JPH065704A - Lsi設計のレイアウト検証方法 - Google Patents

Lsi設計のレイアウト検証方法

Info

Publication number
JPH065704A
JPH065704A JP4162344A JP16234492A JPH065704A JP H065704 A JPH065704 A JP H065704A JP 4162344 A JP4162344 A JP 4162344A JP 16234492 A JP16234492 A JP 16234492A JP H065704 A JPH065704 A JP H065704A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
unit
processing step
layout
data
geometric
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP4162344A
Other languages
English (en)
Inventor
Shuji Moriyama
修司 森山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Original Assignee
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd filed Critical NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Priority to JP4162344A priority Critical patent/JPH065704A/ja
Publication of JPH065704A publication Critical patent/JPH065704A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】階層的なLSIのレイアウト・データについて
幾何学的ルールチェックを行う際の検証期間を短縮す
る。 【構成】本発明のUSI設計のレイアウト検証方法は、
LSIのユニット内レイアウト設計を行う処理ステップ
101と、通常の設計ルールの幾何学的ルールチェック
を行う処理ステップ102と、前記ユニットの外枠との
幾何学的ルールチェックを行う処理ステップ103と、
チップレベルのレイアウト設計を行う処理ステップ10
4と、通常の設計ルールの幾何学的ルールチェックを行
う処理ステップ105と、ユニットの外枠との幾何学的
ルールチェックを行う処理ステップ106とを有してい
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はLSI設計のレイアウト
検証方法に関し、特に階層構造を持つレイアウトデータ
における幾何学的ルールチェックの方法を提供するLS
I設計のレイアウト検証方法に関する。
【0002】
【従来の技術】LSIのレイアウト設計とは、電子回路
をレイアウトエディタ等を用いて幾何学的な図形で表現
することである。このレイアウト設計を人手で行う場
合、設計基準を常に満足するとは限らず、EWS(En
gineering WorkStation)等のコ
ンピュータを用いて、レイアウト設計したデータが、設
計基準通り設計されているかをチェックすることが必要
となってくる。この、レイアウトデータの幾何学的な間
隔や重なり具合が、設計基準通り設計されているかをチ
ェックすることを「幾何学的ルールチェック」という。
【0003】電子回路の高密度化および微細化に伴い、
LSI上に構成される回路が複雑になってきている。こ
のためLSIのレイアウト設計では、まず、機能毎に複
数のユニットを分割し、そのユニット毎の設計を行い、
その後それぞれのユニット間の設計をして、LSIチッ
プ全体の設計を行うという方法を用いるようになってき
ている。また、回路の複雑化および大規模化に伴い、L
SIレイアウト設計時の配線や素子等を構成するレイア
ウト図形の幾何学的なルールチェックに要する時間も膨
大なものとなりつつある。
【0004】従来の幾何学的ルールチェックの方法は、
図10の幾何学的ルールチェックの処理フロー図に示さ
れるように、各機能ユニット内レイアウトを設計する処
理ステップ301と、各機能ユニット間のレイアウトを
設計する処理ステップ302と、機能ユニットのデータ
を全展開する処理ステップ303と、全展開した後のレ
イアウトデータに関して、幾何学的ルールチェックする
処理ステップ304とを含む処理手順によっている。
【0005】また、図11(a)は、従来例のチップレ
ベルのレイアウトの一例を示す図であり、チップレベル
のレイアウト設計を行うレイアウト設計領域23に対応
して複数の下位階層ユニット22がレイアウトされてお
り、一例として、階層間にまたがる幾何学的ルールチェ
ック例24が示されている。なお図11(b)は、本従
来例において、下位階層ユニット22を展開して示した
レイアウト図である。
【0006】従来、LSIの1チップのレイアウトデー
タにおける幾何学的ルールチェックを行う場合には、チ
ップレベル(最上位の階層)からみて、下位階層のユニ
ット22のデータ(図11(a)参照)を、図11
(b)に見られるように、一度全展開した後に行ってい
る。
【0007】この方法によると、下位階層のユニット2
