JPH0690807B2 - 光学的記録媒体 - Google Patents
光学的記録媒体Info
- Publication number
- JPH0690807B2 JPH0690807B2 JP61046235A JP4623586A JPH0690807B2 JP H0690807 B2 JPH0690807 B2 JP H0690807B2 JP 61046235 A JP61046235 A JP 61046235A JP 4623586 A JP4623586 A JP 4623586A JP H0690807 B2 JPH0690807 B2 JP H0690807B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- protective film
- layer
- optical recording
- ethyl acrylate
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光ビームにより記録、再生を行なうことが可
能な光学的記録媒体に関する。特に、記録層の保存安定
性の向上を目的として記録層上に形成される保護膜に関
するものである。
能な光学的記録媒体に関する。特に、記録層の保存安定
性の向上を目的として記録層上に形成される保護膜に関
するものである。
従来より、光ディスクに用いられる光メモリー材料とし
ては希土類−遷移金属の合金薄膜、非晶質から結晶質へ
の相転移を利用したカルコゲン化合物等の還元性酸化物
薄膜、ヒートモード記録媒体、サーモプラスチック記録
媒体等が知られている。例えば、希土類−遷移金属の合
金薄膜で形成される光磁気記録媒体としてては、MnBi,M
nCuBiなどの多結晶薄膜、GdCo,GdFe,TbFe,DyFe,GdTbFe,
TbDyFe,GdFeCo,TbFeCo,GdTbCoなどの非晶質薄膜、GdIG
などの単結晶薄膜などが知られている。これらの薄膜の
うち、大面積の薄膜を室温近傍の温度で製作する際の製
膜性、信号を小さな光熱エネルギーで書き込むための書
き込み効率、および書き込まれた信号をS/N比より読み
出すための読み出し効率を勘案して、最近では前記非晶
質薄膜が光磁気記録媒体として優れていると考えられて
いる。特に、GdTbFeはカー回転角も大きく、150℃前後
のキューリー点を持つので光磁気記録媒体として最適で
ある。
ては希土類−遷移金属の合金薄膜、非晶質から結晶質へ
の相転移を利用したカルコゲン化合物等の還元性酸化物
薄膜、ヒートモード記録媒体、サーモプラスチック記録
媒体等が知られている。例えば、希土類−遷移金属の合
金薄膜で形成される光磁気記録媒体としてては、MnBi,M
nCuBiなどの多結晶薄膜、GdCo,GdFe,TbFe,DyFe,GdTbFe,
TbDyFe,GdFeCo,TbFeCo,GdTbCoなどの非晶質薄膜、GdIG
などの単結晶薄膜などが知られている。これらの薄膜の
うち、大面積の薄膜を室温近傍の温度で製作する際の製
膜性、信号を小さな光熱エネルギーで書き込むための書
き込み効率、および書き込まれた信号をS/N比より読み
出すための読み出し効率を勘案して、最近では前記非晶
質薄膜が光磁気記録媒体として優れていると考えられて
いる。特に、GdTbFeはカー回転角も大きく、150℃前後
のキューリー点を持つので光磁気記録媒体として最適で
ある。
しかしながら、一般にGdTbFe等の光磁気記録媒体をはじ
めとする磁気記録媒体に用いられる非晶質磁性体は耐食
性が悪いという欠点を持っている。すなわち、大気、水
蒸気に触れると磁気特性が低下し、最終的には完全に酸
化されて透明化するに至る。
めとする磁気記録媒体に用いられる非晶質磁性体は耐食
性が悪いという欠点を持っている。すなわち、大気、水
蒸気に触れると磁気特性が低下し、最終的には完全に酸
化されて透明化するに至る。
このような欠点を除くために、従来から光メモリー材料
層の上にSiO2,SiOなどの無機系の保護層を設けることが
提案されている。しかしながら、SiO,SiO2等の無機物の
保護層は蒸着、スパッタ等の真空装置を使って成膜しな
ければならず、又その成膜にも時間がかかる為設備投資
及び人件費が膨大なものとなり、記録媒体のコストを上
昇させる原因となっている。また、これら無機物の保護
膜は有機物に比べると熱伝導率が高く、メモリー材料膜
への記録時に、保護膜側に散逸してしまうエネルギーが
多く、これが書き込み感度を低下させる原因となってい
た。
層の上にSiO2,SiOなどの無機系の保護層を設けることが
提案されている。しかしながら、SiO,SiO2等の無機物の
保護層は蒸着、スパッタ等の真空装置を使って成膜しな
ければならず、又その成膜にも時間がかかる為設備投資
