JPH0680626A - 新規な22−オキサビタミンd誘導体 - Google Patents
新規な22−オキサビタミンd誘導体Info
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- JPH0680626A JPH0680626A JP15848392A JP15848392A JPH0680626A JP H0680626 A JPH0680626 A JP H0680626A JP 15848392 A JP15848392 A JP 15848392A JP 15848392 A JP15848392 A JP 15848392A JP H0680626 A JPH0680626 A JP H0680626A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】 下記式(I)
(式中、R1、R2、R3は、水素原子または水酸基を
表す。ただし、R1が水素原子のときはR2は水酸基、
R1が水酸基のときはR2は水素原子を表す。R4、R
5は、水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を表
す。)で示される24−ヒドロキシ−22−オキサビタ
ミンD誘導体。 【効果】 この化合物は、強力な分化誘導作用、増殖抑
制作用を有し、抗腫瘍剤や抗リウマチ剤、乾癬治療剤と
しての用途が期待される。
表す。ただし、R1が水素原子のときはR2は水酸基、
R1が水酸基のときはR2は水素原子を表す。R4、R
5は、水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を表
す。)で示される24−ヒドロキシ−22−オキサビタ
ミンD誘導体。 【効果】 この化合物は、強力な分化誘導作用、増殖抑
制作用を有し、抗腫瘍剤や抗リウマチ剤、乾癬治療剤と
しての用途が期待される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規な22−オキサビタ
ミンD誘導体に関する。本発明の化合物は腫瘍細胞等の
増殖抑制作用や分化誘導作用を有し、医薬、例えば抗腫
瘍剤や乾癬治療剤として有用である。
ミンD誘導体に関する。本発明の化合物は腫瘍細胞等の
増殖抑制作用や分化誘導作用を有し、医薬、例えば抗腫
瘍剤や乾癬治療剤として有用である。
【0002】
【従来の技術及び課題】近年ビタミンD類の生理活性が
逐次明らかにされてきている。ビタミンD類、例えば、
1α,25−ジヒドロキシビタミンD3はカルシウム代
謝調節作用、腫瘍細胞等の増殖抑制作用や分化誘導作
用、免疫調節作用など多岐にわたって生理活性を示すこ
とが知られている。
逐次明らかにされてきている。ビタミンD類、例えば、
1α,25−ジヒドロキシビタミンD3はカルシウム代
謝調節作用、腫瘍細胞等の増殖抑制作用や分化誘導作
用、免疫調節作用など多岐にわたって生理活性を示すこ
とが知られている。
【0003】しかしながら1α,25−ジヒドロキシビ
タミンD3は、長期かつ連続的な投与により高カルシウ
ム血症を起こすという難点を有しており、例えば抗腫瘍
剤、抗リウマチ剤としての使用には不適である。このた
め最近これらのビタミンD類の作用の分離を目的として
数多くのビタミンD誘導体が合成され、その生理活性が
検討されている。
タミンD3は、長期かつ連続的な投与により高カルシウ
ム血症を起こすという難点を有しており、例えば抗腫瘍
剤、抗リウマチ剤としての使用には不適である。このた
め最近これらのビタミンD類の作用の分離を目的として
数多くのビタミンD誘導体が合成され、その生理活性が
検討されている。
【0004】その中の−つとして、特開昭61−267
550号公報に記載されている、1α,3β−ジヒドロ
キシ−20(S)−(3−ヒドロキシ−3−メチルブチ
ルオキシ−9,10−セコプレグナ−5,7,10(1
9)−トリエンがある。本発明者はこの化合物と同様の
22−オキサビタミンD類について種々検討した結果、
24−ヒドロキシー22−オキサビタミンD類の中に、
1α,3β−ジヒドロキシ−20(S)−(3−ヒドロ
キシ−3−メチルブチルオキシ−9,10−セコプレグ
ナ−5,7,10(19)−トリエンより腫瘍細胞等の
分化誘導作用が数倍強力な化合物があることを見いだし
た。本発明はこの知見に基づいて完成したものである。
550号公報に記載されている、1α,3β−ジヒドロ
キシ−20(S)−(3−ヒドロキシ−3−メチルブチ
ルオキシ−9,10−セコプレグナ−5,7,10(1
9)−トリエンがある。本発明者はこの化合物と同様の
22−オキサビタミンD類について種々検討した結果、
24−ヒドロキシー22−オキサビタミンD類の中に、
1α,3β−ジヒドロキシ−20(S)−(3−ヒドロ
キシ−3−メチルブチルオキシ−9,10−セコプレグ
ナ−5,7,10(19)−トリエンより腫瘍細胞等の
分化誘導作用が数倍強力な化合物があることを見いだし
た。本発明はこの知見に基づいて完成したものである。
【0005】本発明は下記−般式(I)で示される22
−オキサビタミンD誘導体に関する。
−オキサビタミンD誘導体に関する。
【化2】 (式中R1、R2、R3は、水素原子または水酸基を表
す。ただし、R1が水素原子の時はR2は水酸基を表
し、R1が水酸基の時はR2は水素原子を表わす。
R4、R5は水素原子または炭素数1から3のアルキル
基を表す。)
す。ただし、R1が水素原子の時はR2は水酸基を表
し、R1が水酸基の時はR2は水素原子を表わす。
R4、R5は水素原子または炭素数1から3のアルキル
基を表す。)
【0006】本発明の一般式(I)で示される化合物と
して具体的には、例えば以下の通りである。 a.20(S)−[2(R)−ヒドロキシ−3−メチル
ブトキシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,10
(19)−トリエン−1α,3β−ジオール b.20(S)−[2(S)−ヒドロキシ−3−メチル
ブトキシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,10
(19)−トリエン−1α,3β−ジオール c.20(S)−[2(S),3−ジヒドロキシ−3−
メチルブトキシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,
10(19)−トリエン−1α,3β−ジオール d.20(S)−[2(R),3−ジヒドロキシ−3−
メテルブトキシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,
10(19)−トリエン−1α,3β−ジオール e.20(S)−[2(R)−ヒドロキシ−3−エチル
ペントキシ]−9,10セコプレグナ−5,7,10
