JPH0667898B2 - 22,23―セコビタミンd若しくはその活性型またはそれらの誘導体の製造方法 - Google Patents

22,23―セコビタミンd若しくはその活性型またはそれらの誘導体の製造方法

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JPH0667898B2
JPH0667898B2 JP1035783A JP3578389A JPH0667898B2 JP H0667898 B2 JPH0667898 B2 JP H0667898B2 JP 1035783 A JP1035783 A JP 1035783A JP 3578389 A JP3578389 A JP 3578389A JP H0667898 B2 JPH0667898 B2 JP H0667898B2
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裕司 森本
修二 丸山
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Description

【発明の詳細な説明】 《産業上の利用分野》 本発明は、22,23−セコビタミンD若しくはその活
性型またはそれらの誘導体を、22,23−セコ−7,
8−ジヒドロキシビタミンDまたはその誘導体から製造
する方法に関する。
《従来の技術》 ビタミンDに関する研究は、現在知られているビタミン
の代謝産物のうちでは最も強い活性を有する1α,
25−ジヒドロキシビタミンDが1971年に発見されて以
来(H.F.De Lucaほか「Ann,Rev.Biochem」第45巻,P.63
1,1976年;H.F.De Luca,「Nutr.Rev」第37巻,P.161,1
979年)急速な発展を遂げ、多くの分野の協力的研究の
成果により、活性型ビタミンDである1α,25−ジヒ
ドロキシビタミンDおよびその同族体である1α−ヒ
ドロキシビタミンDは腎疾患、骨疾患あるいは副甲状
腺機能障害の治療薬として発展してきた。
(D.E.M.Lawson,「Vitamin D″,Academic Press,Inc.,
New York,1978年;A.W.Norman,Vitamin D″,The Calci
um Homeostatic Steroid Hormon,Academic Press,Inc.,
New York,1979年)。
最近1α,25−ジヒドロキシビタミンDの作用する標
的器官として新たに腎臓、膵臓、下垂体、胸腺、副甲状
腺、皮膚、乳腺、リンパ球等の多くの組織・器官が見出
され(H.F.De Lucaほか「Proc.Natl.Acad.Sci.USA.」第
77巻,P.1149,1980年)、さらに種々の腫瘍細胞にもレ
セプターの存在することが確認されるに至っている。
(K.Coistonほか「Endocrinology,」第108巻,P.1083、1
981年;H.F.Freakeほか、「Biochem.Bio Phys.Res.Comm
un.,」第101巻,P.1131,1981年;S.C.Manolagasほか、
「J.Biol.Chem.,」第255巻,P.4414,1980年;T.Sudaほ
か、「Biochem.J.,」第204巻,P.713,P.713,1982年)。
特に1α,25−ジヒドロキシビタミンDは骨髄性白血
病細胞の増殖を抑制し、分化を促進すること(T.Sudaほ
か、「Proc.Natl.Acad.Sci.USA.」第78巻,P.4990,1981
年)、あるいは免疫作用との関連も見出される(E.Abe,
「ビタミン」第59巻,P.418,1985年)など、ビタミンD
の新たな展開が期待されている。
上記のような観点から種々のビタミンD誘導体が合成さ
れその生理作用が検討されてきているが(N.Ikekawa,
「生化学」第55巻,P.1297,1983年;T.Sudaほか、「Bon
e & Mineral Res.」第4巻,ed.W.A.Peck,P1,Elsevier,
Amsterdam,1986年;E.Murayamaほか、「Chem.Pharm.Bul
l.」第34巻,P.4410,1986年;N.Ikekawaほか、「Chem.P
harm.Bull.」第33巻,P.878,4815,1985年) 生理活性種となるための必須条件として1α−ヒドロキ
シ体が考えられるため、世界中の研究機関が真剣にその
合成に取組んできている。
しかしながらこれまでの合成の殆どは、各ビタミンD誘
導体についてその都度1α−ヒドロキシ化ステロイドの
合成に始まりこれから対応する1α−ヒドロキシ−5,7
