JPH0676338A

JPH0676338A - 光学記録装置及び光学記録方法

Info

Publication number: JPH0676338A
Application number: JP4253536A
Authority: JP
Inventors: Masanobu Yamamoto; 眞伸山本
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1992-08-31
Filing date: 1992-08-31
Publication date: 1994-03-18

Abstract

(57)【要約】【目的】レーザ光源の種類及び印加信号の種類に拘ら
ず、被記録体に記録パターンを高精度に描画できるよう
にする。【構成】連続発振しているレーザ光Ｌを強度変調し、
この強度変調されたレーザ光Ｌを基板上のフォトレジス
ト膜８に照射して、フォトレジスト膜８に記録パターン
を描画する光学記録装置において、可変電流電源９から
の直流電圧Ｖに基づいてレーザ光Ｌを強度変調するＥＯ
Ｍ２と、このＥＯＭ２からのレーザ光Ｌの一部を光検出
器１２にて検出し、ＥＯＭ２からのレーザ光Ｌの光出力
が一定となるように可変直流電源９からの直流電圧レベ
ルを制御する電圧制御回路１３を含むフィードバック系
１４と、ＥＯＭ２からのレーザ光Ｌを、印加記録信号Ｓ
ｗに基づいて強度変調するＡＯＭ３とを具備して構成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば一面に形成され
たフォトレジスト膜に対してレーザ光を照射することに
より、フォトレジスト膜にレーザ光の照射軌跡に応じた
記録パターンを形成（描画）する光学記録装置及び光学
記録方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近時、光記録媒体（光ディスクや光磁気
ディスク等）の原盤作製、あるいはプリント配線基板や
半導体集積回路等の作製に用いられるフォトレジストマ
スクの作製などにおいて、レーザ光を用いた光学記録装
置が使用されている。

【０００３】従来の光学記録装置は、例えば光記録媒体
（光ディスクや光磁気ディスク等）の原盤作製を主体に
して説明すると、例えば図４に示すように、気体を増幅
媒質とするガスレーザ光源５１と、このガスレーザ光源
５１から出射されたレーザ光Ｌを、後段の光学系に導く
ミラー５２と、このミラー５２を介して導かれたレーザ
光Ｌを、入力される記録信号Ｓｗに応じて強度変調する
電気光学変調器（Erectro Optic Modulator；以下、単
にＥＯＭと記す）５３と、ＥＯＭ５３にて強度変調され
たレーザ光Ｌを、対物レンズ５４に導くミラー５５及び
５６とから構成されている。対物レンズ５４及びミラー
５６は、基板５７上に形成されたフォトレジスト膜５８
上に所定間隔をもって対向して配され、既知の移動機構
によって、基板５７の径方向に移動する。

【０００４】ここで、上記ＥＯＭ５３は、電気光学効果
（印加される信号電界によって媒質の屈折率が変化する
現象であって、特に、誘起される屈折率変化量が電界の
１乗に比例する効果であり、ポッケルス効果とも呼ぶ）
による媒質の屈折率変化を利用した光変調器である。即
ち、入射されたレーザ光（通常、ブリュースター窓によ
って直線偏光されている）Ｌの媒質中における２つの直
交偏光成分間の光学的位相差を、印加される信号電界で
制御して、上記レーザ光の偏光状態を変えるものであ
る。このＥＯＭ５３を透過したレーザ光Ｌは、楕円偏光
となるため、後段の１／４波長板及び検光子からなるア
ナライザ５９にて強度変調光に変換される。

【０００５】このＥＯＭ５３を用いた場合、変調帯域が
広くとれ、高速変調が可能であり、しかもレーザ光Ｌの
ビーム形状が変化しないため、フォトレジスト膜５８に
照射されるレーザ光Ｌのスポット径が一定となり、記録
されるパターンの線幅にばらつきがなくなる。

【０００６】また、他の従来例に係る光学記録装置とし
ては、図５に示すように、上記図４で示す光学記録装置
のＥＯＭ５３の代わりに音響光学変調器（Acousto Opti
c Modulator ；以下、単にＡＯＤと記す）６０を配置し
たものがある。即ち、レーザ光源５１から出射されたレ
ーザ光Ｌは、ビーム縮小レンズ６１によって、そのビー
ム径が縮小されてＡＯＤ６０に入射され、このＡＯＤ６
０において、供給される超音波（記録信号に基づいて変
調されている）Ｗに応じてその光強度が変調される。こ
のＡＯＤ６０にて強度変調されたレーザ光Ｌは、後段の
ビーム拡大レンズ６２によって、そのビーム径が復元さ
れ、その後、ミラー５５及び５６並びに対物レンズ５４
を介してフォトレジスト膜５８に照射される。