(19)−トリエン−1α,3β−ジオール f.20(S)−[2(S)−ヒドロキシ−3−エチル
ペントキシ]−9,10セコプレグナ−5,7,10
(19)−トリエン−1α,3β−ジオール g.20(R)−[2(R)−ヒドロキシ−3−メチル
ブトキシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,10
(19)−トリエン−1α,3β−ジオール h.20(R)−[2(S)−ヒドロキシ−3−メチル
ブトキシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,10
(19)−トリエン−1α,3β−ジオール
して具体的には、例えば以下の通りである。 a.20(S)−[2(R)−ヒドロキシ−3−メチル
ブトキシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,10
(19)−トリエン−1α,3β−ジオール b.20(S)−[2(S)−ヒドロキシ−3−メチル
ブトキシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,10
(19)−トリエン−1α,3β−ジオール c.20(S)−[2(S),3−ジヒドロキシ−3−
メチルブトキシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,
10(19)−トリエン−1α,3β−ジオール d.20(S)−[2(R),3−ジヒドロキシ−3−
メテルブトキシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,
10(19)−トリエン−1α,3β−ジオール e.20(S)−[2(R)−ヒドロキシ−3−エチル
ペントキシ]−9,10セコプレグナ−5,7,10
(19)−トリエン−1α,3β−ジオール f.20(S)−[2(S)−ヒドロキシ−3−エチル
ペントキシ]−9,10セコプレグナ−5,7,10
(19)−トリエン−1α,3β−ジオール g.20(R)−[2(R)−ヒドロキシ−3−メチル
ブトキシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,10
(19)−トリエン−1α,3β−ジオール h.20(R)−[2(S)−ヒドロキシ−3−メチル
ブトキシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,10
(19)−トリエン−1α,3β−ジオール
【0007】本発明のこれらの化合物はいずれも新規化
合物であり、例えば、特開昭61−267550号記載
の1α,3β−ビス(tert−ブチルジメチルシリル
オキシ)−プレグナ−5,7−ジエン−20(S)−オ
ール(IIa)、
合物であり、例えば、特開昭61−267550号記載
の1α,3β−ビス(tert−ブチルジメチルシリル
オキシ)−プレグナ−5,7−ジエン−20(S)−オ
ール(IIa)、
【化3】 または後記参考例2に示すように化合物(II)を酸化
して得られた対応する20−ケト体を水素化アルミニウ
ムリチウム等で還元して得られる1α,3β−ビス(t
ert−ブチルジメチルシリルオキシ)−プレグナ−
5,7−ジエン−20(R)−オール(IIb)
して得られた対応する20−ケト体を水素化アルミニウ
ムリチウム等で還元して得られる1α,3β−ビス(t
ert−ブチルジメチルシリルオキシ)−プレグナ−
5,7−ジエン−20(R)−オール(IIb)
【化4】 を出発物質として製造される。
【0008】以下その製法の1例を式示する。
【化5】 (式中、R8は水素原子またはt−ブチルジメチルシリ
ル−、2−(トリメチルシリル)エトキシメチル−、ト
リメチルシリル−等の水酸基の保護基を表す。)
ル−、2−(トリメチルシリル)エトキシメチル−、ト
リメチルシリル−等の水酸基の保護基を表す。)
【0009】式(II)の化合物を塩基存在下、式(I
II)で示すエポキシドと反応させ、式(IV)の化合
物を得る。この反応は不活性有機溶媒、例えば、トルエ
ン、ベンゼン等の炭化水素系の溶媒を用いて行う。反応
に用いる塩基としては、t−ブトキシカリウム、水素化
ナトリウム等があげられる。この反応の際、ジベンゾ−
18−クラウン−6、18−クラウン−6等のクラウン
エーテル類を触媒に用いると反応を効果的に行うことが
できる。
II)で示すエポキシドと反応させ、式(IV)の化合
物を得る。この反応は不活性有機溶媒、例えば、トルエ
ン、ベンゼン等の炭化水素系の溶媒を用いて行う。反応
に用いる塩基としては、t−ブトキシカリウム、水素化
ナトリウム等があげられる。この反応の際、ジベンゾ−
18−クラウン−6、18−クラウン−6等のクラウン
エーテル類を触媒に用いると反応を効果的に行うことが
できる。
【0010】式(III)で示されるエポキシドは、例
えば、Org.Synth.,66,160−172
(1988)記載の方法にしたがって、L−バリンから
エポキシド(IIIa)D−バリンからエポキシド(I
IIb)が合成でき、Helv.Chim.Acta,
66,814−823(1983)記載の方法によりL
−セリンからエポキシド(IIIc)、D−マンニトー
ルからエポキシド(IIId)が合成できる。
えば、Org.Synth.,66,160−172
(1988)記載の方法にしたがって、L−バリンから
エポキシド(IIIa)D−バリンからエポキシド(I
IIb)が合成でき、Helv.Chim.Acta,
66,814−823(1983)記載の方法によりL
−セリンからエポキシド(IIIc)、D−マンニトー
ルからエポキシド(IIId)が合成できる。
【0011】また、3−メチル−1−ブテンを過酸化物
で酸化して得られるエポキシド(IIIa)と(III
b)の混合物、あるいは、3−ヒドロキシ−3−メチル
−1−ブテンを過酸化物で酸化して得られるエポキシド
(IIIc)と(IIId)の混合物を用いることもで
きる。この際、生成物としては、(IVa)と(IV
b)の混合物、あるいは、(IVc)と(IVd)の混
合物が得られるが、カラムクロマトグラフィ−とプレパ
ラティブTLCを組み合わせる精製法によりそれぞれ
(IVa)と(IVb)、(IVc)と(IVd)を分
離精製することができる。この方法については、参考例
に示した。
で酸化して得られるエポキシド(IIIa)と(III
b)の混合物、あるいは、3−ヒドロキシ−3−メチル
−1−ブテンを過酸化物で酸化して得られるエポキシド
(IIIc)と(IIId)の混合物を用いることもで
きる。この際、生成物としては、(IVa)と(IV
b)の混合物、あるいは、(IVc)と(IVd)の混
合物が得られるが、カラムクロマトグラフィ−とプレパ
ラティブTLCを組み合わせる精製法によりそれぞれ
