JPH0667384B2 - 送投影像再生方法と装置 - Google Patents

送投影像再生方法と装置

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JPH0667384B2
JPH0667384B2 JP60252994A JP25299485A JPH0667384B2 JP H0667384 B2 JPH0667384 B2 JP H0667384B2 JP 60252994 A JP60252994 A JP 60252994A JP 25299485 A JP25299485 A JP 25299485A JP H0667384 B2 JPH0667384 B2 JP H0667384B2
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ナラスワミイ・スリニバサン
シヤロン・リー・バナスゼウスキイ
キシヨー・チヤンドラ・アカルヤ
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    • G06T11/003Reconstruction from projections, e.g. tomography
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  • Radiography Using Non-Light Waves (AREA)
  • Image Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の分野] この発明は一般的に計算機式断層撮影法に使われる様な
逆投影像再生に関する。更に具体的に云えば、この発明
は極座標の検出減衰データをデカルト座標の画素データ
に敏速に変換する処理装置及び方法に関する。
[発明の背景] 本発明に関連する従来技術としてはファームウェア逆投
影装置を開示する国際出願公開番号WO84/00679に記載
されたものがある。
計算機式断層撮影(CT)走査装置では、扇形X線ビーム
を或る平面に沿って患者を通して複数個の放射線検出器
に投射し、この検出器が、X線源と個々の検出器によっ
て定められた半径線に沿って患者を通るX線減衰の測定
値を発生する。患者の周りの複数個のX線源位置すなわ
ち投影(view)測定を行なって、交差する放射線ビーム
の通路の組を表わす複数組の測定値を求める。各々の検
出器からのX線測定値を逆投影することにより、患者を
通る平面の像が得られる。この像平面は画素と呼ばれる
小さな四角のセル(ミリ単位の幅を持つ)に分割され
る。逆投影アルゴリズムが検出器の番号を視野の中の各
々の画素と関係づける。逆投影の公式は、X線源からの
画素の距離の関数として、各々の画素に対する検出器測
定値をも調節する。こういう調節係数が重み係数と呼ば
れる。全ての投影による各々の画素に対する検出器デー
タの寄与分を加算することにより、像が形成される。ゼ
ネラル・エレクトリック社の9800CT走査装置に使われる
様な、ショットキー回路装置の技術を用いた現在の逆投
影用のハードウエアは、984個の投影すなわち扇形ビー
ムの放射を用いて、中心から外れた標的の512×512個の
画素から成る像を再生するのに、36秒乃至40秒を要す
る。これは実効的な処理速度が1つの投影での1つの画
素当たり14乃至16ナノ秒になる。この処理時間の多くは
検出器の番号を画素に写像(mapping)するのに費やさ
れる。
従って、この発明の目的は放射線測定値の逆投影に基づ
いて像を再生する時の速度を高めることである。
[発明の要約] この発明の別の目的は、像再生の為の検出器のCTデータ
を画素データに写像する改良された装置と方法を提供す
ることである。
この発明の特徴は、画素データを処理する為にパイプラ
イン形回路構成を使うことである。
この発明の別の特徴は、選ばれた画素に対する検出器の
位置及び重み係数を求めるのに補間を使うことである。
簡単に云うと、この発明では、各々の投影における各々
の画素に検出器を写像し、重み付けしたした検出器測定
値に基づいて、各々の投影における画素値を求める回路
を提供する。隣合った投影並びに隣合った画素の間で、
検出器の位置はゆっくりと変化するから、両側の投影で
の値を補間することにより、その中間の投影に対する画
素値を求めることが出来る。更に、1つ置きの画素に対
する画素値が正確に計算される。その中間の画素値は、
この時、これらの正確な値の補間によって得られる。
好ましい実施例では、各々の画素に対し、2つ置きの投
影毎に、検出器の正確な位置を計算し、任意の1つの投
影において1つ置きの画素に対する検出器の正確な位置
を計算する。更に、隣合った画素及び投影に関して重み
係数はゆっくりと変化するから、選ばれた投影及び画素
に対してだけ、重み係数を計算によって求める。その中
