JPH0693420A - 摺動材料およびその製造方法 - Google Patents

摺動材料およびその製造方法

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JPH0693420A
JPH0693420A JP27080692A JP27080692A JPH0693420A JP H0693420 A JPH0693420 A JP H0693420A JP 27080692 A JP27080692 A JP 27080692A JP 27080692 A JP27080692 A JP 27080692A JP H0693420 A JPH0693420 A JP H0693420A
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JP
Japan
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film
substrate
coating
oxygen
sliding
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JP27080692A
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English (en)
Inventor
Seiji Hasei
政治 長谷井
Fumio Kiyota
文夫 清田
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Riken Corp
Original Assignee
Riken Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 チタン、窒素および酸素からなる皮膜と基体
との密着性を向上させ、摺動特性に優れた摺動材料を提
供する。 【構成】 チタン、窒素および酸素の組成からなる皮膜
が基体に被覆された摺動材料において、皮膜が厚み方向
の実質的に全体で基体表面から皮膜表面に向かって酸素
原子%比が不連続的あるいは連続的に増加している摺動
材料。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、機械部品等の摺動部に
硬質皮膜を有する摺動材料およびその摺動材料の製造方
法に関するものであり、更に詳しく述べるならば内燃機
関、動弁部品などの各種機械部品の摺動部に使用される
摺動材料とその製造方法に関するものである。これら各
種機器の高回転化や高出力化により機械部品などの摺動
部は益々過酷な条件下での耐摩耗性、耐焼付性等の摺動
特性の改善が期待されており、本発明はかかる要請に応
えるものである。
【0002】
【従来の技術】従来より主に鉄系摺動材料の摺動特性改
善策として行われている表面処理として、硬質クロムめ
っきによる耐摩耗性の改善、窒化またはモリブデン溶射
による耐焼付性の向上などが挙げられる。しかしながら
これらの方法では摺動材料に必要な十分な摺動特性が得
られないので、最近物理的蒸着(PVD)法あるいは化
学的気相析出(CVD)法によりTi−N系硬質皮膜を
作製する方法が検討されている。
【0003】しかしながら、Ti−N系皮膜は切削工具
として使用実績はあるが、機械部品等の摺動部材として
利用する場合には皮膜硬さが高すぎて相手材を摩耗させ
てしまう欠点がある。
【0004】また、Ti−N系皮膜での摩耗により粗く
なった相手材表面が今度はTi−N系皮膜をアブレーシ
ブ摩耗させ、両者の間の摺動条件を悪化させて遂には焼
き付きが発生しやすくなる。また皮膜硬さが高すぎるた
めに、Ti−N系皮膜と接する相手材との「初期なじ
み」が悪い欠点がある。ここで「初期なじみ」とは、摺
動部材の表面において摺動開始後の短時間内に摺動接触
する表面が微小かつ平滑に摩耗することにより接触面圧
を低減させて、潤滑油膜切れを起こし難くし、その結果
摩耗や焼付の発生を防ぐことである。
【0005】Ti−N系皮膜は初期なじみが悪いことに
より、摺動初期において摩耗や焼き付き現象を起こし易
