JPH0685035A - 円盤状部品の搬送方法及びその装置 - Google Patents
円盤状部品の搬送方法及びその装置Info
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- JPH0685035A JPH0685035A JP23397892A JP23397892A JPH0685035A JP H0685035 A JPH0685035 A JP H0685035A JP 23397892 A JP23397892 A JP 23397892A JP 23397892 A JP23397892 A JP 23397892A JP H0685035 A JPH0685035 A JP H0685035A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】円盤状部品の表面状態や種類の如何を問わず、
円盤状部品を確実に保持したことを検知できる搬送方法
及びその装置を得ることを目的とする。 【構成】保持手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃの近傍に検知装置
７Ａ、７Ｂ及び７Ｃを配置し、それらの保持手段が円盤
状部品Ｓを保持したことをその重力で検知し、同時に、
前記保持手段が保持したその円盤状部品Ｓを前記保持手
段の中心部に位置決めさせ、円盤状部品Ｓの周辺エッジ
部で線接触状態で保持する構造に構成されている。 【効果】円盤状部品の表面状態や種類に左右されること
なく円盤状部品の検知ができ、同時に円盤状部品のセン
タリングがで、また円盤状部品の裏面にダストが付着す
ることを極力防ぐことができる。
円盤状部品を確実に保持したことを検知できる搬送方法
及びその装置を得ることを目的とする。 【構成】保持手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃの近傍に検知装置
７Ａ、７Ｂ及び７Ｃを配置し、それらの保持手段が円盤
状部品Ｓを保持したことをその重力で検知し、同時に、
前記保持手段が保持したその円盤状部品Ｓを前記保持手
段の中心部に位置決めさせ、円盤状部品Ｓの周辺エッジ
部で線接触状態で保持する構造に構成されている。 【効果】円盤状部品の表面状態や種類に左右されること
なく円盤状部品の検知ができ、同時に円盤状部品のセン
タリングがで、また円盤状部品の裏面にダストが付着す
ることを極力防ぐことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば、半導体ウエ
ハ、ハードディスク、コンパクトディスクなどの円盤状
部品を水平状態に保持しながら或る位置から他の位置に
搬送する円盤状部品の搬送方法及びその装置に関するも
のである。
ハ、ハードディスク、コンパクトディスクなどの円盤状
部品を水平状態に保持しながら或る位置から他の位置に
搬送する円盤状部品の搬送方法及びその装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】以下の説明では、円盤状部品としてシリ
コンなどの半導体ウエハ（以下、単に「ウエハ」と記
す）を採り挙げ、従来技術の円盤状部品の搬送方法及び
その装置を説明する。ウエハを、例えば、コーター・デ
ベロッパーのような半導体製造装置内で搬送する方法と
して、ウエハの裏面に付着するダストの低減を図り、コ
ーター・デベロッパーの搬送経路及びレジストコーティ
ングユニット、現像処理ユニット、熱処理ユニットへの
アクセスの自由度を向上させるため、ベルト式搬送法か
らロボット式搬送法に移行しつつある。
コンなどの半導体ウエハ（以下、単に「ウエハ」と記
す）を採り挙げ、従来技術の円盤状部品の搬送方法及び
その装置を説明する。ウエハを、例えば、コーター・デ
ベロッパーのような半導体製造装置内で搬送する方法と
して、ウエハの裏面に付着するダストの低減を図り、コ
ーター・デベロッパーの搬送経路及びレジストコーティ
ングユニット、現像処理ユニット、熱処理ユニットへの
アクセスの自由度を向上させるため、ベルト式搬送法か
らロボット式搬送法に移行しつつある。
【０００３】現在、このロボット式搬送法に基づく搬送
装置のウエハを水平状態で保持、搬送する搬送アームに
おけるウエハ検知装置には、ＬＥＤ光による反射型セン
サーと透過型センサーとによるものがある。
装置のウエハを水平状態で保持、搬送する搬送アームに
おけるウエハ検知装置には、ＬＥＤ光による反射型セン
サーと透過型センサーとによるものがある。
【０００４】前者の反射型センサーは、その搬送装置の
スペースに余裕がないものに採用されている（東京エレ
