JPH0682770A - 液晶表示素子 - Google Patents
液晶表示素子Info
- Publication number
- JPH0682770A JPH0682770A JP23852292A JP23852292A JPH0682770A JP H0682770 A JPH0682770 A JP H0682770A JP 23852292 A JP23852292 A JP 23852292A JP 23852292 A JP23852292 A JP 23852292A JP H0682770 A JPH0682770 A JP H0682770A
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- JP
- Japan
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- transparent
- crystal display
- film
- electrode film
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 パネルギャップが均一で、表示画像の品位を
向上せしめる液晶表示素子およびその透明基板の製法を
提供する。 【構成】 ガラス基板１の一主面上に電極膜の所望パタ
ーンで凹部２を形成し、該凹部内のみにＩＴＯ膜４を形
成して透明電極膜とし、透明基板を形成する。前記透明
電極膜が別々に形成された透明基板を２枚一定間隙で配
置し、その間隙に液晶材料を充填することにより、液晶
層の厚さが透明電極膜のある部分もない部分もほぼ均一
な液晶表示素子が構成される。
向上せしめる液晶表示素子およびその透明基板の製法を
提供する。 【構成】 ガラス基板１の一主面上に電極膜の所望パタ
ーンで凹部２を形成し、該凹部内のみにＩＴＯ膜４を形
成して透明電極膜とし、透明基板を形成する。前記透明
電極膜が別々に形成された透明基板を２枚一定間隙で配
置し、その間隙に液晶材料を充填することにより、液晶
層の厚さが透明電極膜のある部分もない部分もほぼ均一
な液晶表示素子が構成される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示素子に関する。
さらに詳しくは、液晶材料を挟持する２枚の透明基板の
間隙を一定にして、液晶表示パネルの全面にわたって均
一な色あいの表示画像をうることのできる液晶表示素子
およびその透明基板の製法に関する。
さらに詳しくは、液晶材料を挟持する２枚の透明基板の
間隙を一定にして、液晶表示パネルの全面にわたって均
一な色あいの表示画像をうることのできる液晶表示素子
およびその透明基板の製法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶表示素子におけるガラス基板
など透明基板（以下、ガラス基板という）の主面上に電
極用の透明電導膜を形成する際、その平坦な面にＩＴＯ
膜や酸化インジウム膜などを真空蒸着、高周波スパッタ
リング、プラズマＣＶＤなどの方法により被着させ、そ
ののちホトエッチングなどにより電極パターンを形成し
て透明電極膜としている。したがって、図４に示すごと
く、ガラス基板51の主面52上には凸状の透明電極膜53が
形成されている。なお、54は配向膜である。そして、ガ
ラス基板51同士のあいだには液晶材料55が封入されてい
る。
など透明基板（以下、ガラス基板という）の主面上に電
極用の透明電導膜を形成する際、その平坦な面にＩＴＯ
膜や酸化インジウム膜などを真空蒸着、高周波スパッタ
リング、プラズマＣＶＤなどの方法により被着させ、そ
ののちホトエッチングなどにより電極パターンを形成し
て透明電極膜としている。したがって、図４に示すごと
く、ガラス基板51の主面52上には凸状の透明電極膜53が
形成されている。なお、54は配向膜である。そして、ガ
ラス基板51同士のあいだには液晶材料55が封入されてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】かかる従来の液晶表示
素子では、通常ＩＴＯ膜は素子のファイン化（小型化）