いという摺動特性の問題点に加えてTi−N系皮膜には
製造上の問題がある。一般に硬質の薄い皮膜を被覆した
後には、初期なじみを良好にしかつ相手材の過度の摩耗
を招かないようにポリシング等で皮膜の摺動面を平滑化
する必要があるが、皮膜硬さが高いために平滑化が困難
である。したがってこのポリシング加工には長時間を要
し、しかも一様な仕上取り代にならず、膜厚が不均一に
なり部分的には皮膜を無くしてしまい、不良品となる率
が高い。
【0006】上記した摺動上及び製造上の問題点の対策
として本出願人は特願平4−215754号にて酸素を
導入したTi−N−O系皮膜を提案した。このTi−N
−O系皮膜は、Ti−N系皮膜よりも皮膜硬さが低いの
で相手材を摩耗させることが少なく、初期なじみが良好
であり、しかも基体に被覆した時に耐摩耗性および耐焼
付性が良好な摺動材料が得られる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、これらの特
性がさらに優れたチタン、窒素および酸素からなる皮膜
であって、皮膜と基体との密着性を向上させた皮膜で被
覆した摺動材料およびその製造方法を提供することを目
的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、機械部品等の
摺動部に、耐摩耗性および耐焼付性等の摺動特性に優れ
且つ初期なじみが良好であるTi−N−O系皮膜を被覆
するが、基体表面から皮膜表面に向かって皮膜組成を変
化させることにより、上記課題を解決するものである。
すなわち、本発明に係わる摺動材料は、基体表面に被覆
されたチタン、窒素および酸素からなるTi−N−O系
皮膜の厚み方向の実質的に全体において酸素原子%比が
基体表面から皮膜表面に向かって不連続的にあるいは連
続的に増していることを特徴とする。
【0009】基体としては、鉄系、アルミニウム系、チ
タン系等の材料を使用することができる。皮膜組成を上
述のように変化させた皮膜(以下「傾斜皮膜」と言う)
は厚みが1〜50μmの範囲内であることが好ましい。
傾斜皮膜においては基体側の酸素が少なく、好ましくは
0%であり、皮膜表面側の酸素が多いことが重要であ
り、酸素濃度は不連続的あるいは連続的に増大(例えば
階段状、鋸刃状変化)していても支障はない。また傾斜
皮膜は厚みの全体で上記の酸素濃度変化を示しているこ
とが好ましいが、かかる変化が厚み方向で実質的に全部
で起こっていると低酸素濃度のTi−N−Oと高酸素濃
度のTi−N−Oのそれぞれの物性による摺動性能や密
着性が得られるものである。
【0010】傾斜皮膜は、蒸着、スパッタ、イオンプレ
ーティングなどにより、チタンの蒸気と窒素および酸素
を混合した気相と基体を接触させることにより皮膜を基
体に被覆するPVD法において、成膜初期から成膜終了
に至る期間で導入する酸素量を不連続的あるいは連続的
に増加させる方法により形成することができる。イオン
プレーティングは陰極イオンプレーティングが好ましい
が、これに限定されず改訂5版金属便覧第903頁に例
示されているような各種方式を使用することができる。
【0011】
【作用】チタンは窒素及び酸素と安定した硬質物質を作
る。特に窒素はチタンの硬度を著しく高める。その量が
少な過ぎても多過ぎても皮膜の硬さが低下し、皮膜の耐
摩耗性が低下するので、ビッカース硬さが1000未満
とならないように、窒素含有量を定めることが好まし
い。酸素は窒素と共存すると、皮膜の硬度を下げ、ポリ
シングを容易にしかつ相手材の摩耗や初期なじみなどの
摺動特性を改良しさらに皮膜色調を暗色(非金属色)に
する。酸素の量は微量でも摺動特性向上に有効ではある
が少な過ぎると色調変化の作用が十分に発揮されないか
ら、色調の変化が検出できるように酸素を添加する必要
がある。一方酸素の量が多過ぎると皮膜の硬さが低くな
りすぎるので、ビッカース硬さで1000以下とならな
いように酸素量を定めることが好ましい。また皮膜の硬
さがビッカース硬さで2000を超えると相手材の摩耗
が多くなるので、酸素添加量はこの硬さ以下となるよう
にすることが好ましい。上記したチタン、窒素および酸
素の比率は原子%比でTi:N:O=l:0.9〜0.