(IVa)と(IVb)、(IVc)と(IVd)を分
離精製することができる。この方法については、参考例
に示した。
【0012】式(IV)の化合物は、不活性有機溶媒
中、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等
のエーテル類中、フッ素化合物、例えば、テトラブチル
アンモニウムフロリド等を処理して、式(V)の化合物
を得る。式(V)の化合物は常法にしたがい、紫外線照
射の後、熱異性化反応を行うことにより、本発明の化合
物(I)を得ることができる。
中、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等
のエーテル類中、フッ素化合物、例えば、テトラブチル
アンモニウムフロリド等を処理して、式(V)の化合物
を得る。式(V)の化合物は常法にしたがい、紫外線照
射の後、熱異性化反応を行うことにより、本発明の化合
物(I)を得ることができる。
【0013】つぎに本発明の実施例を示すが、これによ
り本発明が限定されるものではない。
り本発明が限定されるものではない。
【実施例1】 20(S)−[2(R)−ヒドロキシ−3−メチルブト
キシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,10(1
9)−トリエン−1α,3β−ジオール(Ia)の製法
キシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,10(1
9)−トリエン−1α,3β−ジオール(Ia)の製法
【0014】i)1α,3β−ビス(tert−ブチル
ジメチルシリルオキシ)−20(S)−[2(R)−ヒ
ドロキシ−3−メチルブトキシ]プレグナ−5,7−ジ
エン(IVa)の合成
ジメチルシリルオキシ)−20(S)−[2(R)−ヒ
ドロキシ−3−メチルブトキシ]プレグナ−5,7−ジ
エン(IVa)の合成
【0015】1α,3β−ビス(tert−ブチルジメ
チルシリルオキシ)−プレグナ−5,7−ジエン−20
(S)−オール(IIa)561mg、t−BuOK
(90%)1.50g、ジベンゾ−18−クラウン−6
250mg、(2R)−1,2−エポキシ−3−メチ
ルブタン0.86gをトルエン30mlに溶解し、アル
ゴン雰囲気下、100℃で2.5時間撹拌した。反応液
を水に注ぎ、エーテルで希釈した。有機層を飽和食塩水
で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し
た。得られた残査をフラッシュカラムクロマトグラフィ
−で2回(シリカゲル、n−ヘキサン:酢酸エチル=
5:1、n−ヘキサン:酢酸エチル=7:1)精製
し、目的物(IVa)246mgを得た。
チルシリルオキシ)−プレグナ−5,7−ジエン−20
(S)−オール(IIa)561mg、t−BuOK
(90%)1.50g、ジベンゾ−18−クラウン−6
250mg、(2R)−1,2−エポキシ−3−メチ
ルブタン0.86gをトルエン30mlに溶解し、アル
ゴン雰囲気下、100℃で2.5時間撹拌した。反応液
を水に注ぎ、エーテルで希釈した。有機層を飽和食塩水
で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し
た。得られた残査をフラッシュカラムクロマトグラフィ
−で2回(シリカゲル、n−ヘキサン:酢酸エチル=
5:1、n−ヘキサン:酢酸エチル=7:1)精製
し、目的物(IVa)246mgを得た。
【0016】
【0017】ii)20(S)−[2(R)−ヒドロキ
シ−3−メチルブトキシ]プレグナ−5,7−ジエン−
1α,3β−ジオール(Va)の合成
シ−3−メチルブトキシ]プレグナ−5,7−ジエン−
1α,3β−ジオール(Va)の合成
【0018】化合物(IVa)90mgおよびテトラブ
チルアンモニウムフロリド(TBAF)溶液(1mol
/l)1.39mlをTHF1.39mlに溶解し、1
8時間穏やかに還流した。酢酸エチルで希釈して、水、
10%塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水の
順で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去
した。プレパラティブTLC(ジクロロメタン:エタノ
ール=10:1、2回展開)で精製して、目的物(V
a)24mgを得た。
チルアンモニウムフロリド(TBAF)溶液(1mol
/l)1.39mlをTHF1.39mlに溶解し、1
8時間穏やかに還流した。酢酸エチルで希釈して、水、
10%塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水、飽和食塩水の
順で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去
した。プレパラティブTLC(ジクロロメタン:エタノ
ール=10:1、2回展開)で精製して、目的物(V
a)24mgを得た。
【0019】
【0020】iii)20(S)−[2(R)−ヒドロ
キシ−3−メチルブトキシ]−9,10−セコプレグナ
−5,7,10(19)−トリエン−1α,3β−ジオ
ール(Ia)の合成
キシ−3−メチルブトキシ]−9,10−セコプレグナ
−5,7,10(19)−トリエン−1α,3β−ジオ
ール(Ia)の合成
【0021】(Va)23.1mgをエタノール200
mlに溶解し、氷冷下、アルゴンガスをバブリングしな
がら400W高圧水銀灯−バイコールフィルターを用
い、2分30秒光照射。次いでアルゴン雰囲気下2時間
穏やかに還流し、溶媒を留去した。得られた残査をプレ
パラティブTLC(ジクロロメタン:エタノール=1
0:1、2回展開)で精製して、目的物(Ia)33m
gを得た。
mlに溶解し、氷冷下、アルゴンガスをバブリングしな
がら400W高圧水銀灯−バイコールフィルターを用
い、2分30秒光照射。次いでアルゴン雰囲気下2時間
穏やかに還流し、溶媒を留去した。得られた残査をプレ
パラティブTLC(ジクロロメタン:エタノール=1
0:1、2回展開)で精製して、目的物(Ia)33m
gを得た。
【0022】
【0023】
【実施例2】20(S)−[2(S)−ヒドロキシ−3−メチルブト
キシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,10(I
9)−トリエン−1α,3β−ジオール(Ib)の製法
キシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,10(I
9)−トリエン−1α,3β−ジオール(Ib)の製法
【0024】i)1α,3β−ビス(tert−ブチル
ジメチルシリルオキシ)−20(S)−[2(S)−ヒ
ドロキシ−3−メチルブトキシ]プレグナ−5,7−ジ
エン(IVb)の合成