に伴ないその幅が狭くなり、その電気抵抗を低くするた
め、どうしてもその厚さが0.04〜0.1 μｍ程度と厚くな
る。しかも、上下両基板共にＩＴＯ膜を形成する結果、
非表示部におけるパネルギャップ（ガラス基板間の液晶
が封入されるスペースの間隔をいう）ｄ0 と表示部にお
けるパネルギャップｄ1 とのあいだに約0.2 μｍ位の差
が生じる。言いかえれば、液晶表示素子におけるパネル
ギャップが不均一になる。ガラス基板の間隔は通常５〜
10μｍであり、しかもその精度は±0.05〜0.1 μｍ程度
を要求されており、このギャップの差は大きい。その結
果、表示部と非表示部とのあいだで色あいが変化し、表
示画質の低下を招いている。とくに大型表示パネルのば
あい、ＩＴＯ膜の抵抗値をさらに下げる目的からその膜
厚を厚くしているので、前記問題が一層顕著となる。
素子では、通常ＩＴＯ膜は素子のファイン化（小型化）
に伴ないその幅が狭くなり、その電気抵抗を低くするた
め、どうしてもその厚さが0.04〜0.1 μｍ程度と厚くな
る。しかも、上下両基板共にＩＴＯ膜を形成する結果、
非表示部におけるパネルギャップ（ガラス基板間の液晶
が封入されるスペースの間隔をいう）ｄ0 と表示部にお
けるパネルギャップｄ1 とのあいだに約0.2 μｍ位の差
が生じる。言いかえれば、液晶表示素子におけるパネル
ギャップが不均一になる。ガラス基板の間隔は通常５〜
10μｍであり、しかもその精度は±0.05〜0.1 μｍ程度
を要求されており、このギャップの差は大きい。その結
果、表示部と非表示部とのあいだで色あいが変化し、表
示画質の低下を招いている。とくに大型表示パネルのば
あい、ＩＴＯ膜の抵抗値をさらに下げる目的からその膜
厚を厚くしているので、前記問題が一層顕著となる。
【０００４】本発明はかかる問題を解消するためになさ
れたものであり、パネルギャップが均一で、表示画像の
品位を向上せしめる液晶表示素子およびその透明基板の
製法を提供することを目的とする。
れたものであり、パネルギャップが均一で、表示画像の
品位を向上せしめる液晶表示素子およびその透明基板の
製法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示素子
は、透明電極膜がそれぞれ形成された２枚の透明基板
と、該２枚の透明基板がシール剤を介して一定間隙で保
持され、かつ、該間隙に充填された液晶材料と、前記２
枚の透明基板の外側にそれぞれ配された偏光板とを有す
る液晶表示素子であって、前記透明電極膜が前記透明基
板に形成された凹部内に設けられてなることを特徴とす
る。
は、透明電極膜がそれぞれ形成された２枚の透明基板
と、該２枚の透明基板がシール剤を介して一定間隙で保
持され、かつ、該間隙に充填された液晶材料と、前記２
枚の透明基板の外側にそれぞれ配された偏光板とを有す
る液晶表示素子であって、前記透明電極膜が前記透明基
板に形成された凹部内に設けられてなることを特徴とす
る。
【０００６】また前記液晶表示素子用透明基板の製法
は、(a) 液晶表示素子用透明基板の一主面上に電極膜の
所望のパターンで凹部を形成し、(b) 該透明基板の凹部
が形成された主面上に透明導電膜を形成し、(c) 前記透
明基板の平坦面上に形成された前記透明導電膜を除去
し、前記凹部内にのみ前記透明導電膜を残して透明電極
膜とすることを特徴とするものである。
は、(a) 液晶表示素子用透明基板の一主面上に電極膜の
所望のパターンで凹部を形成し、(b) 該透明基板の凹部
が形成された主面上に透明導電膜を形成し、(c) 前記透
明基板の平坦面上に形成された前記透明導電膜を除去
し、前記凹部内にのみ前記透明導電膜を残して透明電極
膜とすることを特徴とするものである。
【０００７】
【作用】本発明の液晶表示素子によれば、透明基板の主
面上にＩＴＯ膜が突設されるのではなく、あらかじめ所
望のパターンに刻設された凹部にＩＴＯ膜が埋設された
状態となるため、主面上に盛り上がることがなく主面を
平担にすることができる。したがって上下２枚の透明基
板の間隔（ギャップ）が均一となり、点灯部とのあいだ
で色あいが均一となる。
面上にＩＴＯ膜が突設されるのではなく、あらかじめ所
望のパターンに刻設された凹部にＩＴＯ膜が埋設された
