JPH066482B2 - 窒化ケイ素粉末の製造方法 - Google Patents

窒化ケイ素粉末の製造方法

Info

Publication number
JPH066482B2
JPH066482B2 JP1195954A JP19595489A JPH066482B2 JP H066482 B2 JPH066482 B2 JP H066482B2 JP 1195954 A JP1195954 A JP 1195954A JP 19595489 A JP19595489 A JP 19595489A JP H066482 B2 JPH066482 B2 JP H066482B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nitriding
fluidized bed
silicon nitride
nitride powder
powder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP1195954A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0360410A (ja
Inventor
睦夫 清水
宏文 福岡
正憲 福平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP1195954A priority Critical patent/JPH066482B2/ja
Priority to US07/557,572 priority patent/US5073358A/en
Priority to EP90114382A priority patent/EP0410459B1/en
Priority to DE90114382T priority patent/DE69003483T2/de
Publication of JPH0360410A publication Critical patent/JPH0360410A/ja
Publication of JPH066482B2 publication Critical patent/JPH066482B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Ceramic Products (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、品質にのバラツキが少ない窒化ケイ素粉末を
流動層を用いた直接窒化法により安定かつ効率的に製造
する方法に関する。
従来の技術 従来、金属ケイ素粉末を直接窒化して窒化ケイ素粉末を
工業的に製造する方法としては、主として固定床バッチ
方式が採用されている。しかし、固定床バッチ方式によ
り得られた窒化ケイ素粉末は、品質的なバラツキの点で
問題を有する。即ち、各バッチ間でα相率が異なった
り、また同一バッチ内でも炉内の温度分布及び窒化反応
の進行度合にバラツキが生じ、このために窒化ケイ素粉
末に品質のバラツキを生じる場合が多い。このような窒
化ケイ素粉末の品質のバラツキはバッチが大型化するほ
ど大きくなり易い。更に、固定床バッチ方式は、原料の
投入、生成物の取り出しなどの作業を自動化することが
困難であり、またこのため、これらの作業中に不純物が
混入するおそれもある。従って、固定床バッチ方式を採
用する場合、その規模を大型化し、生産規模を拡大する
ためには、大型化に伴ない得られる窒化ケイ素粉末の品
質的バラツキが大きくなり、また作業も大掛りなものと
なり、多大の労力を要すると共に、長時間の加熱,冷却
期間を必要とするなど、多くの問題点がある。
このような問題点を解決するため、種々の製造方法が提
案されている。例えば、竪型炉を用いる方法(特開昭5
8−151311号公報参照),プッシャー式トンネル
炉を用いる方法(特開昭60−186406号公報),
回転窯を用いる方法(特開昭61−266305号公
報),流動層を用いる方法(特開昭61−97110号
公報)等がある。
発明が解決しようとする課題 しかし、これらの方法においても、得られる窒化ケイ素
粉末の品質の問題点及びその生産性の問題を同時に解決
し得るものは殆んどない。例えば、竪型炉を用いる方法
は、温度分布及び窒化反応の進行度合のバラツキが大き
く、結果として窒化ケイ素粉末のα相率のバラツキが大
きくなる。プッシャー式トンネル炉を用いる方法は、α
相率の比較的安定した窒化ケイ素粉末を得ることができ
るが、その生産性は工業的に十分ではない。回転窯を用
いる方法は、滞留時間を制御することが難しく、このた
めα相率等の品質のバラツキガ大きくなり易く、また安
定した運転が困難である。流動層を用いる方法は、α相
率の安定した窒化ケイ素粉末を得ることができるが、炉
の昇温,冷却に長時間を要し、窒化反応速度が遅い等、
その生産性は工業的に十分でないものである。
即ち、上記従来法においては、α相率等の品質のバラツ
キを満足し得る程度に安定させると生産性が低下してし
まい、一方生産性を工業的に満足し得る程度に向上させ
ると品質の制御が困難となり、品質のバラツキが大きく
なる。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、α相率等の
品質のバラツキが少ない窒化ケイ素粉末を生産性よく製
造し得る窒化ケイ素粉末の製造法を提供することを目的
とする。