−ジエンステロール誘導体に変換した後、周知の光化学
方法によって目的とするビタミンD誘導体を得るという
多段階を要する極めて非能率的な方法となっている。
(N.Ikekawa,その他、「有機合成化学」第37巻、P.755,
1979年;C.Kaneko,「有機合成化学」第33巻、P.75,1975
年;B.Lythgoe,「Chem.Soc.Rev.」第9巻,P.449,1980
年;R.Pardo,その他、「Bull.De La Soc.Chim.De Fr.」
P.98,1985年)。
そこでこれらの問題点を改良するため、各種1α−ヒド
ロキシビタミンD誘導体合成のための共通合成中間体と
して22,23−セコ−1α−ヒドロキシビタミンD誘導体
を設定し本化合物の合成ならびに本化合物から各種1α
−ヒドロキシビタミンD誘導体を合成しようという試み
がなされるに至った。
(R.H.Hesseほか、「J.Org.Chem.」第51巻,P.4819,198
6年;H.F.De Lucaほか、「Tetrahedron Lett.,」第28
巻,P.6129,1987年;H.F.De Lucaほか、「J.Org.Che
m.」第53巻,P.3450,1988年。
しかしながらこれらの報告においては、前者の場合ビタ
ミンD体を一旦トランスビタミンD体としたのちC(1)
位のアリル酸化を行ない、再びこれを光反応等によりビ
タミンD体へと交換するものであり、また後者の報告に
おいてはビタミンD体を一旦3,5−シクロビタミンD体
としたのち、C(1)位のアリル酸化を行ない、これを再
びビタミンD体へと変換するものであって、これらいず
れの場合にもアリル酸化の収率はあまり良くなく、ビタ
ミンD体への変換も満足すべきものではない。
《発明が解決しようとする課題》 上記のように、従来の代表的な合成方法は、いずれも実
用的見地から見て不満足なものであり、より効率的な合
成法の開発が望まれていた。
本発明者は種々の化学反応、特にC(1)位のアリル酸化
に適用可能なビタミンD体の重要な合成中間体の合成方
法として効率的な方法を開発すべく鋭意研究したとこ
ろ、22,23−セコ−7,8−ジヒドロキシビタミン
Dまたはその誘導体から、その7,8−ジヒドロキシ環
状オルトエステルを経る還元的脱離反応により、目的の
22,23−セコビタミンD若しくはその活性型22,
23−セコビタミンDまたはそれらの誘導体を製造する
ことができるという、従来法とは概念的にも実施面にお
いても根本的に異なる、工業的に有効でしかも効率のよ
い方法を見出した。
《課題を解決するための手段》 従って、本発明は、一般式〔I〕 (ここで、R1、R2、R3およびR4は同一もしくは異な
り、水素原子またはヒドロキシ保護基であり、Xは水素
原子、ヒドロキシ基またはその誘導体の残基である) で表される22,23−セコ−7,8−ジヒドロキシビ
タミンDまたはその誘導体に、トリエチルオルトフォル
メートおよび触媒量のピリジニウムパラトルエンスルホ
ネートの存在下で、その7,8−ジヒドロキシ環状オル
トエステルを経る還元的脱離反応を行うことを特徴とす
る一般式〔II〕 (ここで、R1、R2およびXは前記と同じ意味である) で表される22,23−セコビタミンD若しくはその活
性型22,23−セコビタミンDまたそれらの誘導体の
製造方法に関する。
反応混合物からの目的物の単離は極めて簡便で例えば2
2,23−セコ−7,8−ジヒドロキシビタミンDあるいはそ
の活性同族体を過剰量のオルトエチルホルメートと共に
触媒量のピリジニウムパラトルエンスルホネートの存在
下トルエン溶媒中Dean-Stark装置下加熱還流を行い、反
応混合物から溶媒を留去して得られる残渣をカラムクロ
マトグラフィー等の手段で精製することを目的とする、
22,23−セコビタミンDあるいはそれらの活性同族体が
高収率で得られる。
このようにして合成される前記〔II〕式の同族体である
20−ホルミル体(R1−ブチルジメチルシリル;X
=α−t−ブチルジメチルシリルオキシ)は(24R)−1
α,25−ジヒドロキシビタミンDの(前出H.F.De Luc
aほかの文献)、また〔II〕式において(R1=トリエチ
ルシリル;R2=パラトルエンスルホニル;X=α−ト
リエチルシリルオキシ)の誘導体は1α,25−ジヒドロ
キシビタミンDの(前出R.H.Hesseほかの文献)合成
中間体となっており、本発明によって合成される〔II〕
式の化合物は非常に有用な化合物ということができる。
《実施例》 以下具体的な実施例につき記述するが、その全工程説明
図にあって( )内に各実施例工程例の番号を示してい
る。
実施工程例(1) 3β,7,8−トリ−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)−1α−ヒドロキシ−20(S)−テトラヒドロピラニ
ルオキシメチル−9,10−セコプレグナ−5(Z),10(19)−
ジエン300mg、テトラ−n−ブチルアンモニウムフルオ
ライトトリーハイドレート2gおよび活性モレキュラー
シーブス4Å1gのアセトニトリル30mlの懸濁液を攪拌
下20時間加熱還流する。
反応液はセライト濾過後溶媒を留去する。
得られた残渣は酢酸エチルエステルに溶解し、水洗後硫
酸ナトリウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル1g、溶媒;酢酸エチルエス
テル〕に付し、1α,3β,7,8−テトラヒドロキシ−2
0(S)−テトラヒドロピラニルオキシメチル−9,10−セコ
プレグナ−5(Z),10(19)−ジエン120mgを得る。
IRスペクトル νmax(CHCl3)cm-1:3400 NMRスペクトル(CDCl3)δ:4.50(1H,brs),4.90(1H,brs),
5.30(1H,brs),5.70(1H,d,J=10Hz) マススペクトル(FD)m/e;447(M+-17),446(M+-18),410,4
09,296,295,283 実施工程例(2) 1α,3β,7,8−テトラヒドロキシ−20(S)−テトラヒ
ドロピラニルオキシメチル−9,10−セコプレグナ−5
(Z),10(19)−ジエン200mg、ピリジン1mlおよび触媒量
のジメチルアミノピリジンを含む塩化メチレン20ml溶液
に氷冷下、ベンゾイルクロリド150mgを攪拌下滴下す
る。
反応液は室温いて1時間攪拌したのち塩化メチレンにて
希釈し、水、10%塩酸、水、飽和重炭酸ナトリウム水、
水にて順次洗浄後硫酸ナトリウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル1g、溶媒;n−ヘキサン−
酢酸エチルエステル(10:5v/v)〕に付し、1α,3
β−ジ−ベンゾイルオキシ−7,8−ジヒドロキシ−20(S)
−テトラヒドロピラニルオキシメチル−9,10−セコプレ
グナ−5(Z),10(19)−ジエン222mgを得る。
IRスペクトル νmax(CHCl3)cm-1:3500,1700 NMRスペクトル(CCl4)δ:0.60(3H,S),4.46(1H,brs),4.5
3(1H,d,J=10Hz),5.00〜6.10(5H,m),7.10〜7.60(6H,m),
7.80〜8.65(4H,m) マススペクトル(FD)m/e;655(M+-17),637,550,515,377,2
95 実施工程例(3) 1α,3β−ジ−ベンゾイルオキシ−7,8−ジヒドロキ
シ−20(S)−テトラヒドロピラニルオキシメチル−9,10
−セコプレグナ−5(Z),10(19)−ジエン200mg、トリエチ
ルオルトフォルメート200mgおよび触媒量のピリジニウ
ムパラトルエンスルホネートのトルエン20ml溶液を、De
an-Stark装置下20分間加熱還流する。
反応後溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー〔シリカゲル1g、溶媒;n−ヘキ
サン−酢酸エチルエステル(100:2v/v)〕に付し、1
α,3β−ジ−ベンゾイルオキシ−20(S)−テトラヒド
ロピラニルオキシメチル−9,10−セコプレグナ−5(Z),7
(E),10(19)−トリエン150mgを得る。
IRスペクトル νmax(CHCl3)cm-1:1710 NMRスペクトル(CCl4)δ:0.30(3H,S),4.47(1H,brs),5.1
0(1H,brs),5.47(1H,brs),5.20〜6.20(3H,m),6.43(1H,d,
J=10Hz),7.20〜7.60(6H,m),7.80〜8.20(4H,m) マススペクトル(FD)m/e;638(M+),554,516 実施工程例(4) 1α,3β−ジ−ベンゾイルオキシ−20(S)−テトラヒ
ドロピラニルオキシメチル−9,10−セコプレグナ−5
(Z),7(E),10(19)−トリエン120mgおよび触媒量のパラト
ルエンスルホン酸を含むメタノール5mlおよび塩化メチ
レン10mlの混液を室温にて30分間攪拌する。
反応後塩化メチレンにて希釈し、飽和重炭酸ナトリウム
にて洗浄後、硫酸ナトリウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル500mg、溶媒;n−ヘキサン
−酢酸エチルエステル(100:20v/v)〕に付し、1α,
3β−ジ−ベンゾイルオキシ−20(S)−ヒドロキシメチ
ル−9,10−セコプレグナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン
110mgを得る。
IRスペクトル νmax(CHCl3)cm-1:3600,1720 NMRスペクトル(CCl4)δ:0.30(3H,S),5.11(1H,brs),5.4
8(1H,brs),5.19〜6.10(2H,m),5.93(1H,d,J=10Hz),6.43
(1H,d,J=10Hz),7.20〜7.70(6H,m),7.80〜8.30(4H,m) マススペクトル(FD)m/e;554(M+),496,464,432 実施工程例(5) 1α,3β−ジ−ベンゾイルオキシ−20(S)−テトラヒ
ドロピラニルオキシメチル−9,10−セコプレグナ−5
(Z),7(E),10(19)−トリエン450mgの塩化メチレン5ml溶
液に10%メタノール性苛性ソーダ溶液10mlを加え30分間
攪拌下加熱還流する。
反応後反応液は水洗し、硫酸ナトリウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル5g、溶媒;n−ヘキサン−
酢酸エチルエステル(3:2v/v)〕に付し、1α,3
β−ジヒドロキシ−20(S)−テトラヒドロピラニルオキ
シメチル−9,10−セコプレグナ−5(Z),7(E),10(19)−ト
リエン300mgを得る。
IRスペクトル νmax(CHCl3)cm-1:3600 NMRスペクトル(CCl4)δ:0.56(3H,S),0.97(3H,d,J=6H
z),3.20〜3.93(4H,m),3.94〜4.45(2H,m),4.50(1H,brs),
4.93(1H,brs),5.30(1H,brs),6.00(1H,d,J=10Hz),6.33
(1H,d,J=10Hz) マススペクトル(FD)m/e;430(M+),412,394,328,310,295 実施工程例(6) 1α,3β−ジヒドロキシ−20(S)−テトラヒドロピラ
ニルオキシメチル−9,10−セコプレグナ−5(Z),7(E),10
(19)−トリエン200mgおよびイミダゾール200mgの乾燥ジ
メチルフォルムアミド5ml溶液にトリエチルシリルクロ
リド300mgを加え室温にて3時間攪拌する。
反応後、反応液はエーテルにて希釈後10%塩酸、水、飽
和重炭酸ナトリウム水、水にて順次洗浄後硫酸ナトリウ
ムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル4g、溶媒;n−ヘキサン−
酢酸エチルエステル(100:1v/v)〕に付し、1α,3
β−ジ−トリエチルシリルオキシ−20(S)−テトラヒド
ロピラニルオキシメチル−9,10−セコプレグナ−5(Z),7
(E),10(19)−トリエン200mgを得る。
NMRスペクトル(CCl4)δ:0.53(3H,S),3.20〜3.90(4H,
m),4.00〜4.43(2H,m),4.50(1H,brs),4.87(1H,brs),5.20
(1H,brs),6.00(1H,d,J=10Hz),6.27(1H,d,J=10Hz) マススペクトル(FD)m/e;659(M++1),658(M+),394,393,3
92,344 実施工程例(7) 1α,3β−ジ−ベンゾイルオキシ−20(S)−ヒドロキ
シメチル−9,10−セコプレグナ−5(Z),7(E),10(19)−ト
リエン110mg、ピリジン1mlおよび触媒量のジメチルア
ミノピリジンの塩化メチレン溶液10mlにパラ−トルエン
スルフォニルクロリド60mgを加え室温にて1時間攪拌す
る。
反応後は塩化メチレンにて希釈後、10%塩酸、飽和重炭
酸ナトリウム水および水にて順次洗浄後硫酸ナトリウム
にて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル2g、溶媒;n−ヘキサン−
酢酸エチルエステル(10:1v/v)〕に付し、1α,3
β−ジ−ベンゾイルオキシ−20(S)−パラ−トルエンス
ルフォニルオキシメチル−9,10−セコプレグナ−5(Z),7
(E),10(19)−トリエン100mgを得る。
IRスペクトル νmax(CHCl3)cm-1:1710 NMRスペクトル(CCl4)δ:0.33(3H,S),2.50(3H,S),3.66
〜4.03(2H,m),5.14(1H,brs),5.50(1H,brs),5.90(1H,d,J
=10Hz),5.30〜6.00(2H,m),6.43(1H,d,J=10Hz),7.20〜
8.30(14H,m) マススペクトル(FD)m/e;708(M+),586,464,364 実施工程例(8) 1α,3β−ジ−ベンゾイルオキシ−20(S)−パラ−ト
ルエンスルフォニルオキシメチル−9,10−セコプレグナ
−5(Z),7(E),10(19)−トリエン60mgの塩化メチレン20ml
溶液に10%メタノール性苛性ソーダ溶液10mlを加え室温
にて13時間攪拌する。
反応後溶媒を留去し、残渣を塩化メチレンに溶解後水洗
し硫酸ナトリウムにて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル1g、溶媒;n−ヘキサン−
酢酸エチルエステル(3:2v/v)〕に付し、第一フラク
ションより1α,3β−ジヒドロキシ−20(S)−メトキ
シメチル−9,10−セコプレグナ−5(Z),7(E),10(19)−ト
リエン21mgを得る。
IRスペクトル νmax(CHCl3)cm-1:3600 NMRスペクトル(CCl4)δ:0.43(3H,S),0.90(3H,d,J=6H
z),3.13(3H,S),3.70〜4.40(2H,m),4.80(1H,brs),5.17(1
H,brs),5.83(1H,d,J=10Hz),6.15(1H,d,J=10Hz) マススペクトル(FD)m/e;360,358,342,324,281,267,25
0,224 第二フラクションより1α,3β−ジヒドロキシ−20
(S)−パラ−トルエンスルフォニルオキシメチル−9,10
−セコプレグナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン15mgを得
る。
IRスペクトル νmax(CHCl3)cm-1:3600 NMRスペクトル(CDCl3)δ:0.47(3H,S),0.94(3H,d,J=6H
z),2.44(3H,S),3.70〜4.10(2H,m),4.90(1H,brs),5.25(1
H,brs),5.93(1H,d,J=10Hz),6.30(1H,d,J=10Hz),7.30
(2H,d,J=8Hz),7.78(2H,d,J=8Hz) マススペクトル(FD)m/e;500(M+),482(M+-18),468,462 実施工程例(9) 1α,3β−ジヒドロキシ−20(S)−p−トルエンスル
フォニルオキシメチル−9,10−セコプレグナ−5(Z),7
(E),10(19)−トリエン12mg、イミダゾール20mgおよび触
媒量のジメチルアミノピリジンの乾燥ジメチルフォルム
アミド2ml溶液に−ブチルジメチルシリルクロリド20
mgを加えて室温にて1時間攪拌する。
反応液は塩化メチレンにて希釈後10%塩酸、水、飽和重
炭酸ナトリウム水、水にて順次洗浄後、硫酸ナトリウム
にて乾燥する。
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー〔シリカゲル500mg、溶媒;n−ヘキサン
−酢酸エチルエステル(100:1v/v)〕に付し、1α,
3β−ジ−t−ブチルジメチルシリルオキシ−20(S)−
パラ−トルエンスルフォニルオキシメチル−9,10−セコ
プレグナ−5(Z),7(E),10(19)−トリエン13mgを得る。
本品の各種機器データはDe Lucaらのもの〔「J.Org.Che
m,」53,3450(1988)〕と完全に一致したことによりその
構造を確認した。
《発明の効果》 本発明によれば、22,23−セコ−7,8−ジヒドロ
キシビタミンDまたはその誘導体から、その7,8−ジ
ヒドロキシ環状オルトエステルを経る還元的脱離反応に
より、有用な22,23−セコビタミンD若しくはその
活性型22,23−セコビタミンDまたはそれらの誘導
体を効率的に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
図は、本発明方法の1態様の反応工程を示す説明図であ
る。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式〔I〕 (ここで、R1、R2、R3およびR4は同一もしくは異な
    り、水素原子またはヒドロキシ保護基であり、Xは水素
    原子、ヒドロキシ基またはその誘導体の残基である) で表される22,23−セコ−7,8−ジヒドロキシビ
    タミンDまたはその誘導体に、トリエチルオルトフォル
    メートおよび触媒量のピリジニウムパラトルエンスルホ
    ネートの存在下で、その7,8−ジヒドロキシ環状オル
    トエステルを経る還元的脱離反応を行うことを特徴とす
    る一般式〔II〕 (ここで、R1、R2およびXは前記と同じ意味である) で表される22,23−セコビタミンD若しくはその活
    性型22,23−セコビタミンDまたはそれらの誘導体
    の製造方法。
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