ジメチルシリルオキシ)−20(S)−[2(S)−ヒ
ドロキシ−3−メチルブトキシ]プレグナ−5,7−ジ
エン(IVb)の合成
【0025】化合物(IIa)561mg、t−BuO
K(90%)150g、ジベンゾ−18−クラウン−6
250mg、(2S)−1,2−エポキシ−3−メチ
ルブタン0.86gをトルエン30mlに溶解し、アル
ゴン雰囲気下、100℃で2.5時間撹拌した。反応液
を水に注ぎ、エーテルで希釈した。有機層を飽和食塩水
で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し
た。得られた残査をフラッシュカラムクロマトグラフィ
ーで2回(シリカゲル、n−ヘキサン:酢酸エチル=
5:1、n−ヘキサン:酢酸エチル=7:1)精製
し、目的物(IVa)246mgを得た。
K(90%)150g、ジベンゾ−18−クラウン−6
250mg、(2S)−1,2−エポキシ−3−メチ
ルブタン0.86gをトルエン30mlに溶解し、アル
ゴン雰囲気下、100℃で2.5時間撹拌した。反応液
を水に注ぎ、エーテルで希釈した。有機層を飽和食塩水
で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し
た。得られた残査をフラッシュカラムクロマトグラフィ
ーで2回(シリカゲル、n−ヘキサン:酢酸エチル=
5:1、n−ヘキサン:酢酸エチル=7:1)精製
し、目的物(IVa)246mgを得た。
【0026】
【0027】ii)20(S)−[2(S)−ヒドロキ
シ−3−メチルブトキシ]プレグナ−5,7−ジエン−
1α,3β−ジオール(Vb)の合成
シ−3−メチルブトキシ]プレグナ−5,7−ジエン−
1α,3β−ジオール(Vb)の合成
【0028】化合物(IVb)75mg およびTBA
F溶液(1mol/l)1.16mlをTHF1.16
mlに溶解し、18時間穏やかに還流した。酢酸エチル
で希釈して、水、10%塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム
水、飽和食塩水の順で洗浄した。硫酸マクネシウムで乾
燥後、溶媒を留去した。プレパラティブTLC(ジクロ
ロメタン:エタノール=10:1、2回展開)で精製し
て、目的物(Vb)22mgを得た。
F溶液(1mol/l)1.16mlをTHF1.16
mlに溶解し、18時間穏やかに還流した。酢酸エチル
で希釈して、水、10%塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム
水、飽和食塩水の順で洗浄した。硫酸マクネシウムで乾
燥後、溶媒を留去した。プレパラティブTLC(ジクロ
ロメタン:エタノール=10:1、2回展開)で精製し
て、目的物(Vb)22mgを得た。
【0029】
【0030】iii)20(S)−[2(S)−ヒドロ
キシ−3−メチルブトキシ]−9,10−セコプレグナ
−5,7,10(19)−トリエン−1α,3β−ジオ
ール(Ib)の合成
キシ−3−メチルブトキシ]−9,10−セコプレグナ
−5,7,10(19)−トリエン−1α,3β−ジオ
ール(Ib)の合成
【0031】(Vb)23.9mgをエタノール200
mlに溶解し、氷冷下、アルゴンガスをバブリングしな
がら400W高圧水銀灯−バイコールフィルターを用
い、2分45秒光照射。次いでアルゴン雰囲気下2時間
穏やかに還流し、溶媒を留去した。得られた残査をプレ
パラティブTLC(ジクロロメタン:エタノール=1
0:1、2回展開)で精製して、目的物(Ib)29m
gを得た。
mlに溶解し、氷冷下、アルゴンガスをバブリングしな
がら400W高圧水銀灯−バイコールフィルターを用
い、2分45秒光照射。次いでアルゴン雰囲気下2時間
穏やかに還流し、溶媒を留去した。得られた残査をプレ
パラティブTLC(ジクロロメタン:エタノール=1
0:1、2回展開)で精製して、目的物(Ib)29m
gを得た。
【0032】
【0033】
【実施例3】20(S)−[2(S),3−ジヒドロキシ−3−メチ
ルブトキシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,10
(19)−トリエン−1α,3β−ジオール(Ic)の
製法
ルブトキシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,10
(19)−トリエン−1α,3β−ジオール(Ic)の
製法
【0034】i)1α,3β−ビス(tert−ブチル
ジメチルシリルオキシ)−20(S)−{2(S)−ヒ
ドロキシ−3−メチル−3−[2−(トリメチルシリ
ル)エトキシメトキシ]ブトキシ}プレグナ−5,7−
ジエン(IVc)の合成
ジメチルシリルオキシ)−20(S)−{2(S)−ヒ
ドロキシ−3−メチル−3−[2−(トリメチルシリ
ル)エトキシメトキシ]ブトキシ}プレグナ−5,7−
ジエン(IVc)の合成
【0035】1α,3β−ビス(tert−ブチルジメ
チルシリルオキシ)−プレグナ−5,7−ジエン−20
(S)−オール(IIa)874mg、t−BuOK
(90%)2.13g、ジベンゾ−18−クラウン−6
405mg、(2S)−1,2−エポキシ−3−メチ
ル−3−[2−(トリメチルシリル)エトキシメトキ
シ]ブタン0.86gをトルエン51mlに溶解し、ア
ルゴン雰囲気下、100℃で1.5時間撹拌した。反応
液を水に注ぎ、酢酸エチルで3回抽出した。有機層を硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。得られた残
査を次の精製工程に付した。フラッシュカラムクロマ
トグラフィー(シリカゲル、n−ヘキサン:酢酸エチル
=15:1)、フラッシュカラムクロマトグラフィー
(n−ヘキサン:酢酸エチル=20:1)、プレパラ
ティブTLC(シリカゲル、n−ヘキサン:酢酸エチル
=10:1)。淡黄色油状の目的物(IVc)118m
gを得た。
チルシリルオキシ)−プレグナ−5,7−ジエン−20
(S)−オール(IIa)874mg、t−BuOK
(90%)2.13g、ジベンゾ−18−クラウン−6
405mg、(2S)−1,2−エポキシ−3−メチ
ル−3−[2−(トリメチルシリル)エトキシメトキ
シ]ブタン0.86gをトルエン51mlに溶解し、ア
ルゴン雰囲気下、100℃で1.5時間撹拌した。反応
液を水に注ぎ、酢酸エチルで3回抽出した。有機層を硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。得られた残
査を次の精製工程に付した。フラッシュカラムクロマ
トグラフィー(シリカゲル、n−ヘキサン:酢酸エチル
=15:1)、フラッシュカラムクロマトグラフィー
(n−ヘキサン:酢酸エチル=20:1)、プレパラ
ティブTLC(シリカゲル、n−ヘキサン:酢酸エチル