間の投影及び画素に対する重み係数は補間によって求め
る。
この発明、その目的及び特徴は以下図面について詳しく
説明するところから容易に明らかになろう。
[発明の詳しい説明] 第1図は扇形X線ビームの放射に対するCT走査装置の形
状を示す略図である。X線源10が円形標的区域12の片側
にあり、検出器素子14の配列が標的区域12の反対側にあ
る。図示の様に、検出器列14の検出器は等しい角度間隔
で配列されている。X線源及び検出器列を標的の周りに
等しい変分で(すなわち一定角度ずつ)回転させること
により、多数の組の放射線測定すなわち投影が得られ
る。軸方向走査から収集されたX線減衰データ(すなわ
ち投影データ)を観察し得る断面像に変換する過程はデ
ータ再生過程を含む。3つの再生段階が、検出データの
フィルタリング処理、検出データの逆投影及び像を表示
する為の最終的な画素値の貯蔵を含む。
逆投影は、多重X線透過測定値から像を再生する為に使
われる方法である。第2図について説明すると、X線源
10からのX線ビームが、投影を求めようとする標的区域
の平面内の多くの小さな領域を通過してから、検出器列
14に達する。放射線が通過する小さな領域の各々が、最
終的に表示される像を構成する画素である。画素のX線
吸収値がX線源に対する画素の位置並びに対応する検出
器の値に基づいて計算される。逆投影アルゴリズムによ
り多数の組の投影データについて計算を行なって、各々
の画素が全ての投影の合成になるような像を発生する。
第2図では、画素1の値は、投影Aにおける検出器1の
重み付けした値と投影Bにおける検出器2の重み付けし
た値を含む。同様に画素2の値は投影Aにおける検出器
2の重み付けした値と投影Bにおける検出器1の重み付
けした値を含む。完全な像を逆投影で得る為には、各画
素に対して所定の軸方向走査の全ての投影からの吸収デ
ータを加算しなければならない。例えば、GE社の9800CT
走査装置では、730個の検出器及び984個の投影から512
×512個の画素からなる配列が定められる。
そこでX線源並びに検出器列に対する画素の位置を定め
る投影座標系は、2つの座標を持つ角度座標系である。
1つの座標は、X線源から検出器列の中心までに至る線
と、X線源から画素を通る線との間の角度θである。他
方の座標はX線源から画素までの距離Rである。画素の
座標系は直線座標でその原点は標的区域の中心にあり、
これは回転の中心でもある。各々の画素は、標的の中心
に対するその位置を定める1組の座標(X,Y)を持って
いる。第3図には2つの座標系を示す。
GE社のCT走査装置では、座標変換を行なう為にPERP及び
PARLと呼ぶ第3の座標系を用いる。PARLはX線源から、
X線源と検出器列の中心とを結ぶ線と平行に測った画素
までの距離であり、PERPはX線源と検出器列の中心を結
ぶ線から画素までの垂線の距離である。一旦ある画素の
PERP及びPARLの値が判れば、この画素に対するR及びθ
の値を計算することが出来る。Rとθを使うと、その画
素に対する検出器番号及び減衰値を見出すことが出来
る。(PERP,PARL)及び(R,θ)の関係は次の通りであ
る。
θ=tan-1(PERP/PARL) R2=(PARL)+(PERP) 或る画素に対するPARL及びPERPの値は幾何学から次の様
に計算することが出来る。
PARL=R0+Xcosφ−Ysinφ PERP=Xsinφ−Ycosφ こゝでφは(X,Y)座標系のX軸とY線源から中心の検
出器へ向かうベクトルとの間の角度である。R0はX線源
と(X,Y)座標系の原点との間の距離である。角度φは
処理する各々の投影毎に変わる。これはX及びY方向が
図面に示す様になっていると仮定していることによる。
検出器番号は次の式で表わされる。
検出器番号=(L/DW)×θ こゝでLはX線源から検出器までの距離であり、DWは検
出器の幅である。
X線源からの距離の自乗に反比例してX線源の強度が変
化することを補償する為に加えられる重み係数を検出器
の値に乗ずる。重み係数は次の式で表わされる。
W=K/[(PARP)+(PERL)] こゝでKは装置定数(R0 2に比例する)である。
前に述べた様に、従来の逆投影のハードウエアは、984
個の投影に基づいて512×512個の画素からなる像を再生
する為に36乃至40秒を要する。この発明は補間処理及び
パイプライン形構成を用いることにより、逆投影像のデ
ータを更に敏速に求める方法並びに装置を対象とする。
第4図はこの発明の1実施例のシステムの構成を示して
おり、4つの再生処理回路20が並列に接続され、各々の
処理回路20は相次ぐ4つの投影に基づいて画素の値を求
める。4つの処理回路を並列に接続することにより、1
個の画素に対して16個の相次ぐ投影の寄与分が平均化さ
れ、画素メモリ22に貯蔵される。984個の投影全部から
のデータが処理されるまで、この処理を続ける。各投影
