JPH0658763B2 - 電気高圧絶縁体の表面を被覆する方法 - Google Patents
電気高圧絶縁体の表面を被覆する方法Info
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- JPH0658763B2 JPH0658763B2 JP1237372A JP23737289A JPH0658763B2 JP H0658763 B2 JPH0658763 B2 JP H0658763B2 JP 1237372 A JP1237372 A JP 1237372A JP 23737289 A JP23737289 A JP 23737289A JP H0658763 B2 JPH0658763 B2 JP H0658763B2
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- H01B17/50—Insulators or insulating bodies characterised by their form with surfaces specially treated for preserving insulating properties, e.g. for protection against moisture, dirt, or the like
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、縮合可能な末端基を有するジオルガノポリシ
ロキサン（Ｉ）に、１分子当り少なくとも３個の直接珪
素原子に結合した加水分解可能な基を有する珪素化合物
（II）、場合により有機性の非反応性溶剤（III）並び
に少なくとももう１種の物質を混合することにより製造
されている、水の遮断下で貯蔵可能な、室温で水の進入
時にエラストマーに架橋しうる組成物を用いて、電気高
圧絶縁体の表面を被覆する方法に関する。
ロキサン（Ｉ）に、１分子当り少なくとも３個の直接珪
素原子に結合した加水分解可能な基を有する珪素化合物
（II）、場合により有機性の非反応性溶剤（III）並び
に少なくとももう１種の物質を混合することにより製造
されている、水の遮断下で貯蔵可能な、室温で水の進入
時にエラストマーに架橋しうる組成物を用いて、電気高
圧絶縁体の表面を被覆する方法に関する。
電気高圧絶縁体はガラス、磁器又はプラスチツク製であ
る。これらは通常の環境の影響下では長い寿命を有す
る。これらが強い環境の影響、すなわち例えば工業地域
での塵及び汚物により、沿海地域で塩霧により又は砂漠
地域で塵及び侵食により惹起されるような大きな外来負
荷にさらされる場合には、これらの導電性の不純物によ
りフラツシユオーバしかつそのために寿命の短縮につな
がる。従つて、そのような絶縁体を屡々洗浄する必要が
ある。電気高圧絶縁体の屡々の洗浄を節約するために、
これをオルガノポリシロキサンエラストマーで被覆す
る。この際、シリコン被覆は、外来負荷物を疎水化す
る。
る。これらは通常の環境の影響下では長い寿命を有す
る。これらが強い環境の影響、すなわち例えば工業地域
での塵及び汚物により、沿海地域で塩霧により又は砂漠
地域で塵及び侵食により惹起されるような大きな外来負
荷にさらされる場合には、これらの導電性の不純物によ
りフラツシユオーバしかつそのために寿命の短縮につな
がる。従つて、そのような絶縁体を屡々洗浄する必要が
ある。電気高圧絶縁体の屡々の洗浄を節約するために、
これをオルガノポリシロキサンエラストマーで被覆す
る。この際、シリコン被覆は、外来負荷物を疎水化す
る。
米国特許（us）第４４７６１５５号明細書（１９８４年
１０月９日、ニーミ（R.G.Niemi）、ドウ・コーニング
・コーポレイシヨン（Dow Corning Corporation）発
行）には、縮合可能な末端基を有するジメチルポリシロ
キサンに、その珪素原子に少なくとも３個のオキシム基
が酸素原子を介して結合しているシラン、平均粒度５μ
ｍ以下を有する水酸化アルミニウム及び場合により非反
応性溶剤を混合することによつて製造されている、高圧
絶縁体の表面被覆に適当な、水の遮断下に貯蔵可能な、
室温での水の進入時にエラストマーに架橋可能な組成物
が記載されている。この際、水酸化アルミニウムはジメ
チルポリシロキサン、シラン及び水酸化アルミニウムよ
りなる各組成物の総重量に対して３５〜５５重量％の量
で使用される。
１０月９日、ニーミ（R.G.Niemi）、ドウ・コーニング
・コーポレイシヨン（Dow Corning Corporation）発
行）には、縮合可能な末端基を有するジメチルポリシロ
キサンに、その珪素原子に少なくとも３個のオキシム基
が酸素原子を介して結合しているシラン、平均粒度５μ
ｍ以下を有する水酸化アルミニウム及び場合により非反
応性溶剤を混合することによつて製造されている、高圧
絶縁体の表面被覆に適当な、水の遮断下に貯蔵可能な、
室温での水の進入時にエラストマーに架橋可能な組成物
が記載されている。この際、水酸化アルミニウムはジメ
チルポリシロキサン、シラン及び水酸化アルミニウムよ
りなる各組成物の総重量に対して３５〜５５重量％の量
で使用される。
添加剤を含有し、水の遮断下で貯蔵可能な、室温での水
の進入時に架橋してエラストマーになりうる組成物を調
製することが課題であり、それを用いて、良好ないし従
来よりも良好な耐漏電性及び耐アーク性を有し、従来よ
りも良好な機械的特性、特に引き裂き強度及び引き裂き
時の伸びを有しかつその機械的特性が簡単な方法で変え
ることのできる電気高圧絶縁体上の薄い被覆が得られ
る。更に、同じ粘度の組成物に比較して、電気高圧絶縁
体の表面への噴霧の際に、平滑な、一様のかつ密着した
被覆を生ぜしめかつ、その際絶縁体皿の縁部で滴状−又
は突起状物の形成傾向のほとんどない、水の遮断下に貯
蔵可能な、室温での水の進入時にエラストマーに架橋可
能な組成物を調製することが課題であつた。更に、この
際それで被覆された電気高圧絶縁体が、特に、それが特
に強い汚れ及び湿度にさらされる地域で使用される場合
に特に長い寿命を有する、水の遮断下に貯蔵可能な、室
温での水の進入時にエラストマーに架橋可能な組成物を
調製する課題があつた。この課題は、本発明により解明
される。
の進入時に架橋してエラストマーになりうる組成物を調
製することが課題であり、それを用いて、良好ないし従
来よりも良好な耐漏電性及び耐アーク性を有し、従来よ
りも良好な機械的特性、特に引き裂き強度及び引き裂き
時の伸びを有しかつその機械的特性が簡単な方法で変え
ることのできる電気高圧絶縁体上の薄い被覆が得られ
る。更に、同じ粘度の組成物に比較して、電気高圧絶縁
体の表面への噴霧の際に、平滑な、一様のかつ密着した
被覆を生ぜしめかつ、その際絶縁体皿の縁部で滴状−又
は突起状物の形成傾向のほとんどない、水の遮断下に貯
蔵可能な、室温での水の進入時にエラストマーに架橋可
能な組成物を調製することが課題であつた。更に、この
際それで被覆された電気高圧絶縁体が、特に、それが特
に強い汚れ及び湿度にさらされる地域で使用される場合
に特に長い寿命を有する、水の遮断下に貯蔵可能な、室
温での水の進入時にエラストマーに架橋可能な組成物を
調製する課題があつた。この課題は、本発明により解明
される。
本発明の目的物は、縮合可能な末端基を有するジオルガ
ノポリシロキサン(I)に、１分子当り少なくとも３個の
直接珪素原子に結合した加水分解可能な基を有する珪素
化合物(II)、場合により有機性の非反応性溶剤(III)並
びに少なくとももう１種の物質を混合することにより製
造されている、電気高圧絶縁体の表面被覆に好適な、水
の遮断下で貯蔵可能な、室温での水の進入時にエラスト
マーに架橋可能な組成物であり、これは、少なくともも
う１種の物質として、ジメチルシロキサン単位７５〜８
５モル％及びビニルメチルシロキサン単位１５〜２５モ
