
り、被塗布物１を塗液を満たした浸漬槽３に浸漬、引き
上げて塗工を行うものである。まれには保持装置２は、
停止しており、浸漬槽側が上下する方式もある。そし
て、被塗布物１の周囲には、何の覆いも設けられていな
い。従って、図５に示すように、周辺の空気の動きによ
り、被塗布物に不均一に風が当たり乾燥ムラが生じる。
これに対し、浸漬槽３に遮風器を設けるなどの方法、
（特公平４−８０３８３）も提示されているが次に述べ
る如き問題点があり充分な解決方法ではない。
の製造は、図５に示すように、一般に被塗布物１を保持
装置２に取りつけ、その保持装置２を上下する事によ
り、被塗布物１を塗液を満たした浸漬槽３に浸漬、引き
上げて塗工を行うものである。まれには保持装置２は、
停止しており、浸漬槽側が上下する方式もある。そし
て、被塗布物１の周囲には、何の覆いも設けられていな
い。従って、図５に示すように、周辺の空気の動きによ
り、被塗布物に不均一に風が当たり乾燥ムラが生じる。
これに対し、浸漬槽３に遮風器を設けるなどの方法、
（特公平４−８０３８３）も提示されているが次に述べ
る如き問題点があり充分な解決方法ではない。
【０００３】
【発明が解決すべき課題】この様な浸漬塗工装置による
電子写真感光体の製造においては、被塗布物の乾燥の仕
方によって製品の品質が大きく変化する。特に被塗布物
への周辺空気の当たり方にムラがあると乾燥もムラとな
り、品質の低下をきたすこととなる。この為、一般にク
リーンルーム内で行われる電子写真感光体の塗布時に
は、空気浄化のための吹き出し空気量を落とすなどして
対応しているが、空気の流れを完全に止める事は不可能
であり、わずかな空気の流れでさえも影響を与えるので
十分な対策とは言えず、乾燥ムラが発生し、製造された
電子写真感光体の品質低下の原因になっていた。
電子写真感光体の製造においては、被塗布物の乾燥の仕
方によって製品の品質が大きく変化する。特に被塗布物
への周辺空気の当たり方にムラがあると乾燥もムラとな
り、品質の低下をきたすこととなる。この為、一般にク
リーンルーム内で行われる電子写真感光体の塗布時に
は、空気浄化のための吹き出し空気量を落とすなどして
対応しているが、空気の流れを完全に止める事は不可能
であり、わずかな空気の流れでさえも影響を与えるので
十分な対策とは言えず、乾燥ムラが発生し、製造された
電子写真感光体の品質低下の原因になっていた。
【０００４】特に、電子写真感光体用の塗液には一般
に、塩化メチレン、テトロヒドロフランなどの蒸発速度
の速い溶剤が使われる為、その傾向が顕著である。さら
にまた塗工時には塗液表面の微小な波立ちなどによる厚
さムラも発生するが、溶剤の蒸発速度が速いと塗面の平
順化が充分でない間に乾燥が進んでしまい、表面の平滑
性が悪くなる。
に、塩化メチレン、テトロヒドロフランなどの蒸発速度
の速い溶剤が使われる為、その傾向が顕著である。さら
にまた塗工時には塗液表面の微小な波立ちなどによる厚
さムラも発生するが、溶剤の蒸発速度が速いと塗面の平
順化が充分でない間に乾燥が進んでしまい、表面の平滑
性が悪くなる。
【０００５】また浸漬槽に遮風器を設ける前記方法で
は、図６に示すように、被塗布物において、始めに引き
上げられる上部１ｂと、続いて引き上げられる下部１ａ
とでは乾燥の履歴が異なり、品質に部分的なムラが出来
やすい。また充分な効果を得ようとすれば、引き上げ速
度を遅くしなければならず、塗工厚さの調整が面倒とな
り、工程時間が長くなるなどの問題があった。
は、図６に示すように、被塗布物において、始めに引き
上げられる上部１ｂと、続いて引き上げられる下部１ａ
とでは乾燥の履歴が異なり、品質に部分的なムラが出来
やすい。また充分な効果を得ようとすれば、引き上げ速
度を遅くしなければならず、塗工厚さの調整が面倒とな
り、工程時間が長くなるなどの問題があった。
【０００６】これに対し、本発明の目的は、浸漬塗工工
程のすべてにわたって、風の影響を遮断し、蒸発速度の