の角度、検出器の測定値、並びに各々の投影における各
々の画素に対する検出器を決定する為のPERP及びPARLの
初期の数を含む、画素値を処理する為のデータは、ゼネ
ラル・エレクトリック社のCT走査装置におけるようなホ
スト・システムからインターフェイス24を介して得られ
る。全ての投影を用いて逆投影に基づいて平均化した画
素値が画素メモリ22から伝達される。
第5図は第4図の再生処理回路20のうちの1つの詳しい
機能的なブロック図である。第5図の回路を第6図及び
第7図に示した時間線図及び動作線図と関連して説明す
る。ホスト・システムからインターフェイス24を介して
データ及び制御信号を受取り、初期PERP及びPARLデータ
が検出器計算器26に供給される。この計算器が特定の画
素及び投影に対する検出器を計算する。N番目の投影の
特定の画素Mに対する検出器番号がレジスタ28に貯蔵さ
れ、(N+3)番目の投影の画素Mに対する検出器番号
がレジスタ30に貯蔵される。(N+1)及び(N+2)
番目の投影に対する検出器番号が、これから1次補間に
よって求められ、回路32及び34に貯蔵される。
この実施例では、N番目及び(N+3)番目の投影にお
ける1つ置きの画素に対する検出器番号が計算され、遅
延回路36に貯蔵される。投影N及び(N+3)における
1つ置きの画素の中間の画素に対する検出器番号は、
「投影補間」として示す回路32,34で1次補間によって
求められる。中間の画素に対する検出器番号は、回路38
を用いて、水平方向の1次補間によって求められる。
こうして求められた検出器番号が多重化器(MUX)40を
介して印加され、2重バッファ・メモリ47に貯蔵された
検出器データ値をアドレスする。回路43においてメモリ
47からの検出器の値及びその補間値を用いて各投影にお
ける各画素の画素値を決定することにより、各画素につ
いて相次ぐ4つの投影に基づく(4つの)画素値を同時
に決定し、次にこれを加算器44,45,46によって加算す
る。相次ぐ4つの投影に基づく各々の画素に対する平均
値が掛算器48に印加され、これが計算による並びに補間
による放射線源から画素までの距離に基づく重み発生器
50からの倍率を画素の和に乗ずる。4つの投影に基づく
各々の画素の最終的な重み付けした値が掛算器48の出力
に得られる。
第6図は検出器番号を発生する時の第5図の回路の動作
を示している。相次ぐ4つの投影(N,…N+3)におけ
る画素(M)が垂直の列に示されており、各々の投影
(N)における相次ぐ画素(M,…M+4)が各々の水平
の行に示されている。画素に対する計算された検出器番
号が4角によって示されており、画素に対する補間によ
る検出器番号が円によって示されている。検出器番号は
PERP及びPARL数によって次の様に定義される。
θN,M∝tan-1(PERP/PARL) こゝでθN,Mが投影N、画素Mに対する検出器番号であ
る。投影の補間は次の式で表わされる。
θM,N+1=θM,N+1/3(θM,N+3−θM,N) θM,N+2=θM,N+2/3(θM,N+3−θM,N) 行又は画素の補間は次の通りである。
θM+1,N=θM,N+1/2(θM+2,N−θM,N) 第7図はタイミング・クロックの関数として第5図の回
路で得られた検出器番号及び画素値を表わしている。即
ち、第5図の回路の点Aで検出器番号が計算され、回路
の点Bで、各列の2つの補間による検出器番号が得ら
れ、点Cで、検出器番号の水平補間が計算され、点Dで
全ての検出器番号が利用できるようになる。点Eで検出
器の値をメモリから求め、点Fで、検出器の値に基づい
て画素値が得られる。点Gで、4つの投影に対する加算
して重み付けした画素値が得られる。
第5図に示す様に1個の処理回路で全ての投影について
サイクルを順次進めることにより、984個の投影全部に
対する画素値を決定することが出来る。然し、第4図に
示す様に、4つの処理回路を並列に動作させることがで
き、これによって16個の投影が同時に処理される。第8
図は各々の逆投影処理回路からの4つの投影に基づいた
加算した画素値を受取る回路の機能的なブロック図であ
り、これらの画素値が加算器60,61,62によって加算され
平均化される。この後、相次ぐ画素値がメモリ64,65,6
6,67に多重化され、累算画素値を貯蔵する。984個の投
影全部に基づく画素値が求められ、加算され且つメモリ
64乃至67に貯蔵されるまで、逆投影処理回路の動作を再
循環する。この為、メモリ64乃至67が組合さって、512
×512個の画素に対する28ビットの画素値を貯蔵する。
この後、最終的な画素値が多重化器68を介してホスト・
システムに印加される。
第9図は検出器番号補間回路の1実施例の回路図であ
る。計算で求められた検出器番号が、例えばゼネラル・
エレクトリック社の9800CT走査装置にある公知の回路か
ら供給される。交互の計算された検出器番号がクロック