2のデータを全展開するという処理の特質から、幾何学
的ルールチェックを行う直前のレイアウトデータの処理
量が膨大なものとなる。そのため、大規模なデータ量が
介在する場合には、幾何学的ルールチェックが行えない
ことになる。
【0008】大規模なレイアウトデータの幾何学的ルー
ルチェックを行う方法として、図11(a)に示される
下位階層ユニット22のデータと、チップレベルのレイ
アウト設計領域23のユニット間にあるデータとを別々
に区分して、幾何学的ルールチェックを行う方法が考え
られているが、この従来の方法では、図11(a)の幾
何学的ルールチェック例24の場合には、各ユニットの
境界部分の図形の間隔がどのくらいあるのかチェックす
ることができない。また、前述したチップレベルで一度
全展開する方法の場合には、各機能ユニットのレイアウ
ト設計の完了を待ってチップ全体の幾何学的ルールチェ
ックを行う必要がある。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のLSI
設計のレイアウト検証方法において、幾何学的ルールチ
ェックの方法として階層構造を保ったまま幾何学的ルー
ルチェックを行う場合には、完全なチェックができない
という欠点があり、また一度全展開した後のデータに関
して幾何学的ルールチェックを行う場合には、展開後の
データの量が膨大となり、大規模なデータの幾何学的ル
ールチェックが行えないという欠点があり、更にチップ
全体のレイアウト設計が全て完了するまでは、チップ全
体に亘る幾何学的ルールチェックができないために、開
発期間が長くなるという三つの欠点がある。
【0010】
【課題を解決するための手段】第1の発明のLSI設計
のレイアウト検証方法は、LSIのユニット内のレイア
ウト設計を行う第1の処理ステップと、前記ユニット内
のレイアウト・データを、通常の設計ルールに従って幾
何学的ルールチェックする第2の処理ステップと、前記
ユニット内のレイアウト・データと、当該ユニットの外
枠との間の幾何学的ルールチェックを行う第3の処理ス
テップと、チップレベルのレイアウト設計を行う第4の
処理ステップと、前記チップレベルのレイアウト・デー
タを、通常の設計ルールに従って幾何学的ルールチェッ
クする第5の処理ステップと、前記チップレベルのレイ
アウト・データと、前記ユニットの外枠との間の企画額
的ルールチェックを行う第6の処理ステップとを有し、
階層的なレイアウト・データを展開することなく幾何学
的ルールチェックを行うことを特徴としている。
【0011】また第2の発明のLSI設計のレイアウト
検証方法は、LSIのユニット内のレイアウト設計を行
う第1の処理ステップと、前記ユニット内の端子図形配
置の設定を行う第2の処理ステップと、前記ユニット内
の同一配線層データから、図形演算を介して端子図形を
引く第3の処理ステップと、前記ユニット内のレイアウ
ト・データを、通常の設計ルールに従って幾何学的ルー
ルチェックする第4の処理ステップと、前記ユニット内
のレイアウト・データと、当該ユニットの外枠との間の
幾何学的ルールチェックを行う第5の処理ステップと、
チップレベルのレイアウト設計を行う第6の処理ステッ
プと、下位階層ユニット間を接続する配線データから、
図形演算を介して各下位階層ユニットの端子図形を引く
第7の処理ステップと、前記チップレベルのレイアウト
・データを、通常の設計ルールに従って、幾何学的ルー
ルチュックする第8の処理ステップと、前記チップレベ
ルのレイアウト・データと、前記下位階層ユニットの外
枠との間の幾何学的ルールチェックを行う第9のステッ
プとを有し、階層的なレイアウト・データを展開するこ
となく幾何学的ルールチェックを行うことを特徴として
いる。
【0012】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
【0013】図1は本発明の第1の実施例における処理
手順を示すフローチャートである。本発明による幾何学
的ルールチェックの方法においては、下位階層ユニット
のデータと、チップレベルのデータに関して別々の処理
を行うことができる。
【0014】図1に処理手順のフローチャートが示され
る本実施例の幾何学的ルールチェックの方法は、ユニッ
ト内レイアウト設計の処理ステップ101と、ユニット
内レイアウトデータの通常の設計ルールに従った幾何学
的ルールチェック処理ステップ102と、ユニット内レ
イアウトデータとユニットの外枠との幾何学的ルールチ
ェック処理ステップ103と、チップレベルのレイアウ
ト設計処理ステップ104と、チップレベル・レイアウ
トデータの通常の幾何学的ルールチェック処理ステップ
105と、チップレベルレイアウトデータとユニットの
外枠との間の幾何学的ルールチェック処理ステップ10
6とを含む処理手順により構成される。
【0015】また、図2は、本実施例のユニット内デー
タに対応する幾何学的ルールチェックの例を示す図であ
り、図2においては、ユニットの外枠1およびユニット
の内外を接続する端子部分4に対応して、ユニット内デ
ータの通常の設計規則に沿った幾何学的ルールチェック
例2、およびユニット内データとユニットの外枠1との
間の幾何学的ルールチェック例3が示されている。ま
た、図3(a)および図3(b)は、それぞれ本実施例
のユニット間の接続を示す図、およびチップレベルの幾
何学的ルールチェック例を示す図である。図3(a)に