速い溶剤の使用においても、乾燥ムラのない高品質の電
子写真感光体の製造を可能とする浸漬塗工装置を提供す
ることにある。
程のすべてにわたって、風の影響を遮断し、蒸発速度の
速い溶剤の使用においても、乾燥ムラのない高品質の電
子写真感光体の製造を可能とする浸漬塗工装置を提供す
ることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は上記した課題を
解決するために、電子写真感光体の浸漬塗工装置におい
て、被塗布物を保持する装置部分に該被塗布物を覆う様
に蒸発調整用被覆を形成したものである。またより効果
的には該蒸発調整用被覆の長さが少なくとも該被塗布物
の全長の８０％以上を覆うものであり、かつ該蒸発調整
用被覆の有効断面積が被塗布物のみかけ断面積の１．５
倍以上２５倍以下である事さらには該蒸発調整用被覆が
伸縮自在に形成されているか又は上下に移動可能である
様に形成されている事あるいは該蒸発調整用被覆が、被
塗布物を塗液に浸漬する際には塗液に該蒸発調整用被覆
が浸漬されない様に短縮又は上方に移動し、被塗布物を
塗液より引き上げる際には該被塗布物を覆う様に伸長又
は下方に移動することを要旨とするものである。
解決するために、電子写真感光体の浸漬塗工装置におい
て、被塗布物を保持する装置部分に該被塗布物を覆う様
に蒸発調整用被覆を形成したものである。またより効果
的には該蒸発調整用被覆の長さが少なくとも該被塗布物
の全長の８０％以上を覆うものであり、かつ該蒸発調整
用被覆の有効断面積が被塗布物のみかけ断面積の１．５
倍以上２５倍以下である事さらには該蒸発調整用被覆が
伸縮自在に形成されているか又は上下に移動可能である
様に形成されている事あるいは該蒸発調整用被覆が、被
塗布物を塗液に浸漬する際には塗液に該蒸発調整用被覆
が浸漬されない様に短縮又は上方に移動し、被塗布物を
塗液より引き上げる際には該被塗布物を覆う様に伸長又
は下方に移動することを要旨とするものである。
【０００８】ここで、蒸発調整用被覆の大きさとして
は、被覆長さが長い程、また、有効断面積（蒸発調整用
被覆自体の厚さ部分を取り除いた空間部分の断面積）が
小さい程効果が高い。長さは被塗布物の全長に対し少な
くとも８０％以上、好ましくは１００％以上を覆うもの
である事が必要で、これより短いと、被塗布物の露出部
分に乾燥ムラが発生する可能性がある。また、蒸発調整
用被覆の有効断面積があまり大きいと周辺空気の流れの
遮断効果が少なく、その大きさは、被塗布物の見かけ断
面積（中空の被塗布物の場合、その外郭寸法によって示
される断面積）の少なくとも２５倍以下、好ましくは９
倍以下であることが必要である。又逆に１．５倍より小
さすぎると乾燥が遅くなり、作業時間がかる。そして蒸
発調整用被覆の形状は、被塗布物及び浸漬槽の形状によ
り、円筒状、角柱状等いずれでも良い。
は、被覆長さが長い程、また、有効断面積（蒸発調整用
被覆自体の厚さ部分を取り除いた空間部分の断面積）が
小さい程効果が高い。長さは被塗布物の全長に対し少な
くとも８０％以上、好ましくは１００％以上を覆うもの
である事が必要で、これより短いと、被塗布物の露出部
分に乾燥ムラが発生する可能性がある。また、蒸発調整
用被覆の有効断面積があまり大きいと周辺空気の流れの
遮断効果が少なく、その大きさは、被塗布物の見かけ断
面積（中空の被塗布物の場合、その外郭寸法によって示
される断面積）の少なくとも２５倍以下、好ましくは９
倍以下であることが必要である。又逆に１．５倍より小
さすぎると乾燥が遅くなり、作業時間がかる。そして蒸
発調整用被覆の形状は、被塗布物及び浸漬槽の形状によ
り、円筒状、角柱状等いずれでも良い。
【０００９】蒸発調整用被覆の材質は、空気を効果的に
遮断するものであれば、どのようなものでも良く、例え
ば各種プラスチック・金属・ガラス・紙などが使用でき
るが、塗工状況を外部から観察出来るためには透明なプ
ラスチックまたはガラスが最も好適である。