及び人件費が膨大なものとなり、記録媒体のコストを上
昇させる原因となっている。また、これら無機物の保護
膜は有機物に比べると熱伝導率が高く、メモリー材料膜
への記録時に、保護膜側に散逸してしまうエネルギーが
多く、これが書き込み感度を低下させる原因となってい
た。
また有機樹脂を保護膜として記録層上に塗布することも
試みられているが、従来試みられている樹脂には、以下
に記載するような問題があった。まず初めにアクリル樹
脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等を保護膜とした場合
には上記樹脂から記録層を冒す物質が記録層へ拡散して
来て記録層の劣化を促進する。またアクリル樹脂、シリ
コーン樹脂、塩化ビニル等を保護膜にした場合には、保
護膜の耐湿性が悪く保護膜としての機能をはたすまでに
至らない。また、上記樹脂を使用した場合には塗布後樹
脂が硬化するまでに時間がかかり、製造コストアップの
原因になっていた。
試みられているが、従来試みられている樹脂には、以下
に記載するような問題があった。まず初めにアクリル樹
脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等を保護膜とした場合
には上記樹脂から記録層を冒す物質が記録層へ拡散して
来て記録層の劣化を促進する。またアクリル樹脂、シリ
コーン樹脂、塩化ビニル等を保護膜にした場合には、保
護膜の耐湿性が悪く保護膜としての機能をはたすまでに
至らない。また、上記樹脂を使用した場合には塗布後樹
脂が硬化するまでに時間がかかり、製造コストアップの
原因になっていた。
本発明は以上の問題点を解決するためになされたもので
あり短時間でしかも簡単な操作で形成しえて、かつ書き
込み感度の低下が少ない耐食性保護膜を有する光学的記
録媒体を提供することを目的とする。
あり短時間でしかも簡単な操作で形成しえて、かつ書き
込み感度の低下が少ない耐食性保護膜を有する光学的記
録媒体を提供することを目的とする。
本発明は基板上に光学的記録層が設けられている光学的
記録媒体において、該記録層上にエチレン・エチルアク
リレート共重合体を主成分とする保護膜が形成されてい
ることを特徴とする光学的記録媒体である。
記録媒体において、該記録層上にエチレン・エチルアク
リレート共重合体を主成分とする保護膜が形成されてい
ることを特徴とする光学的記録媒体である。
本発明において、基板としては、ガラス；アクリル樹
脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂等のプラスチ
ックが用いられる。
脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂等のプラスチ
ックが用いられる。
本発明において、光学的記録層とは、光メモリー材料層
だけを意味するのではなく、必要に応じて光メモリー材
料層の上および／または下に、下地層、反射防止層、反
射層、干渉層、本発明で用いる保護膜以外の材料で構成
される保護層等を適宜設けることによって構成される層
全体をも意味する。
だけを意味するのではなく、必要に応じて光メモリー材
料層の上および／または下に、下地層、反射防止層、反
射層、干渉層、本発明で用いる保護膜以外の材料で構成
される保護層等を適宜設けることによって構成される層
全体をも意味する。
基板上に上記光学的記録層を設けるには上記各層を順次
その物性に応じた層形成手段、たとえばスパッタリング
法、真空蒸着法などにより積層してゆく。
その物性に応じた層形成手段、たとえばスパッタリング
法、真空蒸着法などにより積層してゆく。
本発明の光学的記録媒体を形成するには、上述の方法で
記録層を設けたのち、その上にエチレン・エチルアクリ
レート共重合体を主成分とする保護膜を形成するのであ
るが、エチレン・エチルアクリレート共重合体は熱可塑
性樹脂であるので、それを加熱溶融し、記録層上にロー
ルコーター、スプレー、印刷、スピンコーティングなど
の塗布手段で膜状に塗布すれば、記録層および基板側へ
の熱伝導により塗布された共重合体は瞬時に冷却固化し
て塗膜を形成し、塗布後保護膜が形成されるまでに要す
る時間は従来試みられてきた有機樹脂保護膜の場合の時
間に比べてはるかに短時間である。更に、エチレン・エ
チルアクリレート共重合体膜は、従来試みられてきた有
機樹脂膜にくらべて透湿性や気体透過性が低く、従って
記録層の酸化劣化防止の観点からも好ましい。加うる
に、熱伝導率がSiO,SiO2等の誘電体、Al,Cu等の金属に
比べて低いので、記録時の記録エネルギーの散逸も少な
く、記録感度も向上する。
記録層を設けたのち、その上にエチレン・エチルアクリ
レート共重合体を主成分とする保護膜を形成するのであ
