JPH0699293B2 - 特にクロルヘキシジンと相容性の歯磨組成物用シリカ - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は特に歯磨組成物に使用し得るシリカ、その製
造方法およびこのシリカを含有する歯磨組成物に関す
る。

［従来技術］ シリカは歯磨組成物の製造に普通に使用されていること
が知られている。シリカはさらに幾つかの役割を果たし
ている。

シリカはまず研磨剤として作用し、その機械的作用によ
り歯垢の除去を助ける。

また、シリカは歯磨き用の流体力学的性質を与えるシッ
クナー（濃化剤）の役割を果たすとともに歯磨きに所望
の色を与える光学剤としての役割も果たす。

さらに、歯磨きは種々の薬剤、特に虫歯防止用、または
歯に歯垢もしくは歯石が形成されるのを減らすための薬
剤を含有していることが知られている。これらの薬剤の
うちで特にフッ化物が挙げられる。他の要素も使用でき
る。例えば、リン酸塩、ピロリン酸塩、ポリリン酸塩、
ポリホスホン酸塩、グアニジン、特にビスグアニドが使
用される。ビスグアニドうち最もよく使用されるのはク
ロルヘキシジンである。歯磨の処方はまた亜鉛、香料、
芳香剤等を含有していてもよい。

［発明が解決しようとする問題点］ これらの薬剤が歯磨中に存在するとシリカとの相容性が
問題となる。実際、特に吸着能力のためにシリカはこれ
らの薬剤と反応してこれらの薬剤が前記の薬効を示すた
めに自由に使用できなくなる傾向がある。

この発明の目的は、前記の薬剤、特にグアニジンと相容
性を有し、歯磨の処方に完全に使用し得るシリカを発見
することにある。

この発明の他の目的はそのような相容性のシリカを製造
することのできる方法を提供することである。

［問題を解決するための手段］ この目的のために、本出願人は研究されている相容性は
本質的に使用するシリカの表面の化学的性質によって決
まることに気付いた。本出願人はこうしてシリカが相容
性を持つようにシリカの表面の多数の条件を決めた。

この発明に従うシリカはグアニジン型の物質、特にクロ
ルヘキシジン、と65％以上、好ましくは90％以上の相容
性を示すことを特徴とする。

さらに、この発明に従うグアニジン型の物質、特にクロ
ルヘキシジン、と相容性ｎシリカは、酸度関数Hoが3.3
より大であるような表面の化学的性質を有することを特
徴とする。

さらに、この発明の第一の変形例に従う上記の型のシリ
カを製造する方法は、ケイ酸塩と酸を反応させてシリカ
の懸濁液またはゲルを得、シリカを分離し、かつ乾燥す
ることから成り、シリカの分離後、該分離により得られ
るケーキをろ液の導電率が200マイクロシーメンス・cm
^-1以下になるまで水洗することを特徴とする。

この発明の第二の変形例に従えば、シリカの製造方法
は、ケイ酸塩と酸を反応させてシリカの懸濁液またはゲ
ルを得ることから成り、シリカの分離により得られるケ
ーキを第一の水洗に付し、次いで第二の水洗または酸溶
液処理に付すことを特徴とする。

最後に、この発明は上記の型のシリカまたは上記の製造
方法により製造されたシリカを含有する歯磨組成物を提
供する。

この発明の他の特徴と利点は以下の説明と例示として挙
げた実施例からよりよく理解されるであろう。

冒頭で説明したように、この発明のシリカの本質的特徴
はその表面の化学的性質にある。さらに詳しくは、この
表面の化学的性質について考慮に入れるべき側面の一つ
は酸度である。この点に関して、この発明のシリカの特
徴の一つは表面の酸性部位の強さである。

ここに、酸度はルイス（Lewis）の意味での酸度であ
る。すなわち、次式 B:＋Ａ＝BA に従うある部位が塩基の一対の電子を受容する傾向を表
す。

この発明のシリカを特徴づけるのに、酸（この場合シリ
カ）が塩基の一対の電子を受容する傾向を測定するため
に、ハメット（Hammett）が展開した「酸度関数」Hoの
概念を使用する。Ho関数はこのように従来の関係式によ
って定義される。

この発明のシリカの酸性部位の力をハメット法に従って
決定するために最初ウォリング（Walling）によって記
載された方法（「ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミ
カル・ソサイエティ」第70巻、1164頁（1959年））を使
用する。酸性部位の力は使用条件下では酸型と塩基型と
の間を通過するpKaが知られている着色指示薬により決
定される。

このようにして、着色変化を起こす指示薬のpKaが低い
ほど、部位の酸度はより強い。下記の表に例示として、
相次ぐ二つの指示薬が吸着される形を決定する際にHoの
値を挿入するために使用することができるハメットの指
示薬の非限定的なリストを示す。

上表中、使用した指示薬は次の通りである。

１・・・ニュートラル・レッド ２・・・メチルレッド ３・・・フェニルアゾナフチルアミン ４・・・ｐ−ジメチルアミノアゾベンゼン ５・・・２−アミノ−５−アゾトルエン ６・・・ベンゼンアゾジフェニルアミン ７・・・４−ジメチルアミノアゾ−１−ナフタリン ８・・・クリスタルバイオレット ９・・・ｐ−ニトロベンゼンアゾ−（ｐ′−ニトロ）ジ
フェニルアミン 10・・・ジシンナマールアセトン 11・・・ベンザルアセトフェノン 12・・・アントラキノン シリカに吸着された指示薬の色は酸性部位の強さを測定
する手段である。色が指示薬の酸型の色であれば表面の
Ho関数の値は指示薬のpKaに等しいかそれより小さい。H
o値が小さいと酸性部位の力は大きい。

このように、例えばｐ−ジメチルアミノアゾベンゼンで
赤色を示し、２−アミノ−５−アゾトルエンで黄色をし
めすシリカはHoが3.3と２の間である。

実験的には、用量決定はシクロヘキサン中に溶解した指
示薬溶液100mg/の存在下試験管内に置かれた0.2gのシ
リカを使用して行われる。

シリカは前以て190℃で２時間乾燥しデシケータ中で湿
度から保護されて保存される。

攪拌により、吸着は、起きるとすれば、数分間で起き、
肉眼でまたは場合によって酸型でも塩基型でも吸着され
た発色した指示薬の吸収スペクトル特性を調査すること
により色の変化が認められる。