遮断するものであれば、どのようなものでも良く、例え
ば各種プラスチック・金属・ガラス・紙などが使用でき
るが、塗工状況を外部から観察出来るためには透明なプ
ラスチックまたはガラスが最も好適である。
【００１０】また同時に複数個の被塗布物を塗工する場
合はその全体を覆う蒸発調整用被覆を用いても良いが、
蒸発調整用被覆の有効断面積を出来るだけ小さくするた
めには、個々の被塗布物をそれぞれ独立した蒸発調整用
被覆で覆う方がより効果的である。
合はその全体を覆う蒸発調整用被覆を用いても良いが、
蒸発調整用被覆の有効断面積を出来るだけ小さくするた
めには、個々の被塗布物をそれぞれ独立した蒸発調整用
被覆で覆う方がより効果的である。
【００１１】
【作用】本発明によれば、蒸発調整用被覆を設ける事に
より、被塗布物を塗工後一定時間、溶剤の飽和蒸気中に
置く事となる。このため乾燥速度を抑制し、塗面の平順
化が充分に行われ、乾燥状態も平均化され均一な表面を
得ることができる。また周辺空気の動きを遮断する事に
より乾燥ムラも防ぐ事ができる。
より、被塗布物を塗工後一定時間、溶剤の飽和蒸気中に
置く事となる。このため乾燥速度を抑制し、塗面の平順
化が充分に行われ、乾燥状態も平均化され均一な表面を
得ることができる。また周辺空気の動きを遮断する事に
より乾燥ムラも防ぐ事ができる。
【００１２】被塗布物のほぼ全体が常に覆われている事
から、前記特許例のように乾燥履歴をなるべく均一にす
る為の引き上げ速度の調整は必要がなく、塗工時間の短
縮が図れる。また被塗布物を塗液に浸漬する際には塗液
に該蒸発調整用被覆が浸漬されない様に短縮又は上方に
移動し、被塗布物を塗液より引き上げる際には該被塗布
物を覆う様に伸長又は下方に移動する様にすれば浸漬槽
の大きさにかかわらず、蒸発調整用被覆が塗液に浸漬さ
れる事がない。
から、前記特許例のように乾燥履歴をなるべく均一にす
る為の引き上げ速度の調整は必要がなく、塗工時間の短
縮が図れる。また被塗布物を塗液に浸漬する際には塗液
に該蒸発調整用被覆が浸漬されない様に短縮又は上方に
移動し、被塗布物を塗液より引き上げる際には該被塗布
物を覆う様に伸長又は下方に移動する様にすれば浸漬槽
の大きさにかかわらず、蒸発調整用被覆が塗液に浸漬さ
れる事がない。
【００１３】また、浸漬槽側が上下する方式の塗工装置
にも、本発明が適用できるのは勿論である。
にも、本発明が適用できるのは勿論である。
【００１４】以下に本発明を実施例によって説明する。
実施例、比較例において、いずれもコーティング方法は
ディップコーティング法を用いた。
実施例、比較例において、いずれもコーティング方法は
ディップコーティング法を用いた。
【００１５】
実施例１ 図１において、１は被塗布物（４０Φ×２５０mm アル
ミニウム）、２は被塗布物１の保持装置、３は浸漬槽、
４は蒸発調整用被覆である。蒸発調整用被覆４は透明な
プラスチックから形成され、肉厚１mm底部開放の角柱形
状（１００×１００×３００mm）である。長さは被塗布
物より長く、浸漬槽は外径（８０×８０×３００mm）で
ある。蒸発調整用被覆４の有効断面積は、被塗布物１の
見かけ断面積の９倍以下となっている。この時被塗布物
が下降すると、蒸発調整用被覆の有効幅Ｌ1 は浸漬槽の
外寸法の幅Ｌ2 より広いので、（ｂ）に示すように、蒸
発調整用被覆４が浸漬槽外に降下するようになり、蒸発
調整用被覆が塗工液に浸漬することがない。また浸漬槽
の高さを蒸発調整用被覆４の最下端から被塗布物１の最
上端までの長さＬ3 以上にしておくと、被塗布物全体へ
の塗布が可能となる。
ミニウム）、２は被塗布物１の保持装置、３は浸漬槽、
４は蒸発調整用被覆である。蒸発調整用被覆４は透明な
プラスチックから形成され、肉厚１mm底部開放の角柱形
状（１００×１００×３００mm）である。長さは被塗布
物より長く、浸漬槽は外径（８０×８０×３００mm）で
ある。蒸発調整用被覆４の有効断面積は、被塗布物１の
見かけ断面積の９倍以下となっている。この時被塗布物
