JPH0698578B2 - 衝撃装置の打撃ピストンの運動を制御する方法及びこの方法を実施するための衝撃装置 - Google Patents

衝撃装置の打撃ピストンの運動を制御する方法及びこの方法を実施するための衝撃装置

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JPH0698578B2
JPH0698578B2 JP16772986A JP16772986A JPH0698578B2 JP H0698578 B2 JPH0698578 B2 JP H0698578B2 JP 16772986 A JP16772986 A JP 16772986A JP 16772986 A JP16772986 A JP 16772986A JP H0698578 B2 JPH0698578 B2 JP H0698578B2
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25D—PERCUSSIVE TOOLS
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、圧力下の非圧縮性の流体により作動される衝
撃装置の打撃ピストンの運動を制御する方法及びこの方
法を実施するための衝撃装置に関するものである。
圧力下の非圧縮性の流体により作動される衝撃装置に
は、打撃ピストンを引続いて押込む流体力の合成力がピ
ストンを一方向にまた次いで他方向に交互に移動させる
ように、流体が供給される。
かかる装置の運転には、工具へのピストンの衝撃速度、
または打撃振動数、あるいは更に二つのパラメータを同
時に調整することが必要である。所定の打撃力として
は、工具が堅い地盤に突当たるとき、振動数に関してス
トローク当りのエネルギを増大することが望ましく、一
方柔らかい地盤の際は、ストローク当りのエネルギに関
して打撃振動数を増大することが望ましい。
これら二つのパラメータの選択は、工具の最適な貫入及
び工具の磨耗と破損に対する抵抗を得るために特に重要
である。事実、衝撃装置において、ピストンの運動エネ
ルギが工具へ伝播する圧縮波に変換されるということを
考慮することが必要である。もしこの初期の圧縮波が特
に堅い地盤上に到達すると、これは圧縮波の形で大部分
が反射され、これは打撃ピストンに向かう戻りを生じる
であろう。ピストンと工具の断面がほぼ同一であるの
で、工具へのピストンの跳返りがないのを確実にするた
め、また工具内の衝撃波の復帰衝程として必要な時間内
に、流体力がピストンを工具から変移することができな
いので、打撃ピストンは、反射した衝撃波の大部分を蓄
えることにより、初期速度に基き工具と反対方向にいく
つかのパラメータに従う値を取る。このパラメータは、
例えば衝撃速度、それぞれピストンと工具の長さと断
面、接触面の材質である。
もしこの初期の圧縮波が柔らかい地盤に到達すると、こ
れは反対に地盤によって大きく吸収される。前と同じ条
件の下で、ピストンには工具と同じ方向に初期速度が与
えられ、その値は前と同じパラメータに基く。
ある装置には供給圧力、従って地盤の堅さ及び行われる
作業の性質に関してピストンの衝撃速度が調整できるレ
ギュレータが取付けられる。他の装置には、両方向に流
体圧で作動され、かつピストンに加えられる流体力の交
互変換を確保する弁が設けられる。一般にこれらの制御
装置は、作業条件に関して自動調整を得ることを可能に
することなく、装置が直面する作業のタイプに関して不
変の要領で調整される。
フランス国特許題2375008号は、空気又は電子流体遠隔
制御により打撃振動数を調整するための装置に関する。
この遠隔制御は、作動シリンダに設けられる一連の環状
溝に開放する一連の通路の中から一つの通路を選択する
スライド部を作動させ、選択された通路は流体供給源に
連通させることができる。打撃振動数を調整するための
手作業を必要とするこの装置は、任意の状況下で、地盤
の堅さに自動的に反応及び適合し得ないものである。
本発明は、これらの問題点を解決することを目的とす
る。このため、本発明の関する制御方法は、流体圧力の
合成力を引続いて一方向に次いで他方向に印加するよう
に、圧力下の非圧縮性の流体により作動される衝撃装置
の打撃ピストンの運動を制御する方法であって、衝撃装
置には流体圧的に制御でき、かつピストンの衝撃速度及
び／又は打撃振動数のような衝撃パラメータを変化しう