この発明のシリカの第一の特徴は、上記のように決定さ
れるような酸度関数が3.3以上であることである。

表面の酸性部位の強さと性質はシリカに吸着されたピリ
ジンの赤外分光光度法によっても測定できる。

固体に吸着されたピリジンの量により特に表面の酸性部
位の性質を決定できることが知られている。

ピリジンは比較的強い塩基（pKb＝９）であるためNH
₃（pKb＝５）とは逆に弱い部位とは反応しない。

ピリジニウムイオン（PyH⁺）の形成により、さらに、ル
イス型の部位とブレンステッド（Bronsted）型の部位と
の区別ができる。

固体の表面の酸度の情報はピリジンの1700cm^-1〜1400cm
^-1の範囲の吸収バンドを調査することにより得ることが
できる。

そのうえ、ピリジンとそのイオン化形の吸着前後の特性
バンドからのズレの値により酸性部位の強さが定量でき
る。

ピリジニウムイオンは1540cm^-1のバンドを与えるが、水
素結合または配位結合により結合されたピリジンは1440
〜1465cm^-1の範囲のバンドを与える。さらに、1583cm^-1
に位置するピリジンのバンドはピリジンが吸着されたと
きに移動することが明らかである。このバンドはルイス
の酸性部位の存在を示す。後者の酸性の強さはバンドの
移動に比例している。

要するに、1540cm^-1、1640cm^-1および1485cm^-1のバンド
をブレンステッド型の酸度を決定するのに、また、1440
cm^-1〜1465cm^-1の範囲に位置するバンドをルイスの酸度
を決定するために利用することができる。

実験的には、測定はピリジンの存在下に四塩化炭素へ懸
濁したシリカの懸濁液で行われる。

シリカはあらかじめ1900℃で２時間乾燥し、湿度から保
護して保存される。冷却後、マグネチックスターラーで
攪拌し、次いで超音波（10分間）により分散することに
よりシリカ1gを50mlのCCl₄に分散させる。導入されたシ
リカの立法メートル当たり0.8mgのピリジンを添加す
る。攪拌下還流温度で１時間加熱する。

同じ濃度のピリジンを使用するがシリカを使用せずに比
較溶液を調製するために、また、同じ濃度のシリカを使
用するがピリジンを存在させない比較溶液を調製するた
めに、同じ手順を使用することができる。

ピリジンの吸収スペクトルは懸濁液、シリカの存在しな
いピリジン溶液およびピリジンを添加しないシリカ懸濁
液における赤外分光分析法により実施される。

懸濁液から得られたスペクトルから比較溶液に相当する
スペクトルと比較懸濁液に相当するスペクトルを減じ
る。

シリカは静止状態のバンドの位置とピリジンとピリジニ
ウムイオンの吸収バンドのそれらの非吸着型のバンドに
対する移動とによって特徴づけられる。

一般的には、得られたスペクトルは、その不存在がシリ
カの酸度関数Hoが3.3以上であることを示すピリジニウ
ム・ピーク（1540cm^-1のバンド）を示す訳ではない。

ピリジンと吸着されたピリジンのバンドの移動の大きさ
により表面の酸性部位の酸度を多かれ少なかれ評価する
ことができる。一般に、1440cm^-1のバンドに対してこの
移動（ ）は10cm^-1以下、特に5cm^-1以下でなければな
らない。

この発明の好適な実施態様に従えば、前記移動はゼロで
ある。

上記のように定義されたシリカはクロルヘキシジンとの
相容性がよく、この相容性は下記のテストにより測定す
ると65％以上、特に80％以上、好ましくは90％以上にな
り得る。

しかしながら、この発明の一つの実施態様に従えば、シ
リカはさらにフッ素と相容性でもよい。この場合、シリ
カ100gに対して5.10^-3モル以下のSO₄ ^2-、Cl^-、NO₃ ^-、PO
₄ ^3-、およびCO₃ ^2-型のアニオンの含有量を示す。この相
容性はこの含有量が少ないほど大きい。好適な変形例に
従えば、含有量はシリカ100gに対して1.10^-3モル以下、
好ましくは0.2.10^-3モル以下である。

硫酸から調製されるシリカの場合は、このアニオン含有
量をSO₄に換算した重量表示の含有量で表すのが便利で
ある。この場合、この含有量は0.5％以下である。

この発明の好適な変形例に従えば、この含有量は0.1％
以下、特に0.02％以下である。

この相容性は、表面の酸性部位の数における条件を観察
するならば、特に亜鉛のような一定の要素に対してさら
に改善することができる。この数はnm²当たりのOH基ま
たはシラノール基の数で測定することができる。

この数の測定は下記のように行われる。

すなわち、表面のOH部位の数は190℃〜900℃でシリカに
より放出された水の量と同一視される。

シリカの試料をあらかじめ105℃で２時間乾燥する。

質量Poのシリカ熱天秤内に置き２時間かけて190℃に昇
温し、得られた質量をP190とする。次いで、このシリカ
を２時間かけて900℃に昇温し、得られた新しい質量をP
900とする。

OH部位の数は下記の式により計算される。

上式中、NOHは表面のnm²当たりのOH部位の数を表し、Ａ
は固体のm²/gで表した比表面積（BET）である。

この場合、この発明のシリカはOH/nm²の数が15以下、好
ましくは12以下、さらに好ましくは３〜12である。

表面の化学的性質の特徴づけを構成するこの発明のシリ
カのOH部位の性質は無電荷点によって評価することもで
きる。

この無電荷点（PZC）は、媒体のイオン強度のいかんに
拘わらず、固体の表面の電荷がゼロになるシリカの懸濁
液のpHによって定義される。このPZCは表面の実際際のp
Hを表面がイオン型のすべての不純物から自由である測
定手段で測定する。

電荷は電位差計を使用して決定される。この方法の原理
は所定のpHでシリカの表面に吸着または脱着されるプロ
トンの総合評価に基づいている。

操作の総合評価を記載する等式から、表面電荷ゼロに相
当する対照に対して取られた表面の電荷Ｃが次式に従う
ことを示すのは容易である。

上式中、 Ａはm²/gで表した固体の比表面積、 Ｍはｇで表した懸濁液中の固体の量、 Ｆはファラデー、 ＨまたはOHは単位表面積当たりの固体上H⁺またはOH^-イ
オンの超過の変化、 をそれぞれ示す。

PZCの決定の実験的手順は次の通りである。

ベルーブとド・ブロインの方法（「ジャーナル・オブ・
コロイド・インタフェース・サイエンス」第27巻305頁
（1968年））（Berube and de Bruyn,J.Colloid Interf
ace Sc.,1968,27,305）が使用される。

シリカはあらかじめ高い抵抗値（10メガオーム・cm）の
脱イオン水で水洗する。

実地上は、KOHまたはHNO₃の添加によりpHoが8.5で中性
の電解質（KNO₃）を10^-5〜10^-1モル／の範囲で変わり
得る濃度で含有する一連の溶液を調製する。

