JPH0673801B2 - 磁気デイスクの製造方法およびその装置 - Google Patents
磁気デイスクの製造方法およびその装置Info
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- JPH0673801B2 JPH0673801B2 JP60240656A JP24065685A JPH0673801B2 JP H0673801 B2 JPH0673801 B2 JP H0673801B2 JP 60240656 A JP60240656 A JP 60240656A JP 24065685 A JP24065685 A JP 24065685A JP H0673801 B2 JPH0673801 B2 JP H0673801B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は磁気ディスクの製造方法およびその装置に係
り、特に磁気ディスクの研磨の作業効率を高める磁気デ
ィスクの製造方法およびその装置に関する。
り、特に磁気ディスクの研磨の作業効率を高める磁気デ
ィスクの製造方法およびその装置に関する。
〈従来の技術〉 磁気ディスクの製造に際しては、ベースフィルムに対し
て磁性層を形成した後、磁気ヘッドとの密着性を向上さ
せるため研磨作業を行っている。この研磨作業は、磁性
層を形成したベースフィルムを打ち抜いてディスクを形
成した後、このディスクを回転させ、研磨用ヘッドをこ
のディスクの半径方向に移動させることにより相対的に
研磨用ヘッドをディスクに対して摺動させることにより
実施している。
て磁性層を形成した後、磁気ヘッドとの密着性を向上さ
せるため研磨作業を行っている。この研磨作業は、磁性
層を形成したベースフィルムを打ち抜いてディスクを形
成した後、このディスクを回転させ、研磨用ヘッドをこ
のディスクの半径方向に移動させることにより相対的に
研磨用ヘッドをディスクに対して摺動させることにより
実施している。
〈発明が解決しようとする問題点〉 しかし、上述の方法によると、研磨の度にそれぞれのデ
ィスクを研磨機にセットせねばならず、研磨は上述のよ
うに研磨用ヘッドをディスクに対して相対的に摺動する
方式であるため研磨時間が長くなる。
ィスクを研磨機にセットせねばならず、研磨は上述のよ
うに研磨用ヘッドをディスクに対して相対的に摺動する
方式であるため研磨時間が長くなる。
〈問題点を解決するための手段〉 本発明は上述の問題点に鑑み構成したものであり、第１
の本発明は、 ベースフィルムの表面に磁性層を形成した原反シートを
所定の速度で移動させ、 例えばゴムローラなどの弾性ローラにより、ベルト状の
研磨部材を前記移動中の原反シートの表面に圧接させて
原反シートの表面を研磨する磁気ディスクの製造方法に
おいて、 前記研磨部材によって研磨される原反シートの研磨部分
の幅W2が原反シートの幅W1より小さくなるように研磨し
て、そして研磨部分をディスク状に打ち抜くことを特徴
とするものである。
の本発明は、 ベースフィルムの表面に磁性層を形成した原反シートを
所定の速度で移動させ、 例えばゴムローラなどの弾性ローラにより、ベルト状の
研磨部材を前記移動中の原反シートの表面に圧接させて
原反シートの表面を研磨する磁気ディスクの製造方法に
おいて、 前記研磨部材によって研磨される原反シートの研磨部分
の幅W2が原反シートの幅W1より小さくなるように研磨し
て、そして研磨部分をディスク状に打ち抜くことを特徴
とするものである。
また第２の本発明は、 ベースフィルムの表面に磁性層を形成した原反シートを
所定の速度で移動させる移動手段と、 移動中の原反シートの表面に圧接して研磨するベルト状
の研磨部材と、 その研磨部材を原反シート表面に圧接するための例えば
ゴムローラなどの弾性ローラとを備え、 前記研磨部材によって研磨される原反シートの研磨部分
の幅W2が、原反シートの幅W1より小さくなるように構成
されていることを特徴とするものである。
所定の速度で移動させる移動手段と、 移動中の原反シートの表面に圧接して研磨するベルト状
の研磨部材と、 その研磨部材を原反シート表面に圧接するための例えば
ゴムローラなどの弾性ローラとを備え、 前記研磨部材によって研磨される原反シートの研磨部分
の幅W2が、原反シートの幅W1より小さくなるように構成