クトロン社製、クリーントラックＭＡＲＫ−Ｖや、大日
本スクリーン製造製、ＳＫＷ−６０Ａなどのコータ・デ
ベロッパー）。
スペースに余裕がないものに採用されている（東京エレ
クトロン社製、クリーントラックＭＡＲＫ−Ｖや、大日
本スクリーン製造製、ＳＫＷ−６０Ａなどのコータ・デ
ベロッパー）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この反射型センサー
は、ウエハの裏面を検知するものであるが、ウエハの裏
面にＣＶＤなどで被着されたＳｉＮ膜などの影響によ
り、膜厚によっては、光が殆ど反射されず、反射しても
その反射光のレベルは検知できないほど低く、検知エラ
ーが多発するという問題があった。
は、ウエハの裏面を検知するものであるが、ウエハの裏
面にＣＶＤなどで被着されたＳｉＮ膜などの影響によ
り、膜厚によっては、光が殆ど反射されず、反射しても
その反射光のレベルは検知できないほど低く、検知エラ
ーが多発するという問題があった。
【０００６】このことは、図５に示した反射型センサー
によるＬＰ−ＳｉＮ膜の膜厚と反射率との関係を示すグ
ラフから明らかである。即ち、反射型センサーのＬＥＤ
に８１０〜９７０ｎｍの波長バンド幅があっても、ＬＰ
−ＳｉＮ膜の厚さが０．１０〜０．１２μｍになると、
殆ど反射せず、特に膜厚が０．１１μｍの場合には全く
反射しないことが判る。
によるＬＰ−ＳｉＮ膜の膜厚と反射率との関係を示すグ
ラフから明らかである。即ち、反射型センサーのＬＥＤ
に８１０〜９７０ｎｍの波長バンド幅があっても、ＬＰ
−ＳｉＮ膜の厚さが０．１０〜０．１２μｍになると、
殆ど反射せず、特に膜厚が０．１１μｍの場合には全く
反射しないことが判る。
【０００７】また、ウエハによって光を遮断することに
より検知する透過型センサーでは、大きな取り付けスペ
ースを必要とするだけでなく、コーター・デベロッパー
のメンテナンス時に使用するガラスウエハやＬＣＤの基
板であるガラスウエハを使用する場合には、そのセンサ
ーが全く動作しないなどの問題を抱えている。この発明
はこのような問題点を解決することを課題とするもので
ある。
より検知する透過型センサーでは、大きな取り付けスペ
ースを必要とするだけでなく、コーター・デベロッパー
のメンテナンス時に使用するガラスウエハやＬＣＤの基
板であるガラスウエハを使用する場合には、そのセンサ
ーが全く動作しないなどの問題を抱えている。この発明
はこのような問題点を解決することを課題とするもので
ある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】そのため、この発明の円
盤状部品の搬送方法では、ウエハを、その周辺エッジ部
の少なくとも３点で水平状態で保持し、その保持をウエ
ハの重量で検知し、かつそのウエハをその自重により前
記保持手段の中心部に位置させ、或る位置から他の位置
に水平状態を保ちながら前記ウエハを搬送する方法を採
った。
盤状部品の搬送方法では、ウエハを、その周辺エッジ部
の少なくとも３点で水平状態で保持し、その保持をウエ
ハの重量で検知し、かつそのウエハをその自重により前
記保持手段の中心部に位置させ、或る位置から他の位置
に水平状態を保ちながら前記ウエハを搬送する方法を採
った。
【０００９】また、そのための搬送装置としては、保持
手段がウエハを保持したことを重力で検知する検知装置
と、そのウエハの自重により、そのウエハを前記保持手
段の中心部に位置させる位置決め装置とを設け、また前
記保持手段がウエハを、その周辺エッジ部で線接触状態
で保持する構造に構成し、前記課題を一挙に解決した。
手段がウエハを保持したことを重力で検知する検知装置
と、そのウエハの自重により、そのウエハを前記保持手
段の中心部に位置させる位置決め装置とを設け、また前
記保持手段がウエハを、その周辺エッジ部で線接触状態
で保持する構造に構成し、前記課題を一挙に解決した。
【００１０】
【作用】従って、ウエハの表面状態やウエハの種類に左
右されることなくウエハの検知ができ、かつウエハを搬
送アーム上の中心部に保持でき、そして更に、ウエハの
エッジで線接触状態で保持するので、ウエハの裏面に殆
どダストが付着しない。
右されることなくウエハの検知ができ、かつウエハを搬
送アーム上の中心部に保持でき、そして更に、ウエハの
エッジで線接触状態で保持するので、ウエハの裏面に殆
どダストが付着しない。
【００１１】
【実施例】以下、この発明の実施例を図１乃至図４を用
いて説明する。図１はこの発明の搬送装置におけるウエ
ハの保持手段である搬送アームの外観斜視図であり、図
２は図１の搬送アームがウエハを保持していない状態を