【０００７】ここで、ＡＯＤ６０は、ブラッグ回折にお
ける一次回折光強度が超音波パワーにほぼ比例すること
を利用したものであり、超音波パワーを記録信号に基づ
いて変調してレーザ光Ｌの光変調を行う。このＡＯＤ６
０は、供給される超音波Ｗにより生じた結晶中の位相回
折格子のブラッグ回折を利用するため、温度依存性がな
く、動作点が安定であるという長所がある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図４で
示すＥＯＭ５３は、その入力−出力特性、即ち位相差
（印加電界に対応した位相差）−光出力特性がサインカ
ーブを描くことから、アナログ変調方式を採用した場合
において、その動作点を決めるバイアス電圧に高電圧が
必要であること、及び、温度変化やバイアス電圧の微少
な変化によって、動作点が容易に変動してしまうため、
光出力が安定しないという不都合がある。

【０００９】この不都合を解消するために、従来では、
レーザ光ＬにおけるＥＯＭ５３の入射側及び出射側の各
光出力の一部を検出し、その検出結果に基づいてバイア
ス電圧を自動的に設定するという、いわゆるオートバイ
アスコントロールを行って動作点を安定化させるように
している。

【００１０】しかし、このオートバイアスコントロール
は、平均レベルに対して制御を行うため、ＦＭ（周波数
変調）信号やＥＦＭ（８−１４変調）信号のような、い
わゆるＤＣフリーの信号については制御可能であるが、
デューティが大きく変わる記録可能光ディスクのプリフ
ォーマットや、繰り返しの遅い信号については対応でき
ないという問題がある。

【００１１】一方、図５で示すＡＯＭ６０は、電極から
伝達される超音波Ｗが光スポットをよぎるための群遅延
により、フィードバック系の素子としては不適であるこ
とから、レーザ光のノイズを抑圧することができず、Ｈ
ｅ−Ｃｄレーザを使用することができないという問題が
ある。

【００１２】即ち、光学記録装置によりフォトレジスト
膜５８をパターニングしてフォトレジストマスクを形成
する場合、そのレーザ光源５１としては、上記フォトレ
ジスト膜５８に対して高感度であるＨｅ−Ｃｄレーザ光
源を用いることが好ましい。しかし、このＨｅ−Ｃｄレ
ーザ光源から出射されるレーザ光は、他のレーザ光、例
えばアルゴンレーザに比べノイズが多いという欠点があ
るからである。

【００１３】従って、図５で示す他の従来例に係る光学
記録装置においては、他のレーザ（例えばアルゴンレー
ザ等）に比べてノイズの多いＨｅ−Ｃｄレーザを、高品
位のＣ／Ｎが要求される光学式ビデオディスクの信号記
録に使用することは困難である。

【００１４】本発明は、上記の課題に鑑みてなされたも
ので、その目的とするところは、レーザ光源の種類及び
印加信号の種類に拘らず、被記録体に記録パターンを高
精度に描画することができる光学記録装置及び光学記録
方法を提供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の光学記録装置
は、連続発振しているレーザ光Ｌを強度変調し、この強
度変調されたレーザ光Ｌを被記録体８に照射して、上記
被記録体８に記録パターンを描画する光学記録装置にお
いて、印加される信号電界Ｖに基づいてレーザ光Ｌを強
度変調する電気光学変調器（ＥＯＭ）２と、レーザ光Ｌ
の一部を検出し、レーザ光Ｌの光出力が一定となるよう
に電気光学変調器２を制御するフィードバック系１４
と、電気光学変調器２からのレーザ光Ｌを、印加記録信
号Ｓｗに基づいて強度変調する音響光学変調器（ＡＯ
Ｍ）３とを具備して構成する。

【００１６】また、本発明の光学記録方法は、連続発振
しているレーザ光Ｌを強度変調し、この強度変調された
レーザ光Ｌを被記録体８に照射して、上記被記録体８に
記録パターンを描画する光学記録方法において、上記レ
ーザ光Ｌを電気光学変調器（ＥＯＭ）２にて、その光出
力が一定となるように制御し、この光出力が一定に制御
されたレーザ光Ｌを、音響光学変調器（ＡＯＭ）３に
て、記録信号Ｓｗに基づいて強度変調する。