されていることを特徴とするものである。
〈実施例〉 以下本発明の実施例につき具体的に説明する。
第１図において、符号１はポリエステルなどの合成樹脂
の基体に対して磁性層を形成したシート（以下「原反」
と称する）２を巻いた繰り出しロールであり矢印Ａ方向
に移動し、ガイドローラ３を経て第１の研磨部４に至
る。この研磨部４は原反２を中心として上部に位置する
上部研磨部と下部に位置する下部研磨部から成ってい
る。このうち、上部研磨部はテープ状の研磨部材８を巻
き回した繰り出しリール6bと、この繰り出しリール6bか
ら繰り出された研磨部材８を巻き巻き取りリール6a、及
びバネ７などの圧接手段により原反２側に押圧されるゴ
ムローラ５と、これらローラに対して掛けたベルト状の
研磨部材８とから成っている。研磨部材８は所定のシー
トに対してアルミナ粒子を塗布する等の方法により形成
し、かつその表面荒さは8000番程度が好適である。また
この研磨部材８は原反２の接触面において、この原反２
の移動方向と対向するようＢ方向に移動している。原反
のＡ方向への移動速度は約20m/分であり、研磨部材８の
Ｂ方向への移動速度は約3mm/秒である。但し、研磨部材
８のＢ方向への移動は本発明の構成に必須のものではな
く、原反２の移動速度に対して一定の速度差があれば原
反２の移動方向と同じ方向に移動させてもほぼ同様な効
果を期待できる。また第３図の如く、原反２に対する研
磨部分2aの幅W2は原反２の幅W1よりも少なくしておく。
これは前記研磨部分2aの幅W2を原反２の幅W1よりも大き
くとると、原反２の幅W1と等しい幅でゴムロールに対し
て段部が生じることが実験的に確認されたからである。
これは研磨部材の厚さによりゴムローラに対して原反２
の側縁部が押圧されるためと考えられる。このようにゴ
ムローラ５に段部が生じると、原反２の研磨状態が悪く
なり、結局、磁気ディスクにした場合にヘッドタッチが
悪くなり、S/N特性が低下する。従って第３図に示すよ
うに、前記研磨部分2aの幅W2を原反２の幅W1よりも小さ
くして（W2〈W1）、その研磨部分2aをディスク状に打ち
抜いて磁気ディスク16を得ることにより、前述のように
ゴムローラ５に段部が形成されることがなく、よって研
磨状態が良好で、ヘッドタッチが良く、高いS/N特性を
有する磁気ディスク16が得られる。
の基体に対して磁性層を形成したシート（以下「原反」
と称する）２を巻いた繰り出しロールであり矢印Ａ方向
に移動し、ガイドローラ３を経て第１の研磨部４に至
る。この研磨部４は原反２を中心として上部に位置する
上部研磨部と下部に位置する下部研磨部から成ってい
る。このうち、上部研磨部はテープ状の研磨部材８を巻
き回した繰り出しリール6bと、この繰り出しリール6bか
ら繰り出された研磨部材８を巻き巻き取りリール6a、及
びバネ７などの圧接手段により原反２側に押圧されるゴ
ムローラ５と、これらローラに対して掛けたベルト状の
研磨部材８とから成っている。研磨部材８は所定のシー
トに対してアルミナ粒子を塗布する等の方法により形成
し、かつその表面荒さは8000番程度が好適である。また
この研磨部材８は原反２の接触面において、この原反２
の移動方向と対向するようＢ方向に移動している。原反
のＡ方向への移動速度は約20m/分であり、研磨部材８の
Ｂ方向への移動速度は約3mm/秒である。但し、研磨部材
８のＢ方向への移動は本発明の構成に必須のものではな
く、原反２の移動速度に対して一定の速度差があれば原
反２の移動方向と同じ方向に移動させてもほぼ同様な効
果を期待できる。また第３図の如く、原反２に対する研
磨部分2aの幅W2は原反２の幅W1よりも少なくしておく。
これは前記研磨部分2aの幅W2を原反２の幅W1よりも大き
くとると、原反２の幅W1と等しい幅でゴムロールに対し
て段部が生じることが実験的に確認されたからである。
これは研磨部材の厚さによりゴムローラに対して原反２
の側縁部が押圧されるためと考えられる。このようにゴ
ムローラ５に段部が生じると、原反２の研磨状態が悪く
なり、結局、磁気ディスクにした場合にヘッドタッチが
悪くなり、S/N特性が低下する。従って第３図に示すよ
うに、前記研磨部分2aの幅W2を原反２の幅W1よりも小さ
くして（W2〈W1）、その研磨部分2aをディスク状に打ち