これらの溶液に所定の質量のシリカを添加し、得られた
懸濁液のpHが安定化されるように25℃で攪拌下かつ窒素
存在下で24時間放置し、その値をpH′ｏとする。

標準溶液は同一の懸濁液の一部を1000回転／分で30分間
遠心することにより得られた上清から成り、この上清の
pHをpH′ｏとする。

次いで、既知体積の懸濁液および対応する標準溶液のpH
を、KOHの必要量を添加して懸濁液および標準溶液を４
時間安定化のために放置することによって、pHoに還元
する。

Voh・NohはpH′ｏを既知量（Ｖ）の懸濁液または標準溶
液のpHoに移すために添加される塩基の当量数とする。

電位差計による懸濁液および標準溶液の用量決定はpHf
＝2.0になるまで硝酸を添加することによりpHoから出発
して行われる。

好ましくは、pHの単位0.2の変化に相当する酸の増分を
添加して操作する。各添加後にpHは１分間安定化され
る。

Vh・NhをpHfに到達するための酸の当量数とする。

pHoから出発して、pH増分の関数である項（Vh・Nh−Voh
・Noh）をすべての懸濁液（少なくとも３つのイオン強
度）に対しておよび対応するすべての標準溶液に対して
追跡する。

次いで、各pH値に対して懸濁液および対応する標準溶液
に対してH⁺またはOH^-の消費量の差を得る。この操作を
すべてのイオン強度について繰り返す。

これにより、表面のプロトンの消費量に対応する項（Ｈ
−OH）が得られる。表面電荷は上記の等式に従って計算
される。

次いで、pHの関数である表面電荷の曲線を考えられるす
べてのイオン強度について追跡する。PZCは曲線の交点
により定義される。

シリカ濃度をシリカの比表面積の関数として調整する。

例えば、３つのイオン強度（0.1モル／;0.01モル／
；および0.001モル／）における50m²/gのシリカに
対して２％の懸濁液を使用する。

用量決定は100mlの懸濁液について0.1Mの水酸化カリウ
ムを使用して行われる。実地において、このPZCの値が
３以上、特に４〜６であるのが好ましい。フッ素との相
容性に対してはPZCは７以下であるのが好ましい。

常に、特にフッ素に対する相容性を改善するためには、
シリカのアルミニウム含有量が500ppm以下であることが
重要である。

さらに、この発明のシリカの鉄の含有量は200ppm以下に
するのが有利である。

また、好適には、カルシウムの含有量が500ppm以下、好
ましくは300ppm以下にすることができる。

この発明のシリカの炭素の含有量は好ましくは50ppm以
下、特に10ppm以下である。

NET45−007基準に従って測定されたこの発明のシリカの
pHは一般に８以下、特に6.0〜7.5である。

上記の特性より、少なくともグアニジン、特にクロルヘ
キシジンに相容性であり、場合によって例えばフッ化
物、リン酸塩およびそれらの誘導体ならびに亜鉛と相容
性を有するシリカを得ることができる。

上記したかつ相容性を条件づける表面化学特性の外に、
この発明のシリカはその歯磨用途に完全に適合させる物
理的特性をも示す。これらの構造的特性は以下に説明さ
れる。

一般に、この発明のシリカの比表面積BETは40〜600m²/
g、特に40〜350m²/gである。その比表面積CTABは普通40
〜400m²/g、特に40〜200m²/gである。

比表面積BETは「ザ・ジャーナル・オブ・ジ・アメリカ
ン・ケミカル・ソサイエティ」第60巻、309頁、1938年
２月号に記載されたブルナウアー−エメット−テラー法
およびNF X11−622（3.3）基準に従って決定される。

比表面積CTABは、ASTM D3765基準に従って、ただし、
臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム（CTAB）の吸
着をpH9で実施し、CTAB 35A⁰²分子の突出面積として採
用して決定された外部表面積である。

この発明のシリカは歯磨きの分野で通常区別される３つ
の型に勿論対応することができる。

このように、この発明のシリカは研磨剤型のものでもよ
い。そのときはそれらは40〜300m²/gの比表面積BETを示
す。この場合、比表面積CTABは40〜100m²/gである。

この発明のシリカはシックナー型のものでもよい。その
ときはシリカは比表面積BETが120〜450m²/g、好ましく
は120〜200m²/gである。そのときシリカは比表面積CTAB
が120〜400m²/g、特に120〜200であってもよい。

最後に、第三の型に従えば、この発明のシリカは二官能
価であってもよい。この場合、シリカは比表面積BETが8
0〜200m²/gである。そのとき比表面積CTABは80〜200m²/
gである。

この発明のシリカは、NET 30−022基準に従ってジブチ
ルフタレートを使用して決定された油の摂取量が80〜50
0cm³/100gであってもよい。

さらに詳しくは、この油の摂取量は研磨シリカに対して
100〜140cm³/100g、シックナーシリカに対して200〜400
cm³/100gおよび二官能価型シリカに対して100〜300cm³/
100gである。

さらに、歯磨きへの適用の観点から、常に、シリカは粒
径が１〜10μｍであることが好ましい。

この平均粒径はコウルターカウンターを使用して測定さ
れる。

最後に、この発明のシリカの屈折率はは一般に1,440〜
1,465である。

この発明のシリカの製造方法は以下に詳細に説明する。

前記のようにこの発明の方法はシリカの懸濁液またはゲ
ルの形成を起こすケイ酸塩と酸との反応を含む型の方法
である。

注意すべきことに、この懸濁液またはゲルに到達するた
めには既知のあらゆる操作方法（酸をケイ酸塩のタンク
の底部に添加、酸とケイ酸塩の一部または全部を水もし
くはケイ酸塩溶液のタンクの底部に同時に添加、等）を
利用でき、その選択は本質的に得ようとするシリカの物
理的特性に従ってなされる。得られた懸濁液またはゲル
のpHを好適に６以下、特に４〜６の値にすることができ
る。

この場合、反応媒体のシリカの分離は既知のあらゆる手
段、例えば、真空ろ過または加圧ろ過に従って操作でき
る。

このようにしてシリカのケーキが回収される。

次いで、この発明の方法は二つの主な変形例に従って実
施することができる。

第一の変形例は本質的にグアニジン、特にクロルヘキシ
ジンに相容性のシリカの製造に関する。

この場合、この発明の方法はケーキの洗浄を含む。この
洗浄は水、一般に脱イオン水、を使用して導電率が200
マイクロシーメンス・cm^-1以下になるまで行われる。

この方法により得られるシリカの相容性をさらに改善す
ることを望むならばこの洗浄をさらに高い程度まで追及
する。

特に、この発明の好適な実施態様に従えば、この洗浄を
ろ液の導電率が100マイクロシーメンス・cm^-1以下にな
るまで行う。

一度前記の操作方法に従ってシリカケーキが洗浄または
剥離されると、剥離懸濁液は既知のあらゆる手段に従っ
て乾燥される。この乾燥生成物は要すれば粉砕されて所
望の粒径分布が得られる。この発明の第二の変形例はグ
アニジンの外にフッ素、亜鉛およびリン酸塩のような他
の要素との相容性を有するシリカの製造に関する。