動作によってレジスタ72,74に送込まれ、これらの検出
器番号がこの後選択的に2重にされ、加算器76乃至79に
クロック動作によって送込まれる。これらの加算された
出力は、第6図に示す様に、4つの投影における或る1
つの画素に対する計算並びに補間による検出器番号に対
応する。この後、接続のパイプライン形動作の為に、交
互の画素に対する検出器番号がクロック動作によってレ
ジスタ80乃至91に送込まれる。加算器92乃至95により、
各々の図の交互の画素に対する検出器に基づいた補間に
よる検出器番号が得られる。次に、各々の投影の相次ぐ
画素に相する計算並びに補間による検出器番号が多重化
器96乃至99を介してレジスタ100乃至103に印加され、第
5図の2重バッファ・メモリ47のアドレス指定に使われ
る。メモリ47から掛算器48までの回路は、ゼネラル・エ
レクトリック社のCT走査装置に使われるような普通のも
のである。
パイプライン形構造と補間値を用いるこの発明に従っ
て、全ての投影に対する画素値を決定するのに使う為の
検出器番号を決定することにより、PERP及びPARLの値に
基づく検出器番号の計算の回数が減少されて、像表示時
間が短くなる。この回路は半導体ゲート・アレーを用い
て容易に構成することが出来る。この発明を特定の実施
例について説明したが、この発明はこの発明を例示する
ものであって、この発明を制約するものと解してはなら
ない。当業者には、この発明の範囲内で種々の変更が考
えられよう。
【図面の簡単な説明】
第1図は中心の周りを回転するCT装置のX線源及び検出
器列の形状を示す略図、第2図は多重X線透過測定値か
ら像を再生する為に検出器のデータを逆投影することを
示す略図、第3図は画素座標系及び検出器座標系を含め
て、ゼネラル・エレクトリック社の走査装置に使われる
ような座標系を示す略図、第4図は1実施例の再生処理
装置の機能的なブロック図、第5図は第4図の装置の回
路の更に詳しい機能的なブロック図、第6図及び第7図
は第5図の回路で複数個の図の画素値を求めるタイミン
グを示す線図、第8図は第4図の装置に使う画素メモリ
の機能的なブロック図、第9図は1形式の検出器番号補
間回路のブロック図である。
フロントページの続き (72)発明者 キシヨー・チヤンドラ・アカルヤ アメリカ合衆国、ウイスコンシン州、ウエ スト・アリス、サウス・ワンハンドレツド アンドシツクス・ストリート、1105番 (56)参考文献 特開 昭57−183834(JP,A) 特開 昭55−94240(JP,A) 岩井喜典「CTスキャナーX線断層撮影 装置」(昭54−2−20)コロナ社 P. 145−155

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数個の検出器が、扇形ビームの放射線源
    と前記複数個の検出器との間に配置された被検体を通る
    平面に沿った相次ぐ投影による、前記放射線源からの減
    衰した放射線を測定する様なCT走査装置で、逆投影像再
    生に使用するために複数個の検出器測定値から画素値を
    決定する回路に於て、 Rを放射源から任意の1つの画素までの距離とし、かつ
    θを放射源から複数個の検出器の中心まで伸びる直線と
    放射源から該画素を通って伸びる直線との間の角度とし
    て、第1の投影における第1の画素に対するR及びθの
    値から、該第1の投影において該第1の画素を通る測定
    を行った検出器の番号を決定する第1の手段と、 前記第1の投影に隣接していない第2の投影における前
    記第1の画素に対するRとθの値から、該第2の投影に
    おいて前記第1の画素を通る測定を行った検出器の番号
    を決定する第2の手段と、 前記第1の画素に対する前記測定を行った検出器の番号
    から、1次補間により、前記第1の投影と前記第2の投
    影との間の中間の投影において前記第1の画素に対して
    測定を行う検出器の番号を決定する第3の手段と、 前記第1の投影における第2の画素に対するR及びθの
    値から、前記第1の投影において該第2の画素を通る測
    定を行った検出器の番号を決定する第4の手段と、 前記第2の投影における前記第2の画素に対するR及び
    θの値から、前記第2の投影において前記第2の画素を
    通る測定を行った検出器の番号を決定する第5の手段
    と、 前記第2の画素に対する前記測定を行った検出器の番号
    から、1次補間により、前記第1の投影と前記第2の投
    影との間の前記中間の投影において前記第2の画素に対
    して測定を行う検出器の番号を決定する第6の手段と、 前記第1及び第2の画素に対する前記測定を行った検出
    器の番号から、1次補間により、前記第1、第2及び中
    間の投影のそれぞれにおいて前記第1の画素と前記第2
    の画素との間の中間の画素に対して測定を行う検出器の