=10:1)。淡黄色油状の目的物(IVc)118m
gを得た。
【0036】
【0037】ii)20(S)−[2(S),3−ジヒ
ドロキシ−3−メチルブトキシ]プレグナ−5,7−ジ
エン−1α,3β−ジオール(Vc)の合成
ドロキシ−3−メチルブトキシ]プレグナ−5,7−ジ
エン−1α,3β−ジオール(Vc)の合成
【0038】化合物(IVc)118mgにTBAF溶
液(1mol/l)2.3mlを加えTHFを減圧留去
した後、N,N−ジメチルプロピレンウレア(DMP
U)2mlおよびモルキュラーシーブス4A400mg
を添加し、アルゴン雰囲気下、80℃で3時間加熱撹拌
した。反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで2回抽出
し、飽和炭酸水素ナトリウム水で洗浄した。硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残査をフラ
ッシュカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ジクロ
ロメタン:エタノール=10:1)で精製して、無色プ
リズム晶の目的物(Vc)45mgを得た。
液(1mol/l)2.3mlを加えTHFを減圧留去
した後、N,N−ジメチルプロピレンウレア(DMP
U)2mlおよびモルキュラーシーブス4A400mg
を添加し、アルゴン雰囲気下、80℃で3時間加熱撹拌
した。反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで2回抽出
し、飽和炭酸水素ナトリウム水で洗浄した。硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた残査をフラ
ッシュカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ジクロ
ロメタン:エタノール=10:1)で精製して、無色プ
リズム晶の目的物(Vc)45mgを得た。
【0039】
【0040】iii)20(S)−[2(S),3−ジ
ヒドロキシ−3−メチルブトキシ]−9,10−セコプ
レグナ−5,7,10(19)−トリエン−1α,3β
−ジオール(Ic)の合成
ヒドロキシ−3−メチルブトキシ]−9,10−セコプ
レグナ−5,7,10(19)−トリエン−1α,3β
−ジオール(Ic)の合成
【0041】(Vc)30mgをエタノール200ml
に溶解し、氷冷下、アルゴンガスをバブリングしながら
400W高圧水銀灯−バイコールフィルターを用い、3
分光照射。次いでアルゴン雰囲気下2時間穏やかに還流
し、溶媒を留去した。得られた残査を次の精製工程に付
した。プレパラティブTLC(シリカゲル、酢酸エチ
ル、2回展開)、プレパラティブTLC(ジクロロメ
タン:エタノール=10:1、2回展開)。目的物(I
c)3.9mgを得た。
に溶解し、氷冷下、アルゴンガスをバブリングしながら
400W高圧水銀灯−バイコールフィルターを用い、3
分光照射。次いでアルゴン雰囲気下2時間穏やかに還流
し、溶媒を留去した。得られた残査を次の精製工程に付
した。プレパラティブTLC(シリカゲル、酢酸エチ
ル、2回展開)、プレパラティブTLC(ジクロロメ
タン:エタノール=10:1、2回展開)。目的物(I
c)3.9mgを得た。
【0042】
【0043】
【実施例14】20(S)−[2(R),3−ジヒドロキシ−3−メチ
ルブトキシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,10
(19)−トリエン−1α,3β−ジオール(Id)の
製法
ルブトキシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,10
(19)−トリエン−1α,3β−ジオール(Id)の
製法
【0044】i)1α,3β−ビス(tert−ブチル
ジメチルシリルオキシ)−20(S)−{2(R)−ヒ
ドロキシ−3−メチル−3−[2−(トリメチルシリ
ル)エトキシメトキシ]ブトキシ}プレグナ−5,7−
ジエン(IVd)の合成
ジメチルシリルオキシ)−20(S)−{2(R)−ヒ
ドロキシ−3−メチル−3−[2−(トリメチルシリ
ル)エトキシメトキシ]ブトキシ}プレグナ−5,7−
ジエン(IVd)の合成
【0045】1α,3β−ビス(tert−ブチルジメ
チルシリルオキシ)−プレグナ−5,7−ジエン−20
(S)−オール(IIa)1.00g、t−BuOK
(90%)2.13g、ジベンゾ−18−クラウン−6
405mg、(2R)−1,2−エポキシ−3−メチ
ル−3−[2−(トリメチルシリル)エトキシメトキ
シ]ブタン809mgをトルエン51mlに溶解し、ア
ルゴン雰囲気下、80℃で3.5時間撹拌した。反応液
を水に注ぎ、酢酸エチルで3回抽出した。有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。得られた残査
を次の精製工程に付した。フラッシュカラムクロマト
グラフィー(シリカゲル、n−ヘキサン:酢酸エチル=
10:1)、プレパラティブTLC(シリカゲル、n
−ヘキサン:酢酸エチル=10:1、3回展間)。淡黄
色油状の目的物(IVd)297mgを得た。
チルシリルオキシ)−プレグナ−5,7−ジエン−20
(S)−オール(IIa)1.00g、t−BuOK
(90%)2.13g、ジベンゾ−18−クラウン−6
405mg、(2R)−1,2−エポキシ−3−メチ
ル−3−[2−(トリメチルシリル)エトキシメトキ
シ]ブタン809mgをトルエン51mlに溶解し、ア
ルゴン雰囲気下、80℃で3.5時間撹拌した。反応液
を水に注ぎ、酢酸エチルで3回抽出した。有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。得られた残査
を次の精製工程に付した。フラッシュカラムクロマト
グラフィー(シリカゲル、n−ヘキサン:酢酸エチル=
10:1)、プレパラティブTLC(シリカゲル、n
−ヘキサン:酢酸エチル=10:1、3回展間)。淡黄
色油状の目的物(IVd)297mgを得た。
【0046】
【0047】ii)20(S)−[2(R),3−ジヒ
ドロキシ−3−メチルブトキシ]プレグナ−5,7−ジ
エン−1α,3β−ジオール(Vd)の合成
ドロキシ−3−メチルブトキシ]プレグナ−5,7−ジ
エン−1α,3β−ジオール(Vd)の合成
【0048】化合物(IVd)297mgにTBAF溶
液(1mol/l)5.6mlを加えTHFを減圧留去
した後、DMPU5mlおよびモルキュラーシーブス4
A1.0gを添加し、アルゴン雰囲気下、80℃で6時
間、続いて室温で15時間30分撹拌した。反応混合物
を水に注ぎ、酢酸エチルで2回抽出し、飽和炭酸水素ナ
トリウム水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶
媒を留去した。得られた残査をフラッシュカラムクロマ
トグラフィ−(シリカゲル、ジクロロメタン:エタノー
ル=12:1)で精製して、目的物(Vd)125mg
を得た。
液(1mol/l)5.6mlを加えTHFを減圧留去
した後、DMPU5mlおよびモルキュラーシーブス4
A1.0gを添加し、アルゴン雰囲気下、80℃で6時
間、続いて室温で15時間30分撹拌した。反応混合物
を水に注ぎ、酢酸エチルで2回抽出し、飽和炭酸水素ナ
トリウム水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶
媒を留去した。得られた残査をフラッシュカラムクロマ
トグラフィ−(シリカゲル、ジクロロメタン:エタノー
ル=12:1)で精製して、目的物(Vd)125mg
を得た。
【0049】
【0050】iii)20(S)−[2(R),3−ジ
ヒドロキシ−3−メチルブトキシ]−9,10−セコプ
レグナ−5,7,10(19)−トリエン−1α,3β
−ジオール(Id)の合成
ヒドロキシ−3−メチルブトキシ]−9,10−セコプ
レグナ−5,7,10(19)−トリエン−1α,3β
−ジオール(Id)の合成
【0051】(Vd)33.5mgをエタノール200
mlに溶解し、氷冷下、アルゴンガスをバブリングしな
がら400W高圧水銀灯−バイコールフィルターを用
い、2分30秒光照射。次いでアルゴン雰囲気下2時間
30分穏やかに還流し、溶媒を留去した。得られた残査
をプレパラティブTLC(シリカゲル、酢酸エチル、2
回展開)で精製し、目的物(Id)5.7mgを得た。
mlに溶解し、氷冷下、アルゴンガスをバブリングしな
がら400W高圧水銀灯−バイコールフィルターを用
い、2分30秒光照射。次いでアルゴン雰囲気下2時間
30分穏やかに還流し、溶媒を留去した。得られた残査
をプレパラティブTLC(シリカゲル、酢酸エチル、2
回展開)で精製し、目的物(Id)5.7mgを得た。
【0052】
【0053】
【実施例5】20(S)−[2(R)−ヒドロキシ−3−エチルペン
トキシ]−9,10−プレグナ−5,7,10(19)
−トリエン−1α,3β−ジオール(Ie)の製法
トキシ]−9,10−プレグナ−5,7,10(19)
−トリエン−1α,3β−ジオール(Ie)の製法
【0054】i)1α,3β−ビス(tert−ブチル
ジメチルシリルオキシ)−プレグナ−5,7−ジエン−
20(S)−オール(IIa)を出発物質とし、以下実
施例1.i)に記載の操作と同様に1,2−エポキシ−
3−エチルペンタンを反応させ、1α,3β−ビス(t
ert−ブチルジメチルシリルオキシ)−20(R)−
[2(R)−ヒドロキシ−3−エチルペントキシ]−プ
レグナ−5,7−ジエン(IVe)および1α,3β−
ビス(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−20
(R)−[2(S)−ヒドロキシ−3−エチルペントキ
シ]−プレグナ−5,7−ジエン(IVf)を得た。
ジメチルシリルオキシ)−プレグナ−5,7−ジエン−
20(S)−オール(IIa)を出発物質とし、以下実
施例1.i)に記載の操作と同様に1,2−エポキシ−
3−エチルペンタンを反応させ、1α,3β−ビス(t
ert−ブチルジメチルシリルオキシ)−20(R)−
[2(R)−ヒドロキシ−3−エチルペントキシ]−プ
レグナ−5,7−ジエン(IVe)および1α,3β−
ビス(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−20
(R)−[2(S)−ヒドロキシ−3−エチルペントキ
シ]−プレグナ−5,7−ジエン(IVf)を得た。
【0055】(IVe):
【0056】(IVf):
【0057】ii)化合物(IVe)を出発物質とし、
以下実施例1.ii)に記載の方法に従い、20(S)
−[2(R)−ヒドロキシ−3−エチルペントキシ]プ
レグナ−5,7−ジエン1−1α,3β−ジオール(V
e)を得た。
以下実施例1.ii)に記載の方法に従い、20(S)
−[2(R)−ヒドロキシ−3−エチルペントキシ]プ
レグナ−5,7−ジエン1−1α,3β−ジオール(V
e)を得た。
【0058】
【0059】iii)(Ve)を出発物質とし、以下実
施例1.iii)に記載のほうほうに従い、目的物(I
e)を得た。
施例1.iii)に記載のほうほうに従い、目的物(I
e)を得た。
【0060】
【0061】
【実施例6】20(S)−[2(S)−ヒドロキシ−3−エチルペン
トキシ]−9,10−プレグナ−5, 7,10(1
9)−トリエン−1α,3β−ジオール(If)の製法
トキシ]−9,10−プレグナ−5, 7,10(1
9)−トリエン−1α,3β−ジオール(If)の製法
【0062】i)実施例5.i)で得た(IVf)を出
発物質とし、以下実施例1.ii)に記載の方法に従
い、20(S)−[2(S)−ヒドロキシ−3−エチル
ペントキシ]−プレグナ−5,7−ジエン−1α,3β
−ジオール(Vf)を得た。
発物質とし、以下実施例1.ii)に記載の方法に従
い、20(S)−[2(S)−ヒドロキシ−3−エチル
ペントキシ]−プレグナ−5,7−ジエン−1α,3β
−ジオール(Vf)を得た。
【0063】
【0064】ii)(Vf)を出発物質とし、以下実施
例1.iii)に記載の方法に従い、目的物(If)を
得た。
例1.iii)に記載の方法に従い、目的物(If)を
得た。
【0065】
【0066】
【実施例7】 20(R)−[2(R)−ヒドロキシ−3−メチルブト
キシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,10(1
9)−トリエン−1α,3β−ジオール(Ig)の製法
キシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,10(1
9)−トリエン−1α,3β−ジオール(Ig)の製法
【0067】i)後記参考例2によって得た1α,3β
−ビス(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−プ
レグナ−5,7−ジエン−20(R)−オール(II
b)を出発物質とし、以下実施例1.i)に記載の方法
に従い、2(R)−1,2−エポキシ−3−メチルブタ
ンを反応させ、1α,3β−ビス(tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ)−20(R)−[2(R)−ヒド
ロキシ−3−メチルブトキシ]−プレグナ−5,7−ジ
エン(IVg)を得た。
−ビス(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−プ
レグナ−5,7−ジエン−20(R)−オール(II
b)を出発物質とし、以下実施例1.i)に記載の方法