3:0.3〜1.0の範囲であることが好ましい。
【0012】以下傾斜皮膜における酸素量変化の作用を
より具体的に説明する。図1に、窒素ガス流量に対する
酸素ガス流量の比を0から0.3まで0.03ずつ十段
階に変化させて成膜したTi−N−O系傾斜皮膜のEP
MAによるライン分析結果を示す。図の右部にsubと
示された位置が基体表面を示すが、基体表面から皮膜表
面に向かって酸素量が増加していることが確認された。
また、酸素量の増加にともなってチタンおよび窒素の相
対量は減少していることも示されている。この図からT
i−N−O系傾斜皮膜における基体表面から皮膜表面に
向かう酸素原子%比の増加とこれに伴う皮膜組成の変化
の状況が明らかである。
【0013】表1に図1で示した皮膜の表面粗さおよび
皮膜硬さを示す。比較のため、窒素ガス流量に対する酸
素ガス流量の比を、Ti−N−O系傾斜皮膜の最表面と
同等にし、成膜中の流量比を変化させず作製したTi−
N−O系皮膜についても示した。
【0014】 表1 ガス流量比 表面粗さ μm 皮膜硬さ Lc N2:O2 Ra Rmax Rz HmV0.050 N Ti-N-O系皮膜 1 : 0.3 0.26 3.71 2.66 1414 32 Ti-N-O系傾斜皮膜 1 : 0 → 0.3 0.35 5.80 3.82 1701 60
【0015】Ti−N−O系傾斜皮膜は、Ti−N−O
系皮膜より表面粗さが粗くなっている。また、Ti−N
−O系傾斜皮膜は、Ti−N−O系皮膜よりも皮膜硬さ
は高くなっている。この皮膜硬さの向上については、T
i−N−O化合物は酸素原子%比が大きくなるにしたが
って硬さが低下することに起因すると考える。すなわ
ち、Ti−N−O系傾斜皮膜は、最表面層ではTi−N
−O系皮膜と同程度の皮膜硬さであっても、皮膜内部に
向かうにしたがって酸素原子%比が小さくなることから
硬さが高くなり、皮膜全体が荷重に対して変形する量と
して測定された皮膜硬さはTi−N−O系皮膜よりも高
くなって現れていると思われる。また表中のLcは、皮
膜と基体との密着性を評価する手法の一つであるスクラ
ッチ試験より求めた臨界応力値(ニュートン単位)を示
す。Ti−N−O系傾斜皮膜のLc値は、Ti−N−O
系皮膜のそれの約2倍という極めて大きい値を示してお
り、皮膜中の酸素原子%比を基体表面から皮膜表面に向
かって段階的に増加させることにより、基体と皮膜との
密着性が著しく向上している。
【0016】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳しく説明す
る。本実施例で使用した皮膜形成の基体は高クロム鋼
(JIS規格SUJ−2)である。基体は予めフロン液
中で超音波洗浄を行い、以下に説明する手順で鏡面仕上
げされた基体表面に陰極アークプラズマ式イオンプレー
ティングにより、基体表面から皮膜表面に向かって酸素
原子%比を段階的に増加させて、皮膜組成を変化させた
Ti−N−O系傾斜皮膜を形成した。
【0017】基体を超音波洗浄した後、イオンプレーテ
ィング装置の真空容器(チャンバ)内に取り付け、続い
てチャンバ内圧力が1.3×10-3Pa(パスカル)と
なるまで真空引きを行った。この真空度が達成された時
点から、チャンバ内に内蔵されているヒーターにより基
体を300〜600℃まで加熱して、基体表面に付着あ
るいは吸着しているガス成分を放出させ、その後200
℃まで冷却した。チャンバ内圧力が4×10-3Pa以下
となった時点で、陰極としたTiタ−ゲットの表面でア
ーク放電を発生させ、Tiの大部分がイオン化された状
態でターゲット表面から飛出させた。この時基体を取り
付けた治具には−700〜−1000Vのバイアス電圧
を印加しておき、タ−ゲットから飛出しイオン化したT
iを基体と治具の表面に吸引し、さらにこれらのイオン
を高速で被処理面に衝突させた。
【0018】このようなイオン化した金属の衝突により
被処理面の酸化物などを削るいわゆるスパッタクリーニ
ングにより表面の活性化処理を行った。また、アーク放
電発生と同時に少量の窒素ガスをチャンバ内に導入する
ことにより一部のイオン化したTiは、窒素ガスと結合