おいては、下位階層ユニット5、およびユニット間を接
続する配線6のレイアウトが示されており、また、図3
(b)は、図3(a)のエリア7の部分を拡大して示し
た図であり、本実施例のチップレベルの幾何学的ルール
チェック例を示している。図3(b)においては、下位
階層ユニット5、およびユニット間を接続する配線の端
子部分10に対応して、チップレベル・データの通常の
設計規則に沿った幾何学的ルールチェック例8、および
チップレベル・データと下位階層ユニット5の外枠との
間の幾何学的ルールチェック例9が示されている。
【0016】まず、ユニット内のレイアウト設計が行わ
れる(処理ステップ101)。設計終了後、そのレイア
ウトデータに関して、図2に示されるように、設計基準
による通常の幾何学的ルールチェック2が行われる(処
理ステップ102)。また、ユニット内データとチップ
レベル・データとの間で設計基準のエラーが無いことを
確かめるため、同様に図2に示されるように、ユニット
内データとユニットの外枠1との間の幾何学的ルールチ
ェック3が行われる(処理ステップ103)。このユニ
ット内データとユニットの外枠1との幾何学的ルールチ
ェック3においては、ユニット内のデータとユニットの
外枠1との間隔が設計基準値より離れていることが確認
される。
【0017】次に、チップレベルのレイアウト設計が行
われる(処理ステップ104)。このレイアウト設計
は、図3(a)に示される下位階層ユニット5を『箱』
とみなし、図3(a)に示されるように、箱と箱の間を
配線6により接続することによって設計が行われる。設
計終了後、そのレイアウトデータに関して、図3(b)
に示されるように、設計基準による通常の幾何学的ルー
ルチェックが行われる(処理ステップ105)。またチ
ップレベル・データとユニット内データとの間で設計基
準のエラーが無いことを確かめるため、図3(b)に示
されるように、チップレベル・データと下位階層ユニッ
ト5の外枠との間隔が設計基準値より離れていることを
確認する幾何学的ルールチェック9が行われる(処理ス
テップ206)。
【0018】以上の処理を行うことにより、階層的なデ
ータ構造のレイアウトデータを展開せずに、幾何学的ル
ールチェックを行うことができる。ただし本処理ルート
においては、ユニット内外を接続する配線層データに関
しては、図2のユニットの内外を接続する端子部分4、
および図3(b)のユニット間を接続する端子部分10
等がユニットの外枠と接するので、通常の方法では、こ
れらの端子部分4および10で示される部分のデータが
設計基準を満たしているか否かをチェックすることがで
きない。しかし、以下に説明する本発明の第2の実施例
においては、この問題を解決することが可能である。
【0019】次に、本発明の第2の実施例について説明
する。
【0020】図4は第2の実施例における処理手順を示
すフローチャートである。図4に示される本発明の幾何
学的ルールチェックの方法においては、第1の実施例で
は不完全だったユニット内外を接続する配線層のデータ
に関しても、設計基準を満たしているか否かのチェック
をすることが可能である。
【0021】図4に処理手順のフローチャートが示され
る本実施例の幾何学的ルールチェックの方法は、ユニッ
ト内レイアウト設計の処理ステップ201と、端子図形
発生処理ステップ202と、ユニット内データの外部端
子処理ステップ203と、ユニット内レイアウトデータ
の通常の設計ルールに従った幾何学的ルールチェック処
理ステップ204と、ユニット内レイアウトデータとユ
ニットの外枠との幾何学的ルールチェック処理ステップ
205と、チップレベルのレイアウト設計処理ステップ
206と、チップレベルの外部端子処理ステップ207
と、チップレベルレイアウトデータの通常の幾何学的ル
ールチェック処理ステップ208と、チップレベルレイ
アウトデータとユニットの外枠との間の幾何学的ルール
チェック処理ステップ209とを含む処理手順により構
成される。
【0022】また、図5は、本実施例のユニット内デー
タの端子図形配置図であり、図5においては、ユニット
内の配線の端子部分に発生した端子図形11が示されて
いる。図6は、本実施例の端子図形の大きさの定義を示
した図であり、同一配線層データ12と、配線の幅
“w”および同一配線層データ間の設計基準で示される
最小間隔“d”が示されている。更に、図7は本実施例
のユニット内データにおける幾何学的ルールチェック例
を示す図であり、図7においては、ユニットの外枠13
および配線層データ14に対応して、ユニット内データ
の通常の設計ルールによる幾何学的ルールチェック例1
5、およびユニット内データとユニットの外枠13との
幾何学的ルールチェック例16が示されている。また、
図8は本実施例のユニット間の接続を示すレイアウト図
であり、図9は、同じく本実施例のチップレベルの幾何
学的ルールチェック例を示す図である。図8において
は、下位階層ユニット17、ユニット内の端子図形18
およびチップレベルのユニット間を接続する配線データ
19が示されており、また図9においては、チップレベ
ル・データの通常の設計規則に沿った幾何学的ルールチ
ェック例20、およびチップレベル・データとユニット
の外枠との幾何学的ルールチェック例21が示されてい
る。
【0023】まず、ユニット内のレイアウト設計が行わ
れる(処理ステップ201)。その際、図5に示される