に従い、2(R)−1,2−エポキシ−3−メチルブタ
ンを反応させ、1α,3β−ビス(tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ)−20(R)−[2(R)−ヒド
ロキシ−3−メチルブトキシ]−プレグナ−5,7−ジ
エン(IVg)を得た。
【0068】
【0069】ii)(IVg)を出発物質とし、以下実
施例1.ii)に記載の方法に従い、20(R)−[2
(R)−ヒドロキシ−3−メチルブトキシ]プレグナ−
5,7−ジエン−1α,3β−ジオール(Vg)を得
た。
施例1.ii)に記載の方法に従い、20(R)−[2
(R)−ヒドロキシ−3−メチルブトキシ]プレグナ−
5,7−ジエン−1α,3β−ジオール(Vg)を得
た。
【0070】
【0071】iii)(Vg)を出発物質とし、以下実
施例1.iii)に記載の方法に従い、目的物(Ig)
を得た。
施例1.iii)に記載の方法に従い、目的物(Ig)
を得た。
【0072】
【0073】
【実施例8】20(R)−[2(S)−ヒドロキシ−3−メチルブト
キシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,11(1
9)−トリエン−1α,3β−ジオール(Ih)の製法
キシ]−9,10−セコプレグナ−5,7,11(1
9)−トリエン−1α,3β−ジオール(Ih)の製法
【0074】i)(IIb)を出発物質とし、以下実施
例1.i)に記載の方法に従い、2(S)−1,2−エ
ポキシ−3−メチルブタンを反応させ、1α,3β−ビ
ス(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−20
(R)−[2(S)−ヒドロキシ−3−メチルブトキ
シ]−プレグナ−5,7−ジエン(IVh)を得た。
例1.i)に記載の方法に従い、2(S)−1,2−エ
ポキシ−3−メチルブタンを反応させ、1α,3β−ビ
ス(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−20
(R)−[2(S)−ヒドロキシ−3−メチルブトキ
シ]−プレグナ−5,7−ジエン(IVh)を得た。
【0075】
【0076】ii)(IVh)を出発物質とし、以下実
施例1.ii)に記載の方法に従い、20(R)−[2
(S)−ヒドロキシ−3−メチルブトキシ]プレグナ−
5,7−ジエン−1α,3β−ジオール(Vh)を得
た。
施例1.ii)に記載の方法に従い、20(R)−[2
(S)−ヒドロキシ−3−メチルブトキシ]プレグナ−
5,7−ジエン−1α,3β−ジオール(Vh)を得
た。
【0077】
【0078】iii)(Vh)を出発物質とし、以下実
施例1 iii)に記載の方法に従い、目的物(Ih)
を得た。
施例1 iii)に記載の方法に従い、目的物(Ih)
を得た。
【0079】
【0080】
【参考例1】1α,3β−ビス(tert−ブチルジメチルシリルオ
キシ)−20(S)−[2(ξ)−ヒドロキシ−3−メ
チルブトキシ]プレグナ−5,7−ジエン(IVa,I
Vb)の合成
キシ)−20(S)−[2(ξ)−ヒドロキシ−3−メ
チルブトキシ]プレグナ−5,7−ジエン(IVa,I
Vb)の合成
【0081】1α,3β−ビス(tert−プチルジメ
チルシリルオキシ)−プレグナ−5,7−ジエン−20
(S)−オール(IIa)561mg、t−BuOK
(90%)1.50g、ジベンゾ−18−クラウン−6
250mg、(2ξ)−1,2−エポキシ−3−メチ
ルブタン0.86gをトルエン30mlに溶解し、アル
ゴン雰囲気下、100℃で3時間撹拌した。反応液を水
に注ぎ、エーテルで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。得
られた残査をフラッシュカラムクロマトグラフィー(シ
リカゲル、n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1)精製
し、次にプレパラティブTLC(シリカゲル、n−ヘキ
サン:酢酸エチル=5:1)で分離精製して、目的物
(IVa)92.5mgと(IVb)78.2mgをそ
れぞれ得た。機器データは、実施例1のi)および実施
例2のi)と一致した。
チルシリルオキシ)−プレグナ−5,7−ジエン−20
(S)−オール(IIa)561mg、t−BuOK
(90%)1.50g、ジベンゾ−18−クラウン−6
250mg、(2ξ)−1,2−エポキシ−3−メチ
ルブタン0.86gをトルエン30mlに溶解し、アル
ゴン雰囲気下、100℃で3時間撹拌した。反応液を水
に注ぎ、エーテルで希釈した。有機層を飽和食塩水で洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。得
られた残査をフラッシュカラムクロマトグラフィー(シ
リカゲル、n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1)精製
し、次にプレパラティブTLC(シリカゲル、n−ヘキ
サン:酢酸エチル=5:1)で分離精製して、目的物
(IVa)92.5mgと(IVb)78.2mgをそ
れぞれ得た。機器データは、実施例1のi)および実施
例2のi)と一致した。
【0082】
【参考例2】 i)−a.1α,3β−ビス(tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)−プレグナ−5,7−ジエン−20
(S)−オール(IIa)1.47g、ピリジニウムク
ロロホルメート1.34gおよび塩化メチレン30ml
の混合物を室温で1.5時間撹拌した。反応混合物をフ
ロリジルカラムにて精製した(溶媒:エーテル)。濃縮
した混合物をフラッシュカラムクロマトグラフィー(n
−ヘキサン:酢酸エチル=15:1)で精製し、1α,
3β−ビス(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)
−プレグナ−5,7−ジエン−20−オン1.02gを
得た。
ルシリルオキシ)−プレグナ−5,7−ジエン−20
(S)−オール(IIa)1.47g、ピリジニウムク
ロロホルメート1.34gおよび塩化メチレン30ml
の混合物を室温で1.5時間撹拌した。反応混合物をフ
ロリジルカラムにて精製した(溶媒:エーテル)。濃縮
した混合物をフラッシュカラムクロマトグラフィー(n
−ヘキサン:酢酸エチル=15:1)で精製し、1α,
3β−ビス(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)
−プレグナ−5,7−ジエン−20−オン1.02gを
得た。
【0083】
【0084】i)−b.窒素気流下、−65℃トリクロ
ロメチルクロロホルメート15mlの塩化メチレン13
ml溶液にジメチルスルホキシド22mlを滴下し、1