し基体表面にTi−N系皮膜となって析出される。その
後、さらに窒素ガス流量を増やし1.3Pa程度の圧力
とし、−10〜−100Vのバイアス電圧を印加して基
体表面にTi−N系皮膜を形成させた後、5分毎に酸素
導入量を一定量ずつ増加させ、皮膜中の酸素原子%比を
基体表面から皮膜表面に向かって増加させたTi−N−
O系傾斜皮膜を作製した。所定の酸素原子%比の膜とな
るまで成膜後、チャンバ内温度が150℃以下になるま
で冷却してから、膜被覆された基体をチャンバ外に取り
出した。比較のため従来より行われてきた酸素導入量を
変化させないTi−N−O系皮膜についても同様に作製
した。
【0019】これらの供試材を用いてねずみ鋳鉄(FC
25)を相手材としてピンオンディスク型摩擦試験機に
よりスカッフ試験を行い、各皮膜の初期なじみ性及び耐
焼付性を評価した。スカッフ試験条件は以下の通りであ
った。 潤滑方法:モーターオイル#30、油温80℃、油量4
cc/sec 摩擦速度:8m/sec 接触荷重:初期2MPaから1MPaごとに焼付(スカ
ッフ)に至るまで増加させた。 摩擦時間:各荷重で180sec保持
【0020】上記方法により得られた結果を図2に示
す。酸素導入しないTi−N系皮膜では27MPa程度
のスカッフ値を示したが、Ti−N−O系傾斜皮膜では
32MPaのスカッフ値を示し、傾斜皮膜では耐焼付性
は向上することがわかった。本実施例では酸素原子比%
を変化させたことによりTi−N−O系傾斜皮膜は基体
との密着性が向上し、その剥離に起因する焼き付きが起
こらなくなったものと考えられる。
【0021】またピン−ドラム式摩耗試験機を用い、ド
ラムをねずみ鋳鉄(FC25)としまたピンをイオンプ
レーティング皮膜を被覆した上記供試材として3回摩耗
試験を行った。摩耗試験条件は以下の通りであった。 潤滑方法:モーターオイル#30、油温80℃、油量8
cc/sec ドラム回転速度:5m/sec 接触荷重:1.5MPa 試験時間:30ksec
【0022】皮膜を被覆したピンの摩耗量とドラムの摩
耗量をそれぞれ摩耗したピン接触面のドラム回転方向の
幅、ドラムの摩耗深さより求め図3に示す。図3に示さ
れたピンの摩耗量は、Ti−N−O系皮膜に対してTi
−N−O系傾斜皮膜は摩耗量が少なく、耐摩耗性が優れ
ていることがわかる。一方、ドラムの摩耗量はTi−N
−O系傾斜皮膜の場合には少ない。
【0023】
【発明の効果】以上のように、摺動材料の摺動面に被覆
されるTi−N−O系皮膜において、基体表面から皮膜
表面に向かって酸素原子%比を不連続的あるいは連続的
に増加させることにより、酸素原子%比を変化させない
Ti−N−O系皮膜よりも基体との密着性に優れ、耐摩
耗性、かつ相手材を摩耗させない性質および耐焼付性等
の摺動特性に優れた摺動材料が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 Ti−N−O系傾斜皮膜のEPMA分析結果
を示す図である。
【図2】 焼付試験結果を示す図である。
【図3】 摩耗試験結果を示す図である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 チタン、窒素および酸素の組成からなる
    皮膜が基体に被覆された摺動材料において、前記皮膜が
    厚み方向の実質的に全体で基体表面から皮膜表面に向か
    って酸素原子%比が不連続的あるいは連続的に増加して
    いることを特徴とする摺動材料。
  2. 【請求項2】 基体に被覆された前記チタン、窒素およ
    び酸素の組成からなる皮膜のビッカース硬さが1000
    以上2000以下であることを特徴とする請求項1記載
    の摺動材料。
  3. 【請求項3】 チタンの蒸気と窒素および酸素を混合し
    た気相と基体を接触させることにより皮膜を基体に被覆
    するPVD法において、成膜初期から成膜終了に至る期
    間で導入する酸素量を不連続的あるいは連続的に増加さ
    せることを特徴とする請求項1または2記載の摺動材料
    の製造方法。
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