る調整装置が設けられる方法において、工具へのピスト
ンの各衝撃の間、ピストンの理論的打撃位置の付近でピ
ストンの停滞時間に対して、衝撃パラメータの調整装置
に連結された通路への流体流を変更することを特徴とす
るものである。
この方法を実施するための装置は、打撃ピストンを備え
るシリンダに開口し、ピストンの往復運動を確保する装
置の作用を妨害しないように配置され、衝撃パラメータ
の制御装置に連通される一次回路に接続される通路を備
え、一方ピストンに設けられる溝が各衝撃に基きまたピ
ストンの理論的打撃位置の付近でピストンの停滞時間の
間、流体の瞬間の流れを一次回路と二次回路との間に生
じさせることを特徴とするものである。調整装置に印加
される流体圧情報は、調整装置を工具が遭遇する土壌の
特性に対する操作パラメータに適合させる。
いずれにせよ、本発明はこの装置の幾つかの実施例を限
定しない例として示す、添附の図式図を参照して説明さ
れる以下の記載から良く理解されるであろう。
第１図に示す装置は、本出願人名義のフランス国特許出
願第81-140443号明細書に記載された型の衝撃装置に関
し、また中に分配器３が同心的に取付けられるシリンダ
の形の空所を備えた本体２内に摺動するピストン１を備
える。この装置には、供給圧力、従って地盤の堅さと行
うべき作業の特性の関数として、ピストンの衝撃速度を
調節する調整装置が設けられる。この調整装置はスプリ
ング５の付勢の下で、また通路６とジェット７を通して
導かれかつスライドの端面８に作用する供給流体の圧力
下で平衡されるスライド４を備える。一般に、装置の低
圧復帰回路50と連通される室11は、スライドの面８と同
じ側に配置される。スライド４は中に空所が設けられる
壁と共にジェット９を形成している狭窄した通路を限定
し、ピストンの復帰ストロークの間、ピストンにより通
路を通して戻される流体の通過を確保する。平衡した位
置において、ジェット９は復帰ストロークの間、通路10
内に背圧を発生し、従って面８に作用する供給圧力は、
スプリング５の作用を補償するに十分な値に上昇する。
一般に供給圧力の調整は、スプリング５の目盛を操作す
ることによって行われる。
本発明によれば、本体２内にジェット14を備える通路12
が設けられ、またこの通路は、ピストンを変位するため
用いられるシリンダの係合穴13に開放する。
この通路12には、ピストン１に設けられる溝15を通して
流体がその供給圧で供給される。溝の一端部を限定して
いる縁部16は、ピストン１がその理論的打撃位置にある
とき、通路12が現れるレベルでオリフィス80が完全に開
きかつこの通路を圧力下の流体供給現との連結を確保す
るように位置される。
第２図に示す装置は第１図の変形であり、通路12に設け
られるジェット14は、圧力下の流体を運ぶ通路56に設け
たジェット14′と置換えられる。
通路12が連通する一次回路は、一側部で以下バッファ室
と称する室51を限定している穴20の内側に摺動可能に取
付けられるスライド17を備え、この室には通路12及びス
プリング18を含みかつ通路21を通して低圧復帰回路50に
連通する室52が連結される。通路12とバッファ室51に
は、圧力下の流体用の供給調整器のパイロット室11が接
続される。
この装置を堅い地盤で作動するとき、ピストン１の初期
反発速度は大きく、また通路12のオリフィス80は極めて
短時間溝15と連結するだけである。こうして各サイクル
で通路12を通してバッファ室51に注入される流体の量は
少ない。
パイロット室11内側の圧力はそれ自体低いので、スライ
ド４はジェット９を閉鎖する傾向を有し、これは通路10
内の背圧を増大し、したがって供給圧力とピストンの衝
撃速度を増大する。工具が出会う地盤が軟らかくなれ
ば、サイクル当り通路12に注入される流体の量は増大
し、これは一方でバッファ室51のまたパイロット室11の
圧力の増大を引起こす。この圧力の増大は、ジェット９
の開放方向におけるスライド４のバランスを変化させ
る。これは通路10に存在する背圧を減少させ、またそれ
故、装置の流体供給圧力とピストンの衝撃速度を減少さ
せる。スライド17の大きな全体寸法は、スライドにアキ
ュムレータの役割を演じさせ、またバッファ室51、また
パイロット室11に安定した圧力を与える。
スライド17は室51内の圧力に対して平衡され、従ってこ
の圧力をジェット19を通して室52に伝えるのを可能にす
る連続的な流れはジェット14により通路12に注入される
脈動流に等しい。
第１図と第２図に示す実施例において、穴20に開放しか
つ低圧回路に連結される通路22を通して室51内の最高圧
力を制限することは可能であり、また室51内の圧力の値
が所定のしきい値（閾値）をこえるとき、室51と連結す
ることができるということは注目すべきことである。
第３図は、同じ要素が前と同じ符号で示される装置を示
す。この装置は周知の原理に従い作動し、両方向に流体
圧的に作動される分配器30は、打撃ピストンに流体圧力
を交互に加えるのを確実にする。第３図に示す実施例に
おいて、分配器30は制御部分33により案内され、これは
圧力下のとき、ピストン・ヘッド上方に開放している通
路31を高圧流体供給回路に連結することにより、分配器
を変位する。
室33には穴20に取付けられるスライド35の環状溝40に開
放している通路34が連通する。この溝40は、スライド35
の位置の関数としてピストン１が滑動可能に取付けられ
るシリンダ内に開放する一連の通路36〜39の一つまたは
幾つかと連結することができる。スライド35の機能は、
作動制御通路36〜39を選択することであり、ピストンの
溝55によって限定される環状室32に連通するこれらの通
路はパイロット部分33を圧力下で押し、またピストンの
打撃移動の開始の引金を引くであろう。ピストンの上部
室への圧力下の流体の供給は、通路が室33を高圧回路網
に連結する結果として、遅かれ早かれ行われ、ピストン
のストロークと打撃振動数とを変化させる。
スライド35の位置の制御は、バッファ室51に圧力下の流
体を供給する通路12を通して、前の実施例と同じに行わ
れる。バッファ室51内の圧力が大きくなればなるほどス
ライドは益々スプリング18の作用に対して動き易くな
り、またパイロット室には圧力下の流体が益々早く供給
されるであろう。
第４図はこの装置の変形を示し、装置は調整器及び分配
器の両方を備えている。室51で発生した圧力は一方でス
ライド35を移動させて打撃移動を選択し、また供給圧力
調整器のスライド４を案内するのに役立ち、供給圧力調
整器は装置の復帰背圧従ってそれ自体の供給圧力及び衝
撃速度を変更する。
第５図は調整器を備えた装置の変形を示し、ジェット14
を備えた通路12は、低圧回路網50に連結された通路61を
通して、またピストンがその理論的衝撃位置に達しかつ
溝63が瞬間的に通路12のオリフィス80及び通路61のオリ
フィス81を開放したとき、ピストンに設けられた溝を通
して低圧回路網50に連結可能である。
通路12は前記のようにバッファ室51に連結され、バッフ
ァ室51はこの場合スライド17を作動するスプリング18を
有し、このスライドの反対側に位置する後部室52は、通
路58または59を通して装置の高圧回路網に連結された圧
力調整器またはジェット71によって連続的に圧力下の流
体を供給される。ジェット19は室51及び52を連結し、室
51は通路76を通して調整器のスライド室65に連結され
る。
作用において、室52の圧力下の流体は、ジェット19を通
って室51に流れ、通路12及び溝63を通って低圧通路61及
び低圧回路網50に向かって流れ去り、その間通路12に取
付けられたジェット14または通路61に取付けられたジェ
ット14′を通る。
スライド17は室51の圧力を、各サイクルの間にジェット
14又は14′を通る脈動流がジェット71によって供給され
る流れに等しいように、平衡させる。
この装置において、調整器のスライド65はその穴によっ
て、供給圧力に接続した室８、通路64を通して復帰回路
64に連結された室11及び通路76を通してバッファ室51に
連結された対向パイロット室60を限定する。もし工具が
遭遇する地盤が軟らかくなると、工具に接触するピスト
ンの停滞時間は増加し、低圧回路網に向かってジェット
14または14′を通ってサイクル当り排出される流体の量
は増加する。これは室51従って室60内の圧力の減少を生
じ、それはジェット９の開放方向のスライド65の運動に
伝達される。この開放は通路10内の背圧従って装置の供
給圧力及びピストンの衝撃速度を減少する。
第６図は第５図の装置の変形を示し、通路12及びバッフ
ァ室51は通路58又は59を通ってそれ自体流体を供給され
るジェットによって圧力下の流体を常に供給される。ス
ライド66によって部分的に限定される室52は、装置の復
帰回路に通路21によって連結され、一方低圧回路網に連