状態となるため、主面上に盛り上がることがなく主面を
平担にすることができる。したがって上下２枚の透明基
板の間隔（ギャップ）が均一となり、点灯部とのあいだ
で色あいが均一となる。
【０００８】
【実施例】つぎに添付図面を参照しながら本発明の透明
基板の製法を説明する。
基板の製法を説明する。
【０００９】図１は本発明のガラス基板の製法の一実施
例を示す工程図、図２は図１の製法により作製されたガ
ラス基板の一例を示す断面図および平面図、図３は図１
の製法における一部工程の他の実施例を示す工程図、図
４は図２のガラス基板を用いてなる液晶表示パネルの一
例を示す組立前断面図である。
例を示す工程図、図２は図１の製法により作製されたガ
ラス基板の一例を示す断面図および平面図、図３は図１
の製法における一部工程の他の実施例を示す工程図、図
４は図２のガラス基板を用いてなる液晶表示パネルの一
例を示す組立前断面図である。
【００１０】まず、図１の(a) に示すごとく、ガラス基
板１の一主面に形成された電極膜のパターンで、電極膜
の厚さに相当する深さの凹部２を形成する。凹部２の形
成法としてはレジスト膜または金属マスクなどによるマ
スキングを施したうえでサンドブラストするか、また
は、フッ酸エッチングなどの化学的エッチングなどが採
用される。
板１の一主面に形成された電極膜のパターンで、電極膜
の厚さに相当する深さの凹部２を形成する。凹部２の形
成法としてはレジスト膜または金属マスクなどによるマ
スキングを施したうえでサンドブラストするか、また
は、フッ酸エッチングなどの化学的エッチングなどが採
用される。
【００１１】つぎに図１(b) に示すごとくガラス基板１
からのアルカリ成分などの溶出防止のために、その主面
全面（凹部２を含む）にＳｉＯ2 膜（以下、アンダーコ
ートという）３をＣＶＤ法やスパッタリング、ディッピ
ングなどの物理化学的方法によって均一に形成する。な
お、このアンダーコート３はＳｉＯ2 に限定されること
はなく、たとえばＴｉＯ2 などの光を透過する絶縁物で
あればよい。また、透明基板として無アルカリガラスや
プラスチックなどを使用すれば、Ｎａ+ などの浸み出し
はなく、アンダーコートは不要である。
からのアルカリ成分などの溶出防止のために、その主面
全面（凹部２を含む）にＳｉＯ2 膜（以下、アンダーコ
ートという）３をＣＶＤ法やスパッタリング、ディッピ
ングなどの物理化学的方法によって均一に形成する。な
お、このアンダーコート３はＳｉＯ2 に限定されること
はなく、たとえばＴｉＯ2 などの光を透過する絶縁物で
あればよい。また、透明基板として無アルカリガラスや
プラスチックなどを使用すれば、Ｎａ+ などの浸み出し
はなく、アンダーコートは不要である。
【００１２】ついで図１(c) で示すように、ガラス基板
１の主面全面にＩＴＯ膜４を形成する。ＩＴＯ膜４の形
成は、Ｉｎ−Ｓｎ合金を用いて反応性蒸着、反応性スパ
ッタリングもしくは反応性イオンプレーティングなどに
よって行なうか、またはＩｎ2 Ｏ3 に少量のＳｎＯ2 を
添加して、真空蒸着、高周波スパッタリングもしくはプ
ラズマＣＶＤなどによって行う。
１の主面全面にＩＴＯ膜４を形成する。ＩＴＯ膜４の形
成は、Ｉｎ−Ｓｎ合金を用いて反応性蒸着、反応性スパ
ッタリングもしくは反応性イオンプレーティングなどに
よって行なうか、またはＩｎ2 Ｏ3 に少量のＳｎＯ2 を
添加して、真空蒸着、高周波スパッタリングもしくはプ
ラズマＣＶＤなどによって行う。
【００１３】つぎに図１(d) に示すごとく、フォトエッ
チング法によってＩＴＯ膜４を、前記凹部２内の部分の
み残留させるように、かつ前記アンダーコート３の上面
が露出するように除去する。
チング法によってＩＴＯ膜４を、前記凹部２内の部分の
み残留させるように、かつ前記アンダーコート３の上面
が露出するように除去する。
【００１４】以上のプロセスによって、図２の(b) に示
すごとく、所望パターンのＩＴＯ膜４が凹部内に形成さ
れ、そのＡ−Ａ線断面を示す図２の(a) のごとく、ＩＴ
Ｏ膜４の表面とガラス基板１の表面とがほぼ平坦な主面
に形成される。
すごとく、所望パターンのＩＴＯ膜４が凹部内に形成さ