0分後に化合物(IIa)4.15gの塩化メチレン2
0ml溶液を徐々に滴下した。さらに20分後にトリエ
チルアミン5.2mlを加え、室温で1時間撹拌した。
反応混合物をn−ヘキサンで希釈し、水で2回、飽和食
塩水で1回洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を留去した。残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィ
ー(n−ヘキサン:酢酸エチル=9:1)で精製し、淡
黄色粉末状の1α,3β−ビス(tert−ブチルジメ
チルシリルオキシ)−プレグナ−5,7−ジエン−20
−オン3.54gを得た。このものは、前記i)−a.
で得たものとその物性値が一致した。
ロメチルクロロホルメート15mlの塩化メチレン13
ml溶液にジメチルスルホキシド22mlを滴下し、1
0分後に化合物(IIa)4.15gの塩化メチレン2
0ml溶液を徐々に滴下した。さらに20分後にトリエ
チルアミン5.2mlを加え、室温で1時間撹拌した。
反応混合物をn−ヘキサンで希釈し、水で2回、飽和食
塩水で1回洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を留去した。残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィ
ー(n−ヘキサン:酢酸エチル=9:1)で精製し、淡
黄色粉末状の1α,3β−ビス(tert−ブチルジメ
チルシリルオキシ)−プレグナ−5,7−ジエン−20
−オン3.54gを得た。このものは、前記i)−a.
で得たものとその物性値が一致した。
【0085】ii)水素化リテウムアルミニウム105
mgおよびTHF10mlの混合物に、窒素気流、氷
冷、撹拌下、1α,3β−ビス(tert−ブチルジメ
チルシリルオキシ)−プレグナ−5,7−ジエン−20
−オン774mgのTHF10ml溶液を少しずつ加え
た。次いで混合物を室温で1時間撹拌後、氷冷下水性エ
ーテルを加えた。反応混合物をエーテルで抽出、エーテ
ル溶液を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧下溶媒留去した。残渣をフラッシュカラム
クロマトグラフィ−(n−ヘキサン:酢酸エチル=1
5:1)に付し、無色泡状の1α,3β−ビス(ter
t−ブチルジメチルシリルオキシ)−プレグナ−5,7
−ジエン−20(R)−オール(IIb)620mgを
得た。
mgおよびTHF10mlの混合物に、窒素気流、氷
冷、撹拌下、1α,3β−ビス(tert−ブチルジメ
チルシリルオキシ)−プレグナ−5,7−ジエン−20
−オン774mgのTHF10ml溶液を少しずつ加え
た。次いで混合物を室温で1時間撹拌後、氷冷下水性エ
ーテルを加えた。反応混合物をエーテルで抽出、エーテ
ル溶液を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧下溶媒留去した。残渣をフラッシュカラム
クロマトグラフィ−(n−ヘキサン:酢酸エチル=1
5:1)に付し、無色泡状の1α,3β−ビス(ter
t−ブチルジメチルシリルオキシ)−プレグナ−5,7
−ジエン−20(R)−オール(IIb)620mgを
得た。
【0086】
Claims (1)
- 【請求項1】一般式(I) 【化1】 (式中R1、R2、R3は、水素原子または水酸基を表
す。ただし、 R1が水素原子の時はR2は水酸基を表
し、R1が水酸基の時はR2は水素原子を表す。R1、
R5は水素原子または炭素数1から3のアルキル基を表
す。)で示される22−オキサビタミンD誘導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15848392A JPH0680626A (ja) | 1991-05-09 | 1992-05-07 | 新規な22−オキサビタミンd誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19974591 | 1991-05-09 | ||
JP3-199745 | 1991-05-09 | ||
JP15848392A JPH0680626A (ja) | 1991-05-09 | 1992-05-07 | 新規な22−オキサビタミンd誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0680626A true JPH0680626A (ja) | 1994-03-22 |
Family
ID=26485587
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15848392A Pending JPH0680626A (ja) | 1991-05-09 | 1992-05-07 | 新規な22−オキサビタミンd誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0680626A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0947504A4 (ja) * | 1996-12-20 | 1999-11-17 | ||
US6902654B2 (en) | 1998-07-03 | 2005-06-07 | Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha | Ultraviolet irradiation apparatus for photochemical reaction and preparation process of vitamin D derivative making use of the same |
-
1992
- 1992-05-07 JP JP15848392A patent/JPH0680626A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0947504A4 (ja) * | 1996-12-20 | 1999-11-17 | ||
US6902654B2 (en) | 1998-07-03 | 2005-06-07 | Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha | Ultraviolet irradiation apparatus for photochemical reaction and preparation process of vitamin D derivative making use of the same |
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