【００１７】

【作用】本発明に係る光学記録装置は、レーザ光源１か
ら出射されたレーザ光Ｌを、まず、電気光学変調器２に
おいて、この電気光学変調器２に供給される信号電界Ｖ
に基づいて強度変調する。このとき、レーザ光Ｌは、供
給される信号電界Ｖに応じて、そのビーム径が一定とな
るように整形される。

【００１８】この場合、温度変化やバイアス電位の変動
によって、電気光学変調器（ＥＯＭ）の動作点が容易に
変動することになるが、本発明に係る光学記録装置にお
いては、フィードバック系１４によって、レーザ光Ｌの
一部を検出して、レーザ光Ｌの光出力（光量）が一定と
なるように上記電気光学変調器（ＥＯＭ）をフィードバ
ック制御するため、この電気光学変調器（ＥＯＭ）を透
過するレーザ光Ｌの光出力は安定化する。しかも、レー
ザ光Ｌに含まれているノイズ、特に、フィードバックの
帯域内における高周波ノイズが低減される。

【００１９】従って、電気光学変調器２からは、ノイズ
及び光量変動の少ない良質の連続光が出力される。

【００２０】そして、この電気光学変調器２を透過した
レーザ光Ｌは、後段の音響光学変調器３において、この
音響光学変調器３に供給される記録信号Ｓｗに基づいて
強度変調される。即ち、記録信号Ｓｗによって変調され
た超音波Ｗが上記音響光学変調器（ＡＯＭ）に供給され
ることによって、レーザ光が強度変調される。

【００２１】この場合、原理的に上記電気光学変調器
（ＥＯＭ）のような動作点変動はない。また、フィード
バック制御を行わないため、どのようなデューティの信
号や低周波の信号に対しても安定に強度変調される。そ
して、上記音響光学変調器３を透過したレーザ光Ｌは、
被記録体８に照射され、被記録体８に、レーザ光Ｌの照
射軌跡に応じた記録パターンが描画される。

【００２２】また、本発明の光学記録方法においては、
レーザ光源１から出射されたレーザ光Ｌは、まず、電気
光学変調器２において、この電気光学変調器２に印加さ
れる印加信号電界Ｖにて強度変調されると共に、その光
出力が一定となるように制御される。その後、この光出
力が一定に制御されたレーザ光Ｌは、音響光学変調器３
において、この音響光学変調器３に供給される超音波
（記録信号Ｓｗによって変調された超音波Ｗ）に基づい
て強度変調されて、被記録体８に照射される。このと
き、被記録体８には、レーザ光Ｌの照射軌跡に応じた記
録パターンが描画される。

【００２３】

【実施例】以下、本発明に係る光学記録装置を、光記録
媒体（光ディスクや光磁気ディスク等）の原盤作製に用
いられる光学記録装置に適用した場合の実施例（以下、
単に実施例に係る光学記録装置と記す）を図１〜図３を
参照しながら説明する。

【００２４】この実施例に係る光学記録装置は、図１に
示すように、気体を増幅媒質とするガスレーザ光源１
と、このガスレーザ光源１から出射されたレーザ光Ｌ
を、入力される信号電界に応じて強度変調する横型電気
光学変調器（Erectro Optic Modulator；以下、単にＥ
ＯＭと記す）２と、記録信号にて変調された超音波に基
づいて、上記ＥＯＭ２からのレーザ光Ｌを強度変調する
音響光学変調器（AcoustoOptic Modulator ；以下、単
にＡＯＭと記す）３と、このＡＯＭ３にて強度変調され
たレーザ光Ｌを、対物レンズ４に導くミラー５及び６と
から構成されている。対物レンズ４及びミラー５，６
は、円形の基板７上に形成されたフォトレジスト膜８上
に配され、既知の移動機構によって、基板７の径方向に
移動する。

【００２５】ここで、フォトレジスト膜８の感光材料が
ポジ型の場合、上記レーザ光Ｌとしては、Ａｒレーザで
は４５８ｎｍ、Ｈｅ−Ｃｄレーザでは４４２ｎｍの発振
波長のものが選定される。また、最近では、４００ｎｍ
付近の発振波長を有するＫｒレーザも使用される場合が
ある。また、これらのガスレーザは、ブリュースター窓
により直線偏光のレーザ光Ｌとして出射される。

【００２６】上記ＥＯＭ２は、例えばＡＤＰやＫＤＰの
結晶で構成されており、このＥＯＭ２の電極間に可変直
流電源９のみが接続されている。通常、この可変直流電
源９からは、一定レベルの直流電圧Ｖが出力される。そ
して、ＥＯＭ２に入射された直線偏光のレーザ光Ｌ、特
に媒質中における２つの直交偏光成分間の光学的位相差
Δφが、上記可変直流電源９からの直流電圧Ｖの供給に
よって制御され、この制御により、レーザ光Ｌの偏光状
態が変化する。

【００２７】このＥＯＭ２を透過したレーザ光Ｌは、楕
円偏光となるため、後段の１／４波長板及び検光子から
なるアナライザ１０にて強度変調光に変換される。即
ち、ＥＯＭ２から出力された楕円偏光のレーザ光Ｌは、
まず、１／４波長板にて直線偏光のレーザ光Ｌに戻され
るが、入射光に比べて電気ベクトルの振動面が直流電圧
Ｖに比例した角度Δφ／２だけ回転しているため、次に
検光子によって強度変調光に変換される。この場合、上
記ＥＯＭ２から出力されたレーザ光Ｌは、図３で示す、
特性曲線ｓｉｎ²（Ｖ）に比例した光出力（光量）とな
る。

【００２８】そして、本実施例においては、ＥＯＭ２の
後段（正確には、アナライザ１０の後段）にハーフミラ
ー又はビームスプリッタ（以下、ハーフミラー等と記
す）１１を配置することによって、ＥＯＭ２を透過した
レーザ光Ｌを２つに分け、この２つに分岐された光路
中、ＥＯＭ２の透過光路に延長した第１の光路上に光検
出器を配置し、その後段に電圧制御回路１３を接続す
る。そして、この電圧制御回路１３と上記可変直流電源
９とを接続する。即ち、ＥＯＭ２、光検出器１２、電圧
制御回路１３及び可変直流電源９にて１つのフィードバ
ック系１４が構成される。光検出器１２は、ＥＯＭ２を
透過したレーザ光Ｌの光出力を信号電流（検出信号）Ｓ
ｉに変換するもので、例えばフォトダイオードにて構成
することができる。

【００２９】電圧制御回路１３は、例えば図２に示すよ
うに、光検出器１２からの検出信号Ｓｉを電圧変換する
プリアンプ２１と、このプリアンプ２１からの電圧信号
Ｖｉとリファレンス電圧Ｖｒとの差をとる差分アンプ２
２と、この差分アンプ２２からの差信号Δｖを所定のゲ
インにて増幅するドライブアンプ２３とから構成されて
いる。ここで、上記リファレンス電圧Ｖｒは、所望する
光出力（光量）対応した電圧に設定されている。また、
可変直流電源９は、基準電圧源２４と、この基準電圧源
２４からの基準電圧Ｖｂとドライブアンプ２３からの増
幅差信号ΔＶとを加算する加算器２５とで構成されてい
る。

【００３０】このフィードバック系１４の動作を説明す
ると、まず、ＥＯＭ２を透過したレーザ光Ｌの一部がハ
ーフミラー等１１を介して光検出器１２に入射される。
この光検出器１２からは、入射されたレーザ光Ｌの光量
に応じた信号電流（検出信号）Ｓｉが出力される。光検
出器１２からの検知信号Ｓｉは、後段のプリアンプ２１
にて検出信号Ｓｉが電圧変換され、検出信号Ｓｉの電流
レベルに応じた電圧レベルを有する電圧信号Ｖｉとして
出力される。

【００３１】そして、次段の差分アンプ２２から上記電
圧信号Ｖｉとリファレンス電圧Ｖｒとのレベル差を示す
差信号Δｖが出力される。電圧信号Ｖｉのレベルがリフ
ァレンス電圧Ｖｒのレベルよりも大きい場合、負レベル
の差信号Δｖが出力され、逆に電圧信号Ｖｉのレベルが
リファレンス電圧Ｖｒのレベルよりも小さい場合、正レ
ベルの差信号Δｖが出力される。

【００３２】上記差分アンプ２２からの差信号Δｖは、
後段のドライブアンプ２３において、所定のゲインにて
増幅される。このゲインは、例えば図３の特性図に示す
ように、予め可変直流電源９の基準電圧Ｖｂと対応した
動作点Ｐにおける光量を基準として、固定変化量ΔＩに
おけるポイントＡでの位相差Δφａを割り出しておき、
このときの差分アンプ２２から出力される差信号Δｖと
上記位相差Δφａに基づいて設定する。

【００３３】そして、後段の加算器２５にて、上記ドラ
イブアンプ２３からの増幅差信号ΔＶと、上記基準電圧
源２４からの基準電圧Ｖｂとが加算され、この加算電圧
信号ＶがＥＯＭ２の電極間に供給される。即ち、ＥＯＭ
２を透過したレーザ光Ｌの光量がリファレンス電圧Ｖｒ
に対応した基準光量となるように基準電圧（ＥＯＭ２に
印加される電圧Ｖ）が変化することになる。従って、Ｅ
ＯＭ２を透過するレーザ光Ｌの光出力（光量）が、例え
ば温度変化などによって変動する場合においても、この
フィードバック系１４によって、その光量は一定とな
る。

【００３４】一方、ハーフミラー等１１によって２つに
分岐された光路中、このハーフミラー等１１によって反
射されたレーザ光Ｌが通る第２の光路上に、ビーム縮小
レンズ３１、ＡＯＭ３及びビーム拡大レンズ３２が順に
配置されている。上記ＡＯＭ３には、超音波発生回路３
３が接続されており、この超音波発生回路３３は、発生
した超音波を、入力端子φｉｎに供給される記録信号
（フォトレジスト膜８に描画する記録パターンが電気的
に変換された信号）Ｓｗに基づいて変調するものであ
る。この超音波発生回路３３にて変調された超音波Ｗ
は、ＡＯＭ３に供給される。

【００３５】このＡＯＭ３は、例えばＴｅＯ₂ 結晶から
構成されており、超音波発生回路３３からの超音波供給
によりその結晶中に生じた屈折率変化による位相回折格
子を用いて、そのブラッグ回折の１次回折光を信号記録
に使用するものである。回折光の強度は、超音波パワー
で決まり、回折方向はキャリア周波数で決まる。従っ
て、原理的に上記ＥＯＭ２のようなバイアス変動がな
い。また、最近では、結晶デバイスと発生回路の改善に
より、ＥＯＭ２と同等の変調帯域幅を得ることができ
る。しかも、フィードバック制御を行わないため、どの
ようなデューティの信号や低周波の信号に対しても安定
な光変調を行うことができる。

【００３６】そして、このＡＯＭ３にて強度変調された
レーザ光Ｌは、後段のビーム拡大レンズ３２によって、
そのビーム径が復元され、更に後段のミラー５及び６に
よって対物レンズ４側に誘導され、最終的にこの対物レ
ンズ４によって集光されて、フォトレジスト膜８上に照
射される。

【００３７】基板７は、図示しないスピンドルモータに
よって一方向に回転しており、また、ミラー５，６及び
対物レンズ４が既知の移動機構によって、基板７の径方
向に移動することから、例えば超音波発生回路３３の入
力端子φｉｎに、光ディスク用のプリフォーマットや音
声信号及び映像信号を供給することによって、基板７上
のフォトレジスト膜８にその信号に基づいた記録パター
ンが描画される。

【００３８】フォトレジスト膜８は、その描画された記
録パターンに沿って感光され、その感光された部分が次
の現像工程における現像液にて溶解することになる。従
って、その後の現像処理において、その感光された部分
が除去され、フォトレジスト膜８によるマスクが形成さ
れる。その後は、通常の原盤作製工程に基づいて、無電
解めっき、ニッケルめっき並びに洗浄工程等が行われる
ことにより、光ディスク用の原盤が作製される。

【００３９】このように、本実施例に係る光学記録装置
によれば、レーザ光源１から出射されたレーザ光Ｌを、
まず、ＥＯＭ２において、このＥＯＭ２に供給される直
流電圧Ｖに基づいて強度変調するが、このとき、フィー
ドバック系１４によって、レーザ光Ｌの光出力（光量）
が一定となるようにＥＯＭ２をフィードバック制御する
ため、このＥＯＭ２を透過するレーザ光Ｌの光出力は安
定化することになる。

【００４０】ところで、上記ガスレーザ光源１からの連
続発振のガスレーザは、放電や電源リップルによるノイ
ズ成分を含み、温度変化や機械的変動によってその発振
パワーが変化する。電流変調が可能な希ガスレーザで
は、電流制御により発振パワーの安定化ができるが高周
波のノイズを低減することができない。しかし、本実施
例においては、上記レーザ光に含まれているノイズ、特
に、フィードバックの帯域内における高周波ノイズが低
減される。このことから、上記ＥＯＭ２からは、ノイズ
及び光量変動の少ない良質で、かつビーム径が一定とな
った連続光が出力されることになる。

【００４１】そして、上記ＥＯＭ２を透過したレーザ光
Ｌは、後段のＡＯＭ３において、このＡＯＭ３に供給さ
れる超音波（記録信号によって変調された超音波）Ｗに
基づいて強度変調される。この場合、原理的に上記ＥＯ
Ｍ２のような動作点変動はなく、また、フィードバック
制御を行わないため、どのようなデューティの信号や低
周波の信号に対しても安定に強度変調される。

【００４２】従って、この光学記録装置によれば、レー
ザ光源１の種類及び印加信号の種類に拘らず、フォトレ
ジスト膜８に記録パターンを高精度に描画することがで
きる。即ち、フィードバック系１４によって、ＥＯＭ２
を透過したレーザ光Ｌのノイズリダクション及びパワー
コントロールを行うため、きわめて安定な露光が可能と
なる。また、フォトレジスト膜８に対して高感度である
が、ノイズが多いため使用が困難であったＨｅ−Ｃｄレ
ーザを、例えば高品位のＣ／Ｎが要求される光学式ビデ
オディスクの原盤記録に使用することができる。

【００４３】また、ＡＯＭ３の結晶デバイスや超音波発
生回路３３を適宜選定することにより、光記録媒体の原
盤記録ばかりでなく、レーザ光Ｌによる精密な露光が必
要な装置、例えばプリント配線基板や半導体集積回路等
の作製に用いられるフォトレジストマスクの作製装置等
に幅広く適用させることができる。また、高価なＥＯＭ
２に対するオートバイアス制御を使用しないため、光学
系が作製コスト並びに光学記録装置自体の製造コスト等
を低廉化することができる。

【００４４】

【発明の効果】上述のように、本発明に係る光学記録装
置によれば、印加される信号電界に基づいてレーザ光を
強度変調する第１の光変調器と、レーザ光の一部を検出
し、レーザ光の光出力が一定となるように第１の光変調
器を制御するフィードバック系と、第１の光変調器から
のレーザ光を、印加記録信号に基づいて強度変調する第
２の光変調器とを具備するようにしたので、レーザ光源
の種類及び印加信号の種類に拘らず、被記録体に記録パ
ターンを高精度に描画することができる。

【００４５】また、本発明に係る光学記録方法によれ
ば、レーザ光を印加信号電界にて強度変調すると共に、
レーザ光の一部を検出して、上記強度変調されたレーザ
光の光出力が一定となるように制御し、この光出力が一
定に制御されたレーザ光を記録信号に基づいて強度変調
するようにしたので、レーザ光源の種類及び印加信号の
種類に拘らず、被記録体に記録パターンを高精度に描画
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光学記録装置の実施例を示す構成
図である。

【図２】本発明に係る光学記録装置の実施例に具備され
るフィードバック系の構成を示すブロック線図である。

【図３】本発明に係る光学記録装置の実施例に使用され
る電気光学変調器（ＥＯＭ）の入力−出力特性を示す特
性図である。

【図４】従来例に係る光学記録装置を示す構成図であ
る。

【図５】他の従来例に係る光学記録装置を示す構成図で
ある。

【符号の説明】

１レーザ光源２電気光学変調器（ＥＯＭ）３音響光学変調器（ＡＯＭ）４対物レンズ５，６ミラー７基板８フォトレジスト膜９可変直流電源１０アナライザ１１ハーフミラー等１２光検出器１３電圧制御回路１４フィードバック系３３超音波発生回路

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】連続発振しているレーザ光を強度変調
し、この強度変調されたレーザ光を被記録体に照射し
て、上記被記録体に記録パターンを描画する光学記録装
置において、印加信号電界に基づいて上記レーザ光を強度変調する電
気光学変調器と、上記電気光学変調器を透過したレーザ光の一部を検出
し、このレーザ光の光出力が一定となるように上記電気
光学変調器を制御するフィードバック系と、上記電気光学変調器からのレーザ光を、印加記録信号に
基づいて強度変調する音響光学変調器とを有することを
特徴とする光学記録装置。
【請求項２】連続発振しているレーザ光を強度変調
し、この強度変調されたレーザ光を被記録体に照射し
て、上記被記録体に記録パターンを描画する光学記録方
法において、上記レーザ光を、電気光学変調器により、その光出力が
一定となるように制御し、この光出力が一定に制御され
たレーザ光を音響光学変調器により、記録信号に基づい
て強度変調することを特徴とする光学記録方法。