示した、その要部拡大斜視図であり、図３は図２の状態
にある搬送アームがウエハを保持した状態を示した、そ
の要部拡大斜視図であり、そして図４は搬送アームに設
けた位置決め装置によりウエハがその搬送アームの中心
部に位置した状態を示した一部断面図である。
いて説明する。図１はこの発明の搬送装置におけるウエ
ハの保持手段である搬送アームの外観斜視図であり、図
２は図１の搬送アームがウエハを保持していない状態を
示した、その要部拡大斜視図であり、図３は図２の状態
にある搬送アームがウエハを保持した状態を示した、そ
の要部拡大斜視図であり、そして図４は搬送アームに設
けた位置決め装置によりウエハがその搬送アームの中心
部に位置した状態を示した一部断面図である。
【００１２】先ず、図１を用いて、この発明の搬送装置
の構成を説明する。符号１は全体としてこの発明の搬送
装置を指す。この搬送装置１は搬送アーム２と第１の搬
送アーム支持台５（以下、単に「支持台５」と記す）と
第２の搬送アーム支持台６（以下、単に「支持台６」と
記す）とから構成されている。
の構成を説明する。符号１は全体としてこの発明の搬送
装置を指す。この搬送装置１は搬送アーム２と第１の搬
送アーム支持台５（以下、単に「支持台５」と記す）と
第２の搬送アーム支持台６（以下、単に「支持台６」と
記す）とから構成されている。
【００１３】前記搬送アーム２はウエハＳを、段落〔０
００２〕に記したような各処理ユニットへ出し入れする
ための装置であって、その先端部２Ａは一部が欠けた円
環状に形成されており、その内径はウエハＳが保持され
るに充分な寸法になっている。また、搬送アーム２の基
部２ＢはＬ字型に、そしてそのＬ字型の端部を垂直に２
回折り曲げられて案内爪３が形成されている。
００２〕に記したような各処理ユニットへ出し入れする
ための装置であって、その先端部２Ａは一部が欠けた円
環状に形成されており、その内径はウエハＳが保持され
るに充分な寸法になっている。また、搬送アーム２の基
部２ＢはＬ字型に、そしてそのＬ字型の端部を垂直に２
回折り曲げられて案内爪３が形成されている。
【００１４】前記支持台５は、前記搬送アーム２の案内
爪３を、側面に形成した案内溝４によって案内し、その
搬送アーム２を矢印Ｘの水平方向に直線的に移動させる
機能を有し、また、前記支持台６は前記支持台５を矢印
Ｙの方向に回動させ、かつ矢印Ｚ方向にも上下移動させ
る機能を有する。これら支持台５と支持台６とでウエハ
Ｓは或る所望する位置から他の所望する位置に移動させ
ることができ、この移動の制御は予め設定されたコンピ
ュタープログラムで行われる。
爪３を、側面に形成した案内溝４によって案内し、その
搬送アーム２を矢印Ｘの水平方向に直線的に移動させる
機能を有し、また、前記支持台６は前記支持台５を矢印
Ｙの方向に回動させ、かつ矢印Ｚ方向にも上下移動させ
る機能を有する。これら支持台５と支持台６とでウエハ
Ｓは或る所望する位置から他の所望する位置に移動させ
ることができ、この移動の制御は予め設定されたコンピ
ュタープログラムで行われる。
【００１５】更に、前記搬送アーム２の先端部２Ａに
は、１２０°の角間隔で、３個のウエハＳの検知装置７
Ａ、７Ｂ及び７Ｃと保持手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃとが設
けられている。図２及び図３にこれらの検知装置及び保
持手段の内、検知装置７Ａ及び保持手段８Ａを取り出
し、拡大して示した。
は、１２０°の角間隔で、３個のウエハＳの検知装置７
Ａ、７Ｂ及び７Ｃと保持手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃとが設
けられている。図２及び図３にこれらの検知装置及び保
持手段の内、検知装置７Ａ及び保持手段８Ａを取り出
し、拡大して示した。
【００１６】それらの構成は、搬送アーム２の先端部２
Ａの表面から側面にかけて開口凹部９が形成されてお
り、検知装置７Ａを、その検知舌片７ａが前記開口凹部
９の開口部に臨むように、この開口凹部９端部の近傍
で、前記先端部２Ａの表面に固定し、一方、前記開口凹
部９の中には爪状の保持手段８Ａが軸１０を中心に回動
できるように設置されている。そして前記保持手段８Ａ
はその先端部には下方に傾斜した傾斜面８ａに形成され
ており、そしてその少なくとも傾斜面８ａが前記搬送ア
ーム２の内周面から内方に突出しており、そして保持手
段８Ａの他端部には上方に突出し、前記検知舌片７ａを
押し上げることができる押圧片８ｂが形成されている。
Ａの表面から側面にかけて開口凹部９が形成されてお
り、検知装置７Ａを、その検知舌片７ａが前記開口凹部
９の開口部に臨むように、この開口凹部９端部の近傍