抜いて磁気ディスク16を得ることにより、前述のように
ゴムローラ５に段部が形成されることがなく、よって研
磨状態が良好で、ヘッドタッチが良く、高いS/N特性を
有する磁気ディスク16が得られる。
次に下部研磨部はテープ状の研磨部材10を巻回した繰り
出しリール6dと、この繰り出しリール6dから繰り出され
た研磨部材10を巻き取る巻き取りリール6c及びゴムロー
ラ９と、このゴムローラ９に掛けた上記研磨部材10とか
らなっている。この研磨部材10も原反２の移動方向Ａと
対向するＣ方向に移動するようにしてある。但し上部研
磨部の研磨部材と同様、原反２の移動速度との間に所定
の速度差があれば研磨部材10の移動方向を原反２の移動
方向と同じにしてもよい。このように原反２の両面に対
して上下の研磨部を配置することにより原反２の移動中
に原反２の両面に対して同時に研磨を行うことができ
る。
出しリール6dと、この繰り出しリール6dから繰り出され
た研磨部材10を巻き取る巻き取りリール6c及びゴムロー
ラ９と、このゴムローラ９に掛けた上記研磨部材10とか
らなっている。この研磨部材10も原反２の移動方向Ａと
対向するＣ方向に移動するようにしてある。但し上部研
磨部の研磨部材と同様、原反２の移動速度との間に所定
の速度差があれば研磨部材10の移動方向を原反２の移動
方向と同じにしてもよい。このように原反２の両面に対
して上下の研磨部を配置することにより原反２の移動中
に原反２の両面に対して同時に研磨を行うことができ
る。
なお、上記ゴムローラ５及び９の硬度はショア硬度で10
〜30Hsが適当である。因みに、硬度が10Hs以下であると
ローラの形成自体が困難になり、たとえローラの形成が
可能であってもローラ表面の緻密性が低くなり原反に対
して悪影を与える。また反対に30Hs超える硬度であると
原反に対して筋状の傷をつける等の事態が生じ、やはり
妥当でない。
〜30Hsが適当である。因みに、硬度が10Hs以下であると
ローラの形成自体が困難になり、たとえローラの形成が
可能であってもローラ表面の緻密性が低くなり原反に対
して悪影を与える。また反対に30Hs超える硬度であると
原反に対して筋状の傷をつける等の事態が生じ、やはり
妥当でない。
12は第１研磨部４に後続して配置した第２研磨部であ
り、その構成は第１研磨部４と同様、原反２を介して上
下にそれぞれ上部研磨部と下部研磨部を配置することに
より構成してある。また上下の研磨部も巻き取り、繰り
出しリールとゴムローラおよびこれらローラに掛けたテ
ーパ状の研磨部材とから構成されている。ただし、各研
磨部材の表面荒さは第１研磨部４の研磨部材８、10より
も低下させ、第１研磨部４で行った研磨の仕上げをこの
第２研磨部で行うよう構成してある。この第２研磨部12
の研磨部材の表面荒さとしては8000番程度が適当であ
る。13は原反用のガイドローラ、14は原反２を介してこ
のガイドローラ13に対向位置する駆動用ローラであり、
原反２をＡ方向に移動させ、かつこの原反に対して張力
を与えるようにしている。研磨を完了した原反２は巻き
取りロール15に巻き取られ、研磨作業は完了する。
り、その構成は第１研磨部４と同様、原反２を介して上
下にそれぞれ上部研磨部と下部研磨部を配置することに
より構成してある。また上下の研磨部も巻き取り、繰り
出しリールとゴムローラおよびこれらローラに掛けたテ
ーパ状の研磨部材とから構成されている。ただし、各研
磨部材の表面荒さは第１研磨部４の研磨部材８、10より
も低下させ、第１研磨部４で行った研磨の仕上げをこの
第２研磨部で行うよう構成してある。この第２研磨部12
の研磨部材の表面荒さとしては8000番程度が適当であ
る。13は原反用のガイドローラ、14は原反２を介してこ
のガイドローラ13に対向位置する駆動用ローラであり、
原反２をＡ方向に移動させ、かつこの原反に対して張力
を与えるようにしている。研磨を完了した原反２は巻き
取りロール15に巻き取られ、研磨作業は完了する。
以上研磨部が原反の移動方向に対して２基配置した状態
を示したが、もとより３基以上配置することも可能であ
り、また研磨の程度は低下するものの１基でもほぼ目的
を達成することができる。
を示したが、もとより３基以上配置することも可能であ
り、また研磨の程度は低下するものの１基でもほぼ目的
を達成することができる。