結された通路22は、スライド66を取付けられ、室の圧力
が所定値をこえるときバッファ室51を低圧回路網と連結
しうる、穴に開放している。
作用において、室51内に存在する圧力は、ピストンの溝
63を通って低圧回路網に向かってジェット14を通って排
出されるサイクル当りの流体の量が流体調整器またはジ
ェット78を通って室51に入ってくるサイクル当りの流体
の量に等しいようなものである。
もし工具が遭遇する地盤が軟らかくなると、ジェット14
を通って排出される流体の量は衝撃区域のピストンの停
滞時間が長くなることを考慮すると増加する。これらの
状態において、室51内に存在する圧力ならびに、ジェッ
ト９の開放に向かってスライド65の平衡位置を変更する
室60内に存在する圧力は減少する傾向にある。このジェ
ット９の開放は背圧の減少従って装置の供給圧力及びピ
ストンの衝撃速度の減少を生ずる。
もし反対に工具が遭遇する地盤が堅くなると、バッファ
室51ならびにパイロット室60内の圧力は増加し、それは
ジェットの閉鎖に向かうスライド65の運動に変換され
る。この閉鎖は通路10の背圧、従って装置の供給圧力及
びピストンの衝撃速度の増加を生ずる。
第７図は第６図の装置の変形を示し、バッファ室51は通
路58又は59を通して供給圧力でそれ自体供給されるジェ
ット78によって瞬間的に供給される。ジェット78はピス
トンが通路12に対して通路61の反対側で移動するシリン
ダに開放する通路79に取付けられている。溝63の高さは
一方では通路12と通路79の距離より大きいが、通路79と
通路61の距離より小さい。
作用において、ピストンが第７図の位置にあるとき、そ
れは通路79及び12に接続し確実に圧力下の流体を室51に
供給する。ピストンの運動が続くときこの接続は停止さ
れ、溝63はピストンがその理論的衝撃位置に達するとき
通路12を通路61を通して低圧回路網に連結する。室51内
に存在する圧力は、溝63及び通路12に連通するときこの
室に入る流体の量が、溝63が通路12及び通路61に連通す
るときこの室から出てゆく流体の量に等しい、ようなも
のである。この結果は室51内の圧力は地盤の堅さに依存
するということである。
第８図に示された装置において、同じ要素は第３および
第４図と同じ参照符号で示されている。
通路12が接続される一次回路は、小さい断面の穴20によ
って延長された穴82が設けられた、バッファ室またはパ
イロット室51を有する。穴82及び80の内側に取付けられ
たスライド87は室51を部分的に限定する二つの異なった
断面の部分を有し、室51の反対側のキャビティの端部は
装置の低圧回路に接続された室52によって形成されてい
る。スライド87内側には一方ではピストン13が摺動可能
に取付けられたシリンダに開放する一つ以上の通路36〜
39に接続しうる周溝40、及び、通路83を通して圧力下の
流体を供給される環状室84を備えている。環状室84は大
きい部分の穴82に設けられ、圧力下の流体によって加え
られる力は、それを室51の容積を減少する方向に移動し
ようとする。
室51はまた通路86を通して低圧復帰回路に接続され、要
素85の通路86への組合わせによって室51から低圧回路50
に向かう調整された流れを可能にする。
この調整要素85は衝撃ピストンと歩調をあわせて作動さ
れる容積型ポンプによって形成される。スライド87に設
けられた通路40は通路34を通して装置の制御分配器30の
パイロット室33に連結されている。
スライド87は、要素85によってサイクル当り引き出され
る流体の量が室51に注入される流体の量と等しいとき安
定した位置を取る。
もし工具が係合する地盤が軟らかくなると、工具と接触
するピストンの停滞時間ならびに通路12を通って室51の
圧力下の流体の供給時間は増加する。室51に供給される
流体の量は要素85によって排出される量より多くなり、
スライド87は室の容積を増加する方向に移動し、このス
ライドの運動はピストンの衝撃移動を減少する分配器の
作動によって変換されスライドの新しい平衡位置を発見
し、衝撃速度は地盤の堅さに対して適当になる。反対
に、もし地盤が堅くなると、工具に接触するピストンの
停滞時間は減少し、それはバッファ室51に送られる流体
の容積を減少するように変換され、この容積は要素85に
よって排出される容積より少なくなる。
結果は容積減少方向のスライドの運動で、それは分配器
の作用に変換され、ピストンの打撃移動を増加してスラ