が下降すると、蒸発調整用被覆の有効幅Ｌ1 は浸漬槽の
外寸法の幅Ｌ2 より広いので、（ｂ）に示すように、蒸
発調整用被覆４が浸漬槽外に降下するようになり、蒸発
調整用被覆が塗工液に浸漬することがない。また浸漬槽
の高さを蒸発調整用被覆４の最下端から被塗布物１の最
上端までの長さＬ3 以上にしておくと、被塗布物全体へ
の塗布が可能となる。
【００１６】実施例２ 図２において、１は被塗布物（６０Φ×２５０mm アル
ミニウム）、２は被塗布物１の保持装置、３は浸漬槽、
５は伸縮性蒸発調整用被覆である。伸縮性蒸発調整用被
覆５は透明な弾性のあるプラスチックで蛇腹状に形成さ
れた、肉厚０．５mm底部開放の円柱形状（１００Φ×３
００mm）である。長さは被塗布物より長く、浸漬槽は円
柱形状（内径８０Φ×３００mm）である。本実施例にお
ける伸縮性蒸発調整用被覆５は、保持装置２に取りつけ
られた被塗布物１が降下するに従って、同時に下降する
が、伸縮性蒸発調整用被覆５が塗液に接触する直前にこ
れを縮め、以降、下降するに従ってさらに縮め、伸縮性
蒸発調整用被覆５が塗液に浸漬しない様にする。本実施
例では、伸縮性蒸発調整用被覆５の有効幅Ｌ4 は浸漬槽
の内寸法の幅Ｌ5 より広くしているので、伸縮性蒸発調
整用被覆５が浸漬槽の上端６に接触した後も、被塗布物
１の下降を続けると、図２の（ｂ）に示すように伸縮性
蒸発調整用被覆５は保持装置と浸漬槽３の上端６に挟ま
れ、蛇腹状側部が押し縮められる。逆に被塗布物１の上
昇時には、弾性のあるプラスチックの自己反発力により
伸びて、再び元に戻り、図２の（ａ）に示すように、被
塗布物１を完全に覆う様になる。
ミニウム）、２は被塗布物１の保持装置、３は浸漬槽、
５は伸縮性蒸発調整用被覆である。伸縮性蒸発調整用被
覆５は透明な弾性のあるプラスチックで蛇腹状に形成さ
れた、肉厚０．５mm底部開放の円柱形状（１００Φ×３
００mm）である。長さは被塗布物より長く、浸漬槽は円
柱形状（内径８０Φ×３００mm）である。本実施例にお
ける伸縮性蒸発調整用被覆５は、保持装置２に取りつけ
られた被塗布物１が降下するに従って、同時に下降する
が、伸縮性蒸発調整用被覆５が塗液に接触する直前にこ
れを縮め、以降、下降するに従ってさらに縮め、伸縮性
蒸発調整用被覆５が塗液に浸漬しない様にする。本実施
例では、伸縮性蒸発調整用被覆５の有効幅Ｌ4 は浸漬槽
の内寸法の幅Ｌ5 より広くしているので、伸縮性蒸発調
整用被覆５が浸漬槽の上端６に接触した後も、被塗布物
１の下降を続けると、図２の（ｂ）に示すように伸縮性
蒸発調整用被覆５は保持装置と浸漬槽３の上端６に挟ま
れ、蛇腹状側部が押し縮められる。逆に被塗布物１の上
昇時には、弾性のあるプラスチックの自己反発力により
伸びて、再び元に戻り、図２の（ａ）に示すように、被
塗布物１を完全に覆う様になる。
【００１７】以上の構成の浸漬塗工装置で、電子写真感
光体の塗工工程を一定速度で行ったところ、乾燥ムラが
なく、白化のない、品質の良い感光体が製造できた。
光体の塗工工程を一定速度で行ったところ、乾燥ムラが
なく、白化のない、品質の良い感光体が製造できた。
【００１８】なお、伸縮する方法としては、蒸発調整用
被覆下端と浸漬槽上端にそれぞれ磁石と磁石または磁石
と鉄片を取りつけて、その吸引力により両者を密着させ
て伸ばす方法なども考えられる。また蒸発調整用被覆の
下端にワイヤーを連結し、上方に引っ張り、また緩める
事で上下させる事も出来る。
被覆下端と浸漬槽上端にそれぞれ磁石と磁石または磁石
と鉄片を取りつけて、その吸引力により両者を密着させ
て伸ばす方法なども考えられる。また蒸発調整用被覆の
下端にワイヤーを連結し、上方に引っ張り、また緩める
事で上下させる事も出来る。
【００１９】実施例３ さらに蒸発調整用被覆を蛇腹状とするかわりに、図３に
示す如く、大きさが少しずつ異なり、互いに出退自在に
形成された三重筒あるいは三重凾を用いても良い。この
ようにすれば、実施例２と同様の効果が得られる。
