JPH0688921B2 - クロロトリフルオロエチレンを製造する方法 - Google Patents

クロロトリフルオロエチレンを製造する方法

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JPH0688921B2
JPH0688921B2 JP2061813A JP6181390A JPH0688921B2 JP H0688921 B2 JPH0688921 B2 JP H0688921B2 JP 2061813 A JP2061813 A JP 2061813A JP 6181390 A JP6181390 A JP 6181390A JP H0688921 B2 JPH0688921 B2 JP H0688921B2
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常俊 本田
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、シリカゲルを触媒として用いて、1,1,2−ト
リクロロ−1,2,2−トリフルオロエタンからクロロトリ
フルオロエチレンを製造する方法に関する。
[従来の技術および発明が解決しようとする課題] クロロトリフルオロエチレン(CTFE)は、工業的には、
通常、1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン
(R−113)を無水有機溶媒中で亜鉛により脱塩素する
液相法で製造することができる(特公昭47−45322号公
報)。しかし、この方法は、高価な亜鉛および有機溶媒
を使用するので価格的に不利であり、また副生する塩化
亜鉛の処理上の問題がある。
これに対し、R−113と水素を気相で触媒反応させてCTF
Eを製造する幾つかの方法が提案されている。これらの
方法の中で、シリカゲルを単独で触媒として用いた例は
ない。シリカゲルを担体として使用し銅を担持した例
(米国特許第2,615,925号)があるが、シリカゲル自体
に反応活性があるということは記載されておらず、また
実施例からもシリカゲルに反応活性があることを容易に
予想することはできない。また、ガラスビーズを用いて
反応を行う例(米国特許第2,697,124号)もあるが、こ
の場合、R−113の反応率が低く(600℃で20%)、また
ガラスビーズが触媒として認識されておらず、単なる熱
分解反応が起こるものと考えられている。
シリカゲルを単独で触媒として用いてR−113と水素か
らCTFEを製造する方法は全く新規な方法であり、種々の
金属触媒を用いてR−113と水素からCTFEを製造する従
来公知の方法と比較すると触媒調製を必要としないとい
う価格上、操作上の利点を有する。
[課題を解決するための手段] 本発明の要旨は、1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフル
オロエタンと水素とを気相で反応させることによってク
ロロトリフルオロエチレンを製造する方法において、シ
リカゲルを触媒として用いることを特徴とする製造方法
にある。
本発明において触媒として用いるシリカゲルは、特定の
シリカゲルである必要はなく、一般に乾燥剤、脱水剤、
クロマトグラフィー用充填剤または触媒用担体等として
市販されているシリカゲルをそのまま使用することがで
きる。
シリカゲルの表面積は1〜1000m2/gの広範囲内にあれば
よい。
シリカゲルの粒径、形状は特に限定されないが、実用
上、5〜60メッシュの球状シリカゲルが好ましい。シリ
カゲルの純度は特に限定されないが、90%以上であるこ
とが好ましい。Al、Fe、Na、Ca等の成分を微量または少
量含んでもよい。
本発明の製造方法において、石英反応管内の適当な反応
管に上記シリカゲルを充填し、該反応管を400〜650℃、
好ましくは450〜550℃に加熱保持したところへ、R−11
3と水素をモル比1:0.2〜1:10、好ましくは1:0.5〜1:4と
して混合したものを、接触時間0.2〜60秒、好ましくは
1〜10秒で通過反応させることにより、CTFEが高収率で
得られる。
水素使用量が上記範囲より少ないと転化率が低下し、多
いと反応後の水素とCTFEの分離が困難となる。温度が上
記範囲より低いと転化率が低下し、高いと選択率が低下
する。また、接触時間が上記範囲より短いと転化率が低
下し、長すぎると選択率が低下する。
反応圧力は、特に限定されないが、常圧または自生圧で
反応が充分に進行する。
また反応ガスを窒素等の不活性ガスで希釈してもよい。
[発明の効果] 本発明の方法は、従来用いられていたような触媒を使用
しないのでクロロトリフルオロエチレンを廉価に製造す
ることができ、問題のある副生物が生成されることもな
いので簡単な手順により実施することができる。
[実施例] 実施例1 5〜10メッシュの球状シリカゲル(キャリアクト−30:
富士デヴィソン化学製の触媒担体用耐水性球状シリカゲ
ル、表面積106m2/g)30cc(約120g)を石英反応管(管
径インチ、長さ82cm)に充填し、これを電気炉により外
部より加熱して500℃に保持した。
反応管内を窒素ガスで置換した後、R−113を4.44ミリ
モル/分、水素を13.3ミリモル/分の速度で供給し、接
触時間を8秒として反応させた。
9時間反応後、流出ガスのガスクロマトグラフィー分析
結果は、R−113の反応率65%、CTFEの選択率94%であ
った。
反応温度を525℃とし、同じ触媒を用いて、接触時間8
秒の同じ条件で反応させると、R−113の反応率が87
%、CTFE選択率が93%となった。
実施例2 5〜10メッシュの球状シリカゲル(キャリアクト−10:
富士デヴィソン化学製、表面積307m2/g)30ccを、実施
例1と同様の反応管に充填し、500℃に加熱保持した。
実施例1と同様の条件で12時間反応させた後のガスクロ
マトグラフィー分析の結果は、R−113の反応率63%、C
TFEの選択率91%であった。
比較例1 実施例1と同様の石英反応管に5〜10メッシュの硬質ガ
ラスビーズ300ccを充填し、550℃に加熱保持した。R−
113を5.4ミリモル/分、水素を21.6ミリモル/分の速度
で供給して反応させた。
流出ガスのガスクロマトグラフィー分析結果は、R−11
3の転化率19%、CTFEの選択率60%であった。
実施例1、2および比較例1の結果を第1表に示す。
実施例3〜13および比較例2〜6 実施例1、2の反応条件を変えて触媒としてキャリアク
トを用いて反応させた実施例3〜13および比較例1と同
じガラスビーズを用いて反応させた比較例2〜6の結果
を第2表および第3表に示す。表中、3FHはCF2=CFH、3
FClはCF2=CFCL、R−133はCF2HCFHCl、R−123aはCF2C
lCFHClを表す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロ
    エタンと水素とを気相で反応させることによってクロロ
    トリフルオロエチレンを製造する方法において、シリカ
    ゲルを触媒として用いることを特徴とする製造方法。
JP2061813A 1990-03-13 1990-03-13 クロロトリフルオロエチレンを製造する方法 Expired - Lifetime JPH0688921B2 (ja)

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