イド87の新しい平衡位置を発見し、新しい衝撃速度は地
盤の堅さに対して適当になる。
スライドの平衡は一方では、バッファ室51内側の圧力
の、他方では環状室84内側の供給圧力の、作用下にある
スプリングなしに得られる。さらに、要素85としての容
積型ポンプの使用は、それが装置の衝撃振動数がどのよ
うであれ、サイクル当りつねに同じ流体の量を排出しう
ることにおいて有利である。
第９図は第８図の装置の変形を示し、同じ参照符号は前
と同じ要素を示す。
この第２の形式の装置において、装置の低圧復帰回路に
接続された第２回路61は、ピストンが工具と接触すると
き、ピストンの溝63を通って、室51を有する一次回路に
瞬間的に接続される。その一部に対して、バッファ室51
は通路86aを通して流体を供給され、通路86aには衝撃ピ
ストンと歩調を合わせて作動される容積型ポンプによっ
て形成された流れ調整要素85aが取付けられている。
作用において、スライド87は通路12、ジェット14、室63
および通路61を通って室51からサイクル当り排出される
流体の量が、通路86a及び要素85aを通って室51に注入さ
れる流体の量に等しいとき、安定した位置を取る。
もし地盤が軟らかくなると、室51から排出される流体の
量は、低い位置にピストン１が停滞する時間が増加する
ことを考慮して、要素85aによって注入される流体の量
より多くなる。結果は室84の供給圧力によって作動され
る室51の容積の減少をもたらすスライド87の運動であ
り、その運動は装置の制御分配器に対する作動によって
変換され、ピストンの打撃移動を減少する。
反対に、もし地盤が堅くなると、室51から排出される流
体の量が、工具に接触するピストンの短い停滞時間を考
慮して、要素85aによってうけ入れられる流体の量より
少なくなる。スライド87は分配器30を作動する室51の容
積の増加の方向に移動し、それはピストンの打撃移動を
増加することである。
前記のように、本発明は、装置が作業する地盤の堅さに
対して、衝撃速度およびピストン振動数のようなある衝
撃パラメータが自動的にかつ瞬間的に適用される方法及
び装置を提供することによって、現存する技術に対して
著しい改善をもたらすものである。
【図面の簡単な説明】
第１図は圧力調整器を備える本発明の第１の装置の縦断
面図であり、 第２図は第１図の装置の変形例の縦断面図であり、 第３図は流体の流体圧取入れ分配器を備えている装置の
縦断面図であり、 第４図は調整器と分配器の両方を備えている装置の縦断
面図であり、 第５図ないし第７図は制御流体の流体圧取入れ分配器を
備えている装置の３つの実施例の縦断面図であり、 第８図及び第９図は流体の流体圧取入れ分配器を備えて
いる装置の別の二つの実施例の縦断面図である。 1:ピストン、2:本体、3:分配器、4,30,65:スライド、6,
10,12,21,22:通路、15,55,63:溝、17,35,66:スライド
弁、50:低圧復帰回路、51:バッファ室、52:後部室

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】流体圧力の合成力を引続いて一方向に次い
    で他方向に印可するように、圧力下の非圧縮性の流体に
    より作動される衝撃装置の打撃ピストンの運動を制御す
    る方法であって、衝撃装置には流体圧的に制御でき、か
    つピストンの衝撃速度及び／又は打撃振動数のような衝
    撃パラメータを変化しうる調整装置が設けられる前記方
    法において、工具へのピストン（１）の各衝撃の間、ピ
    ストンの理論的打撃位置の付近でピストンの停滞時間に
    対して、衝撃パラメータの調整装置に連結された通路へ
    の流体流を変更することを特徴とする衝撃装置の打撃ピ
    ストンの運動を制御する方法。
  2. 【請求項２】流体圧力の合成力の作用の下でシリンダの
    内部を交互に可動なピストン（１）を備え、また流体圧
    的に制御でき、かつピストンの衝撃速度及び／又は打撃
    振動数のような衝撃パラメータを変化させる液圧的に制
    御される調整装置（4;30;65）が設けられる衝撃装置に
    おいて、打撃ピストン（１）を備えるシリンダに開口
    し、ピストンの往復運動を確保する装置の作用を妨害し
    ないように配置され、衝撃パラメータを制御する調整装
    置と連通する一次回路に接続される通路（12）を備え、