この場合、この発明の方法は一般に第一の変形例と同様
に脱イオンでの水洗を含む。しかしながら、この水洗は
それほど入念でなくてよい。例えば、導電率が2000マイ
クロシーメンス・cm^-1以下のろ液が得られるまで行えば
よい。

この水洗が終わると、この第二の変形例に従えば、第二
の水洗または酸溶液もしくは酸性水を使用してケーキの
処理を行う。この第二の水洗または処理は製造終了後に
pH8以下、特にpH6.0〜7.5、およびPZC3以上、特に４〜
６のシリカを得ることを目的としている。

この洗浄または処理は、ケーキに酸溶液を通過させるこ
とによりまたは該溶液をケーキの剥離後得られる懸濁液
に導入することにより、行うことができる。

この洗浄または処理は前記のpHを有するシリカを得るた
めに乾燥前の懸濁液前媒体のpHが４〜８、特に５〜８、
さらに好ましくは６〜７でなければならないような条件
下で実施される。

この酸溶液は例えば硝酸のような鉱酸の溶液でもよい。

しかしながら、この発明の一つの実施態様に従えば、こ
の酸溶液は有機酸、特に錯塩形成性有機酸でもよい。こ
の酸はカルボン酸、ジカルボン酸、ヒドロキシカルボン
酸およびアミノカルボン酸より成る群から選ばれる。

そのような酸の例として、酢酸および錯体形成性酸とし
て酒石酸、マレイン酸、グリセリン酸、グルコン酸およ
びクエン酸を挙げることができる。

特に鉱酸の溶液を使用する場合、最後の洗浄を脱イオン
水を使用して行うのが有利である。

第二の洗浄または処理の終了時に前記の第一の変形例と
同様の方法で乾燥を行う。

この発明のさらに別の実施態様に従えば、酸−ケイ酸塩
の反応後でかつシリカの分離の直前に懸濁液またはゲル
の熟成を実施する。この熟成は一般にpH6以下、例えばp
H4〜６で行われる。

反応の途中で、例えばpH6〜８で熟成を実施することも
できる。この熟成は好ましくは例えば80℃〜100℃の温
度で15分間〜２時間加熱して行われる。

最後に、この発明の生成物の相容性を他の補充的処理に
よってさらに改善することができることに気付いた。

この処理はアルカリ土類金属を使用することから成る。
この元素はシリカの懸濁液またはゲルにあるいは好まし
くはケーキの上に、特に剥離後のケーキに例えば塩もし
くは水酸化物の形で導入することができる。

さらに詳しくは、アルカリ土類金属の有機酸塩、特に錯
塩形成性有機酸塩、一般にバリウム塩、例えば酢酸バリ
ウムが使用される。

この発明はまた上記のシリカまたは上記の方法に従って
得られた型のシリカを含有する歯磨組成物に関する。

歯磨き組成物中のこの発明のシリカの使用量は広い範囲
で変えられるが、通常は５〜35％である。

この発明のシリカは、特に、フッ素、リン酸塩、特にク
ロルヘキシジンを含むグアニジンより成る群から選ばれ
た少なくとも一種の要素を含有する歯磨組成物に適用さ
れる。これらは後述のテストに従う相容性はこれらの要
素のそれぞれについて90％以上を実際に示すことができ
る。

この発明のシリカはさらにマレイン酸−ビニルエチルエ
ーテル共重合体と相容性であり、従って、これらの共重
合体を含有する歯磨組成物に導入することもできる。最
後に、この発明のシリカは亜鉛との相容性が50％以上、
好ましくは80％以上である。

フッ素化合物に関しては、その量は好ましくは組成物中
のフッ素の濃度、0.01〜１重量％、特に0.1〜0.5重量
％、に対応する。フッ素化合物は、特にモノフルオロリ
ン酸塩、特にナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、
カルシウム塩、アルミニウム塩およびアンモニウム塩、
モノホスフェートおよびジホスフェート並びに結合イオ
ンの形でのフッ素を含有する種々のフッ化物、特にナト
リウム、リチウム、カリウムのようなアルカリ金属のフ
ッ化物、フッ化アンモニウム、フッ化錫、フッ化マンガ
ン、フッ化ジルコニウム、フッ化アルミニウム、ならび
にカリウムまたはナトリウムまたはマンガンのフッ化物
のようなフッ化物同士の付加生成物あるいは他のフッ化
物との付加生成物を使用できる。

例えばフッ化亜鉛、フッ化ゲルマニウム、フッ化パラジ
ウム、フッ化チタン、例えばフルオジルコン酸ナトリウ
ムまたはフルオジルコン酸カリウムのようなアルカリ金
属フルオジルコネート、フルオジルコン酸錫、フルオホ
ウ酸もしくはフルオ硫酸のナトリウム塩またはカリウム
塩のような他のフッ化物も同様にこの発明に使用でき
る。

有機フッ素化合物も同様に使用することができる。好ま
しくは、長鎖のアミンまたはアミノ酸とフッ化水素の付
加生成物、セチルアミンフッ化物、ビス（ヒドロキシエ
チル）アミノプロピル Ｎ−ヘキサデシルプロピレノジ
アミン オクタデシルアミンのジヒドロフッ化物、およ
びN,N′,N′−トリ（ポリオキシエチレン） Ｎ−ヘキ
サデシルプロピレノアミンのジヒドロフッ化物のような
化合物が使用できる。

亜鉛に関しては、この元素はクエン酸塩または硫酸塩の
形で存在する。

ポリリン酸またはポリホスホン酸、グアニジン、ビスビ
グアニド型の歯垢防止剤として使用できる要素について
は、米国特許第3,934,002号および同第4,110,083号公報
明細書に記載のものを挙げることができる。

歯磨き組成物はさらに結合剤を含有することができる。

主に使用される結合剤は特に次のものから選ばれる。

セルロース誘導体：メチルセルロース、ヒドロキシエチ
ルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム
塩、 植物粘液質：カラゲニン酸塩、アルギン酸塩、寒天、ゲ
ロース ゴム：アラビアゴム、トラガントゴム、キサンタンゴ
ム、カラヤゴム、 カルボキシビニル−アクリル重合体、 ポリオキシエチレン樹脂。