また図示の構成は研磨部材の移動方向が原反２の移動方
向と一致するか反対に180゜逆にした状態を示している
が、これに限るものではなく研磨部材の移動方向を、原
反２の移動方向に対して所定の角度をもって配置しても
良い。例えば研磨部材の移動方向を原反の移動方向に対
して直交させる等である。
向と一致するか反対に180゜逆にした状態を示している
が、これに限るものではなく研磨部材の移動方向を、原
反２の移動方向に対して所定の角度をもって配置しても
良い。例えば研磨部材の移動方向を原反の移動方向に対
して直交させる等である。
第２図は本発明の第２の実施例を示す。
この実施例においては、研磨部の他に、この研磨部に後
続して研磨により生じた塵を除去する塵埃除去部を配置
してある。
続して研磨により生じた塵を除去する塵埃除去部を配置
してある。
符号17は塵埃除去部を示す。この塵埃除去部17は基本的
には第１、第２研磨部と同様の構成となっている。即
ち、原反２を介して上部塵埃除去部と下部塵埃除去部を
対向位置させ、これら上部塵埃除去部及び下部塵埃除去
部共に、２つの巻き取り・繰り出しリール（符号20a、2
0b、21a、21bで示す）と１つのゴムローラ（符号22、23
で示す）が各々配置されている。これらローラに対して
はテープ状の塵埃除去部材18、19が掛けてあり、例えば
研磨部の研磨部材と同様ＢないしＣ方向に移動するよう
構成してある。この塵埃除去部材18、19は主として研磨
により発生し、原反２の表面に付着した塵埃を除去する
ためのものであり、塵埃の除去が良好でありかつ研磨の
完了した原反表面を傷つけない材料で形成する必要があ
る。従って塵埃除去部材の形成材料としては不織布が効
果的である。次に24及び25はこの塵埃除去部材18、19に
対して取りつけた塵埃吸引装置である。即ちこの装置は
塵埃除去部材側に付着した塵埃を吸引除去する装置であ
り、この装置により原反２から塵埃除去部材18、19側に
除去した塵埃をさらにこの塵埃除去部材から吸引除去す
ることにより、原反２に対しては常に清浄な塵埃除去部
材を接触させ塵埃除去を効果的に行うようにしている。
なお塵埃除去部材からの塵埃除去は吸引方式のほか粘着
材を塗布したベルト（テープ）を、塵埃を付着させた塵
埃除去部材に接触させることにより塵埃除去を行っても
よい。但しこの場合は塵埃除去部材18、19を介して粘着
材が原反２側に付着しないように配慮する必要がある。
には第１、第２研磨部と同様の構成となっている。即
ち、原反２を介して上部塵埃除去部と下部塵埃除去部を
対向位置させ、これら上部塵埃除去部及び下部塵埃除去
部共に、２つの巻き取り・繰り出しリール（符号20a、2
0b、21a、21bで示す）と１つのゴムローラ（符号22、23
で示す）が各々配置されている。これらローラに対して
はテープ状の塵埃除去部材18、19が掛けてあり、例えば
研磨部の研磨部材と同様ＢないしＣ方向に移動するよう
構成してある。この塵埃除去部材18、19は主として研磨
により発生し、原反２の表面に付着した塵埃を除去する
ためのものであり、塵埃の除去が良好でありかつ研磨の
完了した原反表面を傷つけない材料で形成する必要があ
る。従って塵埃除去部材の形成材料としては不織布が効
果的である。次に24及び25はこの塵埃除去部材18、19に
対して取りつけた塵埃吸引装置である。即ちこの装置は
塵埃除去部材側に付着した塵埃を吸引除去する装置であ
り、この装置により原反２から塵埃除去部材18、19側に
除去した塵埃をさらにこの塵埃除去部材から吸引除去す
ることにより、原反２に対しては常に清浄な塵埃除去部
材を接触させ塵埃除去を効果的に行うようにしている。
なお塵埃除去部材からの塵埃除去は吸引方式のほか粘着
材を塗布したベルト（テープ）を、塵埃を付着させた塵
埃除去部材に接触させることにより塵埃除去を行っても
よい。但しこの場合は塵埃除去部材18、19を介して粘着
材が原反２側に付着しないように配慮する必要がある。
以上に示す方法により形成された原反は第３図の如く所
定の径のディスクとして打ち抜かれ、ジャケットに収納
されて最終製品となる。
定の径のディスクとして打ち抜かれ、ジャケットに収納
されて最終製品となる。
〈効果〉 本発明は以上の構成となっているので、原反の状態で研
磨が可能であり、また前述のようにW2〈W1とすることに