で、前記先端部２Ａの表面に固定し、一方、前記開口凹
部９の中には爪状の保持手段８Ａが軸１０を中心に回動
できるように設置されている。そして前記保持手段８Ａ
はその先端部には下方に傾斜した傾斜面８ａに形成され
ており、そしてその少なくとも傾斜面８ａが前記搬送ア
ーム２の内周面から内方に突出しており、そして保持手
段８Ａの他端部には上方に突出し、前記検知舌片７ａを
押し上げることができる押圧片８ｂが形成されている。
【００１７】次に、前記構成の搬送装置１の動作を説明
する。図２の状態は、ウエハＳが保持手段８Ａ（８Ｂ、
８Ｃ）上に存在しない状態であり、全ての保持手段８
Ａ、８Ｂ及び８Ｃは水平状態を保ち、従って、検知舌片
７ａは下向き、検知装置７Ａ（７Ｂ、７Ｃ）のスイッチ
（図示していない）はオフの状態になっている。このウ
エハＳが存在しない状態は情報として電気信号で搬送装
置１に伝えられる。
する。図２の状態は、ウエハＳが保持手段８Ａ（８Ｂ、
８Ｃ）上に存在しない状態であり、全ての保持手段８
Ａ、８Ｂ及び８Ｃは水平状態を保ち、従って、検知舌片
７ａは下向き、検知装置７Ａ（７Ｂ、７Ｃ）のスイッチ
（図示していない）はオフの状態になっている。このウ
エハＳが存在しない状態は情報として電気信号で搬送装
置１に伝えられる。
【００１８】図３の状態は、保持手段８Ａ（８Ｂ、８
Ｃ）がウエハＳを取った（保持手段８Ａ上に載せた）状
態であり、全ての保持手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃは軸１０
を中心にウエハＳの重力で矢印Ｍの方向に回動し、前記
傾斜面８ａは少し下降し、前記押圧片８ｂが少し上昇し
て、その先端部で前記検知舌片７ａを押圧し、保持手段
８Ａ（８Ｂ、８Ｃ）の回動が止まる。従って、検知舌片
７ａは上向き、検知装置７Ａ（７Ｂ、７Ｃ）のスイッチ
はオンの状態になる。このウエハＳが存在する状態は情
報として電気信号で搬送装置１に伝えられ、搬送装置１
側でウエハＳを取ったことを認識する。また、ウエハＳ
を所定の各処理ユニットへ渡してしまうと、図２に示し
た状態に戻り、同様に搬送装置１はウエハＳが無くなっ
たことを認識する。
Ｃ）がウエハＳを取った（保持手段８Ａ上に載せた）状
態であり、全ての保持手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃは軸１０
を中心にウエハＳの重力で矢印Ｍの方向に回動し、前記
傾斜面８ａは少し下降し、前記押圧片８ｂが少し上昇し
て、その先端部で前記検知舌片７ａを押圧し、保持手段
８Ａ（８Ｂ、８Ｃ）の回動が止まる。従って、検知舌片
７ａは上向き、検知装置７Ａ（７Ｂ、７Ｃ）のスイッチ
はオンの状態になる。このウエハＳが存在する状態は情
報として電気信号で搬送装置１に伝えられ、搬送装置１
側でウエハＳを取ったことを認識する。また、ウエハＳ
を所定の各処理ユニットへ渡してしまうと、図２に示し
た状態に戻り、同様に搬送装置１はウエハＳが無くなっ
たことを認識する。
【００１９】ウエハＳを所定の各処理ユニットへ渡す場
合に、各処理ユニット、特にレジストコーティングユニ
ット、現像処理ユニット内においては、それらの所定の
位置にウエハＳを精度良く配置する必要がある。通常、
搬送アーム２の動きはステッピングモーターにより行わ
れ、その位置精度は緻密に制御されるが、ウエハＳが搬
送アーム２の保持手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃに取り込ま
れ、保持される時の位置は大きく変動する。従って、所
定の処理ユニット内へのウエハＳの配置精度を上げるた
めには、ウエハＳを保持手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃの定位
置に移動、配置させることが肝心である。次に、その精
度を上げるための機構を図４を用いて説明する。
合に、各処理ユニット、特にレジストコーティングユニ
ット、現像処理ユニット内においては、それらの所定の
位置にウエハＳを精度良く配置する必要がある。通常、
搬送アーム２の動きはステッピングモーターにより行わ
れ、その位置精度は緻密に制御されるが、ウエハＳが搬
送アーム２の保持手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃに取り込ま
れ、保持される時の位置は大きく変動する。従って、所
定の処理ユニット内へのウエハＳの配置精度を上げるた
めには、ウエハＳを保持手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃの定位
置に移動、配置させることが肝心である。次に、その精
度を上げるための機構を図４を用いて説明する。
【００２０】図４に示した状態は、保持手段８Ａ、８Ｃ
（８Ｂ）とウエハＳとが接触した場合の一部断面図であ
るが、前記したように、保持手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃの
先端部にはそれぞれウエハＳが接触する部分で斜め下方
に向かう傾斜面８ａ、８ｂ及び８ｃが形成されており、
そしてこれらの傾斜面はウエハＳの中心に向いている。
従って、図４の実施例のように、少なくとも３個の保持
手段８Ａ、８Ｂ及び８ＣでウエハＳの外周エッジを保持
するようにすると、ウエハＳの自重で、そのウエハＳが
最も安定する水平状態に移動することになる。
（８Ｂ）とウエハＳとが接触した場合の一部断面図であ
るが、前記したように、保持手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃの
先端部にはそれぞれウエハＳが接触する部分で斜め下方
に向かう傾斜面８ａ、８ｂ及び８ｃが形成されており、
そしてこれらの傾斜面はウエハＳの中心に向いている。
従って、図４の実施例のように、少なくとも３個の保持
手段８Ａ、８Ｂ及び８ＣでウエハＳの外周エッジを保持
するようにすると、ウエハＳの自重で、そのウエハＳが
最も安定する水平状態に移動することになる。
【００２１】図３で保持手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃが回動
し、停止する位置を一定に保つことで、ウエハＳが保持
手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃ上に存在する場合には、ウエハ
Ｓが保持手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃに対して常時一定の位
置に移動し、保持される。即ち、ウエハＳを保持手段８
Ａ、８Ｂ及び８Ｃに載せるだけで、所謂センタリングが
行われれる。
し、停止する位置を一定に保つことで、ウエハＳが保持
手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃ上に存在する場合には、ウエハ
Ｓが保持手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃに対して常時一定の位
置に移動し、保持される。即ち、ウエハＳを保持手段８
Ａ、８Ｂ及び８Ｃに載せるだけで、所謂センタリングが
行われれる。
【００２２】前記傾斜面８ａ、８ｂ及び８ｃの範囲はウ
エハＳを載せる時、そのウエハＳが位置ずれを起こす範
囲を想定して定められる。
エハＳを載せる時、そのウエハＳが位置ずれを起こす範
囲を想定して定められる。
【００２３】保持手段８Ａ、８Ｂ及び８ＣとウエハＳと
の接触は、ウエハＳの周辺エッジ部における線接触であ
り、接触によるウエハＳの表面に付着するダストの問題
は極めて僅かに抑えることができる。
の接触は、ウエハＳの周辺エッジ部における線接触であ
り、接触によるウエハＳの表面に付着するダストの問題
は極めて僅かに抑えることができる。
【００２４】この実施例では検知装置７Ａ、７Ｂ及び７
Ｃと保持手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃとを３カ所に設けた
が、検知装置は１ヵ所でもよく、またそれらの位置は１
２０°の角間隔でなくてもよい。また、検知装置の種類
は、保持手段の動きが検知できるものであればどの様な
形式のものでも良く、例えば、光センサーでも良く、そ
の配置も任意である。そして更に、保持手段の形状も検
知装置が検知し易いものに変形するとよい。更にまた、
前記実施例において円盤状部品として半導体ウエハを例
示して説明したが、この発明の搬送装置は半導体ウエハ
の搬送だけに限定されるものではなく、半導体ウエハの
他に、ハードディスク、コンパクトディスク、ミニディ
スクなどの搬送にも用いることができることは言うまで
もない。
Ｃと保持手段８Ａ、８Ｂ及び８Ｃとを３カ所に設けた
が、検知装置は１ヵ所でもよく、またそれらの位置は１
２０°の角間隔でなくてもよい。また、検知装置の種類
は、保持手段の動きが検知できるものであればどの様な
形式のものでも良く、例えば、光センサーでも良く、そ
の配置も任意である。そして更に、保持手段の形状も検
知装置が検知し易いものに変形するとよい。更にまた、
前記実施例において円盤状部品として半導体ウエハを例
示して説明したが、この発明の搬送装置は半導体ウエハ
の搬送だけに限定されるものではなく、半導体ウエハの