    一方ピストンに設けられる溝（15;55;63）が各衝撃に基
    きまたピストンの理論的打撃位置の付近で、通路（12）
    を介して、ピストンの停滞時間の間、流体の瞬間の流れ
    を一次回路と該一次回路とは異なる圧力の二次回路との
    間に生じさせることを特徴とする衝撃装置。
  3. 【請求項３】一次回路がバッファ室（51）を備え、その
    壁の一つが通路（12）に注入される流体から安定化圧力
    を作り出すのを可能にするスライド弁（17;35;66）によ
    り境界付けられ、その圧力の値が工具の地盤への貫入に
    対する抵抗に基き、またこの値が衝撃パラメータの調整
    装置を調整するのみ用いられることを特徴とする特許請
    求の範囲第２項に記載の衝撃装置。
  4. 【請求項４】二次回路が高圧流体供給回路に連結され、
    かつピストン（１）に設けられる溝（15;55）がシリン
    ダに開口する通路（12）のオリフィス（80）と向合うと
    き、一次回路に瞬間的に連通され、また前記通路（12）
    を通して供給されるバッファ室（51）が補助のスライド
    の他側部に配置される室（52）とジェットを形成してい
    るオリフィス（19）を通して連結され、スライドの第２
    の室、即ち後部室が低圧復帰回路（50）に連通されるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第３項に記載の衝撃装
    置。
  5. 【請求項５】二次回路（61）が衝撃装置の復帰回路（5
    0）に連結され、かつピストンが工具と接続状態にある
    とき、ピストン（１）の溝（63）を通して一次回路に瞬
    間的に連通され、一方前記通路に連通されるバッファ室
    （51）がスライド弁（17）の後部室（52）と共にジェッ
    トを形成しているオリフィス（19）を通して連結され、
    前記スライド弁には衝撃装置の高圧液体供給が調整装置
    またはジェット（71）を通して供給されることを特徴と
    する特許請求の範囲第３項に記載の衝撃装置。
  6. 【請求項６】二次回路（61）が衝撃装置の復帰回路（5
    0）に連結され、かつピストンが理想的な打撃位置にあ
    るとき、ピストンの溝（63）を通して一次回路に瞬間的
    に連通され、一方バッファ室（51）に開口する通路（1
    2）がジェット（11）を備え、かつ流れ調整装置即ちジ
    ェット（78）により衝撃装置の供給圧力で流体が供給さ
    れ、またバッファ室に対抗するスライド弁（66）の側部
    に配置される後部室（52）が低圧復帰回路（50）に連通
    することを特徴とする特許請求の範囲第３項に記載の衝
    撃装置。
  7. 【請求項７】ピストン（１）が一次回路と関連して通路
    （12）上にかつこれをこえて移動するシリンダに開放す
    るのに続いて、一方では通路（79）がジェット（78）を
    備えかつ装置の高圧供給回路に永久的に連通され、また
    他方では通路（61）が装置の低圧回路（50）と連通さ
    れ、最後の二つの通路（79,61）が前記通路（12）のい
    ずれかの側に位置され、かつピストン（１）に設けられ
    る溝（63）の高さよりも小さな距離でおのおの配置さ
    れ、バッファ室（61）が通路（12）と連通され、スライ
    ド弁の反対側に配置される後部室（52）がその部分とし
    て装置の低圧復帰回路（50）に連通され、また別個の通
    路（79,12,61）は操作サイクルの間、ピストンの溝（6
    3）が一方で装置の供給回路と、また他方でピストンが
    その理論的打撃位置に到達するとき、装置の復帰回路
    と、瞬間的かつ交互に通路（12）を連結するように配置
    されることを特徴とする特許請求の範囲第３項に記載の
    衝撃装置。
  8. 【請求項８】流体圧力が装置の供給圧力を調整するため
    用いられる圧力調整装置を動かすのに用いられ、従って
    バッファ室（51）内でかつ調整装置のスライド弁（4,6
    5）上の圧力が変化するとき、調整装置が供給圧力の変
    化を、またこうしてピストンの衝撃速度の変化を整える
    ことを特徴とする特許請求の範囲第３項ないし第７項の
    いずれか一項に記載の衝撃装置。