ル％を有するジオルガノポリシロキサン６０〜８０重量
％(A)、二酸化チタン又は二酸化ジルコニウム２０〜３
５重量％(B)、白金化合物又は白金錯体の形の白金0.05
〜0.25重量％（元素として計算した）(C)及び炭素原子
を介して珪素原子に結合した塩基性窒素原子を有する有
機珪素化合物１〜５重量％(D)の混合（この際(A)〜(D)
で挙げられた範囲内でそのつど選択された％率の合計は
１００重量％になりかつ各重量％は添加剤(IV)の総重量
に対する）により製造された添加剤(IV)を使用すること
よりなる。
ノポリシロキサン(I)に、１分子当り少なくとも３個の
直接珪素原子に結合した加水分解可能な基を有する珪素
化合物(II)、場合により有機性の非反応性溶剤(III)並
びに少なくとももう１種の物質を混合することにより製
造されている、電気高圧絶縁体の表面被覆に好適な、水
の遮断下で貯蔵可能な、室温での水の進入時にエラスト
マーに架橋可能な組成物であり、これは、少なくともも
う１種の物質として、ジメチルシロキサン単位７５〜８
５モル％及びビニルメチルシロキサン単位１５〜２５モ
ル％を有するジオルガノポリシロキサン６０〜８０重量
％(A)、二酸化チタン又は二酸化ジルコニウム２０〜３
５重量％(B)、白金化合物又は白金錯体の形の白金0.05
〜0.25重量％（元素として計算した）(C)及び炭素原子
を介して珪素原子に結合した塩基性窒素原子を有する有
機珪素化合物１〜５重量％(D)の混合（この際(A)〜(D)
で挙げられた範囲内でそのつど選択された％率の合計は
１００重量％になりかつ各重量％は添加剤(IV)の総重量
に対する）により製造された添加剤(IV)を使用すること
よりなる。
本発明による組成物中で、この添加剤(IV)は、場合によ
り併用される有機溶剤(III)なしでエラストマーに架橋
可能な各組成物の総重量に対して殊に１〜４重量％の量
で含有されている。これは、ジオルガノポリシロキサン
エラストマーに高い耐漏電性及び耐アーク性並びに難燃
性を与える。
り併用される有機溶剤(III)なしでエラストマーに架橋
可能な各組成物の総重量に対して殊に１〜４重量％の量
で含有されている。これは、ジオルガノポリシロキサン
エラストマーに高い耐漏電性及び耐アーク性並びに難燃
性を与える。
本発明による添加剤(IV)の成分(A)、ビニルの多いジオ
ルガノポリシロキサンは、ジメチルシロキサン単位及び
ビニルメチルシロキサン単位のほかに場合により、他の
シロキサン単位例えばフエニルメチルシロキサン単位を
高々１８モル％の量で含有する。
ルガノポリシロキサンは、ジメチルシロキサン単位及び
ビニルメチルシロキサン単位のほかに場合により、他の
シロキサン単位例えばフエニルメチルシロキサン単位を
高々１８モル％の量で含有する。
本発明による添加剤(IV)の成分(B)として、二酸化チタ
ンとして、微分配の高熱法で気相で製造した二酸化チタ
ンを使用するのが有利である。
ンとして、微分配の高熱法で気相で製造した二酸化チタ
ンを使用するのが有利である。
本発明による添加剤(IV)の成分(C)として使用される白
金の化合物又は錯体（Komplex）の例は、H2〔PtCl6〕・6
H2Ｏ、白金−オレフイン−錯体、白金−アルコル−錯
体、白金−アルコラート−錯体、白金−エーテル−錯
体、白金−アルデヒド−錯体、H2〔PtCl6〕・6H2O及びシ
クロヘキサノンよりなる反応生成物を含む白金−ケトン
−錯体、白金−ビニルシロキサン−錯体、特に検出可能
な有機ハロゲンを含有する又は含有しない白金−１，３
−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサ
ン錯体、白金−ノルボルナジエン−メチルアセトネート
錯体、ビス−（ガンマ−ピコリン）−白金ジクロリド、
トリメチレンジピリジン白金ジクロリド、ジシクロペン
タジエン白金ジクロリド、ジメチルスルホキシドエチレ
ン白金−(II)−ジクロリド並びに四塩化白金とオレフイ
ン及びｐ−アミン又はｓ−アミン又はｐ−及びｓ−アミ
ンとの反応生成物、例えば１−オクテン中に溶かした四
塩化白金とｓ−ブチルアミンよりなる反応生成物又は欧
州特許機構（EP-B）第１１０３７０号明細書によるアン
モニウム−白金錯体である。
金の化合物又は錯体（Komplex）の例は、H2〔PtCl6〕・6
H2Ｏ、白金−オレフイン−錯体、白金−アルコル−錯
体、白金−アルコラート−錯体、白金−エーテル−錯
体、白金−アルデヒド−錯体、H2〔PtCl6〕・6H2O及びシ
クロヘキサノンよりなる反応生成物を含む白金−ケトン
−錯体、白金−ビニルシロキサン−錯体、特に検出可能
な有機ハロゲンを含有する又は含有しない白金−１，３
−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサ
ン錯体、白金−ノルボルナジエン−メチルアセトネート
錯体、ビス−（ガンマ−ピコリン）−白金ジクロリド、
トリメチレンジピリジン白金ジクロリド、ジシクロペン
タジエン白金ジクロリド、ジメチルスルホキシドエチレ
ン白金−(II)−ジクロリド並びに四塩化白金とオレフイ
ン及びｐ−アミン又はｓ−アミン又はｐ−及びｓ−アミ
ンとの反応生成物、例えば１−オクテン中に溶かした四
塩化白金とｓ−ブチルアミンよりなる反応生成物又は欧
州特許機構（EP-B）第１１０３７０号明細書によるアン
モニウム−白金錯体である。
本発明による添加剤(IV)の成分(D)を成す、炭素原子を
介して珪素原子に結合した塩基性窒素原子を有する有機
珪素化合物は、殊に、式： YaRbSi(OR1)4-a-b 〔式中Ｒは１基当り１〜８個の炭素原子を有する同じ又
は異なる１価の炭化水素基であり、Ｒ1は１基当り１〜
４個の炭素原子を有する同じ又は異なるアルキル基又は
式：-SiR3の基であり、この際Ｒは前記のものであり、
Ｙは塩基性窒素原子を有する同じ又は異なる１価のSiC
−結合された有機基を表わし、ａは１又は２でありかつ
ｂは０、１又は２である〕のシラン及び式： (YcRdSi)2O 〔式中Ｒ及びＹは前記のものであり、ｃは０、１、２又
は３、特に１であるが、ジシロキサンは少なくとも１個
の基Ｙを有することが条件であり、かつｄは０、１、２
又は３、特に１である〕のジシロキサンの群から選択さ
れるものである。
介して珪素原子に結合した塩基性窒素原子を有する有機
珪素化合物は、殊に、式： YaRbSi(OR1)4-a-b 〔式中Ｒは１基当り１〜８個の炭素原子を有する同じ又
は異なる１価の炭化水素基であり、Ｒ1は１基当り１〜
４個の炭素原子を有する同じ又は異なるアルキル基又は
式：-SiR3の基であり、この際Ｒは前記のものであり、
Ｙは塩基性窒素原子を有する同じ又は異なる１価のSiC
−結合された有機基を表わし、ａは１又は２でありかつ
ｂは０、１又は２である〕のシラン及び式： (YcRdSi)2O 〔式中Ｒ及びＹは前記のものであり、ｃは０、１、２又
は３、特に１であるが、ジシロキサンは少なくとも１個
の基Ｙを有することが条件であり、かつｄは０、１、２
又は３、特に１である〕のジシロキサンの群から選択さ
れるものである。
しかし、本発明による添加剤(IV)の炭素原子を介して珪
素原子に結合した塩基性窒素原子を有する有機珪素化合
物(D)は、式： YxRySi(OR1)zO2 〔式中Ｒ及びＲ1は前記のものでありｘは０、１又は２
であり、ｙは０、１、２又は３でありかつｚは０、１又
は２である〕の単位よりなる最高１０個のSi−原子を有
するオルガノ（ポリ）シロキサンであつてもよい。
素原子に結合した塩基性窒素原子を有する有機珪素化合
物(D)は、式： YxRySi(OR1)zO2 〔式中Ｒ及びＲ1は前記のものでありｘは０、１又は２
であり、ｙは０、１、２又は３でありかつｚは０、１又
は２である〕の単位よりなる最高１０個のSi−原子を有
するオルガノ（ポリ）シロキサンであつてもよい。