さらに、この発明のシリカ、歯磨組成物は下記のものか
ら選ばれる一種または二種以上の研磨剤を含有していて
もよい。

− 沈澱炭酸カルシウム、 − 炭酸マグネシウム、 − リン酸カルシウム、二カルシウムまたは三カルシウ
ム、 − 不溶性メタホスホン酸ナトリウム、 − ピロリン酸カルシウム、 − 酸化チタン（増白剤）、 − ケイ酸塩、 − アルミナおよびケイアルミン酸塩、 − 酸化亜鉛および酸化錫、 − タルク、 − カオリン。

歯磨組成物は洗剤、湿潤剤、芳香剤、甘味料、着色剤お
よび保存剤を含有していてもよい。

主に使用される洗剤は下記のものから選ばれる。

− ソジウム ラウリルサルフェート − ソジウム ラウリルエーテルサルフェート、および
ソジウム ラウリルスルホアセテート、 − ソジウム ジオクチルスルホサクシネート、 − ソジウム ラウリルサルコシネート、 − ソジウム リシノレエート、 − 硫酸モノグリセリド。

主に使用される湿潤剤は特に下記のようなポリアルコー
ルから選ばれる。

− グリセロール、 − ソルビトール、一般に70％水溶液、 − プロピレングリコール。

主な芳香剤（香料）は特にアニス精油、しきみ精油、は
っか精油、杜松油、肉桂皮、乾燥丁子、およびバラから
選ばれる。

主な甘味料は特にオルトスルホベンズイミドおよびチク
ラメートから選ばれる。

主に使用される着色剤は特に所望の色に従って下記のも
のから選ばれる。

− 赤色およびバラ色着色：アマラント、アゾルビン、
カシュー、コクシン・ヌーベル（PON CEAU 4R）、コ
シェニル、エリスロシン、 − 緑色着色：クロロフィルおよびクロロフィリン − 黄色着色：サン・イェロー（オレンジ Ｓ）および
キノレイン・イェロー。

主に使用される保存剤はパラヒドロキシベンゾエート、
フォルモールおよびその遊離生成物、ヘキセチジン、第
四アンモニウム塩、ヘキサクロロフェン、ブロモフェン
およびヘキサメジンである。

最後に、この発明の歯磨き組成物は主剤が下記のものか
ら選ばれる治療剤を含有する。

− 防腐剤、および抗生物質、 − 酵素、 − オリゴ要素、および上記のフッ素化合物。

［実施例］ 以下にこの発明の非限定的な実施例を示す。

まず、シリカの種々の要素に対する相容性の測定テスト
を説明する。

クロルヘキシジンとの相容性の測定 シリカ4gをクロルヘキシジンジグルコネート濃度が１％
のクロルヘキシジン水溶液16gに分散させる。

この懸濁液を37℃で24時間攪拌する。

この懸濁液を次いで20000回転／分で30分間遠心し、得
られた上清を0.2μｍのミリポアフィルター上でろ過す
る。

次いで、このようにしてろ過された溶液0.5mlを予備洗
浄し、検量ビン内で水100mlに希釈する。この溶液は試
験溶液を構成する。

対照溶液はシリカの不存在下に同じ手順に従って構成さ
れる。クロルヘキシジンジグルコネートの１％水溶液を
37℃で24時間攪拌し、次いで20000回転／分で遠心し、
上清を0.2μｍのミリポアフィルター上でろ過する。こ
のようにして得られた溶液0.5mlを検量ビン内で水100ml
に希釈する。

次いで、二つの溶液の吸収を分光光度計（Uvikon 810/
820）を使用して254nmで測定する。

％相容性として注目される遊離クロルヘキシジン量は下
記の比によって決定される。

フッ化物との相容性の測定 シリカ4gをフッ化ナトリウム（NaF）の３％溶液16gに分
散させる。この懸濁液を37℃で24時間攪拌する。この懸
濁液を次いで20000回転／分で30分間遠心し、得られた
上清を0.2μｍのミリポアフィルター上でろ過する。こ
のようにして得られた溶液が試験溶液を構成する。

対照溶液はシリカの不存在下に同じ手順に従って構成さ
れる。

フッ化物との相容性はフッ化物の選択電極（Orion）を
使用して測定された遊離フッ化物の％により下記の関係
式に従って決定される。

亜鉛との相容性の測定 シリカ4gをZnSO₄・7H₂Oの0.06％溶液100mlに分散して、
NaOOHまたはH₂SO₄の添加により15分間pHが７に安定化さ
れた懸濁液を得る。この懸濁液を37℃で24時間攪拌した
後、20000回転／分で30分間遠心した。

0.2μｍのミリポアフィルター上でろ過された上清が試
験溶液を構成する。

対照溶液はシリカの不存在下、同じ手順に従って構成さ
れる。

二つの溶液の遊離亜鉛濃度を原子吸収（214nm）により
決定する。

相容性は下記の関係式により決定される。

ピロリン酸ナトリウムおよびピロリン酸カリウムとの相
容性 シリカ4gをピロリン酸ナトリウムまたはピロリン酸カリ
ウムの1.5％懸濁液16gに分散する。この懸濁液37℃で24
時間攪拌した後、20000回転／分で30分間遠心した。

上清を0.2μｍのミリポアフィルター上でろ過する。検
量ビン内で100mlの水に希釈された溶液0.2gが試験溶液
を構成する。

対照溶液はシリカの不存在下、同じ手順に従って構成さ
れる。

二つの溶液の遊離ピロリン酸イオン（P₂O₇ ^--）濃度を求
積器を備えたイオンクロマトグラフィー（DIONEX 2000
iシステム）を使用して決定される。

相容性は試験試料と対照試料のクロマトグラム上で得ら
れピロリン酸塩の滞留時間に相当するピークの面積の比
により決定される。

実施例 １ この実施例は研磨剤型の相容性シリカの製造に関する。

温度調整装置、pH調整装置、タービン式攪拌装置を備え
る反応器に脱イオン水６を導入する。

攪拌（300回転／分）を進行させた後、このように構成
されたタンクの底を85℃に加熱した。

この温度が達成されたときにシリカ濃度が120g/,SiO₂
/NaO₂比が3.5に等しく、流量が0.34／分のケイ酸ナト
リウム8.5と、濃度が80g/の硫酸13.5とを同時添
加を行う。この酸の流量は媒体のpHが一定値8.0に維持
されるように調整される。

添加から40分後、ケイ酸塩の添加を停止し、酸の添加を
反応混合物のpHが４に安定化されるまで継続する。

次いで、このpHおよび85℃で15分間熟成を行う。

次いで、混合物をろ過し、湿ったケーキをろ液の導電率
が100マイクロシーメンス・cm^-1以下になるまで脱イオ
ン水で洗浄する。

酢酸の添加によりpH4に調節された水でケーキを洗浄す
る。

最後の洗浄は脱イオン水を使用して実施される。

生成物は次いで噴霧により乾燥し、フォープレックス
（forplex）型の粉砕機により粉砕して10ミクロンの粒
径分布を得る。

このようにして得られたシリカの物理化学的特性は下記
の通りである。

比表面積BET・・120m²/g 比表面積CTAB・ 55m²/g 油摂取量・・・・・120cm³/100g pH・・・・・・・6.5 シリカの化学的分析は下記の表に分類されている。

表面化学は下記のパラメータにより定量化される。

Ho3.3より大、 PZC＝４ Δν＝5cm^-1 OH数/nm²＝９ 下記の表にシリカの種々の歯磨き成分との相容性を示
す。

成分 １ ２ ３ ４ ％相容性 95 98 75 70 ただし、上記成分は下記の通りである。

成分１・・・フッ化物 NaF 成分２・・・ピロリン酸塩 Na/K 成分３・・・クロルヘキシジンジグルコネート 成分４・・・亜鉛 ZnSO₄ 実施例 ２ 実施例１を反復して酢酸添加によりpH4にした水で洗浄
したシリカケーキを得る。

このようにして得られたケーキを剥離装置内で剥離して
懸濁液を得る。

攪拌下に酢酸バリウム0.2gを添加する。

次いで、シリカを噴霧により乾燥した後、粉砕して平均
粒径10μｍのシリカを得る。

このようにして得られたシリカの物理化学的特性は下記
の通りである。

比表面積BET・・100m²/g 比表面積CTAB・ 60m²/g 油摂取量・・・・110cm³/100g pH・・・・・・・6.5 シリカの化学的分析は下記の表に分類されている。

表面化学は下記のパラメータにより定量化される。

Ho3.3より大、 PZC＝4.5 Δν＝2cm^-1 OH数/nm²＝８ 下記の表にシリカの種々の歯磨き成分との相容性を示
す。

成分 １ ２ ３ ４ ％相容性 95 98 90 70 ただし、上記成分は下記の通りである。

成分１・・・フッ化物 NaF 成分２・・・ピロリン酸塩 Na/K 成分３・・・クロルヘキシジンジグルコネート 成分４・・・亜鉛 ZnSO₄ 実施例 ３ この実施例はシックナー型シリカのゲルの製造方法に関
する。

温度調整装置、pH調整装置、タービン式攪拌装置を備え
る反応器にシリカ濃度が80g/,SiO₂/NaO₂比が3.5のケ
イ酸塩ナトリウム14を導入する。

攪拌（100回転／分）を進行させた後、28％アンモニア
水1.45を２分間で添加する。

次いで、濃度が200g/の硫酸0.8を流量0.2／分で
添加する。

この段階で、混合物を５分間20℃に調節された温度で反
応される。

次いで、濃度200g/の硫酸5.2を流量0.2／分で添
加する。

ゲルの出現（肉眼または濁度測定による）後、10分間混
合物を熟成させる。

次いで、このゲルを混合物を400回転／分で30分間攪拌
して分散させる。

媒体のpHが硫酸（200g/）を流量0.2／分で添加する
ことにより3.5の値に低下する。

この反応混合物を60℃で１時間安定化させる。

この混合物をろ過し、得られたケーキを温度60℃の脱イ
オン水20で２度、pH3の水20で洗浄することにより
ゲルの調製を達成する。

この発明の処理は脱イオン水を使用し20℃で導電率が20
0マイクロシーメンス・cm^-1になるまで洗浄することに
よって実施される。

得られたケーキは、剥離して水の添加により濃度を１％
の調整したシリカの均一な懸濁液を形成する。

このシリカはアンヒドロ型の噴霧機で噴霧することによ
り乾燥する。次いで、ジェットプルベライザー（JET P
ulverizer）粉砕機でこのシリカを超微粉砕して1.5μｍ
の粒径分布を得る。

このようにして得られたシリカの物理化学的特性は下記
の通りである。

比表面積BET・・450m²/g 比表面積CTAB・・350m²/g 油摂取量・・・・300cm³/100g pH・・・・・・6.8 単位容積重量・・0.270 屈折率・・・・・1.445 シリカの化学的分析は下記の表に分類されている。

表面化学は下記のパラメータにより定量化される。

Ho3.3より大、 PZC＝3.6 ピリジンの吸収バンドは無い。

下記の表にシリカの種々の歯磨き成分との相容性を示
す。

成分 １ ２ ３ ４ ％相容性 90 95 65 50 ただし、上記成分は下記の通りである。

成分１・・・フッ化物 NaF 成分２・・・ピロリン酸塩 Na/K 成分３・・・クロルヘキシジンジグルコネート 成分４・・・亜鉛 ZnSO₄ 実施例 ４ この実施例はシックナー型シリカに関する。

温度調整装置、pH調整装置を備える反応器に脱イオン水
６を導入し、攪拌下に硫酸ナトリウム150gを添加す
る。

この混合物を60℃に加熱した。ケイ酸塩ナトリウム（Rm
＝3.5、SiO₂＝220g/）10と濃度80g/の硫酸を40分
間で同時添加する。

硫酸の流量は反応媒体のpHが一定値7.8に維持されるよ
うに調整される。

反応媒体のpHは硫酸を急速に添加することにより4.0の
値に安定化される。60℃で15分間熟成させる。

反応混合物を60℃ろ過し、シリカのケーキをろ液の導電
率が900マイクロシーメンス・cm^-1になるまで脱イオン
水で洗浄する。次いで、酢酸の添加によりpH4に調節さ
れた水でケーキを洗浄し、最後に脱イオン水を使用して
洗浄する。

このようにして得られたシリカのケーキは剥離され、攪
拌下に酢酸カルシウム2gをこれに添加する。

このシリカを噴霧により乾燥し、ジェットプルベライザ
ーで超微粉砕してシリカの粒径分布を1.5μｍに調整す
る。

このようにして得られたシリカの物理化学的特性は下記
の通りである。

比表面積BET・・320m²/g 比表面積CTAB・・120m²/g 油摂取量・・・・250cm³/100g pH・・・・・・6.5 シリカの化学的分析は下記の表に分類されている。

表面化学は下記のパラメータにより定量化される。

Ho3.3より大、 PZC＝４ OH数/nm²＝11 ピリジンの吸収バンドは無い。

下記の表にシリカの種々の歯磨き成分との相容性を示
す。

成分 １ ２ ３ ４ ％相容性 90 95 90 80 ただし、上記成分は下記の通りである。

成分１・・・フッ化物 NaF 成分２・・・ピロリン酸塩 Na/K 成分３・・・クロルヘキシジンジグルコネート 成分４・・・亜鉛 ZnSO₄ 実施例 ５ この実施例は研磨剤型シリカの製造に関する。