ように、ユニットの内外を接続する端子の位置に端子図
形10が配置される(処理ステップ202)。この端子
図形の大きさは、図6に示されるように、幅が端子の存
在する配線の幅wに等しく、ユニットの外枠からの距離
が、設計基準で決められた同一配線層間データ12の距
離の制限値d以上の大きさのものである。端子図形11
が配置されると、幾何学的ルールチェックを行う前に、
図形論理演算により、同一配線層データ12から端子図
形11を引く処理が行われ(処理ステップ203)、そ
の結果を配線層のデータとして以後の処理に移る。
【0024】以上の処理が完了したあと、図7に示され
るように、ユニット内データが設計基準を満たしている
か否かをチェックする幾何学的ルールチェック15が行
われる(処理ステップ204)。その後、同じく図7に
示されるように、ユニット内データとユニットの外枠1
3とが設計基準より離れていること、および重なってい
る部分が無いことをチェックする幾何学的ルールチェッ
ク16が行われて(処理ステップ205)、ユニット内
のレイアウト設計および幾何学的ルールチェックが完了
する。
【0025】次に、チップレベルのレイアウト設計が行
われる(処理ステップ206)。このレイアウト設計
は、図8に示されるように、下層階層ユニット17を
『箱』とみなし、箱と箱の間を配線データ18により接
続することにより設計が行われる。チップレベルのレイ
アウトデータの通常の設計ルールによる幾何学的ルール
チェック20(図9参照)が行われる前に、各下位階層
ユニット17の間を接続する配線データ19から、各下
位階層ユニット17の端子図形18を図形論理演算によ
り引き、引いた後のデータを新たに配線層データとして
(処理ステップ207)、以後の処理に移る。以上の処
理が完了した後、図9に示されるように、チップレベル
のレイアウトデータに関し、設計基準を満たしているか
否かをチェックする通常の幾何学的ルールチェック20
が行われる(処理ステップ208)。その後、下位階層
ユニット17の外枠との幾何学的ルールチェック21が
行われる(処理ステップ209)。この場合、各下位階
層ユニット17内のデータとユニットの外枠との間隔チ
ェックが既に行われているので、チップレベルのデータ
と各下位階層ユニット17の外枠との幾何学的ルールチ
ェックは、ユニットの内部にデータが重なっていないこ
とをチェックすれば十分である。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は階層的な
レイアウトデータを展開せずに処理することを可能とし
ているので、LSIレイアウト・データの幾何学的ルー
ルチェックにより、従来の方法よりも大規模なデータを
検証することができるという効果があり、また、これに
より、幾何学的ルールチェックに要する時間を短縮する
ことができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施例の処理フローチャートを示す図で
ある。
【図2】第1の実施例のユニット内データにおける幾何
学的ルールチェック例を示す図である。
【図3】第1の実施例のレイアウト図およびチップレベ
ルの幾何学的ルールチェック例を示す図である。
【図4】第2の実施例の処理フローチャートを示す図で
ある。
【図5】第2の実施例のユニット内データの端子図形配
置図である。
【図6】第2の実施例の端子図形の大きさを定義する図
である。
【図7】第2の実施例のユニット内データにおける幾何
学的ルールチェック例を示す図である。
【図8】第2の実施例のユニット間の接続を示すレイア
ウト図である。
【図9】第2の実施例のチップレベルの幾何学的ルール
チェック例を示す図である。
【図10】従来例の処理フローチャートを示す図であ
る。
【図11】従来例のチップレベルのレイアウト図および
下位階層ユニットを展開したレイアウト図である。
【符号の説明】
1,13 ユニットの外枠 2,3,8,9,25,26,20,21,24 幾
何学的ルールチェック例 4,10 端子部分 5,17,22 下位階層ユニット 6 配線 7 エリア 11,18 端子図形 14 配線層データ 19 配線データ 23 レイアウト設計領域 25 レイアウト図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 LSIのユニット内のレイアウト設計を
    行う第1の処理ステップと、 前記ユニット内のレイアウト・データを、通常の設計ル
    ールに従って幾何学的ルールチェックする第2の処理ス
    テップと、 前記ユニット内のレイアウト・データと、当該ユニット
    の外枠との間の幾何学的ルールチェックを行う第3の処
    理ステップと、 チップレベルのレイアウト設計を行う第4の処理ステッ
    プと、 前記チップレベルのレイアウト・データを、通常の設計
    ルールに従って幾何学的ルールチェックする第5の処理
    ステップと、 前記チップレベルのレイアウト・データと、前記ユニッ
    トの外枠との間の企画額的ルールチェックを行う第6の
    処理ステップと、 を有し、階層的なレイアウト・データを展開することな
    く幾何学的ルールチェックを行うことを特徴とするLS
    I設計のレイアウト検証方法。
  2. 【請求項2】 LSIのユニット内のレイアウト設計を