炭化水素基Ｒの例は、メチル−、エチル−、ｎ−プロピ
ル−、イソプロピル−及び２−エチルヘキシル基、並び
にブチル基；炭素−及び水素原子から構成された脂肪族
多重結合を有する基、例えばビニル−及びアリル基；環
状脂肪族炭化水素基、例えばシクロペンチル基及びシク
ロヘキシル基、並びにメチルシクロヘキシル基；芳香族
炭化水素基、例えばフエニル基及びキセニル基；アルカ
リール（Alkaryl）基、例えばトリル基；及びアルアル
キル基、例えばベンジル基である。しかしながら炭化水
素基Ｒは、特にそれが珪素原子（これには炭素を介して
塩基性窒素原子も結合している）に結合している場合
に、殊に脂肪族多重結合を有しない。更に、より容易な
入手性のためにも、基Ｒの数の少なくとも５０％はメチ
ル基であることが有利である。
ル−、イソプロピル−及び２−エチルヘキシル基、並び
にブチル基；炭素−及び水素原子から構成された脂肪族
多重結合を有する基、例えばビニル−及びアリル基；環
状脂肪族炭化水素基、例えばシクロペンチル基及びシク
ロヘキシル基、並びにメチルシクロヘキシル基；芳香族
炭化水素基、例えばフエニル基及びキセニル基；アルカ
リール（Alkaryl）基、例えばトリル基；及びアルアル
キル基、例えばベンジル基である。しかしながら炭化水
素基Ｒは、特にそれが珪素原子（これには炭素を介して
塩基性窒素原子も結合している）に結合している場合
に、殊に脂肪族多重結合を有しない。更に、より容易な
入手性のためにも、基Ｒの数の少なくとも５０％はメチ
ル基であることが有利である。
１基当り１〜４個の炭素原子を有するアルキル基Ｒの前
記の例は、基Ｒ1にも全範囲であてはまる。
記の例は、基Ｒ1にも全範囲であてはまる。
基Ｙは殊に式：R2NHR3-、〔式中Ｒ2は水素原子又は１基
当り１〜８個の炭素原子を有する同じ又は異なるアルキ
ル−又はシクロアルキル−又はアミノアルキル基を表わ
し、Ｒ3は１基当り１個の炭素原子又は３又は４個の炭
素原子を有する同じ又は異なる直鎖又は分枝鎖で、脂肪
族多重結合を含有しない炭化水素基、特に式：-(CH2)3-
の基を表わす〕のものである。
当り１〜８個の炭素原子を有する同じ又は異なるアルキ
ル−又はシクロアルキル−又はアミノアルキル基を表わ
し、Ｒ3は１基当り１個の炭素原子又は３又は４個の炭
素原子を有する同じ又は異なる直鎖又は分枝鎖で、脂肪
族多重結合を含有しない炭化水素基、特に式：-(CH2)3-
の基を表わす〕のものである。
アルキル−及びシクロアルキル基Ｒの例は、アルキル−
もしくはシクロアルキル基Ｒ2にも全範囲であてはま
る。
もしくはシクロアルキル基Ｒ2にも全範囲であてはま
る。
アミノアルキル基Ｒ2の例は、式： H2N(CH2)3-、H2N(CH2)2NH(CH2)2-、 H2N(CH2)2-、(H3C)2NH(CH2)2-、H2N(CH2)4-、H(NHCH2CH
2)3-及びC4H9NH(CH2)2NH(CH2)2- のものである。
2)3-及びC4H9NH(CH2)2NH(CH2)2- のものである。
本発明による添加剤(IV)の、炭素原子を介して珪素原子
に結合した塩基性窒素原子を有する有機珪素化合物(D)
としては、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−
３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−ア
ミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシ
ラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−
（シクロヘキシル）−３−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピ
ル−トリス（トリメチルシロキシ）シラン及び１，２−
ビス〔Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピ
ル〕−１，１，２，２−テトラメチルジシロキサンを使
用するのが有利である。Ｎ−（２−アミノエチル）−３
−アミノプロピル−トリメトキシシランを使用するのが
特に有利である。
に結合した塩基性窒素原子を有する有機珪素化合物(D)
としては、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−
３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−ア
ミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシ
ラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−
（シクロヘキシル）−３−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピ
ル−トリス（トリメチルシロキシ）シラン及び１，２−
ビス〔Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピ
ル〕−１，１，２，２−テトラメチルジシロキサンを使
用するのが有利である。Ｎ−（２−アミノエチル）−３
−アミノプロピル−トリメトキシシランを使用するのが
特に有利である。
本発明による添加剤(IV)の成分(A)〜(D)を撹拌器又は捏
和機中で互いに混合する。次いで添加剤(IV)を、混合物
の少なくとも２時間の撹拌もしくは捏和及び引続いて室
温で２〜３日間の放置後に、使用することができる。混
合物を８０℃〜１５０℃で少なくとも１２０分間加熱す
ることによつて、有利に使用完成にする。
和機中で互いに混合する。次いで添加剤(IV)を、混合物
の少なくとも２時間の撹拌もしくは捏和及び引続いて室
温で２〜３日間の放置後に、使用することができる。混
合物を８０℃〜１５０℃で少なくとも１２０分間加熱す
ることによつて、有利に使用完成にする。
ビニルの多いジオルガノポリシロキサン(A)、白金化合
物もしくは白金錯体(C)並びに炭素原子を介して珪素原
子に結合した塩基性窒素原子を有する有機珪素化合物
(D)は、数日間放置もしくは加熱によつて互いに反応さ
せると、作用を補強するだけの金属酸化物(B)と共に、
高い耐漏電性及び耐アーク性並びに難燃性を有するオル
ガノポリシロキサンエラストマーの被覆を得るために、
オルガノポリシロキサンエラストマーに架橋可能な組成
物の他の成分に少量でのみ添加すべき添加剤(IV)を生ず
る。
物もしくは白金錯体(C)並びに炭素原子を介して珪素原
子に結合した塩基性窒素原子を有する有機珪素化合物
(D)は、数日間放置もしくは加熱によつて互いに反応さ
せると、作用を補強するだけの金属酸化物(B)と共に、
高い耐漏電性及び耐アーク性並びに難燃性を有するオル
ガノポリシロキサンエラストマーの被覆を得るために、
オルガノポリシロキサンエラストマーに架橋可能な組成
物の他の成分に少量でのみ添加すべき添加剤(IV)を生ず
る。
縮合可能な末端基を有するジオルガノポリシロキサン
(I)としては本発明による組成物中で、有利に式： HO(Si▲Ｒ4 2▼ｍSi▲Ｒ4 2▼OH 〔式中Ｒ4は１基当り１〜１８個の炭素原子を有する１
価の、場合によりハロゲン化された炭化水素基を表わ
し、かつｍは少なくとも１０の値の整数である〕のもの
を使用する。ジオルガノポリシロキサン(I)の平均粘度
は２５℃で５００〜１．１０6mPa・sであるのが有利であ
る。
(I)としては本発明による組成物中で、有利に式： HO(Si▲Ｒ4 2▼ｍSi▲Ｒ4 2▼OH 〔式中Ｒ4は１基当り１〜１８個の炭素原子を有する１
価の、場合によりハロゲン化された炭化水素基を表わ
し、かつｍは少なくとも１０の値の整数である〕のもの
を使用する。ジオルガノポリシロキサン(I)の平均粘度
は２５℃で５００〜１．１０6mPa・sであるのが有利であ
る。
本発明による組成物の調製の際に、ジオルガノポリシロ
キサン(I)を、場合により併用される有機溶剤(III)なし
に、各組成物の総重量に対して５０〜９０重量％の量で
使用するのが有利である。
キサン(I)を、場合により併用される有機溶剤(III)なし
に、各組成物の総重量に対して５０〜９０重量％の量で
使用するのが有利である。
前記式のシロキサン鎖の内部にもしくはそれに沿つて
（こういうことはこのような式によつて通常描き出され
ないが）、ジオルガノシロキサン単位（Si▲Ｒ4 2▼Ｏ）
に付加的になお他のシロキサン単位が存在しうる。この
ような他の、しかしながら大抵は単に多かれ少なかれ避
け難い不純物として存在するシロキサン単位の例は、
式：Ｒ4SiO3/2、▲Ｒ4 3▼SiO1/2及びSiO4/2〔式中Ｒ4は
各々前記のものである〕のものである。しかしながら殊
にジオルガノシロキサン単位以外のそのようなシロキサ
ン単位の量は合計して、縮合可能な末端基を有するジオ
ルガノポリシロキサン(I)中に存在するシロキサン単位
の高々５モル％である。縮合可能な末端基を有するジオ
ルガノポリシロキサン(I)の前記式中のヒドロキシル基
を、所望の場合には、他の縮合可能な基、例えば１基当
り１〜４個の炭素原子を有するアルコキシ基によつて代
えることができる。
（こういうことはこのような式によつて通常描き出され
ないが）、ジオルガノシロキサン単位（Si▲Ｒ4 2▼Ｏ）
に付加的になお他のシロキサン単位が存在しうる。この
ような他の、しかしながら大抵は単に多かれ少なかれ避
け難い不純物として存在するシロキサン単位の例は、
式：Ｒ4SiO3/2、▲Ｒ4 3▼SiO1/2及びSiO4/2〔式中Ｒ4は
各々前記のものである〕のものである。しかしながら殊
にジオルガノシロキサン単位以外のそのようなシロキサ
ン単位の量は合計して、縮合可能な末端基を有するジオ
ルガノポリシロキサン(I)中に存在するシロキサン単位
の高々５モル％である。縮合可能な末端基を有するジオ
ルガノポリシロキサン(I)の前記式中のヒドロキシル基
を、所望の場合には、他の縮合可能な基、例えば１基当
り１〜４個の炭素原子を有するアルコキシ基によつて代
えることができる。
１分子当り少なくとも３個の直接珪素原子に結合した加
水分解可能な基を有する珪素化合物(II)として、式： ▲Ｒ4 n▼SiZ4-n 〔式中ｎは０又は１であり、Ｒ4は前記のものでありか
つＺは同じ又は異なる加水分解可能な基を表わし、オキ
シム基-ON＝Ｘ、アミノ基-N▲Ｒ7 2▼、アシルアミノ基-
NR7COR7、アミノキシ基-ON▲Ｒ7 2▼、アシルオキシ基-O
OCR7及び場合により置換された炭化水素オキシ基-OR
7（この際Ｘは式：▲Ｒ5 2▼Ｃ＝又はR6C＝の同じ又は異
なる基を表わし、この際Ｒ5は１基当り１〜５個の炭素
原子を有する同じ又は異なる１価の炭化水素基を表わし
かつＲ6は５〜６個の炭素原子を有する２価の炭化水素
水素基を表わし、かつＲ7は水素原子又は同じ又は異な
る１価の、場合により置換された炭化水素基を表わす）
よりなる群から選択されている〕のシラン及び１分子当
り２〜１０個の珪素原子を有するその部分的加水分解物
を使用するのが有利である。
水分解可能な基を有する珪素化合物(II)として、式： ▲Ｒ4 n▼SiZ4-n 〔式中ｎは０又は１であり、Ｒ4は前記のものでありか
つＺは同じ又は異なる加水分解可能な基を表わし、オキ
シム基-ON＝Ｘ、アミノ基-N▲Ｒ7 2▼、アシルアミノ基-
NR7COR7、アミノキシ基-ON▲Ｒ7 2▼、アシルオキシ基-O
OCR7及び場合により置換された炭化水素オキシ基-OR
7（この際Ｘは式：▲Ｒ5 2▼Ｃ＝又はR6C＝の同じ又は異
なる基を表わし、この際Ｒ5は１基当り１〜５個の炭素
原子を有する同じ又は異なる１価の炭化水素基を表わし
かつＲ6は５〜６個の炭素原子を有する２価の炭化水素
水素基を表わし、かつＲ7は水素原子又は同じ又は異な
る１価の、場合により置換された炭化水素基を表わす）
よりなる群から選択されている〕のシラン及び１分子当
り２〜１０個の珪素原子を有するその部分的加水分解物
を使用するのが有利である。
炭化水素基Ｒ4の例は、アルキル基、例えばメチル−、
エチル−、ｎ−プロピル−、イソプロピル−、ｎ−ブチ
ル−及びｓ−ブチル基並びにヘキシル−及びオクタデシ
ル基；炭素−炭素−二重結合を有する脂肪族基、例えば
ビニル−及びアリル基；環状脂肪族炭化水素基、例えば
シクロペンチル−及びシクロヘキシル基、並びにメチル
シクロヘキシル基；アリール基、例えばフエニル基及び
キセニル基；アルクアリール基、例えばトリル基；及び
アルアルキル基、例えばベンジル基である。
エチル−、ｎ−プロピル−、イソプロピル−、ｎ−ブチ
ル−及びｓ−ブチル基並びにヘキシル−及びオクタデシ
ル基；炭素−炭素−二重結合を有する脂肪族基、例えば
ビニル−及びアリル基；環状脂肪族炭化水素基、例えば
シクロペンチル−及びシクロヘキシル基、並びにメチル
シクロヘキシル基；アリール基、例えばフエニル基及び
キセニル基；アルクアリール基、例えばトリル基；及び
アルアルキル基、例えばベンジル基である。
ハロゲン化炭化水素基Ｒ4の例は、ハロゲンアルキル
基、例えば３，３，３−トリフルオルプロピル基及びハ
ロゲンアリール基、例えばｏ−、ｐ−及びｍ−クロルフ
エニル基である。
基、例えば３，３，３−トリフルオルプロピル基及びハ
ロゲンアリール基、例えばｏ−、ｐ−及びｍ−クロルフ
エニル基である。
より容易な入手性の故に、基Ｒ4の数の少なくとも５０
％、特に有利に基Ｒ4の数の少なくとも９０％がメチル
基であることが有利である。
％、特に有利に基Ｒ4の数の少なくとも９０％がメチル
基であることが有利である。
炭化水素基Ｒ5の最も重要な例は、メチル−及びエチル
基である。式：R6C＝NO-の基の最も重要な例は、シクロ
ヘキサノンオキシム基である。
基である。式：R6C＝NO-の基の最も重要な例は、シクロ
ヘキサノンオキシム基である。
炭化水素基Ｒ4の例は、炭化水素基Ｒ7に全範囲において
あてはまる。
あてはまる。
１分子当り少なくとも３個の直接珪素原子に結合する加
水分解可能な基を有する珪素化合物(II)としては、式： ▲Ｒ4 n▼Si(ON＝X)4-n 〔式中Ｒ4、Ｘ及びｎは前記のものである〕のシラン及
び１分子当り２〜１０個の珪素原子を有するその部分的
加水分解物を使用するのが有利である。
水分解可能な基を有する珪素化合物(II)としては、式： ▲Ｒ4 n▼Si(ON＝X)4-n 〔式中Ｒ4、Ｘ及びｎは前記のものである〕のシラン及
び１分子当り２〜１０個の珪素原子を有するその部分的
加水分解物を使用するのが有利である。
この際、メチルトリス−（メチルエチルケトキシム）−
シラン及びテトラ−（メチルエチルケトキシム）−シラ
ンを特に有利に使用される。
シラン及びテトラ−（メチルエチルケトキシム）−シラ
ンを特に有利に使用される。
アミノ基の例は、ｎ−ブチルアミノ−、ｓ−ブチルアミ
ノ−及びシクロヘキシルアミノ基である。
ノ−及びシクロヘキシルアミノ基である。
アシルアミノ基の例は、ベンズアミド基である。
アミノキシ基の例は、ジメチルアミノキシ−及びジエチ
ルアミノキシ基である。
ルアミノキシ基である。
アシルオキシ基の例は、ホルミルオキシ−及びアセトキ
シ基である。
シ基である。
炭化水素オキシ基の例は、メトキシ−、エトキシ−及び
イソプロペニルオキシ基である。
イソプロペニルオキシ基である。
置換された炭化水素オキシ基の例は、メトキシエチレン
オキシ基である。
オキシ基である。
殊に本発明による組成物の調製において１分子当り少な
くとも３個の直接珪素原子に結合した加水分解可能な基
を有する珪素化合物(II)は、場合により併用される有機
溶剤(III)なしに、各組成物の総重量に対してそのつど
３〜１５重量％、特に５〜１０重量％の量で使用され
る。
くとも３個の直接珪素原子に結合した加水分解可能な基
を有する珪素化合物(II)は、場合により併用される有機
溶剤(III)なしに、各組成物の総重量に対してそのつど
３〜１５重量％、特に５〜１０重量％の量で使用され
る。
本発明による組成物の調製時に、場合により非反応性の
有機溶剤(III)を併用する。加工のために十分に低い粘
度を組成物に与えるために、本発明による組成物の調製
の際に併用されうる非反応性の有機溶剤の例は、脂肪
族、芳香族及び塩素化炭化水素、例えばベンジン、石油
ベンジン（Testbenzin）、トルオール、キシロール、ト
リクロルエテン及びテトラクロルエテンである。非反応
性の有機溶剤は、場合により併用される有機溶剤(III)
を有する各組成物の総重量に対してそのつど殊に１０〜
８０重量％、特に３０〜７０重量％の量で併用される。
有機溶剤(III)を併用する。加工のために十分に低い粘
度を組成物に与えるために、本発明による組成物の調製
の際に併用されうる非反応性の有機溶剤の例は、脂肪
族、芳香族及び塩素化炭化水素、例えばベンジン、石油
ベンジン（Testbenzin）、トルオール、キシロール、ト
リクロルエテン及びテトラクロルエテンである。非反応
性の有機溶剤は、場合により併用される有機溶剤(III)
を有する各組成物の総重量に対してそのつど殊に１０〜
８０重量％、特に３０〜７０重量％の量で併用される。
本発明による組成物の調製の際に併用されうる添加剤(I
V)以外の他の物質は、殊に補強性無機充填剤、非補強性
無機充填剤、縮合触媒、軟化剤、本発明による組成物か
ら製造されるエラストマーが基材（この上にエラストマ
ーが生成された）上に付着することの改善剤、顔料及び
可溶性色素である。更に他の物質、例えば香料、殺菌
剤、(CH3)3SiO1/2−及びSiO4/2−単位よりなるものを包
含する樹脂様のオルガノポリシロキサン、純−有機性樹
脂、例えばアクリルニトリルのホモ−又は共重合体、ポ
リスチロール、ポリ塩化ビニル又はポリプロピレン、
（この際そのような純−有機樹脂、特にスチロール及び
ｎ−ブチルアクリレートよりなる共重合体は、縮合可能
な末端基を有するジオルガノポリシロキサンの存在です
でに、遊離基による前記モノマーの重合によつて生成さ
れていてよい）、腐食抑制剤、エステル化又はエーテル
化されていてよいポリグリコール、酸化防止剤、熱安定
剤、不燃化剤、光保護剤及び被膜形成時間の延長剤、例
えばSiC-結合メルカプトアルキル基を有するシラン並び
に小胞形成剤（zellenerzeugende Mittel）、例えばア
ゾジカルボンアミドを併用してよい。
V)以外の他の物質は、殊に補強性無機充填剤、非補強性
無機充填剤、縮合触媒、軟化剤、本発明による組成物か
ら製造されるエラストマーが基材（この上にエラストマ
ーが生成された）上に付着することの改善剤、顔料及び
可溶性色素である。更に他の物質、例えば香料、殺菌
剤、(CH3)3SiO1/2−及びSiO4/2−単位よりなるものを包
含する樹脂様のオルガノポリシロキサン、純−有機性樹
脂、例えばアクリルニトリルのホモ−又は共重合体、ポ
リスチロール、ポリ塩化ビニル又はポリプロピレン、
（この際そのような純−有機樹脂、特にスチロール及び
ｎ−ブチルアクリレートよりなる共重合体は、縮合可能
な末端基を有するジオルガノポリシロキサンの存在です
でに、遊離基による前記モノマーの重合によつて生成さ
れていてよい）、腐食抑制剤、エステル化又はエーテル
化されていてよいポリグリコール、酸化防止剤、熱安定
剤、不燃化剤、光保護剤及び被膜形成時間の延長剤、例
えばSiC-結合メルカプトアルキル基を有するシラン並び
に小胞形成剤（zellenerzeugende Mittel）、例えばア
ゾジカルボンアミドを併用してよい。
補強性無機充填剤、すなわち少なくとも５０m2／ｇの表
面積を有する無機充填剤の例は、特に高熱法で製造され
た二酸化珪素、構造保持下に脱水された珪酸ヒドロゲル
及び少なくとも５０m2／ｇの表面積を有する他の種類の
沈降二酸化珪素である。
面積を有する無機充填剤の例は、特に高熱法で製造され
た二酸化珪素、構造保持下に脱水された珪酸ヒドロゲル
及び少なくとも５０m2／ｇの表面積を有する他の種類の
沈降二酸化珪素である。
非補強性無機充填剤、すなわち５０m2／ｇよりも少ない
表面積を有する無機充填剤の例は、石英粉末、珪藻土、
酸化鉄、酸化亜鉛、酸化チタン、炭酸カルシウム、炭酸
マグネシウム、炭酸亜鉛、スス、雲母及びニユーブルガ
ー白堊（Neuburger Kreide）でありもしくはであつて
よい。
表面積を有する無機充填剤の例は、石英粉末、珪藻土、
酸化鉄、酸化亜鉛、酸化チタン、炭酸カルシウム、炭酸
マグネシウム、炭酸亜鉛、スス、雲母及びニユーブルガ
ー白堊（Neuburger Kreide）でありもしくはであつて
よい。
全てのこれらの補強性及び非補強性無機充填剤は親水性
であつてよく又は例えばオルガノシランもしくはオルガ
ノシロキサン又はオルガノシラザン、例えばヘキサメチ
ルジシラザンでの処理によつて又はアルコキシ基でのヒ
ドロキシル基のエーテル化により疎水化され得る。充填
剤の１種類を使用することができ、少なくとも２種類の
充填剤の混合物を使用することもできる。この際、充填
剤は、場合により併用される有機溶剤(III)なしに、各
組成物の総重量に対して殊に５〜３０重量％の量で併用
される。
であつてよく又は例えばオルガノシランもしくはオルガ
ノシロキサン又はオルガノシラザン、例えばヘキサメチ
ルジシラザンでの処理によつて又はアルコキシ基でのヒ
ドロキシル基のエーテル化により疎水化され得る。充填
剤の１種類を使用することができ、少なくとも２種類の
充填剤の混合物を使用することもできる。この際、充填
剤は、場合により併用される有機溶剤(III)なしに、各
組成物の総重量に対して殊に５〜３０重量％の量で併用
される。
縮合触媒の例は、ブチルチタネート及び有機錫化合物、
例えばジ−ｎ−ブチル錫ジアセテート、ジ−ｎ−ブチル
錫ジラウレート及び１分子当り少なくとも２個の、酸素
原子を介して珪素原子に結合した、場合により１個のア
ルコキシ基により置換された、１価の炭化水素基を加水
分解可能な基として有するシラン又はそのオリゴマーと
ジオルガノ錫ジアシレートとの反応生成物であり、この
際、この反応生成物において、錫原子の全原子価は、
基： ≡SiOSn≡ の酸素原子によつてもしくはSnC-結合した、１価の有機
基によつて飽和されている。このような反応生成物の製
造は、米国特許（US）第４４６０７６１号明細書（１９
８４年７月１７日公示、シラー（Ａ．Schiller）等著、
ワツカーヒエミー社（Wacker−Chemie GmbH）に詳記さ
れている。この際縮合触媒は場合により併用される有機
溶剤(IV)なしで各組成物の総重量に対して殊に0.01〜1.
00重量％の量で併用される。
例えばジ−ｎ−ブチル錫ジアセテート、ジ−ｎ−ブチル
錫ジラウレート及び１分子当り少なくとも２個の、酸素
原子を介して珪素原子に結合した、場合により１個のア
ルコキシ基により置換された、１価の炭化水素基を加水
分解可能な基として有するシラン又はそのオリゴマーと
ジオルガノ錫ジアシレートとの反応生成物であり、この
際、この反応生成物において、錫原子の全原子価は、
基： ≡SiOSn≡ の酸素原子によつてもしくはSnC-結合した、１価の有機
基によつて飽和されている。このような反応生成物の製
造は、米国特許（US）第４４６０７６１号明細書（１９
８４年７月１７日公示、シラー（Ａ．Schiller）等著、
ワツカーヒエミー社（Wacker−Chemie GmbH）に詳記さ
れている。この際縮合触媒は場合により併用される有機
溶剤(IV)なしで各組成物の総重量に対して殊に0.01〜1.
00重量％の量で併用される。
本発明による組成物から製造されるエラストマーが基材
（この上でエラストマーが生成された）上に付着するこ
との改善剤の例は、有機官能性シラン、例えばアミノ官
能性シラン、例えばγ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン及びＮ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピ
ルトリエトキシシランである。これは場合により併用さ
れる有機溶剤(IV)なしで各組成物の総重量に対して殊に
0.5〜5.0重量％、特に1.0〜1.5重量％の量で併用され
る。
（この上でエラストマーが生成された）上に付着するこ
との改善剤の例は、有機官能性シラン、例えばアミノ官
能性シラン、例えばγ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン及びＮ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピ
ルトリエトキシシランである。これは場合により併用さ
れる有機溶剤(IV)なしで各組成物の総重量に対して殊に
0.5〜5.0重量％、特に1.0〜1.5重量％の量で併用され
る。
軟化剤の例は、少なくとも１０mPa・sの粘度を有する室
温で液状の、トリメチルシロキシ基により末端遮断され
たジメチルポリシロキサンである。これは場合により併
用される有機溶剤(III)なしで各組成物の総重量に対し
て殊に５〜５０重量％の量で併用される。
温で液状の、トリメチルシロキシ基により末端遮断され
たジメチルポリシロキサンである。これは場合により併
用される有機溶剤(III)なしで各組成物の総重量に対し
て殊に５〜５０重量％の量で併用される。
本発明による組成物の架橋のためには通常の空気含湿量
で十分である。この架橋は所望の場合には室温よりも高
い又は低い温度で、例えば−５℃〜１０℃で又は３０℃
〜５０℃でも実施できる。
で十分である。この架橋は所望の場合には室温よりも高
い又は低い温度で、例えば−５℃〜１０℃で又は３０℃
〜５０℃でも実施できる。
本発明による組成物は、磁器、ガラス又はプラスチツク
製の、中−及び高圧域で使用される絶縁体、例えば立脚
絶縁体（Standisolatoren）、引込線（Durchfhrunge
n）、計器用変成器及び棒状絶縁体（Stabisolatoren）
の表面被覆に使用される。この際、被覆は例えば噴霧、
塗布、ローラーがけ又は浸漬により行なうことができ
る。被覆は噴霧により行なうのが有利である。本発明に
よるエラストマー被覆の厚さは、有利に少なくとも0.25
mmである。
製の、中−及び高圧域で使用される絶縁体、例えば立脚
絶縁体（Standisolatoren）、引込線（Durchfhrunge
n）、計器用変成器及び棒状絶縁体（Stabisolatoren）
の表面被覆に使用される。この際、被覆は例えば噴霧、
塗布、ローラーがけ又は浸漬により行なうことができ
る。被覆は噴霧により行なうのが有利である。本発明に
よるエラストマー被覆の厚さは、有利に少なくとも0.25
mmである。
次の実施例において、他の記載のない限り、「部」及び
「％」の全記載は「重量部」及び「重量％」である。
「％」の全記載は「重量部」及び「重量％」である。
次の実施例中で使用される混合物は白金−ビニルシロキ
サン−錯体及び希釈剤から次の様に製造した。
サン−錯体及び希釈剤から次の様に製造した。
H2PtCl6・6H2O１０部、１，３−ジビニル−１，１，３，
３−テトラメチルジシロキサン２０部及びエタノール５
０部よりなる混合物に重炭酸ナトリウム２０部を加え
た。混合物を撹拌下で３０分間沸騰還流加熱し、次いで
１５時間放置しかつその後に濾過した。濾液から約１６
hPa（絶対（abs.））で揮発性成分を溜去した。残分と
して液体１７部を得て、これをベンゾール中に溶かし
た。溶液を濾過しかつ濾液からベンゾールを溜去した。
残分に、希釈剤として２５℃で１４００mPa・sの粘度を
有する末端位単位としてジメチルビニルシロキサン単位
を有するジメチルポリシロキサンを、混合物が白金１重
量％（元素として計算した）を含有するような量で混合
した。
３−テトラメチルジシロキサン２０部及びエタノール５
０部よりなる混合物に重炭酸ナトリウム２０部を加え
た。混合物を撹拌下で３０分間沸騰還流加熱し、次いで
１５時間放置しかつその後に濾過した。濾液から約１６
hPa（絶対（abs.））で揮発性成分を溜去した。残分と
して液体１７部を得て、これをベンゾール中に溶かし
た。溶液を濾過しかつ濾液からベンゾールを溜去した。
残分に、希釈剤として２５℃で１４００mPa・sの粘度を
有する末端位単位としてジメチルビニルシロキサン単位
を有するジメチルポリシロキサンを、混合物が白金１重
量％（元素として計算した）を含有するような量で混合
した。
例 １ a) ２５℃で５００００mPa・sの粘度を有し、ビニルメ
チルシロキサン単位２０モル％有するジメチルポリシロ
キサン１００部に、撹拌装置中で高熱法で気相で製造し
た二酸化チタン５０部を均質に混合する。次いで白金−
ビニルシロキサン−錯体及び希釈剤よりなる白金１重量
％（元素として計算された）を含有する混合物２５部を
添加する。混合物の均質化後、混合物にＮ−（２−アミ
ノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン４
部を添加混合する。引続き混合物を強撹拌下で徐々に１
５０℃に加熱しかつ更に２時間１５０℃で撹拌する。
チルシロキサン単位２０モル％有するジメチルポリシロ
キサン１００部に、撹拌装置中で高熱法で気相で製造し
た二酸化チタン５０部を均質に混合する。次いで白金−
ビニルシロキサン−錯体及び希釈剤よりなる白金１重量
％（元素として計算された）を含有する混合物２５部を
添加する。混合物の均質化後、混合物にＮ−（２−アミ
ノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン４
部を添加混合する。引続き混合物を強撹拌下で徐々に１
５０℃に加熱しかつ更に２時間１５０℃で撹拌する。
b) ２５℃で２００００mPa・sの粘度を有し、末端位の
単位に１個ずつのSi-結合したヒドロキシル基を有する
ジメチルポリシロキサン29.4部に、前記の順序で、１５
０m2／ｇのBET−表面積を有する高熱法で気相で製造し
た二酸化珪素6.1部、添加剤（その製造は前記のa)で記
載された）1.0部、１０２０hPa（絶対）で１００℃〜１
４０℃の沸騰範囲を有する、芳香物質の乏しい石油ベン
ジン60.0部、メチルトリス−（メチルエチルケトキシ
ム）−シラン2.85部、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−
アミノプロピルトリメトキシシラン0.6部及びテトラエ
チルシリケート４部及びジ−ｎ−ブチル錫−ジアセテー
ト１部よりなる混合物を撹拌下で環境大気圧で６時間１
２０℃に加熱すること及び生成した酢酸エチルエステル
の同時の溜去により製造した反応生成物0.05部を混合す
る。
単位に１個ずつのSi-結合したヒドロキシル基を有する
ジメチルポリシロキサン29.4部に、前記の順序で、１５
０m2／ｇのBET−表面積を有する高熱法で気相で製造し
た二酸化珪素6.1部、添加剤（その製造は前記のa)で記
載された）1.0部、１０２０hPa（絶対）で１００℃〜１
４０℃の沸騰範囲を有する、芳香物質の乏しい石油ベン
ジン60.0部、メチルトリス−（メチルエチルケトキシ
ム）−シラン2.85部、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−
アミノプロピルトリメトキシシラン0.6部及びテトラエ
チルシリケート４部及びジ−ｎ−ブチル錫−ジアセテー
ト１部よりなる混合物を撹拌下で環境大気圧で６時間１
２０℃に加熱すること及び生成した酢酸エチルエステル
の同時の溜去により製造した反応生成物0.05部を混合す
る。
水の遮断下で貯蔵可能な、溶剤を含有し流動性のRTV−
１組成物が得られる。この組成物は２５℃で３２００mP
a・sの粘度を有し、かつ絶縁体の表面上に例えばエアー
レス（Airless）−装置で卓越的に噴霧することができ
る。この組成物は、空気湿気の進入時に溶剤の同時の蒸
発下に反応して平滑なゴム様の層になる。
１組成物が得られる。この組成物は２５℃で３２００mP
a・sの粘度を有し、かつ絶縁体の表面上に例えばエアー
レス（Airless）−装置で卓越的に噴霧することができ
る。この組成物は、空気湿気の進入時に溶剤の同時の蒸
発下に反応して平滑なゴム様の層になる。
この組成物から２mm厚の箔を製造し、その機械的及び電
気的特性を室温での１４日間の貯蔵後に測定した。結果
を表１にまとめる。
気的特性を室温での１４日間の貯蔵後に測定した。結果
を表１にまとめる。
比較実験１ 例１に記載した作業法を、添加剤を併用しないことを変
えて、繰り返す。２５℃で３１００mPa・sの粘度を有す
る組成物が得られる。
えて、繰り返す。２５℃で３１００mPa・sの粘度を有す
る組成物が得られる。
この組成物から２mm厚の箔を製造し、その機械的及び電
気的特性を室温で１４日間の貯蔵後に測定した。結果を
表２にまとめる。
気的特性を室温で１４日間の貯蔵後に測定した。結果を
表２にまとめる。
比較実験２ ２５℃で２００００mPa・sの粘度を有する、末端位の単
位に１個ずつのSi-結合したヒドロキシル基を有するジ
メチルポリシロキサン30.7部に、平均粒度0.7μｍ、比
重2.42ｇ／cm3及び水和物水（Hydratwasser）３５重量
％の酸化アルミニウム水和物41.1部を完全真空下で１７
５℃に加熱下に１時間混合する。室温へのこの混合物の
冷却後に、１０２０hPaで１００℃〜１４０℃の沸騰範
囲を有する芳香物質の少ない石油ベンジン２２部、メチ
ルトリス−（メチルエチルケトキシム）−シラン6.1部
及びジブチル錫ジオクトエート0.1部にこの混合物を混
合する。
位に１個ずつのSi-結合したヒドロキシル基を有するジ
メチルポリシロキサン30.7部に、平均粒度0.7μｍ、比
重2.42ｇ／cm3及び水和物水（Hydratwasser）３５重量
％の酸化アルミニウム水和物41.1部を完全真空下で１７
５℃に加熱下に１時間混合する。室温へのこの混合物の
冷却後に、１０２０hPaで１００℃〜１４０℃の沸騰範
囲を有する芳香物質の少ない石油ベンジン２２部、メチ
ルトリス−（メチルエチルケトキシム）−シラン6.1部
及びジブチル錫ジオクトエート0.1部にこの混合物を混
合する。
米国特許（us）第４４７６１５５号明細書により、３０
００mPa・sの粘度を有し、溶剤含有の、流動性のRTV−１
組成物を得る。この組成物は例１による本発明による組
成物と反対に絶縁体の表面上に例えばエアーレス−装置
を用いて噴霧できない。この組成物を、組成物の総重量
に対して石油ベンジン３３％の量で、それ以上の石油ベ
ンジンで希釈すると、これは絶縁体の表面上に例えばエ
アーレス−装置で噴霧することができる。しかしこの
際、一様の層形成は得られず、かつ絶縁体皿の縁部に滴
状突出物が生じる。
００mPa・sの粘度を有し、溶剤含有の、流動性のRTV−１
組成物を得る。この組成物は例１による本発明による組
成物と反対に絶縁体の表面上に例えばエアーレス−装置
を用いて噴霧できない。この組成物を、組成物の総重量
に対して石油ベンジン３３％の量で、それ以上の石油ベ
ンジンで希釈すると、これは絶縁体の表面上に例えばエ
アーレス−装置で噴霧することができる。しかしこの
際、一様の層形成は得られず、かつ絶縁体皿の縁部に滴
状突出物が生じる。
この組成物から２mm厚さの箔を製造し、室温で１４日間
の貯蔵後にその機械的及び電気的特性を測定した。結果
を表３にまとめる。
の貯蔵後にその機械的及び電気的特性を測定した。結果
を表３にまとめる。
例 ２ ２５℃で２００００mPa・sの粘度を有し、末端位の単位
に１個ずつのSi-結合のヒドロキシル基を有するジメチ
ルポリシロキサン21.1部に、前記の順序で、１５０m2／
ｇのBET−表面積を有する高熱法で気相で製造した二酸
化珪素8.5部、添加剤（その製造は例１ａ）で記載され
た）0.85部、１０２０hPa（絶対で１００℃〜１４０℃
の沸騰範囲を有する芳香物質の少ない石油ベンジン66.6
部、メチルトリス−（メチルエチルケトキシム）−シラ
ン2.4部、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン0.5部及び、テトラエチルシリ
ケート４部及びジ−ｎ−ブチル錫ジアセテート１部より
なる混合物を撹拌下で環境大気圧で１２０℃に６時間加
熱すること及び生成した酢酸エチルエステルの同時の溜
去により製造された反応生成物0.05部を混合する。
に１個ずつのSi-結合のヒドロキシル基を有するジメチ
ルポリシロキサン21.1部に、前記の順序で、１５０m2／
ｇのBET−表面積を有する高熱法で気相で製造した二酸
化珪素8.5部、添加剤（その製造は例１ａ）で記載され
た）0.85部、１０２０hPa（絶対で１００℃〜１４０℃
の沸騰範囲を有する芳香物質の少ない石油ベンジン66.6
部、メチルトリス−（メチルエチルケトキシム）−シラ
ン2.4部、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン0.5部及び、テトラエチルシリ
ケート４部及びジ−ｎ−ブチル錫ジアセテート１部より
なる混合物を撹拌下で環境大気圧で１２０℃に６時間加
熱すること及び生成した酢酸エチルエステルの同時の溜
去により製造された反応生成物0.05部を混合する。
水の遮断下に貯蔵可能であり、溶剤含有の、流動性のRT
V−１組成物が得られる。この組成物は２５℃で５４０
０mPa・sの粘度を有しかつ絶縁体の表面に例えばエアー
レス−装置で卓越的に噴霧することができる。空気湿気
の進入の際に、溶剤の同時の蒸発下で組成物は反応し、
平滑なゴム様の層になる。
V−１組成物が得られる。この組成物は２５℃で５４０
０mPa・sの粘度を有しかつ絶縁体の表面に例えばエアー
レス−装置で卓越的に噴霧することができる。空気湿気
の進入の際に、溶剤の同時の蒸発下で組成物は反応し、
平滑なゴム様の層になる。
この組成物から２mm厚の箔を製造し、その機械的及び電
気的特性を室温で１４日間の貯蔵後に測定した。結果を
表４にまとめる。
気的特性を室温で１４日間の貯蔵後に測定した。結果を
表４にまとめる。
例 ３ Ｚ−捏和機中で、２５℃で５００００mPa・sの粘度を有
し、末端位の単位に１個ずつのSi-結合のヒドロキシル
基を有するジメチルポリシロキサン７５部、ヘキサメチ
ルジシラザン５部及び水2.5部よりなる混合物を、１５
０m2／ｇのBET−表面積を有する高熱法で気相で製造し
た二酸化珪素２０部と共に、均質混合物となるまで捏和
する。次いで混合物を１２０℃に加熱し、１２０℃で５
時間捏和し、かつ次いで１２０℃及び１００hPa（絶
対）で過剰のヘキサメチルジシラザン及び水を溜去す
る。
し、末端位の単位に１個ずつのSi-結合のヒドロキシル
基を有するジメチルポリシロキサン７５部、ヘキサメチ
ルジシラザン５部及び水2.5部よりなる混合物を、１５
０m2／ｇのBET−表面積を有する高熱法で気相で製造し
た二酸化珪素２０部と共に、均質混合物となるまで捏和
する。次いで混合物を１２０℃に加熱し、１２０℃で５
時間捏和し、かつ次いで１２０℃及び１００hPa（絶
対）で過剰のヘキサメチルジシラザン及び水を溜去す
る。
そうして得られる、２５℃で３０００００mPa・sの粘度
の混合物37.7部に、前記の順序で、添加剤（その製造は
例１ａ）に記載）1.1部、１０２０hPa（絶対）で１００
℃〜１４０℃の沸騰範囲を有する、芳香物質の少ない石
油ベンジン57.5部、メチルトリス−（メチルエチルケト
キシム）−シラン3.0部、Ｎ−（２−アミノエチル）−
３−アミノプロピルトリメトキシシラン0.65部及び、テ
トラエチルシリケート４部及びジ−ｎ−ブチル錫ジアセ
テート１部よりなる混合物を撹忰下で環境大気圧で１２
０℃に６時間加熱すること及び生成した酢酸エチルエス
テルの同時の溜去により製造された反応生成物0.05部を
混合する。
の混合物37.7部に、前記の順序で、添加剤（その製造は
例１ａ）に記載）1.1部、１０２０hPa（絶対）で１００
℃〜１４０℃の沸騰範囲を有する、芳香物質の少ない石
油ベンジン57.5部、メチルトリス−（メチルエチルケト
キシム）−シラン3.0部、Ｎ−（２−アミノエチル）−
３−アミノプロピルトリメトキシシラン0.65部及び、テ
トラエチルシリケート４部及びジ−ｎ−ブチル錫ジアセ
テート１部よりなる混合物を撹忰下で環境大気圧で１２
０℃に６時間加熱すること及び生成した酢酸エチルエス
テルの同時の溜去により製造された反応生成物0.05部を
混合する。
水の遮断下で貯蔵可能であり、溶剤含有の流動性のRTV
−１組成物が得られる。この組成物は、２５℃で１７０
０mPa・sの粘度を有しかつ絶縁体の表面上に例えばエア
ーレス−装置で卓越的に噴霧することができる。空気湿
気の進入の際に溶剤の同時の蒸発下で組成物は反応して
平滑なゴム様の層になる。
−１組成物が得られる。この組成物は、２５℃で１７０
０mPa・sの粘度を有しかつ絶縁体の表面上に例えばエア
ーレス−装置で卓越的に噴霧することができる。空気湿
気の進入の際に溶剤の同時の蒸発下で組成物は反応して
平滑なゴム様の層になる。
この組成物から２mm厚の箔を製造し、室温で１４日間の
貯蔵後にその機械的及び電気的特性を測定した。結果を
表５にまとめる。
貯蔵後にその機械的及び電気的特性を測定した。結果を
表５にまとめる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｌ 83:07） (56)参考文献 特開 昭57−70176（ＪＰ，Ａ) 特公 昭60−25059（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (5)
- 【請求項１】（Ｉ）式： ＨＯ（Ｓｉ▲Ｒ4 2▼Ｏ）ｍＳｉ▲Ｒ4 2▼ＯＨ ［式中Ｒ4は１基当り１〜１８個の炭素原子を有する１
価の、ハロゲン化されていてよい炭化水素基を表わし、
ｍは少なくとも１０の値の整数である］を有し、２５℃
での平均粘度５００〜１・１０6mＰａ・ｓを有する縮合
可能な末端基を有するジオルガノポリシロキサン
５０〜９０重量％ （場合により共用される有機溶剤（III）以外の組成物
の総重量に対する） （II）１分子当り少なくとも３個の直接珪素に結合した
加水分解可能な基を有する珪素化合物としての式： ▲Ｒ4 n▼ＳｉＺ4-n ［式中ｎは０又は１であり、Ｒ4は前記のものであり、
Ｚは同じ又は異なる加水分解可能な基を表わし、かつオ
キシム基：−ＯＮ＝Ｘ、アミノ基、：−ＮＲ7 2、アシル
アミノ基：−ＮＲ7ＣＯＲ7、アミノキシ基：−ＯＮ
Ｒ7 2、アシルオキシ基：−ＯＯＣＲ7及び置換又は非置
換の炭化水素オキシ基：−ＯＲ7（この際Ｘは式：▲Ｒ5
2▼Ｃ＝又はＲ6Ｃ＝の同じ又は異なる基を表わし、ここ
でＲ5は１基当り１〜５個の炭素原子を有する同じ又は
異なる１価の炭化水素基を表わし、Ｒ6は５〜６個の炭
素原子を有する２価の炭化水素基を表わし、Ｒ7は水素
原子又は同じ又は異なる１価の置換又は非置換の炭化水
素基を表わす）から成る群から選択されている］のシラ
ン ３〜１５重量％ （場合により共用される有機溶剤（III）を除く組成物
の総重量に対する） （III）場合により、有機の、非反応性の溶剤 １０〜
８０重量％ （場合により共用された有機溶剤（III）を含む組成物
の総重量に対する） 並びに少なくとももう１種の物質の混合により製造され
る、水の遮断下に貯蔵可能で、室温で水の進入時に架橋
可能でエラストマーになりうる組成物を用いて、電気高
圧絶縁体を被覆する場合に、少なくとももう１種の物質
として、 （IV）（Ａ）ジメチルシロキサン単位 ７５〜８５モル％と ビニルメチルシロキサン単位 １５〜２５モル％を 有するジオルガノポリシロキサン ６０〜８０重量％ （Ｂ）二酸化チタン又は二酸化ジルコニウム ２０〜３
５重量％ （Ｃ）白金化合物又は白金錯体の形の白金（元素として
計算して） ０．０５〜０，２５重量％ （Ｄ）式： ＹaＲbＳｉ（ＯＲ1）4-a-b ［式中Ｒは１基当り１〜８個の炭素原子を有する同じ又
は異なる１価の炭化水素基を表わし、Ｒ1は１基当り１
〜４個の炭素原子を有する同じ又は異なるアルキル基又
は式： −ＳｉＲ３の基を表わし、この際、Ｒは前記のものであ
り、Ｙは塩基性窒素原子を有する同じ又は異なる１価の
ＳｉＣ−結合有機基を表わし、ａは１又は２でありかつ
ｂは０，１又は２である］のシラン及び式： （ＹcＲdＳｉ）2Ｏ ［式中Ｒ及びＹは前記のものであり、Ｃは０，１，２又
は３であるが、ジシロキサンは少なくとも１個の基Ｙを
有するという条件を備え、かつｄは０，１，２又は３で
ある］のジシロキサンの群から選択された、炭素を介し
て珪素に結合している塩基性窒素を有する有機珪素化合
物 １〜５重量％ の混合（この際（Ａ）から（Ｄ）までに挙げられた範囲
内で各々選択された％率の合計は、１００重量％にな
り、かつ各々の重量％は添加剤（IV）の総重量に対す
る）により製造される添加剤 １〜４重量％ （場合により共用される有機溶剤以外の架橋してエラス
トマーになりうる組成物の総重量に対する） を使用することを特徴とする、電気高圧絶縁体の表面を
被覆する方法。 - 【請求項２】(1)請求項１に記載の成分（Ａ）〜（Ｄ）
を混合し、この混合に引続き (2)混合物を８０〜１５０℃に少なくとも１２０分加熱
する ことにより製造される添加物（IV）を使用する、請求項
１記載の方法。 - 【請求項３】珪素化合物（II）として、式： ▲Ｒ4 n▼Ｓｉ（ＯＮ＝Ｘ）4-n ［式中ｎは０又は１であり、Ｒ4は請求項１に記載のも
のであり、Ｘは式：▲Ｒ5 2▼Ｃ＝又はＲ6Ｃ＝（式中Ｒ5
は１基当り１〜５個の炭素原子を有する同じ又は異なる
１価の炭化水素基を表わし、Ｒ6は５〜６個の炭素原子
を有する２価の炭化水素基を表わす）の同じ又は異なる
基を表わす］のシラン又は１分子中に２〜１０個の珪素
原子を有するその部分的加水分解物を使用する、請求項
１記載の方法。 - 【請求項４】シランとして、メチルトリス−（メチルエ
チルケトオキシム）−シランまたはテトラ−（メチルエ
チルケトオキシム）−シランを使用する、請求項３記載
の方法。 - 【請求項５】添加剤（IV）への付加的な少なくとももう
１種の物質として、補強性無機充填剤、非補強性無機充
填剤、縮合触媒、軟化剤、本発明による組成物から製造
されるエラストマーが基材（この上にエラストマーは製
造された）上に付着することの改善剤、顔料及び可溶性
色素の群から選択されたものを併用する、請求項１から
４までのいずれか１項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3831479A DE3831479A1 (de) | 1988-09-16 | 1988-09-16 | Zum beschichten der oberflaeche von elektrischen hochspannungsisolatoren geeignete massen |
| DE3831479.7 | 1988-09-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02115268A JPH02115268A (ja) | 1990-04-27 |
| JPH0658763B2 true JPH0658763B2 (ja) | 1994-08-03 |
Family
ID=6363058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1237372A Expired - Lifetime JPH0658763B2 (ja) | 1988-09-16 | 1989-09-14 | 電気高圧絶縁体の表面を被覆する方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5023295A (ja) |
| EP (1) | EP0359251B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0658763B2 (ja) |
| DE (2) | DE3831479A1 (ja) |
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| JP3358228B2 (ja) * | 1993-03-03 | 2002-12-16 | 住友電気工業株式会社 | 樹脂組成物およびそれからの絶縁電線および絶縁チュ−ブ |
| JP2557604B2 (ja) * | 1993-08-17 | 1996-11-27 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | 碍 子 |
| DE4426927A1 (de) * | 1994-07-29 | 1996-02-01 | Hoechst Ceram Tec Ag | Elektrischer Isolator aus Silikongummi für Hochspannungsanwendungen |
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- 1989-09-14 JP JP1237372A patent/JPH0658763B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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