温度調整装置、pH調整装置、タービン式攪拌装置を備え
る反応器に脱イオン水６を導入する。

攪拌（300回転／分）を進行させた後、このように構成
されたタンクの底を85℃に加熱した。

この温度が達成されたときにシリカ濃度が120g/,SiO₂
/Na₂比が3.5に等しく、流量が0.34／分のケイ酸ナト
リウム8.5と、濃度が80g/の硫酸13.5とを同時に
添加する。この酸の流量は媒体のpHが一定値8.0に維持
されるように調整される。

添加から40分後、ケイ酸塩の添加を停止し、85℃および
pH8で15分間熟成を行う。

酸の添加は反応混合物のpHが４に安定化されるまで継続
する。

次いで、このpHおよび85℃で15分間熟成を実施する。

次いで、混合物をろ過し、湿ったケーキをろ液の導電率
が100マイクロシーメンス・cm^-1以下になるまで脱イオ
ン水で洗浄する。

酢酸の添加によりpH4に調節された水でケーキを２回洗
浄する。

最後の洗浄は脱イオン水を使用して実施される。

生成物は次いで噴霧により乾燥し、フォープレックス
（forplex）型の粉砕機により粉砕して9.0ミクロンの粒
径分布を得る。

このようにして得られたシリカの物理化学的特性は下記
の通りである。

比表面積BET・・ 60m²/g 比表面積CTAB・・ 50m²/g 油摂取量・・・・120cm³/100g pH・・・・・・6.0 シリカの化学的分析は下記の表に分類されている。

表面化学は下記のパラメータにより定量化される。

Ho3.3より大、 PZC＝4.5 ピリジンの吸収バンドは無い。

下記の表にシリカの種々の歯磨き成分との相容性を示
す。

成分 １ ２ ３ ４ ％相容性 95 98 70 80 ただし、上記成分は下記の通りである。

成分１・・・フッ化物 NaF 成分２・・・ピロリン酸塩 Na/K 成分３・・・クロルヘキシジンジグルコネート 成分４・・・亜鉛 ZnSO₄ 実施例 ６ この実施例はシックナー型シリカの製造に関する。ター
ビン式攪拌装置を備える反応器にシリカ濃度が120g/
、SiO₂/Na₂O比＝3.5のケイ酸ナトリウム5.07と脱イ
オン水3.8を導入する。

攪拌（300回転／分）を進行させた後、このように構成
されたタンクの底を68℃に加熱した。

この温度が達成されたときに濃度が80.5g/の硫酸2.64
を添加する。酸の流量は0.120／分である。

添加22分後、酸の添加を停止し、混合物を10分間熟成さ
せる（濁度の急激な上昇昇が観察される。）。

次いで、35分間で硫酸4.2を添加する。

温度を87℃に昇温し、流量30ml/分ケイ酸ナトリウムと
流量52／分の硫酸を30分間で同時添加する。

温度を95℃に昇温し、硫酸0.523を10分間で添加す
る。

次いで、混合物を10分間熟成させる。

最後に、酸の添加により媒体のpHを４に調整する。

次いで、混合物をろ過し、湿ったケーキをろ液の導電率
が100マイクロシーメンス・cm^-1以下になるまで脱イオ
ン水で洗浄する。

酢酸の添加によりpH4に調節された水でケーキを洗浄す
る。

最後の洗浄は脱イオン水を使用して実施される。

生成物は次いで噴霧により乾燥し、ジェットパルベライ
ザー型の粉砕機で超微粉砕して1.2ミクロンの粒径分布
を得る。

このようにして得られたシリカの物理化学的特性は下記
の通りである。

比表面積BET・・180m²/g 比表面積CTAB・・170m²/g 油摂取量・・・・350cm³/100g pH・・・・・・6.8 シリカの化学的分析は下記の表に分類されている。

表面化学は下記のパラメータにより定量化される。

Ho3.3より大、 PZC＝3.6 ピリジンの吸収バンドは無い。

下記の表にシリカの種々の歯磨き成分との相容性を示
す。

成分 １ ２ ３ ４ ％相容性 90 95 70 60 ただし、上記成分は下記の通りである。

成分１・・・フッ化物 NaF 成分２・・・ピロリン酸塩 Na/K 成分３・・・クロルヘキシジンジグルコネート 成分４・・・亜鉛 ZnSO₄ 実施例 ７ この実施例には実施例２〜８のシリカのための出発生成
物となるシリカケーキの製造が記載されている。

温度調整装置、pH調整装置、ミクセル（Mixel）型攪拌
装置を備える30容反応器にSiO₂/Na₂O比が3.45でSiO₂
濃度が135g/の75℃で予備加熱されたケイ酸ナトリウ
ム1.4を導入する。攪拌（300回転／分）を進行させた
後、このように構成されたタンクの底を85℃に加熱し
た。

この温度が達成されたときにこの同じケイ酸ナトリウム
を流量0.28／分で、濃度が80g/の75℃で予備加熱さ
れた硫酸を流量0.16／分で同時に添加する。

同時添加中の媒体の平均pHは9.8である。

同時添加から47分後、ケイ酸塩の添加を停止し、酸の添
加をこの同じ流量で反応混合物のpHが８に達するまで継
続する。この段階で反応混合物の温度を10分間で95℃に
昇温するが、この時間で反応混合物のpHを4.2に安定化
させるために酸の添加をずっと継続する。

次いで、このpHおよび95℃で15分間熟成を行う。

次いで、混合物をろ過し、湿ったケーキをろ液の導電率
が2000マイクロシーメンス・cm^-1以下になるまで脱イオ
ン水で洗浄する。

この段階で得られたケーキは実施例８〜12の調節された
表面化学性質を有するシリカを製造するための基礎にな
る。

実施例 ８ 実施例７で得られたケーキを使用する。

このケーキを脱イオン水は分散させてシリカの100g/
懸濁液を形成し、次いでこの懸濁液をろ過する。ろ液の
導電率が100マイクロシーメンス・cm^-1になるまで操作
を繰り返す。このケーキを次いで脱イオン水に150g/
の懸濁液の形に再分散し、そのpHを酢酸の添加により６
に調節する。