    番号を決定する第7の手段と、 各画素の値を求める第8の手段であって、各々の投影に
    おける各々の画素に対して決定された番号の各々の検出
    器に対して、測定を行った検出器の測定値を見つける手
    段、該検出器測定値に基いて各々の投影における各々の
    画素に対する画素値を求める手段、ならびに各々の画素
    に対して、全ての検出器測定値及びそれらの全ての補間
    値による画素値を加算して、各々の画素に対する最終画
    素値を求める手段を含んでいる当該第8の手段とを有す
    ることを特徴とする回路。
  2. 【請求項2】特許請求の範囲第1項に記載した回路に於
    て、選ばれた画素に対する重み係数を計算し、この重み
    係数の計算に基づいて他の画素に対する重み係数を補間
    により求める手段と、前記画素に対する重み係数に基づ
    いて平均画素値を調節する手段とを有する回路。
  3. 【請求項3】特許請求の範囲第1項に記載した回路に於
    て、選ばれた画素に対する重み係数を計算し、こうして
    計算された重み係数に基づいて他の画素に対する重み係
    数を補間により求める手段を有する回路。
  4. 【請求項4】特許請求の範囲第1項に記載した回路に於
    て、前記第1及び第2の投影の間に2つの中間の投影が
    あり、前記第1及び第2の画素の間に1つの中間の画素
    がある回路。
  5. 【請求項5】特許請求の範囲第1項に記載した回路に於
    て、別の投影における前記画素の値を計算する少なくと
    も1つの別の同一の回路と、最初の回路並びに前記少な
    くとも1つの別の回路からの画素の重み付けした値を加
    算する手段とを有する回路。
  6. 【請求項6】複数個の検出器が、扇形ビームの放射線源
    と前記複数個の検出器との間にある物体を通る平面に沿
    った相次ぐ投影により、前記放射線源からの減衰した放
    射線を測定するCT走査器で、逆投影像再生に使用するた
    めに複数個の検出器測定値から画素値を決定する方法に
    於て、 Rを放射線源から任意の1つの画素までの距離とし、か
    つθを放射線源から複数個の検出器の中心まで伸びる直
    線と放射線源から該画素を通って伸びる直線との間の角
    度として、第1の投影における第1の画素に対するR及
    びθの値から、該第1の投影において該第1の画素を通
    る測定を行った検出器の番号を決定し、 前記第1の投影に隣接していない第2の投影における前
    記第1の画素に対するR及びθを計算することにより、
    該第2の投影において前記第1の画素を通る測定を行っ
    た検出器の番号を決定し、 前記第1の画素に対する前記測定を行った検出器の番号
    から、1次補間により、前記第1の投影と前記第2の投
    影との間の中間の投影において前記第1の画素に対して
    測定を行う検出器の番号を決定し、 前記第1の投影における第2の画素に対するR及びθの
    値から、前記第1の投影において該第2の画素を通る測
    定を行った検出器の番号を決定し、 前記第2の投影における前記第2の画素に対するR及び
    θの値から、前記第2の投影において前記第2の画素を
    通る測定を行った検出器の番号を決定し、 前記第2の画素に対する前記測定を行った検出器の番号
    から、1次補間により、前記第1の投影と前記第2の投
    影との間の中間の投影において前記第2の画素に対して
    測定を行う検出器の番号を決定し、 前記第1及び第2の画素に対する前記測定を行った検出
    器の番号から、1次補間により、前記第1、第2及び中
    間の投影のそれぞれにおいて前記第1の画素と前記第2
    の画素との間の中間の画素に対して測定を行う検出器の
    番号を決定し、 各々の投影における各々の画素に対して決定された番号
    の各々の検出器に対して、測定を行った検出器の測定値
    を見つけ、該検出器測定値に基いて各々の投影における
    各々の画素に対する画素値を求め、各々の画素に対して
    全ての投影による画素値を加算して各々の画素に対する
    最終画素値を求めることにより各画素の値を求める段階
    を含んでいる方法。
  7. 【請求項7】特許請求の範囲第6項に記載した方法に於
    て、前記最終画素値に重み係数を加重することを含む方
    法。
  8. 【請求項8】特許請求の範囲第7項に記載した方法に於
    て、選ばれた画素に対する重み係数を計算し、こうして
    計算された重み係数に基づいて他の画素に対する重み係
    数を補間により求める工程を含む方法。
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