示す如く、大きさが少しずつ異なり、互いに出退自在に
形成された三重筒あるいは三重凾を用いても良い。この
ようにすれば、実施例２と同様の効果が得られる。
【００２０】実施例４ 図４に蒸発調整用被覆を上下に移動可能に設置した場合
の例を示す。本実施例は実施例２のように、蒸発調整用
被覆を蛇腹状として伸縮する替わりにこれを上下する事
により同一の目的を達するものである。このようにすれ
ば、被塗布物の塗布工程の全般にわたって、被塗布物に
風が当たるのを防止することができる。
の例を示す。本実施例は実施例２のように、蒸発調整用
被覆を蛇腹状として伸縮する替わりにこれを上下する事
により同一の目的を達するものである。このようにすれ
ば、被塗布物の塗布工程の全般にわたって、被塗布物に
風が当たるのを防止することができる。
【００２１】比較例１ 図６に比較例として、浸漬槽側に遮風器７を設けた例を
示す。この装置で、実施例１と同様の条件で塗布工程を
おこなった。この比較例においては、被塗布物１に塗布
液を塗工後、引き上げた時に被塗布物１の上部部分が先
に遮風器７（蒸発調整用被覆）より突出するので、その
上部部分１ｂとその下の下部部分１ａとの乾燥履歴が異
なってしまった。すなわち、下部部分１ａは遮風器７に
より遮風されている時間が長いので、不均一な風にさら
されることが少ないのに対して、上部部分１ｂは風によ
り、乾燥ムラが激しい仕上がりとなり、全体として、均
一性に欠ける感光体となった。またこれを調整するた
め、引き上げ速度を調整し、ある程度乾燥してから次の
動作に移るようにしたところ、実施例１に比べて、３倍
の時間が必要となった。
示す。この装置で、実施例１と同様の条件で塗布工程を
おこなった。この比較例においては、被塗布物１に塗布
液を塗工後、引き上げた時に被塗布物１の上部部分が先
に遮風器７（蒸発調整用被覆）より突出するので、その
上部部分１ｂとその下の下部部分１ａとの乾燥履歴が異
なってしまった。すなわち、下部部分１ａは遮風器７に
より遮風されている時間が長いので、不均一な風にさら
されることが少ないのに対して、上部部分１ｂは風によ
り、乾燥ムラが激しい仕上がりとなり、全体として、均
一性に欠ける感光体となった。またこれを調整するた
め、引き上げ速度を調整し、ある程度乾燥してから次の
動作に移るようにしたところ、実施例１に比べて、３倍
の時間が必要となった。
【００２２】比較例２ 蒸発調整用被覆４の長さを、被塗布物１の全長の７０％
である以外は、実施例１と同様の条件で（図示せず）被
塗布物１の浸漬塗工を行ったところ、被塗布物１に塗布
液を塗工後、引き上げた時に被塗布物１の下端部に、乾
燥ムラが発生した。
である以外は、実施例１と同様の条件で（図示せず）被
塗布物１の浸漬塗工を行ったところ、被塗布物１に塗布
液を塗工後、引き上げた時に被塗布物１の下端部に、乾
燥ムラが発生した。
【００２３】比較例３ 蒸発調整用被覆４の有効断面積が被塗布物の見かけ断面
積の２８倍である以外は、実施例１と同様の条件で（図
示せず）被塗布物１の浸漬塗工を行ったところ、被塗布
物１に塗布液を塗工後、引き上げた時に被塗布物１に塗
布された塗布液の蒸発調整がスムーズにいかず、塗面の
平順化が充分に行われなかった。これは、蒸発調整用被
覆４が被塗布物１に比べ、大きすぎ、被塗布物１を覆い
乾燥状態を調整するという状況になっていないためと考
えられる。
積の２８倍である以外は、実施例１と同様の条件で（図
示せず）被塗布物１の浸漬塗工を行ったところ、被塗布
物１に塗布液を塗工後、引き上げた時に被塗布物１に塗
布された塗布液の蒸発調整がスムーズにいかず、塗面の
平順化が充分に行われなかった。これは、蒸発調整用被
覆４が被塗布物１に比べ、大きすぎ、被塗布物１を覆い
乾燥状態を調整するという状況になっていないためと考
えられる。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の電子写真