るが、エチレン・エチルアクリレート共重合体は熱可塑
性樹脂であるので、それを加熱溶融し、記録層上にロー
ルコーター、スプレー、印刷、スピンコーティングなど
の塗布手段で膜状に塗布すれば、記録層および基板側へ
の熱伝導により塗布された共重合体は瞬時に冷却固化し
て塗膜を形成し、塗布後保護膜が形成されるまでに要す
る時間は従来試みられてきた有機樹脂保護膜の場合の時
間に比べてはるかに短時間である。更に、エチレン・エ
チルアクリレート共重合体膜は、従来試みられてきた有
機樹脂膜にくらべて透湿性や気体透過性が低く、従って
記録層の酸化劣化防止の観点からも好ましい。加うる
に、熱伝導率がSiO,SiO2等の誘電体、Al,Cu等の金属に
比べて低いので、記録時の記録エネルギーの散逸も少な
く、記録感度も向上する。
本発明で用いるエチレン・エチルアクリレート共重合体
は、エチレンとエチルアクリレートを主要構成モノマー
として得られる共重合体であり、エチレンとエチルアク
リレートとのモノマー比率は9:1乃至6:4の範囲のものを
用いるのが好ましい。
は、エチレンとエチルアクリレートを主要構成モノマー
として得られる共重合体であり、エチレンとエチルアク
リレートとのモノマー比率は9:1乃至6:4の範囲のものを
用いるのが好ましい。
本発明で用いるエチレン・エチルアクリレート共重合体
としては、例えば三井・デュポンポリケミカル（株）製
の製品名:EVAFLEX−EFA、銘柄:A−701〜Ａ−704、Ａ−7
07、Ａ−707或はＡ−710などを使用することができる。
としては、例えば三井・デュポンポリケミカル（株）製
の製品名:EVAFLEX−EFA、銘柄:A−701〜Ａ−704、Ａ−7
07、Ａ−707或はＡ−710などを使用することができる。
上述の如く、エチレン・エチルアクリレート共重合体単
独で保護膜を形成出来るが、保護膜の透湿率をさらに下
げ記録膜の耐久性を向上させるためには、該共重合体に
パラフィンワックスやマイクロクリスタリンワックス等
のワックス状炭化水素をブレンドするのが好ましい。
又、軟化点の低い、上記ワックスをブレンドすることに
より、溶融液の粘度を低下させ、塗布を容易にすること
もできる。上記ワックスの最も好ましいブレンド比率は
重量比で共重合体：ワックス状炭化水素が9:1乃至7:3の
範囲のものである。以下、図面を用いて本発明を説明す
る。
独で保護膜を形成出来るが、保護膜の透湿率をさらに下
げ記録膜の耐久性を向上させるためには、該共重合体に
パラフィンワックスやマイクロクリスタリンワックス等
のワックス状炭化水素をブレンドするのが好ましい。
又、軟化点の低い、上記ワックスをブレンドすることに
より、溶融液の粘度を低下させ、塗布を容易にすること
もできる。上記ワックスの最も好ましいブレンド比率は
重量比で共重合体：ワックス状炭化水素が9:1乃至7:3の
範囲のものである。以下、図面を用いて本発明を説明す
る。
第１乃至第３図は本発明の記録媒体の構造例を説明する
ための側断面図であり、第４図は従来の記録媒体に関す
る同様の図である。各図において、１は基板、２は下地
層、３は光メモリー材料層、４はエチレン・エチルアク
リレート共重合体を主成分とする保護膜、５は従来技術
による保護膜層、６は接着剤層である。
ための側断面図であり、第４図は従来の記録媒体に関す
る同様の図である。各図において、１は基板、２は下地
層、３は光メモリー材料層、４はエチレン・エチルアク
リレート共重合体を主成分とする保護膜、５は従来技術
による保護膜層、６は接着剤層である。
第３図にみられる如く、２つの記録層が対向するように
接着剤で貼り合わせた構造のもの、またその際スペーサ
ーを介して貼り合わせた所謂エアーサンドイッチ構造の
ものなども、記録層上にエチレン・エチルアクリレート
共重合体を主成分とする保護膜が形成されている限り、
本発明の光学的記録媒体の実施態様である。
接着剤で貼り合わせた構造のもの、またその際スペーサ
ーを介して貼り合わせた所謂エアーサンドイッチ構造の
ものなども、記録層上にエチレン・エチルアクリレート
共重合体を主成分とする保護膜が形成されている限り、
本発明の光学的記録媒体の実施態様である。
以下に本発明を実施例により更に詳細に説明する。
実施例１ 以下に記述した方法でその模式側断面が第１図の構造の
ディスク状光学的記録媒体を作成した。
ディスク状光学的記録媒体を作成した。
インジェクション成形法により、その表面にスパイラル
状の案内溝をもったポリカーボネート樹脂基板１を作製
し、その上に真空蒸着法で900Åの厚さのSiOを下地層２
として成膜し、引き続きRFスパッタ法によりGdTbFeCoの
光メモリー材料層３を700Å成膜した。さらにその上に
エチレン・エチルアクリレート共重合体（三井・デュポ
ンポリケミカル（株）製、製品名:EVAFLEX−EFA、銘柄:
A−702）とパラフィンワックス（シェル化学（株）製、
製品名：シェルワックス100）を７対３の重量比率で混
合した樹脂を加熱溶融し、ロールコーターにて30μｍの
厚さに塗布した。塗膜は塗布されるとすぐに記録層およ
び基板側へ熱伝導が起り、瞬時に冷却固化して保護膜４
が形成され、かくて本発明の光学的記録媒体が得られ
た。
状の案内溝をもったポリカーボネート樹脂基板１を作製
し、その上に真空蒸着法で900Åの厚さのSiOを下地層２
として成膜し、引き続きRFスパッタ法によりGdTbFeCoの
光メモリー材料層３を700Å成膜した。さらにその上に
エチレン・エチルアクリレート共重合体（三井・デュポ
ンポリケミカル（株）製、製品名:EVAFLEX−EFA、銘柄:
A−702）とパラフィンワックス（シェル化学（株）製、
製品名：シェルワックス100）を７対３の重量比率で混
合した樹脂を加熱溶融し、ロールコーターにて30μｍの
厚さに塗布した。塗膜は塗布されるとすぐに記録層およ
び基板側へ熱伝導が起り、瞬時に冷却固化して保護膜４
が形成され、かくて本発明の光学的記録媒体が得られ
た。
実施例２ 以下に記述した方法でその模式側断面が第２図の構造の
円形状の光学的記録媒体を作製した。
円形状の光学的記録媒体を作製した。
光メモリー材料層を成膜するまでは実施例１と同様に行
ない、その上に保護膜５としてSiOを500Å真空蒸着法で
形成した。ついで、実施例１と同様な方法でエチレン・
エチルアクリレート共重合体（三井・デュポンポリケミ
カル（株）製、製品名:EVAFLEX−EFA、銘柄:A−703）と
パラフィンワックス（シェル化学（株）製、製品名：シ
ェルワックス100）との重量比が6:4である厚さ40μｍの
混合保護膜４をその上に形成して本発明の光学的記録媒
体を得た。尚、保護膜の形成に要した時間は約２分であ
った。
ない、その上に保護膜５としてSiOを500Å真空蒸着法で
形成した。ついで、実施例１と同様な方法でエチレン・
エチルアクリレート共重合体（三井・デュポンポリケミ
カル（株）製、製品名:EVAFLEX−EFA、銘柄:A−703）と
パラフィンワックス（シェル化学（株）製、製品名：シ
ェルワックス100）との重量比が6:4である厚さ40μｍの
混合保護膜４をその上に形成して本発明の光学的記録媒
体を得た。尚、保護膜の形成に要した時間は約２分であ
った。
比較のために第４図にその模式側断面を示す構造の光学
的記録媒体を作製した。すなわちこの場合は光メモリー
材料層を成膜するまでは実施例１と同様に行ない、その
上に保護膜５としてSiOを3000Å真空蒸着法で形成した
ものである。この場合の保護膜形成の所要時間は約５分
であった。
的記録媒体を作製した。すなわちこの場合は光メモリー
材料層を成膜するまでは実施例１と同様に行ない、その
上に保護膜５としてSiOを3000Å真空蒸着法で形成した
ものである。この場合の保護膜形成の所要時間は約５分
であった。
得られた２つの記録媒体を45℃,95％RHの環境試験器中
に1000時間放置後、記録層の劣化の程度を比較したが、
両者に殆ど差がなかった。
に1000時間放置後、記録層の劣化の程度を比較したが、
両者に殆ど差がなかった。
同一膜厚の場合は樹脂膜の方がSiO膜にくらべて気体お
よび水分透過量が多いにも拘らず上記の如き結果が得ら
れたのはエチレン・エチルアクリレート共重合体−ワッ
クスの保護膜を厚く成膜したためと思われるが、それに
も拘らず前述の如く保護膜形成のための所要時間を本発
明の場合はかなり短縮出来るので、その経済的効果はき
わめて大きい。
よび水分透過量が多いにも拘らず上記の如き結果が得ら
れたのはエチレン・エチルアクリレート共重合体−ワッ
クスの保護膜を厚く成膜したためと思われるが、それに
も拘らず前述の如く保護膜形成のための所要時間を本発
明の場合はかなり短縮出来るので、その経済的効果はき
わめて大きい。
実施例３ 実施例２の光学的記録媒体を記録層が対向するようにゴ
ム系のホットメルト接着剤６で貼り合わせて、その模式
側断面が第３図の構造の記録媒体を作製した。このよう
に貼り合わせ構造の記録媒体においても実施例２と同様
の効果がある。
ム系のホットメルト接着剤６で貼り合わせて、その模式
側断面が第３図の構造の記録媒体を作製した。このよう
に貼り合わせ構造の記録媒体においても実施例２と同様
の効果がある。
尚、上記実施例ではいずれも光磁気記録媒体で本発明を
説明したが、記録層の種類はこれに限定されるものでは
ない。
説明したが、記録層の種類はこれに限定されるものでは
ない。
以上説明したようにエチレン・エチルアクリレート共重
合体を保護膜に使った場合には従来の無機保護膜に比べ
て記録感度が向上しコスト的にも有利である。又、従来
から使われている有キ保護膜に比べても記録層の保護性
能が高く、加熱溶融して塗布し、常温にもどると固化す
るため短時間で成膜でき、コスト的に有利である。
合体を保護膜に使った場合には従来の無機保護膜に比べ
て記録感度が向上しコスト的にも有利である。又、従来
から使われている有キ保護膜に比べても記録層の保護性
能が高く、加熱溶融して塗布し、常温にもどると固化す
るため短時間で成膜でき、コスト的に有利である。
第１〜３図および第４図は、本発明および従来の光学的
記録媒体の構造を、それぞれ模式的に示した側断面図で
ある。 １……基板、 ２……下地層、 ３……光メモリー材料層、 ４……エチレン・エチルアクリレート共重合体を主成分
とする保護層、 ５……従来技術による保護層、 ６……接着剤層。
記録媒体の構造を、それぞれ模式的に示した側断面図で
ある。 １……基板、 ２……下地層、 ３……光メモリー材料層、 ４……エチレン・エチルアクリレート共重合体を主成分
とする保護層、 ５……従来技術による保護層、 ６……接着剤層。
Claims (2)
- 【請求項１】基板上に光学的記録層が設けられている光
学的記録媒体において、該記録層上に、エチレンとエチ
ルアクリレートとのモノマー比率が9:1乃至6:4の範囲の
エチレン・エチルアクリレート共重合体を主成分とする
保護膜が形成されていることを特徴とする光学的記録媒
体。 - 【請求項２】前記保護膜がエチレン・エチルアクリレー
ト共重合体とワックス状炭化水素との混合物である特許
請求の範囲第１項記載の光学的記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61046235A JPH0690807B2 (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | 光学的記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61046235A JPH0690807B2 (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | 光学的記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62205552A JPS62205552A (ja) | 1987-09-10 |
| JPH0690807B2 true JPH0690807B2 (ja) | 1994-11-14 |
Family
ID=12741457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61046235A Expired - Lifetime JPH0690807B2 (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | 光学的記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0690807B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5175523A (ja) * | 1974-12-26 | 1976-06-30 | Canon Kk | |
| JPS57179956A (en) * | 1981-04-25 | 1982-11-05 | Toshiba Corp | Optical recording member |
| JPS59203252A (ja) * | 1983-05-06 | 1984-11-17 | Ricoh Co Ltd | 光学的情報記憶媒体 |
-
1986
- 1986-03-05 JP JP61046235A patent/JPH0690807B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5175523A (ja) * | 1974-12-26 | 1976-06-30 | Canon Kk | |
| JPS57179956A (en) * | 1981-04-25 | 1982-11-05 | Toshiba Corp | Optical recording member |
| JPS59203252A (ja) * | 1983-05-06 | 1984-11-17 | Ricoh Co Ltd | 光学的情報記憶媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62205552A (ja) | 1987-09-10 |
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