より、弾性ローラに段部が形成れることがなく、研磨状
態が良好で、ヘッドタッチが良く、高いS/N特性を有す
る磁気ディスクが得られる。
磨が可能であり、また前述のようにW2〈W1とすることに
より、弾性ローラに段部が形成れることがなく、研磨状
態が良好で、ヘッドタッチが良く、高いS/N特性を有す
る磁気ディスクが得られる。
第１図は本発明の第１の実施例を示す装置の側面図、第
２図は第２の実施例を示す装置の側面図、第３図は原反
の平面部分図である。 １……繰り出しロール、２……原反 ４……第１研磨部 ５、９、22、23……ゴムローラ 6a、6b、6c、6d、20a、20b、21a、21b……ガイドローラ ８、10……研磨部材、12……第２研磨部、15……巻き取
りロール 17……塵埃除去部、18、19……塵埃除去部材、24、25…
…塵埃吸引装置
２図は第２の実施例を示す装置の側面図、第３図は原反
の平面部分図である。 １……繰り出しロール、２……原反 ４……第１研磨部 ５、９、22、23……ゴムローラ 6a、6b、6c、6d、20a、20b、21a、21b……ガイドローラ ８、10……研磨部材、12……第２研磨部、15……巻き取
りロール 17……塵埃除去部、18、19……塵埃除去部材、24、25…
…塵埃吸引装置
Claims (2)
- 【請求項１】ベースフィルムの表面に磁性層を形成した
原反シートを所定の速度で移動させ、 弾性ローラによってベルト状の研磨部材を前記移動中の
原反シートの表面に圧接させて原反シートの表面を研磨
する磁気ディスクの製造方法において、 前記研磨部材によって研磨される原反シートの研磨部分
の幅W2が原反シートの幅W1より小さくなるように研磨し
て、 その研磨部分をディスク状に打ち抜くことを特徴とする
磁気ディスクの製造方法。 - 【請求項２】ベースフィルムの表面に磁性層を形成した
原反シートを所定の速度で移動させる移動手段と、 移動中の原反シートの表面に圧接して研磨するベルト状
の研磨部材と、 その研磨部材を原反シート表面に圧接するための弾性ロ
ーラとを備え、 前記研磨部材によって研磨される原反シートの研磨部分
の幅W2が、原反シートの幅W1より小さいことを特徴とす
る磁気ディスクの製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60240656A JPH0673801B2 (ja) | 1985-10-29 | 1985-10-29 | 磁気デイスクの製造方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60240656A JPH0673801B2 (ja) | 1985-10-29 | 1985-10-29 | 磁気デイスクの製造方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62102965A JPS62102965A (ja) | 1987-05-13 |
| JPH0673801B2 true JPH0673801B2 (ja) | 1994-09-21 |
Family
ID=17062735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60240656A Expired - Fee Related JPH0673801B2 (ja) | 1985-10-29 | 1985-10-29 | 磁気デイスクの製造方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0673801B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2745086B2 (ja) * | 1991-10-21 | 1998-04-28 | 富士通株式会社 | 磁気ディスクの製造方法および製造装置 |
-
1985
- 1985-10-29 JP JP60240656A patent/JPH0673801B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62102965A (ja) | 1987-05-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |