JPH0696432A - 磁気ディスク - Google Patents
磁気ディスクInfo
- Publication number
- JPH0696432A JPH0696432A JP24241492A JP24241492A JPH0696432A JP H0696432 A JPH0696432 A JP H0696432A JP 24241492 A JP24241492 A JP 24241492A JP 24241492 A JP24241492 A JP 24241492A JP H0696432 A JPH0696432 A JP H0696432A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- rmax
- magnetic disk
- texturing
- characteristic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ti板を主とする磁気ディスクの表面の粗さを
向上させることにより、良好なミッシングエラー特性を
持ち信頼性の高い磁気ディスクを提供する。 【構成】 チタンまたはチタン合金からなり、表面の面
粗さRmaxが0.03μm以下である基板を用いた磁気ディス
ク。
向上させることにより、良好なミッシングエラー特性を
持ち信頼性の高い磁気ディスクを提供する。 【構成】 チタンまたはチタン合金からなり、表面の面
粗さRmaxが0.03μm以下である基板を用いた磁気ディス
ク。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、小型、薄板化に適し、
良好な表面粗度を有する記録ディスク、特に磁気ディス
クに関するものである。
良好な表面粗度を有する記録ディスク、特に磁気ディス
クに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置は年々小型・薄板化及
び高記録密度化が進められている。これに伴い、磁気デ
ィスクの寸法も130φ×1.905tmmから95φ×1.27tmm、65
φ×0.89tmm、及び48φ×0.635tmmへと小型・薄板化が
進められており、更なる小型・薄板化が大きな課題とな
っている。従来はこの磁気ディスク用基板としてAl基板
の表面にNi-P合金を無電解メッキしたもの（以降Ni-P/A
l基板と記す）を用いているが、磁気ディスクの小型・
薄板化及び高記録密度化に伴い、基板表面の平坦度及び
グライド特性が問題となってきた。また、Ni-P合金は約
280℃で磁化するため、Ni-P/Al基板はその表面に磁性膜
や下地層をスパッタする際に基板温度を約280℃以上に
保つことができないし、磁性膜の高保磁力化、更には高
記録密度化の障害となっている。Ni-P/Al基板に変わる
ものとしては、ガラス基板が検討されるているが、その
欠点は壊れ易く信頼性に欠けることである。Ti基板はこ
れらNi-P/Al基板やガラス基板の欠点を改良するもので
あり、融点が1675℃と高く、機械強度も高いため小型・
薄板化及び高温での成膜にも耐える長所がある。Ti基板
を磁気ディスク基板として提案するものとしては、例え
ば特開平2-223017号があり介在物やピットの少ない組成
及び結晶粒径が30μm以下のものが提案されている。し
かし、実際に磁気ディスクを作製した時、後に述べるよ
うに、本発明で明かになったような、基板表面の最大面
粗さRmaxと磁気ディスクの電磁変換特性、特に、ミッシ
ングエラー特性との相関については明確ではなかった。
び高記録密度化が進められている。これに伴い、磁気デ
ィスクの寸法も130φ×1.905tmmから95φ×1.27tmm、65
φ×0.89tmm、及び48φ×0.635tmmへと小型・薄板化が
進められており、更なる小型・薄板化が大きな課題とな
っている。従来はこの磁気ディスク用基板としてAl基板
の表面にNi-P合金を無電解メッキしたもの（以降Ni-P/A
l基板と記す）を用いているが、磁気ディスクの小型・
薄板化及び高記録密度化に伴い、基板表面の平坦度及び
グライド特性が問題となってきた。また、Ni-P合金は約
280℃で磁化するため、Ni-P/Al基板はその表面に磁性膜
や下地層をスパッタする際に基板温度を約280℃以上に
保つことができないし、磁性膜の高保磁力化、更には高
記録密度化の障害となっている。Ni-P/Al基板に変わる
ものとしては、ガラス基板が検討されるているが、その
欠点は壊れ易く信頼性に欠けることである。Ti基板はこ
れらNi-P/Al基板やガラス基板の欠点を改良するもので
あり、融点が1675℃と高く、機械強度も高いため小型・
薄板化及び高温での成膜にも耐える長所がある。Ti基板
を磁気ディスク基板として提案するものとしては、例え
ば特開平2-223017号があり介在物やピットの少ない組成
及び結晶粒径が30μm以下のものが提案されている。し
かし、実際に磁気ディスクを作製した時、後に述べるよ
うに、本発明で明かになったような、基板表面の最大面
粗さRmaxと磁気ディスクの電磁変換特性、特に、ミッシ
ングエラー特性との相関については明確ではなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術に記載し
たTi基板を使用した磁気ディスク基板では、通常Tiを構
成する各粒の研磨速度が異なるため、その表面を精密研
磨又は精密研削を行った場合に結晶粒による凹凸が生
じ、平滑な表面に形成することが困難である。このた
め、基板表面に均一なテクスチャー加工を行うことが出
来なくなる欠点がある。また、Ti基板を使用した磁気デ
ィスクではTi基板表面の凹凸に起因して電磁変換特性、
特に、ミッシングエラー特性が劣る問題点があることが
わかった。そこで、本発明の目的はTi板を主とする磁気
ディスクの表面の粗さを向上させることにより、良好な
ミッシングエラー特性を持ち、信頼性の高い磁気ディス
クを提供することである。
たTi基板を使用した磁気ディスク基板では、通常Tiを構
成する各粒の研磨速度が異なるため、その表面を精密研
磨又は精密研削を行った場合に結晶粒による凹凸が生
じ、平滑な表面に形成することが困難である。このた
め、基板表面に均一なテクスチャー加工を行うことが出
来なくなる欠点がある。また、Ti基板を使用した磁気デ
ィスクではTi基板表面の凹凸に起因して電磁変換特性、
特に、ミッシングエラー特性が劣る問題点があることが
わかった。そこで、本発明の目的はTi板を主とする磁気
ディスクの表面の粗さを向上させることにより、良好な
ミッシングエラー特性を持ち、信頼性の高い磁気ディス
クを提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、Ti基板を使用
した磁気ディスクであって、上記目的を達成するためデ
ィスク表面の面粗さRmaxが0.03μm以下、望ましくは0.0
1μm以下であることを特徴とする磁気ディスクである。
した磁気ディスクであって、上記目的を達成するためデ
ィスク表面の面粗さRmaxが0.03μm以下、望ましくは0.0
1μm以下であることを特徴とする磁気ディスクである。
【０００５】
【作用】上記の磁気ディスクは基板表面の面粗さRmaxが
0.03μm以下であるため、本発明によるディスク表面上
の磁性膜と磁気ヘッドのコア部分との距離の変動が小さ
くなるとともに、ヘッドの浮上特性が安定化することに
より、ヘッドの再生出力が安定し、ミッシングエラー特
性が良くなる。また、上記基板はその表面をテクスチャ
ー処理した後にCrを主とする下地層、Coを主とする磁性
層、及び保護膜層、潤滑層を形成し、磁気ディスクとし
て用いる。テクスチャーの溝深さは、通常、Raが0.005
μm、Rmaxが0.06μm前後が用いられる。このため、基板
表面の面粗さRmaxが0.03μmを超えると、基板の凹部で
は充分にテクスチャーが施されず、基板の凹凸でテクス
チャー深さが不均一、はなはだしくは、テクスチャーが
施されていない部分が現れることがある。基板表面のRm
axが0.03μm以下では、基板全面を均一にテクスチャー
することができる。この結果、ヘッドのCSS特性やグラ
イド特性が良くなるとともに、ヘッドの再生出力が安定
し、ミッシングエラー特性が良くなる。
0.03μm以下であるため、本発明によるディスク表面上
の磁性膜と磁気ヘッドのコア部分との距離の変動が小さ
くなるとともに、ヘッドの浮上特性が安定化することに
より、ヘッドの再生出力が安定し、ミッシングエラー特
性が良くなる。また、上記基板はその表面をテクスチャ
ー処理した後にCrを主とする下地層、Coを主とする磁性
層、及び保護膜層、潤滑層を形成し、磁気ディスクとし
て用いる。テクスチャーの溝深さは、通常、Raが0.005
μm、Rmaxが0.06μm前後が用いられる。このため、基板
表面の面粗さRmaxが0.03μmを超えると、基板の凹部で
は充分にテクスチャーが施されず、基板の凹凸でテクス
チャー深さが不均一、はなはだしくは、テクスチャーが
施されていない部分が現れることがある。基板表面のRm
axが0.03μm以下では、基板全面を均一にテクスチャー
することができる。この結果、ヘッドのCSS特性やグラ
イド特性が良くなるとともに、ヘッドの再生出力が安定
し、ミッシングエラー特性が良くなる。
【０００６】
（実施例１）Ti基板の両面をメカノケミカルポリッシュ
を行った後、基板上に所定のテクスチャー加工を施し、
Cr膜、Co磁性膜、C保護膜及び潤滑膜を形成することに
より表面粗さの最大値Rmaxが0.03μmである磁気ディス
クを作製した。作製した磁気ディスクの表面を光学顕微
鏡で観察した結果、テクスチャーは平均粗さRaが50A、
最大値Rmaxが600A(オンク゛ストローム)であり、基板全域に施さ
れていた。作製した磁気ディスク10枚のミッシングエラ
ー特性を測定周波数3.3MHzに於て、トラック幅18μmの
ヘッドを用いて測定した結果を図１に示す。ミッシング
・パルス・シュレッショルドが50,55,60,62,64,66%と増
加させた場合、カウントされるエラー数の平均値は60,6
3,97,185,276,945ケと少なく比較的良好であり、かつ、
そのバラツキを示すσn-1も30,42,60,73,79,102ケと小
さく、品質管理が比較的容易であることを示している。 （比較例１）実施例１と同様のTi基板を用い、実施例１
と同じプロセスを用いて、表面粗さの最大値が0.04μm
である10枚の磁気ディスクを作製した。作製した磁気デ
ィスクの表面を光学顕微鏡で観察した結果、テクスチャ
ーは平均粗さRaが50A、最大値Rmaxが600A(オンク゛ストローム)で
あり、微少うねりの低い部分で一部テクスチャーが施さ
れていない領域が見られた。実施例１と同一条件で測定
したミッシングエラー特性を図２に示す。ミッシング・
パルス・シュレッショルドが50,55,60,62%の時、カウン
トされるエラー数は127,150,395,671ケと多く、そのσ
n-1が135,138,270,425ケとバラツキが異常に大きく、品
質管理が難しいことを示している。
を行った後、基板上に所定のテクスチャー加工を施し、
Cr膜、Co磁性膜、C保護膜及び潤滑膜を形成することに
より表面粗さの最大値Rmaxが0.03μmである磁気ディス
クを作製した。作製した磁気ディスクの表面を光学顕微
鏡で観察した結果、テクスチャーは平均粗さRaが50A、
最大値Rmaxが600A(オンク゛ストローム)であり、基板全域に施さ
れていた。作製した磁気ディスク10枚のミッシングエラ
ー特性を測定周波数3.3MHzに於て、トラック幅18μmの
ヘッドを用いて測定した結果を図１に示す。ミッシング
・パルス・シュレッショルドが50,55,60,62,64,66%と増
加させた場合、カウントされるエラー数の平均値は60,6
3,97,185,276,945ケと少なく比較的良好であり、かつ、
そのバラツキを示すσn-1も30,42,60,73,79,102ケと小
さく、品質管理が比較的容易であることを示している。 （比較例１）実施例１と同様のTi基板を用い、実施例１
と同じプロセスを用いて、表面粗さの最大値が0.04μm
である10枚の磁気ディスクを作製した。作製した磁気デ
ィスクの表面を光学顕微鏡で観察した結果、テクスチャ
ーは平均粗さRaが50A、最大値Rmaxが600A(オンク゛ストローム)で
あり、微少うねりの低い部分で一部テクスチャーが施さ
れていない領域が見られた。実施例１と同一条件で測定
したミッシングエラー特性を図２に示す。ミッシング・
パルス・シュレッショルドが50,55,60,62%の時、カウン
トされるエラー数は127,150,395,671ケと多く、そのσ
n-1が135,138,270,425ケとバラツキが異常に大きく、品
質管理が難しいことを示している。
【０００７】
【発明の効果】本発明によれば、280℃以上の高温で磁
性膜を形成でき、ディスクの表面の面粗さが小さいた
め、ミッシングエラー特性の向上が達成でき、品質のバ
ラツキを小さくすることができる。
性膜を形成でき、ディスクの表面の面粗さが小さいた
め、ミッシングエラー特性の向上が達成でき、品質のバ
ラツキを小さくすることができる。
【図１】本発明に係る磁気ディスクの一実施例を示すミ
ッシングエラー特性図である。
ッシングエラー特性図である。
【図２】比較例の磁気ディスクのミッシングエラー特性
図である。
図である。
Claims (1)
- 【請求項１】 チタンまたはチタン合金からなり、表面
の面粗さRmaxが0.03μm以下である基板を用いたことを
特徴とする磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24241492A JPH0696432A (ja) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | 磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24241492A JPH0696432A (ja) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | 磁気ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0696432A true JPH0696432A (ja) | 1994-04-08 |
Family
ID=17088772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24241492A Pending JPH0696432A (ja) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | 磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0696432A (ja) |
-
1992
- 1992-09-11 JP JP24241492A patent/JPH0696432A/ja active Pending
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