感光体塗工装置を用いれば、均一でムラのない表面が平
滑な、品質の良い電子写真感光体が製造できる。また、
本発明によれば、被塗布物の引き上げ速度調節等の操作
上の調整が必要でないため、生産性の向上にも役立つも
のである。
感光体塗工装置を用いれば、均一でムラのない表面が平
滑な、品質の良い電子写真感光体が製造できる。また、
本発明によれば、被塗布物の引き上げ速度調節等の操作
上の調整が必要でないため、生産性の向上にも役立つも
のである。
【００２５】
【図１】 本発明の一実施例を示す概略説明図である。
【図２】 本発明の他の実施例を示す概略説明図であ
る。
る。
【図３】 本発明の他の実施例を示す概略説明図であ
る。
る。
【図４】 本発明の他の実施例を示す概略説明図であ
る。
る。
【図５】 従来の浸漬塗工装置を示す概略説明図であ
る。
る。
【図６】 比較例を示す概略説明図である。
１ 被塗布物 ２ 保持装置 ３ 浸漬槽 ４ 蒸発調整用被覆 ５ 伸縮性蒸発調整用被覆 ６ 浸漬槽の上端 ７ 遮風器
Claims (4)
- 【請求項１】 電子写真感光体の浸漬塗工装置におい
て、被塗布物を保持する装置部分に、該被塗布物を覆う
様に蒸発調整用被覆を形成した事を特徴とする電子写真
感光体浸漬塗工装置 - 【請求項２】 該蒸発調整用被覆の長さが少なくとも該
被塗布物の全長の８０％以上を覆うものであり、かつ該
蒸発調整用被覆の有効断面積が該被塗布物のみかけ断面
積の１．５倍以上２５倍以下である事を特徴とする請求
項１記載の電子写真感光体浸漬塗工装置 - 【請求項３】 該蒸発調整用被覆が伸縮自在に形成され
ているか又は上下に移動可能である様に形成されている
事を特徴とする請求項１記載の電子写真感光体浸漬塗工
装置 - 【請求項４】 該蒸発調整用被覆が、被塗布物を塗液に
浸漬する際には塗液に該蒸発調整用被覆が浸漬されない
様に短縮又は上方に移動し、被塗布物を塗液より引き上
げる際には該被塗布物を覆う様に伸長又は下方に移動す
ることを特徴とする請求項３記載の電子写真感光体浸漬
塗工装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12876593A JPH07104488A (ja) | 1993-05-31 | 1993-05-31 | 電子写真感光体浸漬塗工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12876593A JPH07104488A (ja) | 1993-05-31 | 1993-05-31 | 電子写真感光体浸漬塗工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07104488A true JPH07104488A (ja) | 1995-04-21 |
Family
ID=14992922
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12876593A Pending JPH07104488A (ja) | 1993-05-31 | 1993-05-31 | 電子写真感光体浸漬塗工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07104488A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6069744A (en) * | 1997-04-15 | 2000-05-30 | Olympus Optical Co., Ltd. | Microscopic objective having a long working distance |
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1993
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