JPH0682962A - 高分子紫外線吸収剤を組み込んだ写真要素 - Google Patents
高分子紫外線吸収剤を組み込んだ写真要素Info
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- JPH0682962A JPH0682962A JP5162254A JP16225493A JPH0682962A JP H0682962 A JPH0682962 A JP H0682962A JP 5162254 A JP5162254 A JP 5162254A JP 16225493 A JP16225493 A JP 16225493A JP H0682962 A JPH0682962 A JP H0682962A
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/34—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
- C08F20/36—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/815—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by means for filtering or absorbing ultraviolet light, e.g. optical bleaching
- G03C1/8155—Organic compounds therefor
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- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract
(57)【要約】
【構成】
【化１】
式中、ＸはＯもしくはＮＨであり、ＹはＨもしくはハロ
ゲンであり、Ｒ1 はＨ、ハロゲン、アルコキシ、炭素数
１〜８の直鎖もしくは分枝を有するアルキル基であり、
Ｒ2 は直鎖もしくは分枝を有することができるＣ2 〜Ｃ
10アルキレンであり、そしてＲ3 はＨもしくはＣＨ3 で
ある、の反復単位を有するホモポリマーもしくはコポリ
マーの形の紫外線吸収剤を含む層を含んで成る写真要
素。 【効果】 この写真要素は良好なフレッシュＤｍｉｎお
よび画像色素安定性を有し、そしてその中の紫外線吸収
剤は高い光安定性を示す。
ゲンであり、Ｒ1 はＨ、ハロゲン、アルコキシ、炭素数
１〜８の直鎖もしくは分枝を有するアルキル基であり、
Ｒ2 は直鎖もしくは分枝を有することができるＣ2 〜Ｃ
10アルキレンであり、そしてＲ3 はＨもしくはＣＨ3 で
ある、の反復単位を有するホモポリマーもしくはコポリ
マーの形の紫外線吸収剤を含む層を含んで成る写真要
素。 【効果】 この写真要素は良好なフレッシュＤｍｉｎお
よび画像色素安定性を有し、そしてその中の紫外線吸収
剤は高い光安定性を示す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、構造がはっきりしてい
る高分子紫外線吸収剤であって、紫外線の作用から他の
成分を保護すると同時に著しく汚さないように、紫外線
の作用に対して、それ自身特に安定している高分子紫外
線吸収剤を組み込んだ写真要素に関する。
る高分子紫外線吸収剤であって、紫外線の作用から他の
成分を保護すると同時に著しく汚さないように、紫外線
の作用に対して、それ自身特に安定している高分子紫外
線吸収剤を組み込んだ写真要素に関する。
【０００２】
【従来の技術】典型的な写真要素はハロゲン化銀乳剤を
使用しており、ハロゲン化銀は紫外線（「ＵＶ」）に対
して生来感光性を有している。その様なＵＶ感光性は、
写真要素に人間の目に不可視な画像を形成するという点
で、通常望ましくない。さらに、カラー写真要素の場
合、特に、発色現像によって感光乳剤層に形成された色
素画像は、ＵＶの作用のため容易に退色および変色す
る。また、乳剤層に残存しているカラーフォーマー、い
わゆるカプラー類は、ＵＶの作用を受け易く、仕上がっ
た写真に望ましくない色汚れを生じる。前記退色および
変色は、可視領域付近の波長のＵＶ、即ち３００〜４０
０ｎｍの波長のＵＶによって容易に生じる。
使用しており、ハロゲン化銀は紫外線（「ＵＶ」）に対
して生来感光性を有している。その様なＵＶ感光性は、
写真要素に人間の目に不可視な画像を形成するという点
で、通常望ましくない。さらに、カラー写真要素の場
合、特に、発色現像によって感光乳剤層に形成された色
素画像は、ＵＶの作用のため容易に退色および変色す
る。また、乳剤層に残存しているカラーフォーマー、い
わゆるカプラー類は、ＵＶの作用を受け易く、仕上がっ
た写真に望ましくない色汚れを生じる。前記退色および
変色は、可視領域付近の波長のＵＶ、即ち３００〜４０
０ｎｍの波長のＵＶによって容易に生じる。
【０００３】前述の理由のため、最上層（即ち、写真要
素を正常に使用するとき、最初に輻射を受ける層）にＵ
Ｖ吸収物質を組み込んだ写真要素が一般的である。多く
のタイプのＵＶ吸収物質が、既に記述されており、米国
特許第３，２１５，５３０号、同第３，７０７，３７５
号、同第３，７０５，８０５号、同第３，３５２，６８
１号、同３，２７８，４４８号、同３，２５３，２９１
号、同第３，７３８，８３７号、同第４，０４５，２２
９号、同４，７９０，９５９号、同４，８５３，４７１
号、同４，８６５，９５７号、および同４，７５２，２
９８号、ならびに英国特許第１，３３８，２６５号に記
述されているものを包含する。
素を正常に使用するとき、最初に輻射を受ける層）にＵ
Ｖ吸収物質を組み込んだ写真要素が一般的である。多く
のタイプのＵＶ吸収物質が、既に記述されており、米国
特許第３，２１５，５３０号、同第３，７０７，３７５
号、同第３，７０５，８０５号、同第３，３５２，６８
１号、同３，２７８，４４８号、同３，２５３，２９１
号、同第３，７３８，８３７号、同第４，０４５，２２
９号、同４，７９０，９５９号、同４，８５３，４７１
号、同４，８６５，９５７号、および同４，７５２，２
９８号、ならびに英国特許第１，３３８，２６５号に記
述されているものを包含する。
【０００４】多くの場合知られているＵＶ吸収物質は多
くの望まない特性を有する。また、ＵＶ吸収剤を乳化す
るために、層を軟化し本質的に中間層接着性を劣化する
高沸点有機溶媒を必要とするのが普通である。この問題
を防ぐため、大量のゼラチンをＵＶ吸収剤を含んだ層に
使用し、層が不安定になる結果を生じる。また、別のゼ
ラチン保護層をＵＶ吸収剤を含む層にかぶせる。その様
な方法は写真要素の望ましくない増粘性を生じる。さら
に、既に知られているＵＶ吸収剤は、写真要素の最上層
に与えると、多くの場合層の表面に移動し、晶出する。
従って、ゲル化した上塗り層が、このひどい現象を最少
限にするのに使用される。さらに、上述する通常の乳化
方法によって調製するとき、その様なＵＶ吸収物質の小
滴は、通常２００ｎｍより大きい粒子サイズを有するの
が普通であり、それによって光の散乱を生じ、その結果
前記要素の写真特性の劣化を生じる。また、その様なＵ
Ｖ吸収剤の毒性は最近の重要な問題となっている。
くの望まない特性を有する。また、ＵＶ吸収剤を乳化す
るために、層を軟化し本質的に中間層接着性を劣化する
高沸点有機溶媒を必要とするのが普通である。この問題
を防ぐため、大量のゼラチンをＵＶ吸収剤を含んだ層に
使用し、層が不安定になる結果を生じる。また、別のゼ
ラチン保護層をＵＶ吸収剤を含む層にかぶせる。その様
な方法は写真要素の望ましくない増粘性を生じる。さら
に、既に知られているＵＶ吸収剤は、写真要素の最上層
に与えると、多くの場合層の表面に移動し、晶出する。
従って、ゲル化した上塗り層が、このひどい現象を最少
限にするのに使用される。さらに、上述する通常の乳化
方法によって調製するとき、その様なＵＶ吸収物質の小
滴は、通常２００ｎｍより大きい粒子サイズを有するの
が普通であり、それによって光の散乱を生じ、その結果
前記要素の写真特性の劣化を生じる。また、その様なＵ
Ｖ吸収剤の毒性は最近の重要な問題となっている。
【０００５】ＵＶ吸収モノマーの重合によって得られる
ポリマーラテックスを、上述する多くの不利益を有しな
いＵＶ吸収剤として用いることができる。ラテックスの
形で、ＵＶ吸収剤ポリマーを親水性のコロイド組成物に
添加する少なくとも３種の方法が知られている。第１の
方法はゼラチン含有ハロゲン化銀乳剤に直接的に乳剤重
合することによって調製するラテックスを添加すること
からなる。乳剤重合は当該技術分野において良く知られ
ており、Interscience Publishers Inc.New York,1955
によって発行された F. A. Bovey の Emulsion Polymer
ization に記載されている。この方法はポリマーラテッ
クスを調製する最も直接的な方法である。
ポリマーラテックスを、上述する多くの不利益を有しな
いＵＶ吸収剤として用いることができる。ラテックスの
形で、ＵＶ吸収剤ポリマーを親水性のコロイド組成物に
添加する少なくとも３種の方法が知られている。第１の
方法はゼラチン含有ハロゲン化銀乳剤に直接的に乳剤重
合することによって調製するラテックスを添加すること
からなる。乳剤重合は当該技術分野において良く知られ
ており、Interscience Publishers Inc.New York,1955
によって発行された F. A. Bovey の Emulsion Polymer
ization に記載されている。この方法はポリマーラテッ
クスを調製する最も直接的な方法である。
【０００６】ポリマーラテックスを生成する第２の方法
は、ＵＶ吸収モノマーおよび疎水性コモノマーを含んで
なるモノマー混合物の溶液重合による方法である。有機
溶媒を疎水性ＵＶ吸収剤を溶解するのに使用し、その溶
液をラテックスの形のゼラチン水溶液中に分散する。前
述の２つの方法によって調製された高分子量ＵＶ吸収ポ
リマーラテックスは、例えば、米国特許第３，７６１，
２７２号、同３，７４５，０１０号、同４，３０７，１
８４号、同４，４５５，３６８号、同４，４６４，４６
２号、４，５１３，０８０号、同４，３４０，６６４
号、英国特許第１，５０４，９４９号、同１，５０４，
９５０号、同１，３４６，７６４号、ヨーロッパ特許公
開第０１９０００３号明細書等に記載されている。ポリ
マーラテックスを生成する第３の方法は、ＵＶ吸収モノ
マー、コモノマー、ならびにスルホン酸、硫酸、スルフ
ィン酸、もしくは燐酸、およびアクリルアミド−２、
２’−ジメチル−プロパンスルホン酸、２−スルホエチ
ルメタクリレート、もしくはスチレンスルホン酸ナトリ
ウムの様なそれらの金属塩を含んでなるイオンコモノマ
ーの、モノマー混合物の溶液重合による方法である。
は、ＵＶ吸収モノマーおよび疎水性コモノマーを含んで
なるモノマー混合物の溶液重合による方法である。有機
溶媒を疎水性ＵＶ吸収剤を溶解するのに使用し、その溶
液をラテックスの形のゼラチン水溶液中に分散する。前
述の２つの方法によって調製された高分子量ＵＶ吸収ポ
リマーラテックスは、例えば、米国特許第３，７６１，
２７２号、同３，７４５，０１０号、同４，３０７，１
８４号、同４，４５５，３６８号、同４，４６４，４６
２号、４，５１３，０８０号、同４，３４０，６６４
号、英国特許第１，５０４，９４９号、同１，５０４，
９５０号、同１，３４６，７６４号、ヨーロッパ特許公
開第０１９０００３号明細書等に記載されている。ポリ
マーラテックスを生成する第３の方法は、ＵＶ吸収モノ
マー、コモノマー、ならびにスルホン酸、硫酸、スルフ
ィン酸、もしくは燐酸、およびアクリルアミド−２、
２’−ジメチル−プロパンスルホン酸、２−スルホエチ
ルメタクリレート、もしくはスチレンスルホン酸ナトリ
ウムの様なそれらの金属塩を含んでなるイオンコモノマ
ーの、モノマー混合物の溶液重合による方法である。
【０００７】蛍光増白剤は写真印画紙製品に使用され白
色感を改善するのを助ける。直接にながめる写真製品で
は、背景の白色度は画像に対して大きな影響を有する。
白色度を高めコントラストを強調すると、カラー純度が
改善し審美的価値が増大する。蛍光増白剤は、紫外光
（即ち、４００ｎｍより短波長の光）を吸収する無着色
化合物であり、ブルー蛍光を発する。ＵＶ吸収剤は、一
方で、カラー写真製品の色素安定もしくは光耐久性を改
善するのに使用される。
色感を改善するのを助ける。直接にながめる写真製品で
は、背景の白色度は画像に対して大きな影響を有する。
白色度を高めコントラストを強調すると、カラー純度が
改善し審美的価値が増大する。蛍光増白剤は、紫外光
（即ち、４００ｎｍより短波長の光）を吸収する無着色
化合物であり、ブルー蛍光を発する。ＵＶ吸収剤は、一
方で、カラー写真製品の色素安定もしくは光耐久性を改
善するのに使用される。
【０００８】ＵＶ吸収剤を使用する際の重大な問題は、
多くの場合ＵＶ吸収剤が蛍光増白剤の励起した光を吸収
し、それによって蛍光増白剤の蛍光を不活性にすること
である。従来から知られているＵＶ吸収ポリマーラテッ
クスは上記の用にいくつかの利点を有しているにもかか
わらず、また以下の点を含んだ問題を有している。 （１）高分子ＵＶ吸収剤は、それ自身、写真要素のＵＶ
防護が低下することによって生じるＵＶ、熱、および湿
度に対して安定性が十分でない。
多くの場合ＵＶ吸収剤が蛍光増白剤の励起した光を吸収
し、それによって蛍光増白剤の蛍光を不活性にすること
である。従来から知られているＵＶ吸収ポリマーラテッ
クスは上記の用にいくつかの利点を有しているにもかか
わらず、また以下の点を含んだ問題を有している。 （１）高分子ＵＶ吸収剤は、それ自身、写真要素のＵＶ
防護が低下することによって生じるＵＶ、熱、および湿
度に対して安定性が十分でない。
【０００９】（２）高分子ＵＶ吸収剤の中には４００ｎ
ｍを超える波長の光を吸収し、写真要素の未露光部分に
特にいやな黄変を生じる。 （３）ＵＶ吸収モノマーは溶解性が低く、重合能力が極
めて低い。 （４）３００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の吸収特性および
吸光係数は低い。このことは汚れを生じる光および太陽
光に曝す際の退色から画像色素の保護が十分でない原因
となる。 塑性物質のＵＶ吸収剤はよく知られている。
例えば、米国特許第４，５２８，３１１号明細書は、眼
内レンズおよびコンタクトレンズの製造に使用される２
−ヒドロキシ−５−アクリルオキシアルキルフェニル−
２Ｈ−ベンゾトリアゾールのコポリマーを含んで成るＵ
Ｖ吸収ポリマーを記載する。前記モノマーはレンズ形成
ポリマーに組み込まれＵＶ吸収性を与える。しかし、眼
内レンズのプラスチック内の様なある環境に効果がある
ＵＶ吸収剤でも、写真要素の親水コロイド状ゼラチンの
様な全く異なる環境には効果を有しない。
ｍを超える波長の光を吸収し、写真要素の未露光部分に
特にいやな黄変を生じる。 （３）ＵＶ吸収モノマーは溶解性が低く、重合能力が極
めて低い。 （４）３００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の吸収特性および
吸光係数は低い。このことは汚れを生じる光および太陽
光に曝す際の退色から画像色素の保護が十分でない原因
となる。 塑性物質のＵＶ吸収剤はよく知られている。
例えば、米国特許第４，５２８，３１１号明細書は、眼
内レンズおよびコンタクトレンズの製造に使用される２
−ヒドロキシ−５−アクリルオキシアルキルフェニル−
２Ｈ−ベンゾトリアゾールのコポリマーを含んで成るＵ
Ｖ吸収ポリマーを記載する。前記モノマーはレンズ形成
ポリマーに組み込まれＵＶ吸収性を与える。しかし、眼
内レンズのプラスチック内の様なある環境に効果がある
ＵＶ吸収剤でも、写真要素の親水コロイド状ゼラチンの