課題を解決するための手段及び作用 本発明は、上記目的を達成するため、金属ケイ素粉末を
含む窒化原料を窒化ケイ素粉末と窒素ガス又はアンモニ
アガスを含む非酸化性反応ガスとから形成され、温度を
1000〜1400℃に保持した第1流動層に連続的に
供給し、該第1流動層で第1次窒化反応を行なった後、
この第1流動層から窒化生成物を連続的に取り出すと共
に、これを更に窒化ケイ素粉末と窒素ガス又はアンモニ
アガスを含む非酸化性反応ガスとから形成された第2流
動層に供給し、該第2流動層で未反応の窒化原料を窒化
する第2次窒化反応を行なうことを特徴とする窒化ケイ
素粉末の製造方法を提供する。
即ち、流動層反応型式の窒化ケイ素粉末の製造方法にお
いては、原料の金属ケイ素粉末が直接高温雰囲気に晒さ
れるため、流動層に投入された金属ケイ素粉末は直ちに
表面が溶融し、その結果比表面積が減少し、反応速度が
著しく低下したり、粒子間同士が融着,凝集して流動層
を形成することが困難となるといった問題点を有する。
この場合、流動層の温度を低くすると窒化反応速度が著
しく小さくなる。そこで、従来このような問題点を解決
するために金属ケイ素粉末と反応ガスとで流動層を形成
し、これを加熱する際、その昇温速度を30〜150℃
/Hrに制御して金属ケイ素粉末の溶融,凝集を防ぎ、品
質の安定した窒化ケイ素粉末を得る(特開昭61−97
110号公報)が提案されているが、この方法は上述し
たように昇温,冷却に長時間を要し、また窒化反応速度
が遅く、生産性に劣るものである。これに対し、本発明
の製造方法によれば、金属ケイ素の融点以下でかつ金属
ケイ素粉末の比表面積が著しく減少しないできるだけ高
い温度、即ち1000〜1400℃、好ましくは120
0〜1350℃の温度に加熱保持された第1の流動層で
第1次窒化反応を行ない、金属ケイ素粉末の粒子表面に
窒化物を形成し、この窒化生成物を第2の流動層に供給
して第2次窒化反応を行ない、更に必要により数次の窒
化反応を行なって窒化率を向上させることにより、粒子
の溶融や凝集を生じることなく高窒化率で品質の安定し
た窒化ケイ素粉末を得ることができる。しかも、加熱状
態にある第1流動層に連続的に金属ケイ素粉末を供給
し、窒化生成した窒化ケイ素粉末を第1流動層より連続
的に取り出すと共に、これを第2流動層に連続的に供給
することにより昇温,冷却工程が不要となり、生産性よ
く窒化ケイ素粉末を得ることができるものである。この
場合、流動層反応型式では層内の粒子が激しく攪拌混合
され、その結果層内がほぼ完全混合状態となり、第1流
動層では高い窒化率を達成することは困難であるが、2
次又は多次に亘り窒化反応を行なうことにより最終生成
物の窒化率が高くなるものである。
従って、本発明の製造方法によれば、品質のバラツキが
少ない高窒化率の窒化ケイ素粉末を工業的にも十分な優
れた生産性をもって製造し得る。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の窒化ケイ素粉末の製造方法は、上述したように
窒化ケイ素粉末と窒素ガス又はアンモニアガスを含む反
応ガスとから形成され、加熱保持された複数の流動層に
金属ケイ素粉末を含む窒化原料を順次連続供給、連続排
出することにより、複数次に亘って段階的に窒化反応を
行なうものである。
上記窒化原料の金属ケイ素粉末は,特に限定されない
が、平均粒径が149μm〜4mmのものが好ましくは使
用される。この場合、44μm以下の微粉末状の金属ケ
イ素粉末にポリビニルアルコール等の結合剤を添加して
平均粒径149μm〜4mmに造粒し、この造粒物を11
00〜1300℃でケイ素粉末同士をくっつける程度で
これらが溶融しないように短時間焼結したものを使用す
ることができる。また、この窒化原料には、金属ケイ素
粉末に平均粒径149μm〜4mm程度の窒化ケイ素粉末
を5〜50重量%、好ましくは10〜30重量%添加し
た混合粉末を用いることができる。かかる窒化ケイ素粉
末の添加により、窒化原料の供給速度を大きくし、かつ
流動層中での滞留時間を短かくしても、第1の流動層に
おける第1次窒化反応での平均窒化率を向上させること
ができ、しかも、金属ケイ素粉末の融着,凝集をより効
果的に防止することができる。なお、窒化ケイ素粉末の
添加率が50重量%を超えると生産速度を低下させる場
合が生じ、一方5重量%未満であると窒化ケイ素粉末添
加による実質的効果が得られ難い。
本発明方法は、上記窒化原料を複数の流動層で複数次に
亘り窒化反応させるものである。この場合、各流動層は
窒化ケイ素粉末と窒素ガス又はアンモニアガスを含む非
酸化性反応ガスとから形成されたもので、窒化反応温度
にまで加熱保持されたものである。ここで、窒化原料が
最初に投入される第1の流動層は、その温度を1000
〜1400℃、好ましくは1200〜1350℃とし、
この第1流動層による第1窒化反応で金属ケイ素粉末の
粒子の表面に窒化物を形成する。なお、流動層の温度が
1000℃未満であると金属ケイ素粉末粒子の表面に窒
化物を形成することができず、一方1400℃を超える
と粒子の溶融,凝集が生じることとなる。また、第2流
動層及び更に必要により形成されるそれ以降の流動層の
温度は特に限定されないが、1200〜1700℃、特
に1350〜1500℃とすることが好ましく、また順
次温度が高くなるように設定することが好ましい。な
お、流動層の数、即ち窒化反応次数は、2次又は3次と