  9. 【請求項９】バッファ室（51）を部分的に限定している
    スライド弁（35）が中に幾つかの通路（36〜39）を軸方
    向に偏倚して開口するシリンダ内に滑動して取付けら
    れ、前記通路がピストン（１）の案内シリンダにも開口
    し、周囲溝（40）を備えているスライド弁がその位置の
    関数として前記通路のいずれかと連通することができ、
    通路それ自体はピストンの溝を通して高圧供給網と連通
    しており、他の通路がスライド弁の溝によって与えられ
    る環状の容積に対抗してシリンダ内に開講し、スライド
    弁が前記容積と永久的に連結されたままであり、また弁
    が打撃振動数の調整のため分配器に連通され、従って衝
    撃位置でのピストンの滞留時間が短ければ短い程、ピス
    トンの工程が多くなることを特徴とする特許請求の範囲
    第３項ないし第７項のいずれか一項に記載の衝撃装置。
  10. 【請求項１０】一次回路に行渡っている圧力が同時に、
    装置の供給圧力を調整するのに用いられる圧力調整装置
    を制御し、またピストンの移動及びこうして打撃振動数
    を調整するためバッファ室を部分的に限定しているスラ
    イド弁を移動するのに役立つことを特徴とする特許請求
    の範囲第８項または第９項に記載の衝撃装置。
  11. 【請求項１１】シリンダの内側にバッファ室（51）を部
    分的に限定しているスライド弁（17,35,66）を含み、通
    路（22）が装置の低圧復帰回路（50）に開放しかつ連通
    し、前記通路がスライド弁によって通常停止されてお
    り、かつバッファ室（51）内の圧力が所定の値を超える
    ときバッファ室と連通することができることを特徴とす
    る特許請求の範囲第３項ないし第10項のいずれか一項に
    記載の衝撃装置。
  12. 【請求項１２】一定の圧力が作り出されかつ打撃ピスト
    ンを含んでいるシリンダ内側に開放している通路（12）
    と連通されるスライド弁により限定されるバッファ室
    （51）を備え、この室が容積型ポンプにより構成される
    流体を流すための調整要素（85）に設けられる通路と連
    通されることを特徴とする特許請求の範囲第３項に記載
    の衝撃装置。
  13. 【請求項１３】流体を流すための調整要素が打撃ピスト
    ンと歩調をとって作動される容積型ポンプによって構成
    されることを特徴とする特許請求の範囲第12項に記載の
    衝撃装置。
  14. 【請求項１４】高圧流体供給回路と連結される二次回路
    は、ピストン（１）内に設けられる溝（55）がシリンダ
    に開放している通路（12）のオリフィス（60）と対向す
    るとき、一次回路に瞬間的に連通され、また前記通路
    （12）を通して供給されるバッファ室（51）には流体の
    排出通路（86）を介して低圧回路（50）が連結され、排
    出回路には流体を流すための調整要素（85）が取付けら
    れることを特徴とする特許請求の範囲第12項または第13
    項に記載の衝撃装置。
  15. 【請求項１５】二次回路は、装置の低圧復帰回路（50）
    と連通して、ピストン（１）が工具と接触していると
    き、ピストンの溝（63）を通して一次回路に瞬間的に連
    通し、また通路（12）に連通するバッファ室（51）には
    流体を流すための調整要素（35a）を介して低圧回路か
    ら流体が供給されることを特徴とする特許請求の範囲第
    12項または第13項に記載の衝撃装置。
  16. 【請求項１６】バッファ室（51）を部分的に限定してい
    るスライド弁（87）が二つの軸方向の部分を備え、バッ
    ファ室の側に位置する前記部分が他方の部分よりも大き
    な断面を有し、このスライド弁がその二つの部分に対応
    する断面の二つの同心穴（82,20）内を摺動して取付け
    られ、また環状室（84）がスライド弁と、装置の高圧流
    体供給源と連結される大きな断面の穴との間に設けられ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第12項ないし第15項
    のいずれか一項に記載の衝撃装置。
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