れ、そのＡ−Ａ線断面を示す図２の(a) のごとく、ＩＴ
Ｏ膜４の表面とガラス基板１の表面とがほぼ平坦な主面
に形成される。
【００１５】なお、前記図１(c) におけるＩＴＯ膜４の
形成方法に代えて、図３(a) に示すごとく、ガラス基板
１の主面上に所定パターン状に（前記凹部２の部位を除
いて）レジスト膜４ａを形成し、しかるのち、全面にＩ
ＴＯ膜４を形成する。ついで、前記図１(d) におけるＩ
ＴＯ膜４の除去方法に代えて、図３(b) に示すごとく、
前記レジスト膜４ａを腐食除去することにより凹部２以
外のＩＴＯ膜４を剥ぎ取るリフトオフ法を用いてもよ
い。
形成方法に代えて、図３(a) に示すごとく、ガラス基板
１の主面上に所定パターン状に（前記凹部２の部位を除
いて）レジスト膜４ａを形成し、しかるのち、全面にＩ
ＴＯ膜４を形成する。ついで、前記図１(d) におけるＩ
ＴＯ膜４の除去方法に代えて、図３(b) に示すごとく、
前記レジスト膜４ａを腐食除去することにより凹部２以
外のＩＴＯ膜４を剥ぎ取るリフトオフ法を用いてもよ
い。
【００１６】かかるガラス基板１を用いて液晶表示素子
を作製した例を図４にその要部の断面説明図として示
す。図４において１はガラス基板で、前述の方法により
アンダーコート３を介して凹部にＩＴＯ膜４が設けられ
ており、ＩＴＯ膜４側にさらに配向膜５が設けられ、反
対側には偏光板６が設けられている。この上下別々の透
明電極膜が形成された２枚のガラス基板が、配向膜５側
が対向し、一定間隙を有するように周囲でシール剤によ
り接着され（図示していない）、その間隙に液晶材料７
が充填される。
を作製した例を図４にその要部の断面説明図として示
す。図４において１はガラス基板で、前述の方法により
アンダーコート３を介して凹部にＩＴＯ膜４が設けられ
ており、ＩＴＯ膜４側にさらに配向膜５が設けられ、反
対側には偏光板６が設けられている。この上下別々の透
明電極膜が形成された２枚のガラス基板が、配向膜５側
が対向し、一定間隙を有するように周囲でシール剤によ
り接着され（図示していない）、その間隙に液晶材料７
が充填される。
【００１７】液晶表示素子を形成するには、この構成の
他に、裏面側にバックライトが配置され、さらに各透明
電極膜に駆動信号を供給するため、各透明電極膜の端子
に接続された駆動回路基板やまた必要に応じて表示パネ
ル前面に反射防止板が配設されたりするが、これらは従
来の液晶表示素子と同様に構成されるものである。
他に、裏面側にバックライトが配置され、さらに各透明
電極膜に駆動信号を供給するため、各透明電極膜の端子
に接続された駆動回路基板やまた必要に応じて表示パネ
ル前面に反射防止板が配設されたりするが、これらは従
来の液晶表示素子と同様に構成されるものである。
【００１８】本実施例による液晶表示素子は透明電極膜
がガラス基板に形成された凹部内に形成されているた
め、非表示部における両ガラス基板１のギャップｄ0 お
よび表示部における両ガラス基板１のギャップｄ1 は同
一になる。すなわち、キャップがパネル全面にわたって
均一なものとなる。したがって、表示部と非表示部との
あいだで色合いの変化がなく、パネル全面にわたって均
一となるため画質がきわめて高い液晶表示パネルを形成
することができる。
がガラス基板に形成された凹部内に形成されているた
め、非表示部における両ガラス基板１のギャップｄ0 お
よび表示部における両ガラス基板１のギャップｄ1 は同
一になる。すなわち、キャップがパネル全面にわたって
均一なものとなる。したがって、表示部と非表示部との
あいだで色合いの変化がなく、パネル全面にわたって均
一となるため画質がきわめて高い液晶表示パネルを形成
することができる。
【００１９】
【発明の効果】本発明の液晶表示素子によれば、液晶表
示パネル全面にわたって色あいにむらのない均一で高品
位な表示画像がえられる。その結果、疲労感がなく、快
適な表示画像を楽しむことができる。
示パネル全面にわたって色あいにむらのない均一で高品
位な表示画像がえられる。その結果、疲労感がなく、快
適な表示画像を楽しむことができる。
【図１】本発明の液晶表示素子用透明基板の製法の一実
施例を示す工程図である。
施例を示す工程図である。