    行う第1の処理ステップと、 前記ユニット内の端子図形配置の設定を行う第2の処理
    ステップと、 前記ユニット内の同一配線層データから、図形演算を介
    して端子図形を引く第3の処理ステップと、 前記ユニット内のレイアウト・データを、通常の設計ル
    ールに従って幾何学的ルールチェックする第4の処理ス
    テップと、 前記ユニット内のレイアウト・データと、当該ユニット
    の外枠との間の幾何学的ルールチェックを行う第5の処
    理ステップと、 チップレベルのレイアウト設計を行う第6の処理ステッ
    プと、 下位階層ユニット間を接続する配線データから、図形演
    算を介して各下位階層ユニットの端子図形を引く第7の
    処理ステップと、 前記チップレベルのレイアウト・データを、通常の設計
    ルールに従って、幾何学的ルールチュックする第8の処
    理ステップと、 前記チップレベルのレイアウト・データと、前記下位階
    層ユニットの外枠との間の幾何学的ルールチェックを行
    う第9のステップと、 を有し、階層的なレイアウト・データを展開することな
    く幾何学的ルールチェックを行うことを特徴とするLS
    I設計のレイアウト検証方法。
JP4162344A 1992-06-22 1992-06-22 Lsi設計のレイアウト検証方法 Withdrawn JPH065704A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4162344A JPH065704A (ja) 1992-06-22 1992-06-22 Lsi設計のレイアウト検証方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4162344A JPH065704A (ja) 1992-06-22 1992-06-22 Lsi設計のレイアウト検証方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH065704A true JPH065704A (ja) 1994-01-14

Family

ID=15752774

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4162344A Withdrawn JPH065704A (ja) 1992-06-22 1992-06-22 Lsi設計のレイアウト検証方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH065704A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3916462B2 (ja) 集積回路の位相シフトおよびトリム・マスクを決定する方法および装置
JP3311244B2 (ja) 基本セルライブラリ及びその形成方法
JPH04372134A (ja) 半導体装置及びその製造装置
JP3187859B2 (ja) マスクのパターンデータ作成方法および製造方法
JP2002110797A (ja) クロック配線の設計方法
EP0926736B1 (en) Semiconductor integrated circuit having thereon on-chip capacitors
JP2005115785A (ja) 半導体装置の配線方法、半導体装置の製造方法及び半導体装置
US6892372B2 (en) Wiring layout method of integrated circuit
JP2004220132A (ja) 配線図形検証方法、プログラム及び装置
JPH065704A (ja) Lsi設計のレイアウト検証方法
JP2009026045A (ja) 半導体集積回路のレイアウト作成装置および半導体集積回路の製造方法
JP3193167B2 (ja) 論理合成システム
US8336001B2 (en) Method for improving yield rate using redundant wire insertion
JP2910734B2 (ja) レイアウト方法
KR20010036160A (ko) 집적 회로 장치의 래이아웃 검증 방법
JP3019032B2 (ja) 半導体集積回路のレイアウトデータにおけるデザインルールチェック方法および該方法を実施するための装置
JP3614619B2 (ja) パターン設計方法及びパターン設計装置
JP3740387B2 (ja) 平坦化パターン自動生成方法
JP2009123966A (ja) 半導体集積回路のレイアウトパターン設計方法、レイアウトパターン設計装置およびレイアウトパターン設計用プログラム
JPH06349947A (ja) 半導体集積回路装置のマスクパターン設計方法および設計装置
JPH06216249A (ja) Icチップ自動レイアウト設計システム
JP3320401B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP3130891B2 (ja) 配線方法
JP3247455B2 (ja) 集積回路マスクパターンの検証装置
JP3247454B2 (ja) 集積回路マスクパターンの検証装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19990831