ろ過後、最後の洗浄を脱イオン水で行う。

次いで、生成物を噴霧により乾燥し、フォープレックス
型の粉砕機で粉砕して9.0μｍの粒径分布を得る。

実施例 ９ 実施例７の態様で得られたケーキをろ液の導電率が500
マイクロシーメンス・cm^-1になるまで脱イオン水で洗浄
する。

次いで、ケーキをグルコン酸の添加によりpH4に調節し
た水10で洗浄する。

次いで、脱イオン水で最後の洗浄を行う。

このケーキを剥離して均一な懸濁液を得、攪拌下に酢酸
バリウム（Ba（C₂H₂O₂）_２・H₂O）8.5gを添加する。こ
の混合物を30分間熟成させる。

次いで、生成物を噴霧により乾燥し、フォープレックス
型の粉砕機で粉砕して9.0μｍの粒径分布を得る。

実施例 10 実施例７の態様で得られたケーキをろ液の導電率が500
マイクロシーメンス・cm^-1になるまで脱イオン水で洗浄
する。

次いで、ケーキを脱イオン水への150g/懸濁液の形で
再分散し、この懸濁液のpHを酢酸の添加により６に調節
する。

攪拌下、水酸化バリウム（Ba（OH）_２・8H₂O）25gを添
加し、混合物を30分間熟成させる。

次いで、この懸濁液をろ過し、水５で洗浄する。

次いで、生成物を噴霧により乾燥し、フォープレックス
型の粉砕機で粉砕して9.0μｍの粒径分布を得る。

実施例 11 実施例７の態様で得られたケーキをろ液の導電率が100
マイクロシーメンス・cm^-1になるまで脱イオン水で洗浄
する。

次いで、ケーキを脱イオン水への150g/懸濁液の形で
再分散し、この懸濁液のpHを酢酸の添加により6.3に調
節する。

攪拌下、酢酸バリウム（Ba（C₂H₂O₂）_２・H₂O）0.1gを
添加し、混合物を30分間熟成させる。

次いで、生成物を噴霧により乾燥し、フォープレックス
型の粉砕機で粉砕して9.0μｍの粒径分布を得る。

実施例 12 実施例７で得られたケーキを使用する。

このケーキを脱イオン水に分散させてシリカの100g/
懸濁液を形成し、次いでこの懸濁液をろ過する。ろ液の
導電率が200マイクロシーメンス・cm^-1になるまで操作
を繰り返す。

次いで、生成物を噴霧により乾燥し、フォープレックス
型の粉砕機で粉砕して9.0μｍの粒径分布を得る。

実施例８〜12のシリカの特性を下表に示す。

実施例 13 比較例 比較のために下記の表中に歯磨処方に一般に使用される
市販のシリカの相容性の測定と該シリカの物理化学的特
性を示す。

測定は別の箇所に記載したテストに従って行った。

上表中、シリカの商品名は下記の通りである。

（１）ゼオデント113 フーバート（Zeodent 113 Hub
ert） （２）Z113 ゼオフィン（Z113 Zeofinn） （３）シロブランク81 グレイス（Syloblanc 81 Gra
ce） （４）シロイド244 グレイス（Syloid 244 Grace） （５）シパーナット22S デグサ（Sipernat 22S Degu
ssa） （６）チクソジル53 ローヌ・プーラン（Tixosil 53
Rhone Poulenc） また、上表中、下記の略号を使用した。

CHx＝クロロヘキシジン、Ｆ＝フッ素、Zn＝亜鉛、Pyr＝
ピロリン酸塩 上表中に記載した製品すべてについてPZCは３より小さ
かった。

実施例 14 この実施例はこの発明のシリカを使用したゲル型の半透
明練り歯磨の処方に関する。

処方は下記の通りである。

ソルビトール（70％水性） ・・・65.00 グリセリン ・・・0.00 CMC 7mFD ・・・0.80 ソジウムサッカリネート ・・・0.20 フッ化ナトリウム ・・・0.24 ソジウムベンゾエート ・・・0.08 芳香剤 ・・・2.00 研磨シリカ（実施例２） ・・・15.00 シックナーシリカ（実施例６） ・・・8.00 クロルヘキシジンジグルコネート ・・・1.00 蒸留水 ・・・7.68 この歯磨は十分な流体力学的性質を示し、当初および貯
蔵（２箇月）後、有利に押し出される。

歯磨の目視評価により押し出し物の座りがよいこと、お
よび半透明のゲルの形をしていることが確かめられた。

この歯磨はさらに下記の性質を持つ。

pH 10％希釈 6.8 LNE基準の銅の研磨能力（mg） 5.6 塑性粘度（Pa・ｓ） 0.5 抗菌作用が確認されている。

実施例 15 この実施例はペースト状の不透明な歯磨処方に関する。

処方は下記の通りである。

グリセリン ・・・22.00 CMC 7mFD ・・・1.00 ソジウムサッカリネート ・・・0.20 ソジウムモノフルオロホスフェート ・・・0.76 フッ化ナトリウム ・・・0.10 ソジウムラウリルサルフェート（30％水性）・・・4.67 ソジウムベンゾエート ・・・0.10 芳香剤 ・・・0.90 二酸化チタン ・・・1.00 研磨シリカ（実施例５） ・・・31.50 ZnSO₄・7H₂O ・・・0.48 蒸留水 ・・・37.29 得られた練り歯磨の流体力学的および目視評価により歯
磨の通常の性質が良好であることが示された。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】酸度関数H₀が3.3よりも大でありかつOH/nm
   ²で表わされるOOH数が15以下であるような表面の化学的
   性質を示し、ピリジン中の赤外吸収スペペクトルがピリ
   ジン単独のスペクトルに対して10cm^-1以下移動してお
   り、無電荷点が３以上であり、そしてグアニジン型の物
   質と65％以上の相容性を示すことを特徴とする、歯磨組
   成物用のシリカ。
2. 【請求項２】比表面積BETが40〜300m²/gでありかつ比表
   面積CTABが40〜100m²/gであることを特徴とする、請求
   項１記載の研磨剤型のシリカ。
3. 【請求項３】比表面積BETが120〜450m²/gであることを
   特徴とする、請求項１記載のシックナー型のシリカ。
4. 【請求項４】比表面積BETが80〜200m²/gでありかつ比表
   面積CTABが80〜200m²/gであることを特徴とする、請求
   項１記載の二管能型のシリカ。
5. 【請求項５】ケイ酸塩と酸を反応させてシリカの懸濁液
   またはゲルを得、次いでシリカを分離し、乾燥すること
   から成る型のシリカの製造方法において、シリカを分離
   した後、該分離により得られるケーキをろ液の導電率が
   200マイクロシーメンス・cm^-1以下になるまで水洗する
   ことを特徴とする、前記請求項１〜４のいずれか一項記
   載のグアニジン型の物質と相容性のシリカの製造方法。
6. 【請求項６】ケイ酸塩と酸を反応させてシリカの懸濁液
   またはゲルを得ることから成る型のシリカの製造方法に
   おいて、シリカの分離により得られるケーキを第一の水
   洗に付し、次いで第二の水洗または酸溶液処理に付すこ
   とを特徴とする、前記請求項１〜４のいずれか一項記載
   のグアニジン型の物質と相容性のシリカの製造方法。
7. 【請求項７】請求項１〜４のいずれか一項記載のシリカ
   または請求項５〜６のいずれか一項記載の製造方法によ
   り得られたシリカを含有することを特徴とする、歯磨組
   成物。