【図２】図１の製法によるガラス基板の一例を示す断面
図および平面図である。
図および平面図である。
【図３】図１の製法における一部工程の他の実施例を示
す工程図である。
す工程図である。
【図４】図２のガラス基板を用いてなる液晶表示素子の
一例の要部を示す断面説明図である。
一例の要部を示す断面説明図である。
【図５】従来のガラス基板を用いてなる液晶表示素子の
一例の要部を示す断面説明図である。
一例の要部を示す断面説明図である。
１ ガラス基板 ２ 凹部 ３ アンダーコート ４ ＩＴＯ膜
Claims (2)
- 【請求項１】 透明電極膜がそれぞれ形成された２枚の
透明基板と、該２枚の透明基板がシール剤を介して一定
間隙で保持され、かつ、該間隙に充填された液晶材料
と、前記２枚の透明基板の外側にそれぞれ配された偏光
板とを有する液晶表示素子であって、前記透明電極膜が
前記透明基板に形成された凹部内に設けられてなる液晶
表示素子。 - 【請求項２】 (a) 液晶表示素子用透明基板の一主面上
に電極膜の所望のパターンで凹部を形成し、(b) 該透明
基板の凹部が形成された主面上に透明導電膜を形成し、
(c) 前記透明基板の平坦面上に形成された前記透明導電
膜を除去し、前記凹部内にのみ前記透明導電膜を残して
透明電極膜とすることを特徴とする液晶表示素子用透明
基板の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23852292A JPH0682770A (ja) | 1992-09-07 | 1992-09-07 | 液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23852292A JPH0682770A (ja) | 1992-09-07 | 1992-09-07 | 液晶表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0682770A true JPH0682770A (ja) | 1994-03-25 |
Family
ID=17031509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23852292A Pending JPH0682770A (ja) | 1992-09-07 | 1992-09-07 | 液晶表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0682770A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004101833A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-04-02 | Chi Mei Electronics Corp | 液晶ディスプレイの製造装置および製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62247330A (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-28 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置 |
-
1992
- 1992-09-07 JP JP23852292A patent/JPH0682770A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62247330A (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-28 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004101833A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-04-02 | Chi Mei Electronics Corp | 液晶ディスプレイの製造装置および製造方法 |
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