することが生産性の点から好ましい。なおまた、この流
動層を形成する非酸化性反応ガスは、窒化ガス又はアン
モニアガスを含むものであるが、この反応ガスには水素
ガスを混合することができ、この場合窒素ガス又はアン
モニアガスの含有量は10〜100容量%、特に60〜
90容量%とすることができる。
本発明の窒化ケイ素粉末の製造方法は、上記窒化原料を
上記流動層に順次連続供給,連続排出して金属ケイ素粉
末を段階的に窒化するものであるが、上記以外の窒化条
件は通常の条件とすることができる。
発明の効果 以上説明したように、本発明の製造方法によれば、α相
率等の品質のバラツキが少ない窒化ケイ素粉末を安定的
にかつ効率的に製造することができるものである。
以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明
するが、本発明は下記実施例に制限されるものではな
い。
〔実施例1〕 粒径44μm以下の金属ケイ素粉末にポリビニルアルコ
ールを固形分換算で1重量%添加して混練した後、押出
し造粒機で平均粒径0.5mmに造粒した。これを150
℃で乾燥して水分を除去した後、焼結炉内に仕込み、ア
ルゴンガス流通下1300℃で1時間焼結し、これを窒
化原料とした。
一方、内径80mm,灼熱部の長さ500mmの第1反応器
及び第2反応器に窒化ケイ素粉末を500gづつ装填
し、Nガス7N/minにHガス2N/minを混合
したものを反応ガスとして供給し、それぞれ流動層(層
の高さ300mm)を形成すると共に、反応器を加熱して
流動層をそれぞれ1250℃,1400℃に保持した。
この第1反応器中の流動層に上記窒化原料を200g/
hrの割合で連続的に供給すると共に、この第1反応器中
の流動層からその層高が300mmに保持されるように窒
化生成物を連続的に取り出し、これをそのまま上記第2
反応器の流動層中に連続的に供給し、更にこの流動層か
らその層高が300mmに保持されるように生成物を連続
的に取り出した。
上記の最終生成物は、窒化率95%,α相率80%の一
定品質を有する窒化ケイ素粉末であった。なお、第1反
応器から取り出した窒化生成物の窒化率は50%であっ
た。
〔実施例2〕 第1反応器内の流動層温度及び第2反応器内の流動層温
度をそれぞれ1300℃,1450℃とした以外は上記
実施例1と同様にして窒化ケイ素粉末を製造した。
得られた窒化ケイ素粉末は窒化率98%,a相率75%
の一定品質のものであった。なお、第1反応器から取り
出した窒化生成物の窒化率は65%であった。
〔比較例〕
第1反応器内の流動層温度及び第2反応器内の流動層温
度をそれぞれ1420℃,1450℃とした以外は実施
例1と同様の操作を行なったところ、窒化原料の供給開
始後、1時間経過したところで第1反応器内の流動層を
維持することができなくなった。運転停止後、第1反応
器の内部を調べたところ、筒下部に塊状の金属ケイ素が
認められた。
〔実施例3〕 窒化原料として実施例1で用いたものに窒化ケイ素粉末
(平均粒径0.5mm)を30重量%混合した混合粉末を
用い、これを第1反応器内の流動層に400g/hrの割
合で供給した以外は実施例2と同様にして窒化ケイ素粉
末を製造した。
得られた窒化ケイ素粉末は、窒化率98%で一定品質の
ものであった。
〔実施例4〕 内径80mm,灼熱部の長さ500mmの第3反応器を用意
し、これに窒化ケイ素粉末500gと反応ガスとからな
る第3流動層を形成すると共に、この第3流動層の温度
を1450℃,第1及び第2反応器中の流動層温度をそ
れぞれ1300℃,1350℃とし、第2反応器中で生
成した窒化物をそのまま上記第3反応器中の流動層中に
連続的に供給すると共に、この第3反応器の流動層から
窒化生成物を連続的に取り出すようにしたこと、及び窒
化原料として実施例1で用いたものに窒化ケイ素粉末
(平均粒径0.5mm)を30重量%混合した混合粉末を
用いたこと以外は実施例1と同様の条件で窒化ケイ素粉
末を製造した。
得られた窒化ケイ素粉末は、窒化率99%の一定品質を
有するものであった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】金属ケイ素粉末を含む窒化原料を窒化ケイ
    素粉末と窒素ガス又はアンモニアガスを含む非酸化性反
    応ガスとから形成され、温度を1000〜1400℃に
    保持した第1流動層に連続的に供給し、該第1流動層で
    第1次窒化反応を行なった後、この第1流動層から窒化
    生成物を連続的に取り出すと共に、これを更に窒化ケイ
    素粉末と窒素ガス又はアンモニアガスを含む非酸化性反
    応ガスとから形成された第2流動層に供給し、該第2流
    動層で未反応の窒化原料を窒化する第2次窒化反応を行
    なうことを特徴とする窒化ケイ素粉末の製造方法。
JP1195954A 1989-07-28 1989-07-28 窒化ケイ素粉末の製造方法 Expired - Fee Related JPH066482B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1195954A JPH066482B2 (ja) 1989-07-28 1989-07-28 窒化ケイ素粉末の製造方法
US07/557,572 US5073358A (en) 1989-07-28 1990-07-24 Preparation of silicon nitride powder