他に、ハードディスク、コンパクトディスク、ミニディ
スクなどの搬送にも用いることができることは言うまで
もない。
【００２５】
【発明の効果】以上、説明したように、この発明の円盤
状部品の搬送装置は、ウエハの自重による検知システム
であるので、ウエハの表面状態やウエハの種類に左右さ
れることなくウエハの検知ができ、その信頼性が飛躍的
に向上する。そして更に、ウエハの周辺エッジ部を線接
触で保持するようにしたので、ウエハの裏面にダストが
付着することを極力防ぐことができ、しかも同時に保持
手段上でのウエハのセンタリング（位置決め）ができ
る。
状部品の搬送装置は、ウエハの自重による検知システム
であるので、ウエハの表面状態やウエハの種類に左右さ
れることなくウエハの検知ができ、その信頼性が飛躍的
に向上する。そして更に、ウエハの周辺エッジ部を線接
触で保持するようにしたので、ウエハの裏面にダストが
付着することを極力防ぐことができ、しかも同時に保持
手段上でのウエハのセンタリング（位置決め）ができ
る。
【図１】この発明の搬送装置における円盤状部品の保持
手段である搬送アームの外観斜視図である。
手段である搬送アームの外観斜視図である。
【図２】図１の搬送アームが円盤状部品を保持していな
い状態を示した、その要部拡大斜視図である。
い状態を示した、その要部拡大斜視図である。
【図３】図２の状態にある搬送アームが円盤状部品を保
持した状態を示した、その要部拡大斜視図である。
持した状態を示した、その要部拡大斜視図である。
【図４】搬送アームに設けた位置決め装置により円盤状
部品がその搬送アームの中心部に位置した状態を示した
一部断面図である。
部品がその搬送アームの中心部に位置した状態を示した
一部断面図である。
【図５】反射型センサーによるＬＰ−ＳｉＮ膜の膜厚と
反射率との関係を示すグラフである。
反射率との関係を示すグラフである。
Ｓ ウエハ １ 搬送装置 ２ 搬送アーム ２Ａ 搬送アーム２の先端部 ２Ｂ 搬送アーム２の基部 ３ 案内爪 ４ 案内溝 ５ 第１の搬送アーム支持台 ６ 第２の搬送アーム支持台 ７Ａ 検知装置 ７Ｂ 検知装置 ７Ｃ 検知装置 ７ａ 検知舌片 ７ｂ 検知舌片 ７ｃ 検知舌片 ８Ａ 保持手段 ８Ｂ 保持手段 ８Ｃ 保持手段 ８ａ 押圧片 ８ｂ 押圧片 ８ｃ 押圧片 ９ 開口凹部 １０ 軸
Claims (3)
- 【請求項１】円盤状部品を、その周辺エッジ部の少なく
とも３点で水平状態で保持し、その保持を円盤状部品の
重量で検知し、かつその円盤状部品をその自重により前
記保持手段の中心部に位置させ、或る位置から他の位置
に水平状態を保ちながら前記円盤状部品を搬送すること
を特徴とする円盤状部品の搬送方法。 - 【請求項２】円盤状部品を水平状態で保持して、或る位
置から他の位置に搬送する保持手段を有する円盤状部品
の搬送装置において、前記保持手段は前記円盤状部品を
保持したことを検知する検知装置と前記円盤状部品の自
重によりその円盤状部品を前記保持手段の中心部に位置
させる位置決め装置とを有することを特徴とする円盤状
部品の搬送装置。 - 【請求項３】前記保持手段は前記円盤状部品を、その周
辺エッジ部で線接触状態で保持する構造で構成されてい
ることを特徴とする請求項１に記載の円盤状部品の搬送
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23397892A JP3203794B2 (ja) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | 円盤状部品の搬送方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23397892A JP3203794B2 (ja) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | 円盤状部品の搬送方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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|---|---|---|---|---|
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1992
- 1992-09-02 JP JP23397892A patent/JP3203794B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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