様な全く異なる環境には効果を有しない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】従って、吸収剤が、そ
れ自身通常の写真要素環境に対し比較的安定であり、モ
ノマーから重合によって容易に得られ、４００ｎｍの波
長を超える光を余り吸収しないが３００ｎｍ〜４００ｎ
ｍの範囲で高い吸光係数を有し、ＵＶから画像色素を良
好に保護する、高分子ＵＶ吸収剤を含む写真要素を提供
することが望まれる。
れ自身通常の写真要素環境に対し比較的安定であり、モ
ノマーから重合によって容易に得られ、４００ｎｍの波
長を超える光を余り吸収しないが３００ｎｍ〜４００ｎ
ｍの範囲で高い吸光係数を有し、ＵＶから画像色素を良
好に保護する、高分子ＵＶ吸収剤を含む写真要素を提供
することが望まれる。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、次の式（Ｉ）
の反復単位を有するポリマーの形のＵＶ吸収剤を含む層
（通常ゼラチン層）を、有する写真要素を提供する。
の反復単位を有するポリマーの形のＵＶ吸収剤を含む層
（通常ゼラチン層）を、有する写真要素を提供する。
【００１２】
【化２】
【００１３】上式中、ＸはＯもしくはＮＨであり、Ｙは
Ｈもしくはハロゲンであり、Ｒ1 はＨ、ハロゲン、アル
コキシ、炭素数１〜８の直鎖もしくは分枝を有するアル
キル基であり、Ｒ2 は直鎖もしくは分枝を有することが
できるＣ2 〜Ｃ10アルキレンであり、そしてＲ3 はＨも
しくはＣＨ3 である。
Ｈもしくはハロゲンであり、Ｒ1 はＨ、ハロゲン、アル
コキシ、炭素数１〜８の直鎖もしくは分枝を有するアル
キル基であり、Ｒ2 は直鎖もしくは分枝を有することが
できるＣ2 〜Ｃ10アルキレンであり、そしてＲ3 はＨも
しくはＣＨ3 である。
【００１４】
【具体的な態様】本発明の写真要素のある構成では、上
記ＵＶ吸収剤を含む層は写真要素の全感性層上方に配置
されるＵＶフィルター層である（即ち、当該要素を正常
に使用するとき全ての感性層比べてより光源に近い）。
しかし、本発明の写真要素は、表面保護層、中間層もし
くはハロゲン化銀乳剤層等の様な写真感光材料（例え
ば、塩化銀写真感光材料）の一以上のいずれの層（例え
ば、親水性コロイド層）中に、式ＩのＵＶ吸収剤ポリマ
ーを与えることによって、当該ＵＶ吸収剤を伴う構成を
とることができる。例えば、印画紙では本発明のＵＶ吸
収ポリマーラテックスは、赤感性層の上方および下方も
しくはそのどちらか一方（通常隣接して）、もしくはシ
アン層中に全体的か部分的に配置することができる。
「ラテックス」が液体、ゲルの様なものの中のポリマー
粒子の分散体、の意味であることによる。
記ＵＶ吸収剤を含む層は写真要素の全感性層上方に配置
されるＵＶフィルター層である（即ち、当該要素を正常
に使用するとき全ての感性層比べてより光源に近い）。
しかし、本発明の写真要素は、表面保護層、中間層もし
くはハロゲン化銀乳剤層等の様な写真感光材料（例え
ば、塩化銀写真感光材料）の一以上のいずれの層（例え
ば、親水性コロイド層）中に、式ＩのＵＶ吸収剤ポリマ
ーを与えることによって、当該ＵＶ吸収剤を伴う構成を
とることができる。例えば、印画紙では本発明のＵＶ吸
収ポリマーラテックスは、赤感性層の上方および下方も
しくはそのどちらか一方（通常隣接して）、もしくはシ
アン層中に全体的か部分的に配置することができる。
「ラテックス」が液体、ゲルの様なものの中のポリマー
粒子の分散体、の意味であることによる。
【００１５】プリントの形の要素の場合（カラープリン
トペーパー要素を含む）では、増白剤が十分にＵＶ光を
吸収することができ、写真製品の光耐久性を犠牲にする
ことなく効率的にはたらくことができる様な、良好な吸
収特性を備えたＵＶ吸収剤を選択することが、また重要
である。浅色吸収スペクトル（より短い吸収波長）を伴
うＵＶ吸収剤が蛍光増白剤の性能を改善するためには望
ましいが、画像色素の光耐久性が甚だしい被害を受けな
いために、依然としてＵＶ領域に十分な吸収性を有さね
ば成らない。従ってプリント要素に対しては、選ばれた
上記のタイプの高分子ＵＶ吸収剤が、３７０ｎｍ〜４０
０ｎｍ領域もしくは３８０ｎｍ〜４００ｎｍ領域で実質
的に低い吸収性を有することが好ましい。即ち、前述の
領域のいずれを通じても３５０ｎｍの吸収より吸収性が
４０％より少ないのが好ましい（もしくは２０％さらに
１０％より少ないのがより好ましい）。前述の領域にお
ける低吸収性は蛍光増白剤（通常４００ｎｍより短い波
長で吸収する）に、相対的に有効に作用する。その様な
ポリマーをと共に写真要素に使用するのに選択される蛍
光増白剤は、前述の領域で高い吸収性を有するのが好ま
しい。幸にも、上記構造Ｉのポリマーは、以下の一般的
式ＩＩの対応する不飽和モノマーからの重合によって都
合よく作られる。
トペーパー要素を含む）では、増白剤が十分にＵＶ光を
吸収することができ、写真製品の光耐久性を犠牲にする
ことなく効率的にはたらくことができる様な、良好な吸
収特性を備えたＵＶ吸収剤を選択することが、また重要
である。浅色吸収スペクトル（より短い吸収波長）を伴
うＵＶ吸収剤が蛍光増白剤の性能を改善するためには望
ましいが、画像色素の光耐久性が甚だしい被害を受けな
いために、依然としてＵＶ領域に十分な吸収性を有さね
ば成らない。従ってプリント要素に対しては、選ばれた
上記のタイプの高分子ＵＶ吸収剤が、３７０ｎｍ〜４０
０ｎｍ領域もしくは３８０ｎｍ〜４００ｎｍ領域で実質
的に低い吸収性を有することが好ましい。即ち、前述の
領域のいずれを通じても３５０ｎｍの吸収より吸収性が
４０％より少ないのが好ましい（もしくは２０％さらに
１０％より少ないのがより好ましい）。前述の領域にお
ける低吸収性は蛍光増白剤（通常４００ｎｍより短い波
長で吸収する）に、相対的に有効に作用する。その様な
ポリマーをと共に写真要素に使用するのに選択される蛍
光増白剤は、前述の領域で高い吸収性を有するのが好ま
しい。幸にも、上記構造Ｉのポリマーは、以下の一般的
式ＩＩの対応する不飽和モノマーからの重合によって都
合よく作られる。
【００１６】
【化３】
【００１７】上式中、Ｙ、Ｒ1 、Ｒ2 、ＸおよびＲ3 は
式Ｉ中のものと同じである。本発明の写真要素に使用す
る対応するポリマーを調製するその様なモノマーの例
は、以下のモノマーＭ−１〜Ｍ−９を包含する。
式Ｉ中のものと同じである。本発明の写真要素に使用す
る対応するポリマーを調製するその様なモノマーの例
は、以下のモノマーＭ−１〜Ｍ−９を包含する。
【００１８】
【化４】
【００１９】
【化５】
【００２０】
【化６】
【００２１】上記モノマーを、重合して対応するホモポ
リマー作ることができ、もしくは他のコモノマーと共に
重合することができる。その様な他のコモノマー例とし
て以下のものを含む。アクリル酸、アルキルアクリル酸
（メタクリル酸等のような）、アクリル酸から誘導され
るエステルもしくはアミド（例えば、アクリルアミド、
メタクリルアミド、ｎ−ブチルアクリルアミド、ｔ−ブ
チルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、メチ
ルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルア
クリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルアク
リレート、イソブチルアクリレート、２−エチルエキシ
ルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ラウリル
アクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−
メトキシエチルアクリレート、メチルメタクリレート、
エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｂ
−ヒドロキシルメタクリレート等）、ビニルエステル
（例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、
ビニルラウレート等）、アクリロニトリル、メタクリロ
ニトリル、芳香族ビニル化合物（例えば、スチレンおよ
び例えばビニルトルエン、ジビニルベンゼン、ビニルア
セトフェノン、スルホスチレン等のスチレンの誘導
体）、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、塩化ビ
ニリデン、ビニルアルキルエーテル（例えば、ビニルエ
チルエーテル等）、マレイン酸のエステル、Ｎ−ビニル
−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルピリジン、２−もしくは
４−ビニルピリジン等、モノマーを含有するスルホン酸
（例えば、アクリルアミド−２、２’−ジメチループロ
パンスルホン酸、２−スルホエチルメタクリレート、３
−スルホプロピルメタクリレート等）。これらのモノマ
ーの、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、お
よび芳香族ビニル化合物が好ましい。好ましいコモノマ
ーの具体例は、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシ
ルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２
−メトキシエチルアクリレート、アクリル酸、メタクリ
ル酸、アクリルアミド、２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、ビニルアセテート、スチレン、Ｎ−ビニル−２−
ピロリドン、２−スルホエチルメタクリレートおよびそ
の金属塩、および２−アクリルアミド−２−メチルプロ
パンスルホン酸およびその金属塩を包含する。
リマー作ることができ、もしくは他のコモノマーと共に
重合することができる。その様な他のコモノマー例とし
て以下のものを含む。アクリル酸、アルキルアクリル酸
（メタクリル酸等のような）、アクリル酸から誘導され
るエステルもしくはアミド（例えば、アクリルアミド、
メタクリルアミド、ｎ−ブチルアクリルアミド、ｔ−ブ
チルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、メチ
ルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルア
クリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルアク
リレート、イソブチルアクリレート、２−エチルエキシ
ルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ラウリル
アクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−
メトキシエチルアクリレート、メチルメタクリレート、
エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｂ
−ヒドロキシルメタクリレート等）、ビニルエステル
（例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、
ビニルラウレート等）、アクリロニトリル、メタクリロ
ニトリル、芳香族ビニル化合物（例えば、スチレンおよ
び例えばビニルトルエン、ジビニルベンゼン、ビニルア
セトフェノン、スルホスチレン等のスチレンの誘導
体）、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、塩化ビ
ニリデン、ビニルアルキルエーテル（例えば、ビニルエ
チルエーテル等）、マレイン酸のエステル、Ｎ−ビニル
−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルピリジン、２−もしくは
４−ビニルピリジン等、モノマーを含有するスルホン酸
（例えば、アクリルアミド−２、２’−ジメチループロ
パンスルホン酸、２−スルホエチルメタクリレート、３
−スルホプロピルメタクリレート等）。これらのモノマ
ーの、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、お
よび芳香族ビニル化合物が好ましい。好ましいコモノマ
ーの具体例は、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシ
ルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２
−メトキシエチルアクリレート、アクリル酸、メタクリ
ル酸、アクリルアミド、２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、ビニルアセテート、スチレン、Ｎ−ビニル−２−
ピロリドン、２−スルホエチルメタクリレートおよびそ
の金属塩、および２−アクリルアミド−２−メチルプロ
パンスルホン酸およびその金属塩を包含する。
【００２２】本発明の写真要素は、式Ｉの反復単位に加
えて一以上の前記コモノマーを含むＵＶ吸収剤を有する
ことができる。例えば、ブチルアクリレートおよびアク
リルアミド−２，２’−ジメチルプロパンスルホン酸モ
ノマーを式Ｉのモノマーと共重合することができる。本
発明の写真要素のＵＶ吸収ポリマーは、式ＩＩの一以上
のＵＶ吸収モノマーから生成される反復単位を有するこ
とができる。例えば、Ｍ−１とＭ−３もしくは他の既知
のＵＶ吸収モノマーとの組み合せである。さらに、一以
上のＵＶ吸収ポリマーが一緒に使用可能である、例えば
Ｐ−１とＰ−２２（両方とも次に記載する）、もしくは
他の従来技術において記載されるＵＶ吸収剤ポリマーと
の組み合せである。
えて一以上の前記コモノマーを含むＵＶ吸収剤を有する
ことができる。例えば、ブチルアクリレートおよびアク
リルアミド−２，２’−ジメチルプロパンスルホン酸モ
ノマーを式Ｉのモノマーと共重合することができる。本
発明の写真要素のＵＶ吸収ポリマーは、式ＩＩの一以上
のＵＶ吸収モノマーから生成される反復単位を有するこ
とができる。例えば、Ｍ−１とＭ−３もしくは他の既知
のＵＶ吸収モノマーとの組み合せである。さらに、一以
上のＵＶ吸収ポリマーが一緒に使用可能である、例えば
Ｐ−１とＰ−２２（両方とも次に記載する）、もしくは
他の従来技術において記載されるＵＶ吸収剤ポリマーと
の組み合せである。
【００２３】通常のＵＶ吸収剤は、本発明の写真要素の
ＵＶ吸収ポリマー中に充填可能であり、その写真性能を
変える。「充填」は、例えば米国特許第４，１９９，３
６３号明細書に記載されている。使用可能な、そのよう
な通常のＵＶ吸収剤の例は、２−（２−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−
３−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾ
トリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−アミ
ノフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−
ヒドロキシ−３，５−ジ−（１，１−ジメチルベンジ
ル）−フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ
−ベンゾトリアゾール、ならびに、ｐ−ヒドロキシベン
ゾエート、安息香酸のフェニルエステル、サリチルアニ
リドおよびオキサニリド、ジケトン、ベンジリデンマロ
ネート、１−シアノ−ｂ−フェニル桂皮酸のエステル、
ならびに英国Elsevier Science Publishers LTD.のJ.F.
RabekのPhotostabilization of Polimers and Applicat
ions 202〜278ページ(1990) に記載されているような
有機金属写真安定剤等の様な他のタイプのＵＶ吸収剤を
包含する。
ＵＶ吸収ポリマー中に充填可能であり、その写真性能を
変える。「充填」は、例えば米国特許第４，１９９，３
６３号明細書に記載されている。使用可能な、そのよう
な通常のＵＶ吸収剤の例は、２−（２−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−
３−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾ
トリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−アミ
ノフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−
ヒドロキシ−３，５−ジ−（１，１−ジメチルベンジ
ル）−フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ
−ベンゾトリアゾール、ならびに、ｐ−ヒドロキシベン
ゾエート、安息香酸のフェニルエステル、サリチルアニ
リドおよびオキサニリド、ジケトン、ベンジリデンマロ
ネート、１−シアノ−ｂ−フェニル桂皮酸のエステル、
ならびに英国Elsevier Science Publishers LTD.のJ.F.
RabekのPhotostabilization of Polimers and Applicat
ions 202〜278ページ(1990) に記載されているような
有機金属写真安定剤等の様な他のタイプのＵＶ吸収剤を
包含する。
【００２４】高沸点有機溶媒もまた本発明の写真要素の
ポリマーＵＶ吸収剤中に充填することができ、またその
写真性能を変える。その様な高沸点有機溶媒の例は、ト
リクレジルホスフェート、ジ−ｎ−ブチルフタレート、
Ｎ−ｎ−アミルフタルイミド、ビス（２−メトキシエチ
ル）フタレート、ジメチルフタレート、エチルＮ，Ｎ−
ジ−ｎ−ブチル−カルバメート、ジエチルフタレート、
ｎ−ブチル２−メトキシベンゾエート、２−（ｎ−ブト
キシエチル）フタレート、エチルベンジルマロネート、
ｎ−アミルフタレート、ｎ−ヘキシルベンゾエート、グ
アヤコールアセテート、トリ−ｍ−クレジルホスフェー
ト、ジエチルセバケート、ジ−イソアミルフタレート、
エチルフェニルアセテート、ホロン、ジ−ｎ−ブチルセ
バケート、ジメチルセバケート、Ｎ，Ｎ−ジエチルラウ
ラミド、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルラウラミド、フェネチ
ルベンゾエート、ベンジルベンゾエート、ジオクチルフ
タレート、ジオクチルセバケート、キニトールビス（２
−エチルヘキソエート）、クレジルジフェニルホスフェ
ート、ブチルシクロヘキシルフタレート、テトラヒドロ
フルフリルアジペート、テトラヒドロフルフリルベンゾ
エート、テトラヒドロフルフリルプロピオネート、テト
ラヒドロフルフリルパルミテート、グアヤコールｎ−カ
プロエート、ビス（テトラヒドロフルフリル）フタレー
ト、Ｎ，Ｎ−ジエチルカプラアミド（N,N-diethylcapra
mide)、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノール、１−ラウ
リルピペリジン、Ｎ−ｎ−ブチルアセトアニリド、Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチルフタルアミド、Ｎ、ｎ−
アミルスクシンイミド、ジエチルシトレート、２，４−
ジ−ｎ−アミルフェノール、１，４−シクロヘキシレン
ジメチレンビス（２−エチルヘキサノエート）、ベンジ
ルブチルフタレート、ｐ−ドデシルフェノール、トリヘ
キシルホスフェート、イソプロピルパルミテート、およ
びビス（２−エチルヘキシル）スルホキシド、等を包含
する。
ポリマーＵＶ吸収剤中に充填することができ、またその
写真性能を変える。その様な高沸点有機溶媒の例は、ト
リクレジルホスフェート、ジ−ｎ−ブチルフタレート、
Ｎ−ｎ−アミルフタルイミド、ビス（２−メトキシエチ
ル）フタレート、ジメチルフタレート、エチルＮ，Ｎ−
ジ−ｎ−ブチル−カルバメート、ジエチルフタレート、
ｎ−ブチル２−メトキシベンゾエート、２−（ｎ−ブト
キシエチル）フタレート、エチルベンジルマロネート、
ｎ−アミルフタレート、ｎ−ヘキシルベンゾエート、グ
アヤコールアセテート、トリ−ｍ−クレジルホスフェー
ト、ジエチルセバケート、ジ−イソアミルフタレート、
エチルフェニルアセテート、ホロン、ジ−ｎ−ブチルセ
バケート、ジメチルセバケート、Ｎ，Ｎ−ジエチルラウ
ラミド、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルラウラミド、フェネチ
ルベンゾエート、ベンジルベンゾエート、ジオクチルフ
タレート、ジオクチルセバケート、キニトールビス（２
−エチルヘキソエート）、クレジルジフェニルホスフェ
ート、ブチルシクロヘキシルフタレート、テトラヒドロ
フルフリルアジペート、テトラヒドロフルフリルベンゾ
エート、テトラヒドロフルフリルプロピオネート、テト
ラヒドロフルフリルパルミテート、グアヤコールｎ−カ
プロエート、ビス（テトラヒドロフルフリル）フタレー
ト、Ｎ，Ｎ−ジエチルカプラアミド（N,N-diethylcapra
mide)、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノール、１−ラウ
リルピペリジン、Ｎ−ｎ−ブチルアセトアニリド、Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチルフタルアミド、Ｎ、ｎ−
アミルスクシンイミド、ジエチルシトレート、２，４−
ジ−ｎ−アミルフェノール、１，４−シクロヘキシレン
ジメチレンビス（２−エチルヘキサノエート）、ベンジ
ルブチルフタレート、ｐ−ドデシルフェノール、トリヘ
キシルホスフェート、イソプロピルパルミテート、およ
びビス（２−エチルヘキシル）スルホキシド、等を包含
する。
【００２５】本発明の写真要素は、式Ｉの反復単位の量
に対するコモノマーから生成される反復単位の量のモル
比が０〜１０、特に０〜５が好ましいＵＶ吸収ポリマー
を有することが好ましい。式（Ｉ）のＵＶ吸収モノマー
と共重合するのに使用されるエチレン系不飽和コモノマ
ーを選択し、物理的におよび／または化学的に望ましい
特性を前記コポリマーに与え調製する。例えばガラス転
移温度、粒子サイズ、ゼラチンもしくはその他の写真添
加物（例えば、抗酸化剤および既知のカラー画像生成剤
等）の様なバインダーとの適合性である。
に対するコモノマーから生成される反復単位の量のモル
比が０〜１０、特に０〜５が好ましいＵＶ吸収ポリマー
を有することが好ましい。式（Ｉ）のＵＶ吸収モノマー
と共重合するのに使用されるエチレン系不飽和コモノマ
ーを選択し、物理的におよび／または化学的に望ましい
特性を前記コポリマーに与え調製する。例えばガラス転
移温度、粒子サイズ、ゼラチンもしくはその他の写真添
加物（例えば、抗酸化剤および既知のカラー画像生成剤
等）の様なバインダーとの適合性である。
【００２６】本発明の写真要素の作成では、前記ポリマ
ーラテックスを前述した既知の３種の方法のいずれによ
っても生成することができる。記述されているように、
最初の方法は乳化重合法による。乳化重合法は当該技術
分野では良く知られており、Interscience Publishers
Inc.New York,1955によって発行された F. A. Boveyの
Emulsion Polymerization に記載されている。
ーラテックスを前述した既知の３種の方法のいずれによ
っても生成することができる。記述されているように、
最初の方法は乳化重合法による。乳化重合法は当該技術
分野では良く知られており、Interscience Publishers
Inc.New York,1955によって発行された F. A. Boveyの
Emulsion Polymerization に記載されている。
【００２７】使用可能な化学開始剤の例は、熱分解開始
剤、例えば、過硫酸塩（過硫酸アンモニウム、過硫酸カ
リウム等）、過酸化水素、４，４’−アゾビス（４−シ
アノバレリアン酸）、過酸化水素鉄（ＩＩ）塩の様なレ
ドックス開始剤、過硫酸ナトリウム硫酸水素カリウム、
塩−アルコールセリウム、等を包含する。乳化重合に使
用可能な乳化剤は、セッケン、スルホン酸エステル（例
えば、Ｎ−メチル−Ｎ−オレオイルタウレートナトリウ
ム等）、硫酸エステル（例えば、ドデシル硫酸ナトリウ
ム等）、陽イオン化合物（例えば、ヘキサデシルトリメ
チルアンモニウム臭化物、等）、両性の化合物、および
高分子保護コロイド（例えば、ポリビニルアルコール、
ポリアクリル酸、ゼラチン、等）を包含する。具体例お
よび乳化剤性能は、Belgische Chemische Industrie, V
ol.28,16〜20ページ(1963)に記載されている。個体の水
不溶生ＵＶ吸収モノマーの乳化重合は、水系もしくは水
／有機溶媒系で通常行われる。使用可能な有機溶媒は、
高水混和性を有し、使用するモノマーに対し実質的に不
活性であって、重合に加えたフリーラジカルの通常反応
を中断しないものが好ましい。好ましい例は１〜４の炭
素原子を有する低級アルコール（例えば、メタノール、
エタノール、イソプロパノール、等）、ケトン（例え
ば、アセトン等）、環状エーテル（例えば、テトラヒド
ロフラン等）、ニトリル（例えば、アセトニトリル
等）、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
等）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド
等）等を包含する。
剤、例えば、過硫酸塩（過硫酸アンモニウム、過硫酸カ
リウム等）、過酸化水素、４，４’−アゾビス（４−シ
アノバレリアン酸）、過酸化水素鉄（ＩＩ）塩の様なレ
ドックス開始剤、過硫酸ナトリウム硫酸水素カリウム、
塩−アルコールセリウム、等を包含する。乳化重合に使
用可能な乳化剤は、セッケン、スルホン酸エステル（例
えば、Ｎ−メチル−Ｎ−オレオイルタウレートナトリウ
ム等）、硫酸エステル（例えば、ドデシル硫酸ナトリウ
ム等）、陽イオン化合物（例えば、ヘキサデシルトリメ
チルアンモニウム臭化物、等）、両性の化合物、および
高分子保護コロイド（例えば、ポリビニルアルコール、
ポリアクリル酸、ゼラチン、等）を包含する。具体例お
よび乳化剤性能は、Belgische Chemische Industrie, V
ol.28,16〜20ページ(1963)に記載されている。個体の水
不溶生ＵＶ吸収モノマーの乳化重合は、水系もしくは水
／有機溶媒系で通常行われる。使用可能な有機溶媒は、
高水混和性を有し、使用するモノマーに対し実質的に不
活性であって、重合に加えたフリーラジカルの通常反応
を中断しないものが好ましい。好ましい例は１〜４の炭
素原子を有する低級アルコール（例えば、メタノール、
エタノール、イソプロパノール、等）、ケトン（例え
ば、アセトン等）、環状エーテル（例えば、テトラヒド
ロフラン等）、ニトリル（例えば、アセトニトリル
等）、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
等）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド
等）等を包含する。
【００２８】この方法は、米国特許第４，４６４，４６
２号、同４，４５５，３６８号、およびヨーロッパ特許
公告第０１９０００３号（１９９１）明細書に記載され
ているようにポリマーラテックスを最も直接に調製する
方法である。本発明の写真要素を作るための、ＵＶ吸収
剤のポリマーラテックスを生成する第２の方法は、ＵＶ
吸収モノマー（Ｉ）、コモノマーおよびスルホン酸、硫
酸、スルフィン酸、カルボン酸もしくは燐酸群を含むイ
オンコモノマーのモノマー混合物の溶液重合による。適
切なイオンコモノマーは、アクリルアミド−２，２’−
ジメチルプロパンスルホン酸、２−スルホエチルメタク
リレート、もしくはスチレンスルホン酸ナトリウムを包
含することができる。通常に使用される化学開始剤の例
は、アゾ型開始剤（例えば、２，２’−アゾビスイソブ
チロニトリル、ジメチル２，２’−アゾビスイソブチレ
ート、４，４’−アゾビス９（４−シアノバレリアン
酸）等）、および過酸化型開始剤（例えば、過酸化ベン
ゾイル、過酸化ラウロイル、等）を包含する。得られた
ポリマー溶液をその後界面活性剤を加えてまたは加えな
いで水溶液に分散しラテックスを生成する。
２号、同４，４５５，３６８号、およびヨーロッパ特許
公告第０１９０００３号（１９９１）明細書に記載され
ているようにポリマーラテックスを最も直接に調製する
方法である。本発明の写真要素を作るための、ＵＶ吸収
剤のポリマーラテックスを生成する第２の方法は、ＵＶ
吸収モノマー（Ｉ）、コモノマーおよびスルホン酸、硫
酸、スルフィン酸、カルボン酸もしくは燐酸群を含むイ
オンコモノマーのモノマー混合物の溶液重合による。適
切なイオンコモノマーは、アクリルアミド−２，２’−
ジメチルプロパンスルホン酸、２−スルホエチルメタク
リレート、もしくはスチレンスルホン酸ナトリウムを包
含することができる。通常に使用される化学開始剤の例
は、アゾ型開始剤（例えば、２，２’−アゾビスイソブ
チロニトリル、ジメチル２，２’−アゾビスイソブチレ
ート、４，４’−アゾビス９（４−シアノバレリアン
酸）等）、および過酸化型開始剤（例えば、過酸化ベン
ゾイル、過酸化ラウロイル、等）を包含する。得られた
ポリマー溶液をその後界面活性剤を加えてまたは加えな
いで水溶液に分散しラテックスを生成する。
【００２９】本発明の写真要素のためのＵＶ吸収剤ポリ
マーラテックスを生成する第３の方法は、ＵＶ吸収モノ
マー（Ｉ）および他のコモノマーを含んでなるモノマー
混合物の溶液重合による。有機溶媒を疎水性高分子ＵＶ
吸収剤を溶解するのに使用し、その溶液を米国特許第
４，４５５，３６８号（１９８４）明細書に記載されて
いるようにラテックスの形のゼラチン水溶液に分散す
る。前記溶媒を分散体の塗布前にもしくは塗布した分散
体の乾燥中に揮発によって（後者は好ましくないが）、
混合物から除去する。使用可能な溶媒は、ゼラチンヌー
ドル状態で水洗によって除去可能なようにある程度の水
溶解度を有するもの、およびスプレー乾燥、真空もしく
は蒸気パージング(purging)によって除去可能なものを
包含する。
マーラテックスを生成する第３の方法は、ＵＶ吸収モノ
マー（Ｉ）および他のコモノマーを含んでなるモノマー
混合物の溶液重合による。有機溶媒を疎水性高分子ＵＶ
吸収剤を溶解するのに使用し、その溶液を米国特許第
４，４５５，３６８号（１９８４）明細書に記載されて
いるようにラテックスの形のゼラチン水溶液に分散す
る。前記溶媒を分散体の塗布前にもしくは塗布した分散
体の乾燥中に揮発によって（後者は好ましくないが）、
混合物から除去する。使用可能な溶媒は、ゼラチンヌー
ドル状態で水洗によって除去可能なようにある程度の水
溶解度を有するもの、およびスプレー乾燥、真空もしく
は蒸気パージング(purging)によって除去可能なものを
包含する。
【００３０】除去可能な有機溶媒の例は、エステル（例
えば、エチルアセテート）、低級アルキルエーテル、ケ
トン、ハロゲン化炭化水素、アルコールおよびそれらの
組み合せを包含する。いずれのタイプの分散助剤も疎水
性高分子ＵＶ吸収剤の分散に使用することができる。し
かし、イオン界面活性剤、特に陰イオン界面活性剤が好
ましい。分散安定性を増すために、時には高分子ＵＶ吸
収剤の写真性能を改善するために、少量の高沸点有機溶
媒、例えば、フタル酸ジブチル、燐酸トリクレジル、ｐ
−ドデシルフェノール、１，４−シクロヘキシレンジメ
チレンビス（２−エチルヘキサノエート）、等を添加す
ることができる。それらの量は、良好な鮮鋭度を維持す
るために最終乳剤層もしくは親水性コロイド層の厚さを
減らすように、できるだけ少量が好ましい。いくつか
の、本発明の写真要素に使用可能な高分子ＵＶ吸収剤の
特有の例を、以下の式Ｐ−１〜Ｐ−２７に提供する。式
Ｐ−１３は残部がコポリマーのホモポリマーである。そ
の配合はモノマーのモル比を基礎とする。
えば、エチルアセテート）、低級アルキルエーテル、ケ
トン、ハロゲン化炭化水素、アルコールおよびそれらの
組み合せを包含する。いずれのタイプの分散助剤も疎水
性高分子ＵＶ吸収剤の分散に使用することができる。し
かし、イオン界面活性剤、特に陰イオン界面活性剤が好
ましい。分散安定性を増すために、時には高分子ＵＶ吸
収剤の写真性能を改善するために、少量の高沸点有機溶
媒、例えば、フタル酸ジブチル、燐酸トリクレジル、ｐ
−ドデシルフェノール、１，４−シクロヘキシレンジメ
チレンビス（２−エチルヘキサノエート）、等を添加す
ることができる。それらの量は、良好な鮮鋭度を維持す
るために最終乳剤層もしくは親水性コロイド層の厚さを
減らすように、できるだけ少量が好ましい。いくつか
の、本発明の写真要素に使用可能な高分子ＵＶ吸収剤の
特有の例を、以下の式Ｐ−１〜Ｐ−２７に提供する。式
Ｐ−１３は残部がコポリマーのホモポリマーである。そ
の配合はモノマーのモル比を基礎とする。
【００３１】
【化７】
【００３２】
【化８】
【００３３】
【化９】
【００３４】
【化１０】
【００３５】
【化１１】
【００３６】
【化１２】
【００３７】
【化１３】
【００３８】
【化１４】
【００３９】
【化１５】
【００４０】
【化１６】
【００４１】
【化１７】
【００４２】
【化１８】
【００４３】
【化１９】
【００４４】
【化２０】
【００４５】本発明の写真要素に使用するハロゲン化銀
は、臭沃化銀、臭化銀、塩化銀、塩臭化銀等であっても
良く、乳剤の形で提供される。当該乳剤は、１種以上の
増感色素で（多くは、異なる光の波長（例えば、赤、
緑、および青）に乳剤を増感するとして知られている）
一般的に増感されている。本発明の写真要素は、立方晶
もしくは平板上粒子乳剤を包含するいずれの粒子結晶構
造も使用可能である。平板上ハロゲン化銀粒子は、粒子
上の他のいずれの面より大きい２つの実質的に平行な結
晶面を有する粒子である。平板上粒子乳剤は、乳剤粒子
の全投影面積の５０％を超える部分が、０．３μｍ（青
感性乳剤では０．５μｍ）より薄い厚さ、２５より大き
い（好ましくは１００より大きい）平均平板状度（Ｔ）
を有する平板状粒子よって占められている。ここで「平
板状度」の語は、当該技術分野で認められているＴ＝Ｅ
ＣＤ／ｔ2 としての用い方に使用する。
は、臭沃化銀、臭化銀、塩化銀、塩臭化銀等であっても
良く、乳剤の形で提供される。当該乳剤は、１種以上の
増感色素で（多くは、異なる光の波長（例えば、赤、
緑、および青）に乳剤を増感するとして知られている）
一般的に増感されている。本発明の写真要素は、立方晶
もしくは平板上粒子乳剤を包含するいずれの粒子結晶構
造も使用可能である。平板上ハロゲン化銀粒子は、粒子
上の他のいずれの面より大きい２つの実質的に平行な結
晶面を有する粒子である。平板上粒子乳剤は、乳剤粒子
の全投影面積の５０％を超える部分が、０．３μｍ（青
感性乳剤では０．５μｍ）より薄い厚さ、２５より大き
い（好ましくは１００より大きい）平均平板状度（Ｔ）
を有する平板状粒子よって占められている。ここで「平
板状度」の語は、当該技術分野で認められているＴ＝Ｅ
ＣＤ／ｔ2 としての用い方に使用する。
【００４６】式中、ＥＣＤはμｍで表す平板状粒子の平
均等価円直径、およびｔはμｍで表す平板状粒子の平均
厚である。ハロゲン化銀の粒子サイズは写真構成に有用
であるとして知られているいずれの分布を有していても
良く、多分散又は単分散のいずれでも良い。本発明で使
用するハロゲン化銀粒子は、Reserch Disclosure,(Kenn
eth Mason Publication Ltd, Emsworth, England) Item
308119, December, 1989 (以後 Reserch Disclosure I
として引用する)および Jamesの The Theoryof the Ph
otographic Process に記載されていような当該技術分
野で良く知られている方法に従って調製することができ
る。これらの方法は、アンモニア性乳剤製造法、中性も
しくは酸乳剤製造法および他の当該技術分野における既
知の製造法のような方法を包含する。これらの方法は、
保護コロイドの存在化での水溶性銀塩と水溶性ハロゲン
化塩の混合工程、および沈澱によるハロゲン化銀の生成
中、適切な値に温度、ｐＡｇ、ｐＨ値等を制御する工程
を一般的に含む。
均等価円直径、およびｔはμｍで表す平板状粒子の平均
厚である。ハロゲン化銀の粒子サイズは写真構成に有用
であるとして知られているいずれの分布を有していても
良く、多分散又は単分散のいずれでも良い。本発明で使
用するハロゲン化銀粒子は、Reserch Disclosure,(Kenn
eth Mason Publication Ltd, Emsworth, England) Item
308119, December, 1989 (以後 Reserch Disclosure I
として引用する)および Jamesの The Theoryof the Ph
otographic Process に記載されていような当該技術分
野で良く知られている方法に従って調製することができ
る。これらの方法は、アンモニア性乳剤製造法、中性も
しくは酸乳剤製造法および他の当該技術分野における既
知の製造法のような方法を包含する。これらの方法は、
保護コロイドの存在化での水溶性銀塩と水溶性ハロゲン
化塩の混合工程、および沈澱によるハロゲン化銀の生成
中、適切な値に温度、ｐＡｇ、ｐＨ値等を制御する工程
を一般的に含む。
【００４７】本発明に使用するハロゲン化銀は、金増感
剤（例えば、硫化金）および当該技術分野で既知のその
他の化合物で化学増感を受けることができる。ハロゲン
化銀を化学増感するのに利用する化合物類および技法
は、当該技術分野において既知であり、 Reserch Discl
osure I に記載され、本発明の明細書に引用される。本
発明の写真要素は、典型的なものとして、乳剤の形のハ
ロゲン化銀を提供する。写真乳剤は、写真要素のある層
として乳剤を塗布するためにベヒクルを含む。有効なベ
ヒクルは、蛋白質、蛋白質誘導体、セルロース誘導体
（例えば、セルロースエステル）、ゼラチン（例えば、
牛骨または牛皮ゼラチンのようなアルカリ処理したゼラ
チン、もしくは豚皮ゼラチンのような酸処理したゼラチ
ン）、ゼラチン誘導体（例えば、アセチル化したゼラチ
ン、フタル酸エステル化したゼラチン、等）の天然に産
する物質、および Reserch Disclosure I に記載される
その他のものの両方を包含する。
剤（例えば、硫化金）および当該技術分野で既知のその
他の化合物で化学増感を受けることができる。ハロゲン
化銀を化学増感するのに利用する化合物類および技法
は、当該技術分野において既知であり、 Reserch Discl
osure I に記載され、本発明の明細書に引用される。本
発明の写真要素は、典型的なものとして、乳剤の形のハ
ロゲン化銀を提供する。写真乳剤は、写真要素のある層
として乳剤を塗布するためにベヒクルを含む。有効なベ
ヒクルは、蛋白質、蛋白質誘導体、セルロース誘導体
（例えば、セルロースエステル）、ゼラチン（例えば、
牛骨または牛皮ゼラチンのようなアルカリ処理したゼラ
チン、もしくは豚皮ゼラチンのような酸処理したゼラチ
ン）、ゼラチン誘導体（例えば、アセチル化したゼラチ
ン、フタル酸エステル化したゼラチン、等）の天然に産
する物質、および Reserch Disclosure I に記載される
その他のものの両方を包含する。
【００４８】また、ベヒクルもしくはベヒクル増量剤と
して有効なものは親水性水透過性コロイドである。これ
らは、合成ポリマーしゃく解剤、ならびにポリ（ビニル
アルコール）、ポリ（ビニルラクタム）、アクリルアミ
ドポリマー、ポリビニルアセタール、アルキルならびに
スルホアルキルアクリレートおよびメタクリレートの重
合体、加水分解したポリビニルアセテート、ポリアミ
ド、ポリビニルピリジン、メタクリルアミドコポリマー
のようなキャリヤーもしくはバインダーの両方またはど
ちらか一方、ならびに Reserch Disclosure I に記載さ
れているようなその他のものをを包含する。前記ベヒク
ルは、写真乳剤に有効な量で乳剤中に存在することがで
きる。前記乳剤は、写真乳剤に利用する既知の添加剤の
いずれもまた含むことができる。添加剤は、活性ゼラチ
ン、硫黄、セレン、テルル、金、プラチナ、パラジウ
ム、イリジウム、オスミウム、レニウム、燐、もしくは
それらの組み合せのような、化学増感剤を含む。化学増
感剤は、 Reserch Disclosure, June 1975, Item 13452
および米国特許第３，７７２，０３１号明細書に具体
的に記載されているように、５〜１０のｐＡｇ、５〜８
のｐＨ、および３０〜８０℃で、一般的に実施される。
して有効なものは親水性水透過性コロイドである。これ
らは、合成ポリマーしゃく解剤、ならびにポリ（ビニル
アルコール）、ポリ（ビニルラクタム）、アクリルアミ
ドポリマー、ポリビニルアセタール、アルキルならびに
スルホアルキルアクリレートおよびメタクリレートの重
合体、加水分解したポリビニルアセテート、ポリアミ
ド、ポリビニルピリジン、メタクリルアミドコポリマー
のようなキャリヤーもしくはバインダーの両方またはど
ちらか一方、ならびに Reserch Disclosure I に記載さ
れているようなその他のものをを包含する。前記ベヒク
ルは、写真乳剤に有効な量で乳剤中に存在することがで
きる。前記乳剤は、写真乳剤に利用する既知の添加剤の
いずれもまた含むことができる。添加剤は、活性ゼラチ
ン、硫黄、セレン、テルル、金、プラチナ、パラジウ
ム、イリジウム、オスミウム、レニウム、燐、もしくは
それらの組み合せのような、化学増感剤を含む。化学増
感剤は、 Reserch Disclosure, June 1975, Item 13452
および米国特許第３，７７２，０３１号明細書に具体
的に記載されているように、５〜１０のｐＡｇ、５〜８
のｐＨ、および３０〜８０℃で、一般的に実施される。
【００４９】以上述べたように、ハロゲン化銀は、 Res
erch Disclosure I に記載されているような当該技術分
野で既知のいずれの方法によっても、色素によって増感
することができる。当該色素は、写真要素に乳剤を塗布
する工程の前（例えば、化学増感中もしくはその後に）
何時でももしくは同時に、ハロゲン化銀粒子乳剤および
親水性コロイドに添加することができる。
erch Disclosure I に記載されているような当該技術分
野で既知のいずれの方法によっても、色素によって増感
することができる。当該色素は、写真要素に乳剤を塗布
する工程の前（例えば、化学増感中もしくはその後に）
何時でももしくは同時に、ハロゲン化銀粒子乳剤および
親水性コロイドに添加することができる。
【００５０】この色素／ハロゲン化銀乳剤を、塗布工程
の直前もしくは塗布工程より前に（例えば、２時間）、
カラー画像形成カプラー分散体と混合することができ
る。上記増感色素は単独で使用でき、あるいは、例えば
緑領域外光の波長に感光性を有するハロゲン化銀を提供
するため、又はハロゲン化銀を強色増感するため他の増
感色素と組み合せて使用することがでいる。本質的にい
ずれのタイプの乳剤（例えば、カブラない内部潜像形成
乳剤の表面感光性乳剤のようなネガ型乳剤、表面をカブ
ラせた乳剤のような直接ポジ乳剤、例えば Reserch Dis
closure I に記載されているその他の乳剤）も使用可
能である。従って、本発明の写真要素は、ハロゲン化銀
カラーペーパー、カラーネガ、およびカラーリバーサル
システム（即ち、スライドシステム）を包含する。記述
されたポリマー類を使用する写真要素は、また親水性コ
ロイド分散層を有しない要素にも有効に構成することが
できる。例えば、D.J.P. Harrison の Proceedings of
the Society of Photographical Instrumentation Engi
neers Vol.1079, 215〜222ページ(1989),および James
の The Theory of the Photographic Process 4版,197
7,Eastman Kodak Company, Rochester, New York.に記
載されているような、ｐＨの熱活性化システムを包含す
るダイトランスファーシステムである。他の写真要素
は、、例えば、米国特許第４，５８４，２６７号および
同４，９４８，６９８号（そして本明細書に引用する）
に記載されているような、銀ベースの熱現像可能なシス
テムを包含する。
の直前もしくは塗布工程より前に（例えば、２時間）、
カラー画像形成カプラー分散体と混合することができ
る。上記増感色素は単独で使用でき、あるいは、例えば
緑領域外光の波長に感光性を有するハロゲン化銀を提供
するため、又はハロゲン化銀を強色増感するため他の増
感色素と組み合せて使用することがでいる。本質的にい
ずれのタイプの乳剤（例えば、カブラない内部潜像形成
乳剤の表面感光性乳剤のようなネガ型乳剤、表面をカブ
ラせた乳剤のような直接ポジ乳剤、例えば Reserch Dis
closure I に記載されているその他の乳剤）も使用可
能である。従って、本発明の写真要素は、ハロゲン化銀
カラーペーパー、カラーネガ、およびカラーリバーサル
システム（即ち、スライドシステム）を包含する。記述
されたポリマー類を使用する写真要素は、また親水性コ
ロイド分散層を有しない要素にも有効に構成することが
できる。例えば、D.J.P. Harrison の Proceedings of
the Society of Photographical Instrumentation Engi
neers Vol.1079, 215〜222ページ(1989),および James
の The Theory of the Photographic Process 4版,197
7,Eastman Kodak Company, Rochester, New York.に記
載されているような、ｐＨの熱活性化システムを包含す
るダイトランスファーシステムである。他の写真要素
は、、例えば、米国特許第４，５８４，２６７号および
同４，９４８，６９８号（そして本明細書に引用する）
に記載されているような、銀ベースの熱現像可能なシス
テムを包含する。
【００５１】乳剤中の他の添加物は、カブリ防止剤、安
定剤、フィルター色素、光吸収もしくは反射顔料、ゼラ
チン硬膜剤のようなベヒクル硬膜剤、塗布助剤、色素生
成カプラーおよび現像抑制剤放出カプラーのような現像
改質剤、時間現像抑制剤放出カプラー、ならびに漂白促
進剤を包含することができる。前述の添加剤の多くは、
上記感光層の全てにある非感光性紫外線フィルター層に
も使用することができる。これらの添加物並びに乳剤お
よびその他の写真層中にそれらを包含する方法は、当該
技術において良く知られており、 Reserch Disclosure
Iに記載され、引用することによって本明細書の内容と
なる。
定剤、フィルター色素、光吸収もしくは反射顔料、ゼラ
チン硬膜剤のようなベヒクル硬膜剤、塗布助剤、色素生
成カプラーおよび現像抑制剤放出カプラーのような現像
改質剤、時間現像抑制剤放出カプラー、ならびに漂白促
進剤を包含することができる。前述の添加剤の多くは、
上記感光層の全てにある非感光性紫外線フィルター層に
も使用することができる。これらの添加物並びに乳剤お
よびその他の写真層中にそれらを包含する方法は、当該
技術において良く知られており、 Reserch Disclosure
Iに記載され、引用することによって本明細書の内容と
なる。
【００５２】当該乳剤はまたスチルベン蛍光増白剤のよ
うな蛍光増白剤を含むことも可能である。このような蛍
光増白剤は、当該技術分野においてよくしられており、
色素汚れを防止するために使用される。 高分子色素吸
収剤を含む層を、乳剤層、下塗層、色素フィルター層、
中間層、もしくは上塗り層を含む他の層と同時に又は連
続して塗布することができる。それらの全ての層は写真
要素に含むことができるとして知られている種々の添加
物を含むことができる。これら添加物は、カブリ防止
剤、酸化現像主薬スキャベンジャー、ＤＩＲカプラー、
帯電防止剤、蛍光増白剤、光吸収もしくは光散乱顔料、
等を包含する。写真要素の前記層を、当該技術分野にお
いて良く知られている技法を使って支持体に塗布するこ
とができる。
うな蛍光増白剤を含むことも可能である。このような蛍
光増白剤は、当該技術分野においてよくしられており、
色素汚れを防止するために使用される。 高分子色素吸
収剤を含む層を、乳剤層、下塗層、色素フィルター層、
中間層、もしくは上塗り層を含む他の層と同時に又は連
続して塗布することができる。それらの全ての層は写真
要素に含むことができるとして知られている種々の添加
物を含むことができる。これら添加物は、カブリ防止
剤、酸化現像主薬スキャベンジャー、ＤＩＲカプラー、
帯電防止剤、蛍光増白剤、光吸収もしくは光散乱顔料、
等を包含する。写真要素の前記層を、当該技術分野にお
いて良く知られている技法を使って支持体に塗布するこ
とができる。
【００５３】これらの技法は、名前を挙げると、浸漬も
しくはディップコーティング、ローラコーティング、逆
ロールコーティング、エアーナイフコーティング、ドク
ターブレードコーティング(doctor blade coating)、ス
トレッチフローコーティング(stretch-flow cating)、
カーテンコーティング(curtain coating)を包含する。
当該写真要素の塗布層に、冷却もしくは乾燥の一方又は
両方を行うことができる。乾燥工程は、伝導、対流、熱
放射もしくはそれらの組み合せのような既知の技法で促
進することができる。
しくはディップコーティング、ローラコーティング、逆
ロールコーティング、エアーナイフコーティング、ドク
ターブレードコーティング(doctor blade coating)、ス
トレッチフローコーティング(stretch-flow cating)、
カーテンコーティング(curtain coating)を包含する。
当該写真要素の塗布層に、冷却もしくは乾燥の一方又は
両方を行うことができる。乾燥工程は、伝導、対流、熱
放射もしくはそれらの組み合せのような既知の技法で促
進することができる。
【００５４】本発明の写真要素は白黒であるが、カラー
がむしろ好ましい。カラー写真要素は３種の銀乳剤層も
しくは乳剤層セット（各セットは同じ分光感度であるが
スピードが異なる乳剤から成ることが多い）を一般的に
含んでいる。即ち、関連するイエロー色素生成カラーカ
プラーを有する青感性層、関連するマゼンタ色素生成カ
ラーカプラーを有する緑感性層、関連するシアン色素生
成カラーカプラーを有する赤感性層である。一般的に、
それらの色素生成カプラーは、最初に水不混和性高沸点
有機溶媒に溶解もしくは分散し、得られた混合物をその
後前記乳剤に分散することで乳剤に加えられる。適切な
溶媒は、欧州特許出願第８７１１９２７１．２号明細書
に記載されているものを包含する。色素生成カプラーは
当該技術分野において良く知られており、例えば Reser
ch Disclosure Iに記載されている。
がむしろ好ましい。カラー写真要素は３種の銀乳剤層も
しくは乳剤層セット（各セットは同じ分光感度であるが
スピードが異なる乳剤から成ることが多い）を一般的に
含んでいる。即ち、関連するイエロー色素生成カラーカ
プラーを有する青感性層、関連するマゼンタ色素生成カ
ラーカプラーを有する緑感性層、関連するシアン色素生
成カラーカプラーを有する赤感性層である。一般的に、
それらの色素生成カプラーは、最初に水不混和性高沸点
有機溶媒に溶解もしくは分散し、得られた混合物をその
後前記乳剤に分散することで乳剤に加えられる。適切な
溶媒は、欧州特許出願第８７１１９２７１．２号明細書
に記載されているものを包含する。色素生成カプラーは
当該技術分野において良く知られており、例えば Reser
ch Disclosure Iに記載されている。
【００５５】構造Ｉの高分子ＵＶ吸収剤を含む本発明の
写真要素は、例えば Reserch Disclosure I もしくはJ
ames の The Theory of the Photographic Process 4
版,1977記載されている、多くの既知の処理構成物を使
用する数ある既知のいずれの写真処理方法でも処理する
ことができる。本発明をさらに以下の例で説明する。
写真要素は、例えば Reserch Disclosure I もしくはJ
ames の The Theory of the Photographic Process 4
版,1977記載されている、多くの既知の処理構成物を使
用する数ある既知のいずれの写真処理方法でも処理する
ことができる。本発明をさらに以下の例で説明する。
【００５６】
【実施例】本発明の写真要素に使用するポリマーの多く
の合成例を以下に提供する。生成物は、式Ｉの反復単位
を有するポリマー無しに写真要素に組み入れた場合、本
発明の写真要素を与えない比較例のＵＶ吸収剤組成物を
また提供する。このような比較組成物をＣ−１〜Ｃ−１
２のように特定する。組成物Ｃ−１およびＣ−２は、モ
ノマーのＵＶ吸収剤の通常の分散体であり、それに対し
てＣ−３〜Ｃ−１２は、式Ｉの反復単位を有するポリマ
ー無しに写真要素に組み入れた場合、本発明の写真要素
を与えないポリマーのラテックスである。式ＩＩの出発
モノマーは、米国特許第４，５２８，３１１号明細書も
しくは S. Tanimoto と Y. Inoue のBulletin Institut
e Chemical Research Vol. 68 No. 5-6, ページ 309〜3
20 (1991) に記載されているモノマー合成法と似た合成
法によって得ることができる。
の合成例を以下に提供する。生成物は、式Ｉの反復単位
を有するポリマー無しに写真要素に組み入れた場合、本
発明の写真要素を与えない比較例のＵＶ吸収剤組成物を
また提供する。このような比較組成物をＣ−１〜Ｃ−１
２のように特定する。組成物Ｃ−１およびＣ−２は、モ
ノマーのＵＶ吸収剤の通常の分散体であり、それに対し
てＣ−３〜Ｃ−１２は、式Ｉの反復単位を有するポリマ
ー無しに写真要素に組み入れた場合、本発明の写真要素
を与えないポリマーのラテックスである。式ＩＩの出発
モノマーは、米国特許第４，５２８，３１１号明細書も
しくは S. Tanimoto と Y. Inoue のBulletin Institut
e Chemical Research Vol. 68 No. 5-6, ページ 309〜3
20 (1991) に記載されているモノマー合成法と似た合成
法によって得ることができる。
【００５７】ポリマー Ｐ−２の合成 脱イオン水３８８ｍｌ、２０％Ｎ−メチル−Ｎ−オレオ
イルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
４．３４ｇ、並びにアセトン４０ｍｌを、機械撹拌機、
窒素取入れ口、およびコンデンサーを備えた１リットル
の４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８
０℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加
熱した。Ｍ−１（０．０３モル）９．６９ｇ、ブチルア
クリレート（０．０６モル）７．６９２ｇ、およびＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド１９４ｍｌのモノマー溶液を
構成した。５％過硫酸アンモニウム６．９５ｇを反応器
に添加し３分間撹拌した。このモノマー溶液を４時間３
０分以上反応器に注入した。重合を８時間継続した。こ
のラテックスを冷却し、漉過し、蒸留水で一晩中透析し
た。その後ラテックスを Amicon's Ultrafiltration un
itで８．１４％固形分に濃縮した。Malvern's Autosize
r IIC で測定したＺ−平均粒子サイズは５２ｎｍであ
った。窒素の元素分析の結果は７．２２％であった。吸
収スペクトルを図１に示す。
イルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
４．３４ｇ、並びにアセトン４０ｍｌを、機械撹拌機、
窒素取入れ口、およびコンデンサーを備えた１リットル
の４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８
０℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加
熱した。Ｍ−１（０．０３モル）９．６９ｇ、ブチルア
クリレート（０．０６モル）７．６９２ｇ、およびＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド１９４ｍｌのモノマー溶液を
構成した。５％過硫酸アンモニウム６．９５ｇを反応器
に添加し３分間撹拌した。このモノマー溶液を４時間３
０分以上反応器に注入した。重合を８時間継続した。こ
のラテックスを冷却し、漉過し、蒸留水で一晩中透析し
た。その後ラテックスを Amicon's Ultrafiltration un
itで８．１４％固形分に濃縮した。Malvern's Autosize
r IIC で測定したＺ−平均粒子サイズは５２ｎｍであ
った。窒素の元素分析の結果は７．２２％であった。吸
収スペクトルを図１に示す。
【００５８】ポリマー Ｐ−１の合成 脱イオン水２６０ｇ、２０％Ｎ−メチル−Ｎ−オレオイ
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
２．２６ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、ブチルアク
リレート（０．０２モル）２．５６ｇ、およびＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶液を構成
した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）０．９ｇ、過
硫酸アンモニウム１．８ｇおよび脱イオン水２０ｇか
ら、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸アンモニウム
３．６１ｇを反応器に添加し３分間撹拌した。このモノ
マー溶液および同時供給溶液を４時間以上反応器に注入
した。重合を８時間継続した。このラテックスを冷却
し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その後ラテック
スを Amicon's Ultrafiltration unitで５％固形分に濃
縮した。Malvern's Autosizer IIC で測定したＺ−平
均粒子サイズは４９ｎｍであった。元素分析の結果はＮ
（９．１１％）、Ｃ（６３．４４％）、およびＨ（６．
６０％）であった。
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
２．２６ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、ブチルアク
リレート（０．０２モル）２．５６ｇ、およびＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶液を構成
した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）０．９ｇ、過
硫酸アンモニウム１．８ｇおよび脱イオン水２０ｇか
ら、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸アンモニウム
３．６１ｇを反応器に添加し３分間撹拌した。このモノ
マー溶液および同時供給溶液を４時間以上反応器に注入
した。重合を８時間継続した。このラテックスを冷却
し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その後ラテック
スを Amicon's Ultrafiltration unitで５％固形分に濃
縮した。Malvern's Autosizer IIC で測定したＺ−平
均粒子サイズは４９ｎｍであった。元素分析の結果はＮ
（９．１１％）、Ｃ（６３．４４％）、およびＨ（６．
６０％）であった。
【００５９】ポリマー Ｐ−３の合成 脱イオン水２６０ｇ、２０％Ｎ−メチル−Ｎ−オレオイ
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
３．５４ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、ブチルアク
リレート（０．０６モル）７．６９ｇ、およびＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶液を構成
した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）１．４２ｇ、
過硫酸アンモニウム２．８３ｇおよび脱イオン水２０ｇ
から、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸アンモニウ
ム５．６６ｇを反応器に添加し３分間撹拌した。このモ
ノマー溶液および同時供給溶液を４時間以上反応器に注
入した。重合を８時間継続した。このラテックスを冷却
し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その後ラテック
スを Amicon's Ultrafiltration unitで５。６２％固形
分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC で測定した
Ｚ−平均粒子サイズは５９．３ｎｍであった。元素分析
の結果はＮ（５．７９％）、Ｃ（６４．５５％）、およ
びＨ（７．５４％）であった。
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
３．５４ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、ブチルアク
リレート（０．０６モル）７．６９ｇ、およびＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶液を構成
した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）１．４２ｇ、
過硫酸アンモニウム２．８３ｇおよび脱イオン水２０ｇ
から、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸アンモニウ
ム５．６６ｇを反応器に添加し３分間撹拌した。このモ
ノマー溶液および同時供給溶液を４時間以上反応器に注
入した。重合を８時間継続した。このラテックスを冷却
し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その後ラテック
スを Amicon's Ultrafiltration unitで５。６２％固形
分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC で測定した
Ｚ−平均粒子サイズは５９．３ｎｍであった。元素分析
の結果はＮ（５．７９％）、Ｃ（６４．５５％）、およ
びＨ（７．５４％）であった。
【００６０】ポリマー Ｐ−４の合成 脱イオン水２６０ｇ、２０％Ｎ−メチル−Ｎ−オレオイ
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
４．１８ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、ブチルアク
リレート（０．０８モル）１０．２５６ｇ、およびＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶液を
構成した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）２．２２
ｇ、過硫酸アンモニウム３．３４ｇおよび脱イオン水２
０ｇから、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸アンモ
ニウム６．６９ｇを反応器に添加し３分間撹拌した。こ
のモノマー溶液および同時供給溶液を４時間以上反応器
に注入した。重合を８時間継続した。このラテックスを
冷却し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その後ラテ
ックスを Amicon's Ultrafiltration unitで６．１％固
形分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC で測定し
たＺ−平均粒子サイズは５６．８ｎｍであった。元素分
析の結果はＮ（５．０３％）、Ｃ（６６．０９％）、お
よびＨ（７．８４％）であった。
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
４．１８ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、ブチルアク
リレート（０．０８モル）１０．２５６ｇ、およびＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶液を
構成した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）２．２２
ｇ、過硫酸アンモニウム３．３４ｇおよび脱イオン水２
０ｇから、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸アンモ
ニウム６．６９ｇを反応器に添加し３分間撹拌した。こ
のモノマー溶液および同時供給溶液を４時間以上反応器
に注入した。重合を８時間継続した。このラテックスを
冷却し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その後ラテ
ックスを Amicon's Ultrafiltration unitで６．１％固
形分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC で測定し
たＺ−平均粒子サイズは５６．８ｎｍであった。元素分
析の結果はＮ（５．０３％）、Ｃ（６６．０９％）、お
よびＨ（７．８４％）であった。
【００６１】ポリマー Ｐ−５の合成 脱イオン水２６０ｇ、２０％Ｎ−メチル−Ｎ−オレオイ
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
２．１２ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、メチルメタ
クリレート（０．０２モル）２．０ｇ、およびＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶液を構成
した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）０．８５ｇ、
過硫酸アンモニウム１．６９ｇおよび脱イオン水２０ｇ
から、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸アンモニウ
ム３．３８ｇを反応器に添加し３分間撹拌した。このモ
ノマー溶液および同時供給溶液を４時間以上反応器に注
入した。重合を８時間継続した。このラテックスを冷却
し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その後ラテック
スを Amicon's Ultrafiltration unitで５．０１％固形
分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC で測定した
Ｚ−平均粒子サイズは７９．６ｎｍであった。元素分析
の結果はＮ（１０．０９％）、Ｃ（６４．３８％）、お
よびＨ（６．０４％）であった。
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
２．１２ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、メチルメタ
クリレート（０．０２モル）２．０ｇ、およびＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶液を構成
した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）０．８５ｇ、
過硫酸アンモニウム１．６９ｇおよび脱イオン水２０ｇ
から、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸アンモニウ
ム３．３８ｇを反応器に添加し３分間撹拌した。このモ
ノマー溶液および同時供給溶液を４時間以上反応器に注
入した。重合を８時間継続した。このラテックスを冷却
し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その後ラテック
スを Amicon's Ultrafiltration unitで５．０１％固形
分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC で測定した
Ｚ−平均粒子サイズは７９．６ｎｍであった。元素分析
の結果はＮ（１０．０９％）、Ｃ（６４．３８％）、お
よびＨ（６．０４％）であった。
【００６２】ポリマー Ｐ−６の合成 脱イオン水２６０ｇ、２０％Ｎ−メチル−Ｎ−オレオイ
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
２．６２ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、メチルメタ
クリレート（０．０４モル）４ｇ、およびＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶液を構成し
た。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）１．０５ｇ、過
硫酸アンモニウム２．０９ｇおよび脱イオン水２０ｇか
ら、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸アンモニウム
４．１９ｇを反応器に添加し３分間撹拌した。このモノ
マー溶液および同時供給溶液を４時間以上反応器に注入
した。重合を８時間継続した。このラテックスを冷却
し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その後ラテック
スを Amicon's Ultrafiltration unitで４．６５％固形
分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC で測定した
Ｚ−平均粒子サイズは５６．１ｎｍであった。元素分析
の結果はＮ（８．７７％）、Ｃ（６１．３９％）、およ
びＨ（６．４２％）であった。ポリマー Ｐ−７の合成 脱イオン水２６０ｇ、２０％Ｎ−メチル−Ｎ−オレオイ
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
３．１２ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、メチルメタ
クリレート（０．０６モル）６．０ｇ、およびＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶液を構成
した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）１．２５ｇ、
過硫酸アンモニウム２．４９ｇおよび脱イオン水２０ｇ
から、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸アンモニウ
ム４．９９ｇを反応器に添加し３分間撹拌した。このモ
ノマー溶液および同時供給溶液を４時間以上反応器に注
入した。重合を８時間継続した。このラテックスを冷却
し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その後ラテック
スを Amicon's Ultrafiltration unitで３．７７％固形
分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC で測定した
Ｚ−平均粒子サイズは３５ｎｍであった。元素分析の結
果はＮ（７．２５％）、Ｃ（６１．４６％）、およびＨ
（６．８３％）であった。
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
２．６２ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、メチルメタ
クリレート（０．０４モル）４ｇ、およびＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶液を構成し
た。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）１．０５ｇ、過
硫酸アンモニウム２．０９ｇおよび脱イオン水２０ｇか
ら、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸アンモニウム
４．１９ｇを反応器に添加し３分間撹拌した。このモノ
マー溶液および同時供給溶液を４時間以上反応器に注入
した。重合を８時間継続した。このラテックスを冷却
し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その後ラテック
スを Amicon's Ultrafiltration unitで４．６５％固形
分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC で測定した
Ｚ−平均粒子サイズは５６．１ｎｍであった。元素分析
の結果はＮ（８．７７％）、Ｃ（６１．３９％）、およ
びＨ（６．４２％）であった。ポリマー Ｐ−７の合成 脱イオン水２６０ｇ、２０％Ｎ−メチル−Ｎ−オレオイ
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
３．１２ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、メチルメタ
クリレート（０．０６モル）６．０ｇ、およびＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶液を構成
した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）１．２５ｇ、
過硫酸アンモニウム２．４９ｇおよび脱イオン水２０ｇ
から、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸アンモニウ
ム４．９９ｇを反応器に添加し３分間撹拌した。このモ
ノマー溶液および同時供給溶液を４時間以上反応器に注
入した。重合を８時間継続した。このラテックスを冷却
し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その後ラテック
スを Amicon's Ultrafiltration unitで３．７７％固形
分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC で測定した
Ｚ−平均粒子サイズは３５ｎｍであった。元素分析の結
果はＮ（７．２５％）、Ｃ（６１．４６％）、およびＨ
（６．８３％）であった。
【００６３】ポリマー Ｐ−８の合成 脱イオン水２６０ｇ、２０％Ｎ−メチル−Ｎ−オレオイ
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
３．７８ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、２−エトキ
シエチルアクリレート（０．０６モル）８．６５２ｇ、
およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノ
マー溶液を構成した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０
％）１．５１ｇ、過硫酸アンモニウム３．０２ｇおよび
脱イオン水２０ｇから、同時供給溶液を作成した。５％
過硫酸アンモニウム６．０４ｇを反応器に添加し３分間
撹拌した。このモノマー溶液および同時供給溶液を４時
間以上反応器に注入した。重合を８時間継続した。この
ラテックスを冷却し、漉過し、蒸留水で一晩中透析し
た。その後ラテックスを Amicon's Ultrafiltration un
itで４．５４％固形分に濃縮した。Malvern's Autosize
r IIC で測定したＺ−平均粒子サイズは７９．１ｎｍ
であった。元素分析の結果はＮ（６．２％）、Ｃ（６
１．９％）、およびＨ（７．０％）であった。
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
３．７８ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、２−エトキ
シエチルアクリレート（０．０６モル）８．６５２ｇ、
およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノ
マー溶液を構成した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０
％）１．５１ｇ、過硫酸アンモニウム３．０２ｇおよび
脱イオン水２０ｇから、同時供給溶液を作成した。５％
過硫酸アンモニウム６．０４ｇを反応器に添加し３分間
撹拌した。このモノマー溶液および同時供給溶液を４時
間以上反応器に注入した。重合を８時間継続した。この
ラテックスを冷却し、漉過し、蒸留水で一晩中透析し
た。その後ラテックスを Amicon's Ultrafiltration un
itで４．５４％固形分に濃縮した。Malvern's Autosize
r IIC で測定したＺ−平均粒子サイズは７９．１ｎｍ
であった。元素分析の結果はＮ（６．２％）、Ｃ（６
１．９％）、およびＨ（７．０％）であった。
【００６４】ポリマー Ｐ−９の合成 脱イオン水２６０ｇ、２０％Ｎ−メチル−Ｎ−オレオイ
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
４．３８ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、２−ヒドロ
キシエチルアクリレート（０．０８モル）９．２９ｇ、
およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノ
マー溶液を構成した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０
％）１．７５ｇ、過硫酸アンモニウム３．５ｇおよび脱
イオン水２０ｇから、同時供給溶液を作成した。５％過
硫酸アンモニウム７．０１ｇを反応器に添加し３分間撹
拌した。このモノマー溶液および同時供給溶液を４時間
以上反応器に注入した。重合を８時間継続した。このラ
テックスを冷却し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。
その後ラテックスを Amicon's Ultrafiltration unitで
６．２％固形分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC
で測定したＺ−平均粒子サイズは４８．６ｎｍであっ
た。元素分析の結果はＮ（５．３３％）、Ｃ（５７．９
３％）、およびＨ（６．２７％）であった。
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
４．３８ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、２−ヒドロ
キシエチルアクリレート（０．０８モル）９．２９ｇ、
およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノ
マー溶液を構成した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０
％）１．７５ｇ、過硫酸アンモニウム３．５ｇおよび脱
イオン水２０ｇから、同時供給溶液を作成した。５％過
硫酸アンモニウム７．０１ｇを反応器に添加し３分間撹
拌した。このモノマー溶液および同時供給溶液を４時間
以上反応器に注入した。重合を８時間継続した。このラ
テックスを冷却し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。
その後ラテックスを Amicon's Ultrafiltration unitで
６．２％固形分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC
で測定したＺ−平均粒子サイズは４８．６ｎｍであっ
た。元素分析の結果はＮ（５．３３％）、Ｃ（５７．９
３％）、およびＨ（６．２７％）であった。
【００６５】ポリマー Ｐ−１０の合成 脱イオン水２６０ｇ、２０％Ｎ−メチル−Ｎ−オレオイ
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
２．２５ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、ｔ−ブチル
アクリルアミド（０．０２モル）２．５４４ｇ、および
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶
液を構成した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）０．
９ｇ、過硫酸アンモニウム１．８ｇおよび脱イオン水２
０ｇから、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸アンモ
ニウム３．６ｇを反応器に添加し３分間撹拌した。この
モノマー溶液および同時供給溶液を４時間以上反応器に
注入した。重合を８時間継続した。このラテックスを冷
却し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その後ラテッ
クスを Amicon's Ultrafiltration unitで３．５５％固
形分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC で測定し
たＺ−平均粒子サイズは７９．１ｎｍであった。元素分
析の結果はＮ（１２．０８％）、Ｃ（６３．６％）、お
よびＨ（６．６％）であった。
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
２．２５ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、ｔ−ブチル
アクリルアミド（０．０２モル）２．５４４ｇ、および
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶
液を構成した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）０．
９ｇ、過硫酸アンモニウム１．８ｇおよび脱イオン水２
０ｇから、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸アンモ
ニウム３．６ｇを反応器に添加し３分間撹拌した。この
モノマー溶液および同時供給溶液を４時間以上反応器に
注入した。重合を８時間継続した。このラテックスを冷
却し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その後ラテッ
クスを Amicon's Ultrafiltration unitで３．５５％固
形分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC で測定し
たＺ−平均粒子サイズは７９．１ｎｍであった。元素分
析の結果はＮ（１２．０８％）、Ｃ（６３．６％）、お
よびＨ（６．６％）であった。
【００６６】ポリマー Ｐ−１１の合成 脱イオン水２６０ｇ、２０％Ｎ−メチル−Ｎ−オレオイ
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
２．８９ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、ｔ−ブチル
アクリルアミド（０．０４モル）５．０８８ｇ、および
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶
液を構成した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）１．
１５ｇ、過硫酸アンモニウム２．３１ｇおよび脱イオン
水２０ｇから、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸ア
ンモニウム４．６２ｇを反応器に添加し３分間撹拌し
た。このモノマー溶液および同時供給溶液を４時間以上
反応器に注入した。重合を８時間継続した。このラテッ
クスを冷却し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その
後ラテックスを Amicon's Ultrafiltration unitで５．
２２％固形分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC
で測定したＺ−平均粒子サイズは８１．７ｎｍであっ
た。元素分析の結果はＮ（１１．４３％）、Ｃ（６２．
１９％）、およびＨ（７．４３％）であった。
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
２．８９ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、ｔ−ブチル
アクリルアミド（０．０４モル）５．０８８ｇ、および
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶
液を構成した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）１．
１５ｇ、過硫酸アンモニウム２．３１ｇおよび脱イオン
水２０ｇから、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸ア
ンモニウム４．６２ｇを反応器に添加し３分間撹拌し
た。このモノマー溶液および同時供給溶液を４時間以上
反応器に注入した。重合を８時間継続した。このラテッ
クスを冷却し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その
後ラテックスを Amicon's Ultrafiltration unitで５．
２２％固形分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC
で測定したＺ−平均粒子サイズは８１．７ｎｍであっ
た。元素分析の結果はＮ（１１．４３％）、Ｃ（６２．
１９％）、およびＨ（７．４３％）であった。
【００６７】ポリマー Ｐ−１２の合成 脱イオン水２６０ｇ、２０％Ｎ−メチル−Ｎ−オレオイ
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
３．５２ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、ｔ−ブチル
アクリルアミド（０．０６モル）７．６３２ｇ、および
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶
液を構成した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）１．
４１ｇ、過硫酸アンモニウム２．８２ｇおよび脱イオン
水２０ｇから、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸ア
ンモニウム５．６４ｇを反応器に添加し３分間撹拌し
た。このモノマー溶液および同時供給溶液を４時間以上
反応器に注入した。重合を８時間継続した。このラテッ
クスを冷却し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その
後ラテックスを Amicon's Ultrafiltration unitで６．
１１％固形分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC
で測定したＺ−平均粒子サイズは１０６．５ｎｍであっ
た。元素分析の結果はＮ（１１．７２％）、Ｃ（６２．
１１％）、およびＨ（７．９１％）であった。
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
３．５２ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇ、ｔ−ブチル
アクリルアミド（０．０６モル）７．６３２ｇ、および
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶
液を構成した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）１．
４１ｇ、過硫酸アンモニウム２．８２ｇおよび脱イオン
水２０ｇから、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸ア
ンモニウム５．６４ｇを反応器に添加し３分間撹拌し
た。このモノマー溶液および同時供給溶液を４時間以上
反応器に注入した。重合を８時間継続した。このラテッ
クスを冷却し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その
後ラテックスを Amicon's Ultrafiltration unitで６．
１１％固形分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC
で測定したＺ−平均粒子サイズは１０６．５ｎｍであっ
た。元素分析の結果はＮ（１１．７２％）、Ｃ（６２．
１１％）、およびＨ（７．９１％）であった。
【００６８】ポリマー Ｐ−１３の合成 脱イオン水２６０ｇ、２０％Ｎ−メチル−Ｎ−オレオイ
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
２．１５ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇおよびＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶液を構
成した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）０．８ｇ、
５％過硫酸アンモニウム１．３ｇおよび脱イオン水２０
ｇから、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸アンモニ
ウム２．５９ｇを反応器に添加し３分間撹拌した。この
モノマー溶液および同時供給溶液を４時間以上反応器に
注入した。重合を８時間継続した。このラテックスを冷
却し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その後ラテッ
クスを Amicon's Ultrafiltration unitで６．０５％固
形分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC で測定し
たＺ−平均粒子サイズは４８．８ｎｍであった。元素分
析の結果はＮ（１３％）、Ｃ（６６．８％）、およびＨ
（５．８％）であった。
ルタウレートナトリウム（Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７）
２．１５ｇ、並びにアセトン２６ｇを、機械撹拌機、窒
素取入れ口、およびコンデンサーを備えた５００ｍｌの
４首丸底フラスコ装置で混合する。このフラスコを８０
℃の定温浴に浸漬し、窒素パージを通して３０分間加熱
した。Ｍ−１（０．０２モル）６．４６ｇおよびＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド１３０ｍｌのモノマー溶液を構
成した。Ｉｇｅｐｏｎ Ｔ−７７（２０％）０．８ｇ、
５％過硫酸アンモニウム１．３ｇおよび脱イオン水２０
ｇから、同時供給溶液を作成した。５％過硫酸アンモニ
ウム２．５９ｇを反応器に添加し３分間撹拌した。この
モノマー溶液および同時供給溶液を４時間以上反応器に
注入した。重合を８時間継続した。このラテックスを冷
却し、漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その後ラテッ
クスを Amicon's Ultrafiltration unitで６．０５％固
形分に濃縮した。Malvern's Autosizer IIC で測定し
たＺ−平均粒子サイズは４８．８ｎｍであった。元素分
析の結果はＮ（１３％）、Ｃ（６６．８％）、およびＨ
（５．８％）であった。
【００６９】ポリマー Ｐ−２７の合成 機械撹拌機、窒素取入れ口、およびコンデンサーを備え
た２５０ｍｌの４首丸底フラスコ装置を８０℃の定温浴
に浸漬する。Ｍ−１（０．０２モル）；６．４６ｇ、ｎ
−ブチルアクリレート；５．１２７ｇ、２−アクリルア
ミド−２−メチル−プロパンスルホン酸（ナトリウム
塩）；０．９２ｇ、２，２’−アゾビス（２−メチルプ
ロピオニトリル）；０．２５ｇ、およびＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド；５０ｍｌを含んで成るモノマー溶液
を、４時間以上反応器に添加した。ＤＭＦ２ｍｌ中の
２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）；
０．１２５ｇを追加して２時間より長く重合した。ポリ
マー溶液をメタノール５０ｍｌで希釈し、蒸留水の熱湯
２００ｍｌに分散した。得られたラテックスを冷却し、
漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その後ラテックスを
Amicon's Ultrafiltration unitで５．６％固形分に濃
縮した。Malvern's Autosizer IIC で測定したＺ−平
均粒子サイズは５５．０ｎｍであった。元素分析の結果
はＮ（７．１％）、Ｃ（６４．１％）、およびＨ（７．
０％）であった。
た２５０ｍｌの４首丸底フラスコ装置を８０℃の定温浴
に浸漬する。Ｍ−１（０．０２モル）；６．４６ｇ、ｎ
−ブチルアクリレート；５．１２７ｇ、２−アクリルア
ミド−２−メチル−プロパンスルホン酸（ナトリウム
塩）；０．９２ｇ、２，２’−アゾビス（２−メチルプ
ロピオニトリル）；０．２５ｇ、およびＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド；５０ｍｌを含んで成るモノマー溶液
を、４時間以上反応器に添加した。ＤＭＦ２ｍｌ中の
２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）；
０．１２５ｇを追加して２時間より長く重合した。ポリ
マー溶液をメタノール５０ｍｌで希釈し、蒸留水の熱湯
２００ｍｌに分散した。得られたラテックスを冷却し、
漉過し、蒸留水で一晩中透析した。その後ラテックスを
Amicon's Ultrafiltration unitで５．６％固形分に濃
縮した。Malvern's Autosizer IIC で測定したＺ−平
均粒子サイズは５５．０ｎｍであった。元素分析の結果
はＮ（７．１％）、Ｃ（６４．１％）、およびＨ（７．
０％）であった。
【００７０】比較例Ｃ−１ これは、Ｔｉｎｕｖｉｎ３２８（０．８５）、Ｔｉｎｕ
ｖｉｎ３２６（０．１５）（Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ由来
の）、１，４−シクロヘキシレンジメチレンビス（２−
エチルヘキサノエート）（０．３３）、２，５−ビス
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−１，４−ベ
ンゼンジオール（０．１１４）、１０％アルカノール
ＬＣ（０．５５５），およびＴＣＧ２ Ｇｅｌ（０．７
０８）から成る通常の分散体である。括弧内の数字は相
対重量比である。この分散体を当該技術分野で良く知ら
れているように、ゼラチンの存在下でコロイドミル方法
で調製した。平均粒子サイズは２７３ｎｍである。
ｖｉｎ３２６（０．１５）（Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ由来
の）、１，４−シクロヘキシレンジメチレンビス（２−
エチルヘキサノエート）（０．３３）、２，５−ビス
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−１，４−ベ
ンゼンジオール（０．１１４）、１０％アルカノール
ＬＣ（０．５５５），およびＴＣＧ２ Ｇｅｌ（０．７
０８）から成る通常の分散体である。括弧内の数字は相
対重量比である。この分散体を当該技術分野で良く知ら
れているように、ゼラチンの存在下でコロイドミル方法
で調製した。平均粒子サイズは２７３ｎｍである。
【００７１】比較例Ｃ−２ これは、Ｔｉｎｕｖｉｎ３２８（０．８５）、Ｔｉｎｕ
ｖｉｎ３２６（０．１５）（Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ由来
の）、２，５−ビス（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）−１，４−ベンゼンジオール（０．１１４）、１
０％アルカノール ＬＣ（０．５５５），およびＴＣＧ
２ Ｇｅｌ（０．７０８）から成る通常の分散体であ
る。括弧内の数字は相対重量比である。この分散体を当
該技術分野で良く知られているように、ゼラチンの存在
下でコロイドミル方法で調製した。平均粒子サイズは５
５０ｎｍである。Ｔｉｎｕｖｉｎ３２８およびＴｉｎｕ
ｖｉｎ３２６の構造を以下に示す。
ｖｉｎ３２６（０．１５）（Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ由来
の）、２，５−ビス（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）−１，４−ベンゼンジオール（０．１１４）、１
０％アルカノール ＬＣ（０．５５５），およびＴＣＧ
２ Ｇｅｌ（０．７０８）から成る通常の分散体であ
る。括弧内の数字は相対重量比である。この分散体を当
該技術分野で良く知られているように、ゼラチンの存在
下でコロイドミル方法で調製した。平均粒子サイズは５
５０ｎｍである。Ｔｉｎｕｖｉｎ３２８およびＴｉｎｕ
ｖｉｎ３２６の構造を以下に示す。
【００７２】
【化２１】
【００７３】比較例３〜１２ 比較例３〜１２は、以下に示すＵＶ吸収モノマーから合
成されるコポリマーである。このポリマーは、以下に挙
げられたＵＶ吸収モノマーおよびコモノマーを使用した
以外は、ポリマーＰ−１〜２７の合成に記載した方法と
同じ方法で合成した。ＵＶ吸収モノマー（以下にＵＶ３
〜ＵＶ１２として挙げる）の構造式を次に示す。
成されるコポリマーである。このポリマーは、以下に挙
げられたＵＶ吸収モノマーおよびコモノマーを使用した
以外は、ポリマーＰ−１〜２７の合成に記載した方法と
同じ方法で合成した。ＵＶ吸収モノマー（以下にＵＶ３
〜ＵＶ１２として挙げる）の構造式を次に示す。
【００７４】
【表１】
【００７５】
【化２２】
【００７６】
【化２３】
【００７７】
【化２４】
【００７８】写真用の例 例１ ＵＶ吸収剤それ自身の光安定性は、色素退色から写真要
素を保護するために非常に重要である。本発明の写真要
素に組み入れられた高分子ＵＶ吸収剤の光安定性を比較
例のＵＶ吸収組成物を使用した写真要素と比較して評価
する。比較組成物Ｃ−１およびＣ−２のための塗膜構成
は次の様であった。
素を保護するために非常に重要である。本発明の写真要
素に組み入れられた高分子ＵＶ吸収剤の光安定性を比較
例のＵＶ吸収組成物を使用した写真要素と比較して評価
する。比較組成物Ｃ−１およびＣ−２のための塗膜構成
は次の様であった。
【００７９】
【表２】
【００８０】高分子ＵＶ吸収剤はブルームしないので、
表面のオーバーコートを除くことができる。従って、本
発明および比較組成物の高分子ＵＶ吸収剤のための塗膜
構成は次の通りであった。
表面のオーバーコートを除くことができる。従って、本
発明および比較組成物の高分子ＵＶ吸収剤のための塗膜
構成は次の通りであった。
【００８１】
【表３】
【００８２】上記塗膜の光安定性を、温度２５℃で２週
間、光源にＸｅアークランプを装備した典型的なキセノ
ンフェードメータ暴露を使用して評価した。サンプル
を、このサンプル上の照射が５０Ｋｌｕｘになるような
距離で照射した。それぞれのサンプルのＵＶ吸収スペク
トルを照射の前後で取り、３６０ｎｍでの吸光度の低下
％を光安定性の指標として使用した。得られた結果を表
Ｉに表す。
間、光源にＸｅアークランプを装備した典型的なキセノ
ンフェードメータ暴露を使用して評価した。サンプル
を、このサンプル上の照射が５０Ｋｌｕｘになるような
距離で照射した。それぞれのサンプルのＵＶ吸収スペク
トルを照射の前後で取り、３６０ｎｍでの吸光度の低下
％を光安定性の指標として使用した。得られた結果を表
Ｉに表す。
【００８３】
【表４】
【００８４】表Ｉは、式Ｉの高分子ＵＶ吸収剤を組み込
んだ本発明の写真要素が、比較例に対してとても良好な
光安定性を有していることをはっきりと証明している。
んだ本発明の写真要素が、比較例に対してとても良好な
光安定性を有していることをはっきりと証明している。
【００８５】例２ カラー写真印画紙の形の写真要素を以下に示す層構成で
調製した。各試験を、保存安定性、吸収特性、並びに未
露光領域での（即ち、フレッシュ Ｄｍｉｎ）、カラー
生成色素の光誘発による変色および濃度について行っ
た。式Ｉの高分子ＵＶ吸収剤を組み込んだ本発明の写真
要素、並びに比較ＵＶ吸収剤組成物を組み込んだ写真要
素をテストした。フレッシュ Ｄｍｉｎが可能な限り低
くあるべきであることを注記する。次の層構成に示す保
護層を、ポリマーＵＶ吸収剤を使用した場合は除いた。
これは本発明のもう一つの大きな利点である。
調製した。各試験を、保存安定性、吸収特性、並びに未
露光領域での（即ち、フレッシュ Ｄｍｉｎ）、カラー
生成色素の光誘発による変色および濃度について行っ
た。式Ｉの高分子ＵＶ吸収剤を組み込んだ本発明の写真
要素、並びに比較ＵＶ吸収剤組成物を組み込んだ写真要
素をテストした。フレッシュ Ｄｍｉｎが可能な限り低
くあるべきであることを注記する。次の層構成に示す保
護層を、ポリマーＵＶ吸収剤を使用した場合は除いた。
これは本発明のもう一つの大きな利点である。
【００８６】
【表５】
【００８７】
【表６】
【００８８】全てのカプラー、スキャベンジャ、および
画像安定剤を通常のミル工程でジブチルフタレート（カ
プラー溶媒）に共分散した。それらの構造は次の通りで
ある。
画像安定剤を通常のミル工程でジブチルフタレート（カ
プラー溶媒）に共分散した。それらの構造は次の通りで
ある。
【００８９】
【化２５】
【００９０】
【化２６】
【００９１】
【化２７】
【００９２】上記構成を有する写真印画紙を良く知られ
ているＲＡ−４（ Research Disclosure I、９３３ペー
ジ参照）によって処理した。フレッシュ Ｄｍｉｎおよ
び画像色素安定性（これらは本発明の写真要素の２大利
点である）を、次に概説されるように評価した。（ａ）フレッシュ Ｄｍｉｎ フレッシュ Ｄｍｉｍは写真要素の未露光領域の青濃度
であって、写真印画紙のたいへん重要な特性である。フ
レッシュ Ｄｍｉｍ値はできるだけ低くあるべきであ
る。本発明の写真要素に使用する高分子ＵＶ吸収剤のス
ペクトル吸収特性が良好なので、本発明の写真要素のフ
レッシュ Ｄｍｉｍ値は、表ＩＩに示される様に、比較
のＵＶ吸収剤組成物を使用した値より優れている。
ているＲＡ−４（ Research Disclosure I、９３３ペー
ジ参照）によって処理した。フレッシュ Ｄｍｉｎおよ
び画像色素安定性（これらは本発明の写真要素の２大利
点である）を、次に概説されるように評価した。（ａ）フレッシュ Ｄｍｉｎ フレッシュ Ｄｍｉｍは写真要素の未露光領域の青濃度
であって、写真印画紙のたいへん重要な特性である。フ
レッシュ Ｄｍｉｍ値はできるだけ低くあるべきであ
る。本発明の写真要素に使用する高分子ＵＶ吸収剤のス
ペクトル吸収特性が良好なので、本発明の写真要素のフ
レッシュ Ｄｍｉｍ値は、表ＩＩに示される様に、比較
のＵＶ吸収剤組成物を使用した値より優れている。
【００９３】
【表７】
【００９４】表ＩＩは、式Ｉの反復単位を伴う高分子Ｕ
Ｖ吸収剤を組み込んだ本発明の写真要素が、比較のＵＶ
吸収剤組成物を組み込んだ写真要素に対してとても良い
フレッシュ Ｄｍｉｍ値を有していることをはっきりと
証明している。（ｂ）画像色素安定性 上記層構造を備えた写真要素をセンシトメータの３色
（赤、緑、青）に対して階段光学くさびで露光し、続い
てＲＡ−４処理で処理し、シアン、マゼンタ、およびイ
エロー色を生成した。当該サンプルを例１に記載したよ
うに、フィルタガラスを備えたキセノンランプ（５０Ｋ
ｌｕｘ）で退色試験を行った。１．０初期濃度からの色
素濃度低下を測定し、そのデータを画像色素安定性の指
標に使用した。人間の眼がマゼンタカラーに対して感度
が高いので、３色素の中でマゼンタ色素安定性が最も重
要である。得られた結果を表ＩＩＩに表す。
Ｖ吸収剤を組み込んだ本発明の写真要素が、比較のＵＶ
吸収剤組成物を組み込んだ写真要素に対してとても良い
フレッシュ Ｄｍｉｍ値を有していることをはっきりと
証明している。（ｂ）画像色素安定性 上記層構造を備えた写真要素をセンシトメータの３色
（赤、緑、青）に対して階段光学くさびで露光し、続い
てＲＡ−４処理で処理し、シアン、マゼンタ、およびイ
エロー色を生成した。当該サンプルを例１に記載したよ
うに、フィルタガラスを備えたキセノンランプ（５０Ｋ
ｌｕｘ）で退色試験を行った。１．０初期濃度からの色
素濃度低下を測定し、そのデータを画像色素安定性の指
標に使用した。人間の眼がマゼンタカラーに対して感度
が高いので、３色素の中でマゼンタ色素安定性が最も重
要である。得られた結果を表ＩＩＩに表す。
【００９５】
【表８】
【００９６】表ＩＩＩは、式Ｉの反復単位を伴う高分子
ＵＶ吸収剤を含んで成る本発明の写真要素が、比較例対
してとても良い画像色素安定性を有していることをはっ
きりと証明している。他のモノマーのおよび高分子ＵＶ
吸収剤に比較して、式Ｉのタイプの反復単位を伴う高分
子ＵＶ吸収剤を使用する本発明の写真要素の利点は、光
安定性およびフレッシュ Ｄｍｉｍが良好であり、画像
色素安定性が良好である。モノマーのＵＶ吸収剤を使用
する写真要素に比較して本発明の写真要素は、モノマー
のＵＶ吸収剤と共に使用する上塗り層が必要でなく、か
つ全体がより薄いＵＶフィルター層の塗膜が使用可能で
あり、高分子ＵＶ吸収剤がブルームしないかもしくは結
晶化しない、および低毒性である、ポリマーラテックス
がより小さい粒子サイズを有し従って光散乱が高Ｄｍａ
ｘに対して少ない方向にはたらき、光沢およびウェット
ヘイズ（ｗｅｔ−ｈａｚｅ）が良好であるという利点は
を有する。具体的に好ましい態様を引用して詳細に本発
明を記載したが、しかし、本発明のその精神および範囲
内で、種々の変型および改良型が有効であるということ
が理解されるであろう。
ＵＶ吸収剤を含んで成る本発明の写真要素が、比較例対
してとても良い画像色素安定性を有していることをはっ
きりと証明している。他のモノマーのおよび高分子ＵＶ
吸収剤に比較して、式Ｉのタイプの反復単位を伴う高分
子ＵＶ吸収剤を使用する本発明の写真要素の利点は、光
安定性およびフレッシュ Ｄｍｉｍが良好であり、画像
色素安定性が良好である。モノマーのＵＶ吸収剤を使用
する写真要素に比較して本発明の写真要素は、モノマー
のＵＶ吸収剤と共に使用する上塗り層が必要でなく、か
つ全体がより薄いＵＶフィルター層の塗膜が使用可能で
あり、高分子ＵＶ吸収剤がブルームしないかもしくは結
晶化しない、および低毒性である、ポリマーラテックス
がより小さい粒子サイズを有し従って光散乱が高Ｄｍａ
ｘに対して少ない方向にはたらき、光沢およびウェット
ヘイズ（ｗｅｔ−ｈａｚｅ）が良好であるという利点は
を有する。具体的に好ましい態様を引用して詳細に本発
明を記載したが、しかし、本発明のその精神および範囲
内で、種々の変型および改良型が有効であるということ
が理解されるであろう。
【００９７】
【発明の効果】その吸収剤自身が典型的な写真要素環境
で相対的に安定であり、かつＵＶの露光から画像色素を
良好に保護する、高分子ＵＶ吸収剤含む写真要素を得る
ことができる。
で相対的に安定であり、かつＵＶの露光から画像色素を
良好に保護する、高分子ＵＶ吸収剤含む写真要素を得る
ことができる。
【図１】本発明の写真要素に使用するために適切なポリ
マーＰ−２の吸収スペクトルである。
マーＰ−２の吸収スペクトルである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウェイ リン ヨー アメリカ合衆国，ニューヨーク 14625, ロチェスター，ウエストフィールド コモ ンズ 45 (72)発明者 ラル チャンド ビシュワカーマ アメリカ合衆国，ニューヨーク 14626, ロチェスター，ローラ ドライブ 232
Claims (1)
- 【請求項１】 式Ｉ： 【化１】 式中、 ＸはＯもしくはＮＨであり、 ＹはＨもしくはハロゲンであり、 Ｒ1 はＨ、ハロゲン、アルコキシ、炭素数１〜８の直鎖
もしくは分枝を有するアルキル基であり、 Ｒ2 は直鎖もしくは分枝を有することができるＣ2 〜Ｃ
10アルキレンであり、そしてＲ3 はＨもしくはＣＨ3 で
ある、の反復単位を有するホモポリマーもしくはコポリ
マーの形の紫外線吸収剤を含む層を含んで成る写真要
素。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/907,008 US5384235A (en) | 1992-07-01 | 1992-07-01 | Photographic elements incorporating polymeric ultraviolet absorbers |
| US907008 | 1992-07-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0682962A true JPH0682962A (ja) | 1994-03-25 |
| JP3193528B2 JP3193528B2 (ja) | 2001-07-30 |
Family
ID=25423393
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16225493A Expired - Fee Related JP3193528B2 (ja) | 1992-07-01 | 1993-06-30 | 高分子紫外線吸収剤を組み込んだ写真要素 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5384235A (ja) |
| EP (1) | EP0577122B1 (ja) |
| JP (1) | JP3193528B2 (ja) |
| DE (1) | DE69301779T2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002514662A (ja) * | 1998-05-11 | 2002-05-21 | ファーマシア アンド ウプヨーン グロニンゲン ベスローテン フェンノートシャップ | 重合可能な親水性紫外線吸収モノマー |
| WO2012015076A1 (en) | 2010-07-29 | 2012-02-02 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition |
| US8709192B2 (en) | 2005-04-15 | 2014-04-29 | Nitto Denko Corporation | Protective cover sheet comprising a UV-absorbing layer for a polarizer plate and method of making the same |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5455152A (en) * | 1994-09-27 | 1995-10-03 | Eastman Kodak Company | Benzotriazole based UV absorbing monomers and photographic elements containing polymers formed from them |
| EP0706083A1 (de) * | 1994-10-04 | 1996-04-10 | Ciba-Geigy Ag | Fotografisches Aufzeichnungsmaterial enthaltend einen UV-Absorber |
| US5858633A (en) * | 1994-12-21 | 1999-01-12 | Eastman Kodak Company | Photographic elements containing 3-alkyl group substituted 2-hydroxyphenylbenzotriazole UV absorbing polymers |
| US5620838A (en) * | 1994-12-21 | 1997-04-15 | Eastman Kodak Company | Photographic elements containing directly dispersible UV absorbing polymers and method of making such elements and polymers |
| US5610000A (en) * | 1995-05-31 | 1997-03-11 | Eastman Kodak Company | 2'-hydroxyphenyl benzotriazole based UV absorbing polymers and photographic elements containing them |
| US5674670A (en) * | 1996-03-18 | 1997-10-07 | Eastman Kodak Company | 2-hydroxyphenyl benzotriazole based UV absorbing polymers with particular substituents and photographic elements containing them |
| EP0773473A1 (en) * | 1995-08-31 | 1997-05-14 | Eastman Kodak Company | Photographic element containing ultraviolet absorbing polymer |
| US5766834A (en) * | 1996-05-17 | 1998-06-16 | Eastman Kodak Company | Photographic element containing ultraviolet absorbing polymer |
| WO1998057902A1 (en) * | 1997-06-18 | 1998-12-23 | Dsm N.V. | Radiation-curable optical fiber coatings having reduced yellowing and fast cure speed |
| JP4352524B2 (ja) * | 1999-09-17 | 2009-10-28 | 住友化学株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
| US6280916B1 (en) | 1999-12-27 | 2001-08-28 | Eastman Kodak Company | Silver halide reflection support print media |
| US6312880B1 (en) | 1999-12-27 | 2001-11-06 | Eastman Kodak Company | Color photographic silver halide print media |
| US6268116B1 (en) | 1999-12-27 | 2001-07-31 | Eastman Kodak Company | Scavenger free photographic silver halide print media |
| US6699538B2 (en) | 2001-10-31 | 2004-03-02 | Eastman Kodak Company | Ink jet recording element |
| US6578960B1 (en) | 2001-10-31 | 2003-06-17 | Eastman Kodak Company | Ink jet printing method |
| EP1308310A3 (en) | 2001-10-31 | 2005-08-17 | Eastman Kodak Company | Ink jet recording element and printing method |
| US6629759B2 (en) | 2001-10-31 | 2003-10-07 | Eastman Kodak Company | Ink jet printing method |
| US6645581B2 (en) | 2001-10-31 | 2003-11-11 | Eastman Kodak Company | Ink jet recording element |
| PT1581272E (pt) * | 2003-01-09 | 2006-08-31 | Alcon Inc | Absorventes de uv com dupla funcao como materiais para lentes oftalmicas |
| JP2006264312A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-10-05 | Nippon Shokubai Co Ltd | 高耐光性記録材料用紫外線吸収性ポリマー |
| DE102007046745A1 (de) | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Dystar Textilfarben Gmbh & Co. Deutschland Kg | Dispersionsfarbstoff und/oder UV-Absorber enthaltende Präparationen |
| US20130202970A1 (en) * | 2010-10-26 | 2013-08-08 | Lubrizol Advanced Materials, Inc. | Salt Modified Inherently Electrostatic Dissipative Polymers |
Family Cites Families (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3072585A (en) * | 1960-01-13 | 1963-01-08 | American Cyanamid Co | Vinylbenzyloxy phenylbenzotriazoles |
| US3278448A (en) * | 1960-05-17 | 1966-10-11 | Bayer Ag | Ultra-violet protective light filter |
| DE1146752B (de) * | 1960-11-16 | 1963-04-04 | Agfa Ag | Lichtschutzschicht bzw. Lichtschutzlack fuer farbenphotographische Bilder |
| BE623419A (ja) * | 1961-10-10 | |||
| GB1121034A (en) * | 1965-09-13 | 1968-07-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | Colour photographic light-sensitive elements containing an ultraviolet absorber |
| BE757036A (fr) * | 1969-10-07 | 1971-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Materiels photosensibles de photographie en couleurs ayant une meilleure solidite a la lumiere |
| DE1965042A1 (de) * | 1969-12-27 | 1971-07-15 | Konishiroku Photo Ind | Lichtempfindliches,farbfotographisches Aufzeichnungsmaterial |
| GB1346764A (en) * | 1970-06-09 | 1974-02-13 | Agfa Gevaert | Ultraviolet absorbing filter layers |
| GB1335668A (en) * | 1970-06-09 | 1973-10-31 | Agfa Gevaert | Ultraviolet-absorbing filter layers |
| US3813255A (en) * | 1970-06-09 | 1974-05-28 | Agfa Gevaert Nv | Ultraviolet-absorbing polymers compositions and filter |
| JPS5536984B1 (ja) * | 1970-10-13 | 1980-09-25 | ||
| DE2056177A1 (de) * | 1970-11-14 | 1972-05-25 | Agfa Gevaert AG, 5090 Leverkusen | Photographische Schichten mit einem Gehalt an ultraviolettes Licht absorbie renden Verbindungen |
| US4045229A (en) * | 1974-09-17 | 1977-08-30 | Eastman Kodak Company | Novel UV absorbing compounds and photographic elements containing UV absorbing compounds |
| CA1079432A (en) * | 1974-09-17 | 1980-06-10 | Tsang J. Chen | Uniform, efficient distribution of hydrophobic materials through hydrophilic colloid layers, and products useful therefor |
| IT1206995B (it) * | 1979-10-12 | 1989-05-17 | Minnesota Mining & Mfg | Assorbenti ultravioletti polimerici materiale fotografico che li contiene e metodo per introdurli in detto materiale fotografico |
| DE3064831D1 (en) * | 1979-10-15 | 1983-10-20 | Agfa Gevaert Nv | Copolymer latex and photographic silver halide materials containing such latex |
| US4853471A (en) * | 1981-01-23 | 1989-08-01 | Ciba-Geigy Corporation | 2-(2-Hydroxyphenyl)-benztriazoles, their use as UV-absorbers and their preparation |
| EP0057160B1 (de) * | 1981-01-23 | 1985-06-19 | Ciba-Geigy Ag | 2-(2-Hydroxyphenyl)-benztriazole, ihre Verwendung als UV-Absorber und ihre Herstellung |
| JPS58181041A (ja) * | 1982-04-16 | 1983-10-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| DE3217020A1 (de) * | 1982-05-06 | 1983-11-10 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Photographisches aufzeichnungsmaterial |
| JPS5923344A (ja) * | 1982-07-30 | 1984-02-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS59129850A (ja) * | 1983-01-17 | 1984-07-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
| JPS59215378A (ja) * | 1983-05-21 | 1984-12-05 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 乳化分散物 |
| US4611061A (en) * | 1984-03-26 | 1986-09-09 | Iolab Corporation | 2'-hydroxy-5'-(hydroxyalkyl)phenyl-2H-benzotriazoles |
| NZ208751A (en) * | 1983-07-11 | 1987-04-30 | Iolab Corp | 2-hydroxy-5-acrylyloxyalkylphenyl-2h-benzotriazole derivatives and polymers and copolymers thereof and use as uv absorbing additives in polymer compositions |
| US4528311A (en) * | 1983-07-11 | 1985-07-09 | Iolab Corporation | Ultraviolet absorbing polymers comprising 2-hydroxy-5-acrylyloxyphenyl-2H-benzotriazoles |
| EP0133164B1 (de) * | 1983-07-26 | 1988-12-14 | Ciba-Geigy Ag | Copolymerisierbare Verbindungen |
| JPS60250344A (ja) * | 1984-05-26 | 1985-12-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラ−写真感光材料 |
| JPS6142652A (ja) * | 1984-08-07 | 1986-03-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| DE3501722A1 (de) * | 1985-01-19 | 1986-07-24 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Lichtempfindliches, stabilisiertes fotografisches aufzeichnungsmaterial |
| GB8501563D0 (en) * | 1985-01-22 | 1985-02-20 | Kodak Ltd | Uv-absorbing polymers |
| US4865957A (en) * | 1985-10-17 | 1989-09-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Color photographic light-sensitive material comprising a combination of cyan couplers and UV absorbers |
| US4752298A (en) * | 1985-11-25 | 1988-06-21 | Ciba-Geigy Corporation | Storage-stable formulations of water-insoluble or sparingly water-soluble dyes with electrolyte-sensitive thickeners: polyacrylic acid |
| US4716234A (en) * | 1986-12-01 | 1987-12-29 | Iolab Corporation | Ultraviolet absorbing polymers comprising 2-(2'-hydroxy-5'-acryloyloxyalkoxyphenyl)-2H-benzotriazole |
-
1992
- 1992-07-01 US US07/907,008 patent/US5384235A/en not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-06-30 JP JP16225493A patent/JP3193528B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-07-01 EP EP93110509A patent/EP0577122B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-07-01 DE DE69301779T patent/DE69301779T2/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002514662A (ja) * | 1998-05-11 | 2002-05-21 | ファーマシア アンド ウプヨーン グロニンゲン ベスローテン フェンノートシャップ | 重合可能な親水性紫外線吸収モノマー |
| US8709192B2 (en) | 2005-04-15 | 2014-04-29 | Nitto Denko Corporation | Protective cover sheet comprising a UV-absorbing layer for a polarizer plate and method of making the same |
| WO2012015076A1 (en) | 2010-07-29 | 2012-02-02 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition |
Also Published As
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| EP0577122B1 (en) | 1996-03-13 |
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