EP90114382A EP0410459B1 (en) 1989-07-28 1990-07-26 Preparation of silicon nitride powder
DE90114382T DE69003483T2 (de) 1989-07-28 1990-07-26 Verfahren zur Herstellung von Siliziumnitridpulver.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1195954A JPH066482B2 (ja) 1989-07-28 1989-07-28 窒化ケイ素粉末の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0360410A JPH0360410A (ja) 1991-03-15
JPH066482B2 true JPH066482B2 (ja) 1994-01-26

Family

ID=16349738

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1195954A Expired - Fee Related JPH066482B2 (ja) 1989-07-28 1989-07-28 窒化ケイ素粉末の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH066482B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115432676B (zh) * 2021-06-04 2024-03-26 中国科学院过程工程研究所 一种多级流化床制备高质量氮化硅粉体的系统及方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62162608A (ja) * 1986-01-09 1987-07-18 Mitsue Koizumi 窒化珪素微粉末の製造方法
JPS62210048A (ja) * 1986-03-08 1987-09-16 Nippon Cement Co Ltd 非酸化物粉末の製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62162608A (ja) * 1986-01-09 1987-07-18 Mitsue Koizumi 窒化珪素微粉末の製造方法
JPS62210048A (ja) * 1986-03-08 1987-09-16 Nippon Cement Co Ltd 非酸化物粉末の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0360410A (ja) 1991-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5125964A (en) Fluidized bed process for preparing tungsten powder
JPS62167220A (ja) 二酸化ウランの製造方法
US5070049A (en) Starting composition for the production of silicon carbide and method of producing the same
JPH02208217A (ja) トリクロルモノシランの製造方法
US5073358A (en) Preparation of silicon nitride powder
EP0440235B1 (en) Preparation of silicon nitride powder
JPH066482B2 (ja) 窒化ケイ素粉末の製造方法
JPS6197110A (ja) 高α相率窒化けい素の製造方法
JPS60235706A (ja) シリコン系セラミツクス粉末の連続製造方法
US5441694A (en) Preparation of high α-type silicon nitride powder
JP2736548B2 (ja) 窒化アルミニウムの製造方法およびその製造用連続炉
JP3776250B2 (ja) 窒化タンタルの製造方法
EP0634359B1 (en) Preparation of high alpha-type silicon nitride powder
JPH0360409A (ja) 窒化ケイ素粉末の製造法
JPH11278812A (ja) 窒化ケイ素粉末の製造方法
JPH1095604A (ja) 高α型窒化ケイ素の製造方法
JPH0323484B2 (ja)
JPS61205606A (ja) 高純度窒化アルミニウム粉末の製造法
JP2541019B2 (ja) 窒化ケイ素粉末の製造方法
JPH06102525B2 (ja) 窒化ケイ素粉末の製造方法
JPH10332861A (ja) 一窒化ウランの製造方法
JPH05279002A (ja) 窒化アルミニウム粉末の製造方法
JPH10203818A (ja) 低酸素ケイ素造粒物及びその製造方法並びに窒化ケイ素の製造方法
JPH02192408A (ja) 窒化アルミニウム粉末の製造方法
JPS63297205A (ja) 窒化物の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees