JPH065572A - ワークの表面処理方式及びその装置 - Google Patents

ワークの表面処理方式及びその装置

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JPH065572A
JPH065572A JP16157292A JP16157292A JPH065572A JP H065572 A JPH065572 A JP H065572A JP 16157292 A JP16157292 A JP 16157292A JP 16157292 A JP16157292 A JP 16157292A JP H065572 A JPH065572 A JP H065572A
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JP
Japan
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carrier
work
carrier holder
holder
pair
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JP16157292A
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English (en)
Inventor
Hiroyuki Nishiyama
浩之 西山
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Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】ワークの厚さなどが異なっても同一のキャリヤ
ホルダーでワークの表面処理ができるようにすることを
目的とする。 【構成】一対のフレーム2及び3にワーク押圧装置40
であるF字型アーム41を内蔵し、上アーム42及び下
アーム44にコイルバネ60及び56で調整できるプッ
シングロッド43及び46を取り付け、フレーム2及び
3の内側側面に固定したローラ8a、8b及び9a、9
bでワーク(CCD23)を収納したキャリヤ20を装
着したキャリヤホルダー1Aを案内、装着し、前記ワー
ク押圧装置40を下げてワークをプッシングロッド43
及び46で押さえ、例えば、洗浄槽Aなどからなる洗浄
処理装置30に垂直状態で吊るして洗浄、ベーパーのよ
うな表面処理を施すようにしている。 【効果】ワークの厚さに関係なく共通のキャリヤホルダ
ーで作業ができることが一大特徴で、それに派生して品
質が向上やコストダウンなどが得られた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば、固体撮像素
子、液晶表示装置、リニアーセンサー、光学レンズ、プ
ラスチック成形品などのような比較的偏平な素子、部品
など(以下、総称して単に「ワーク」と記す)のアセン
ブリ工程で用いられるワークの洗浄処理や光学レンズ、
プラスチック成形品などのような部品のメッキ処理など
のようなワークの表面処理方式及びその装置に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】図6乃至図8を用いて、従来技術のワー
クの表面処理方式及びその装置を説明する。その具体例
として、ワークとしては固体撮像素子の一例であるCC
Dを、表面処理装置としては洗浄処理装置を挙げて以下
説明する。なお、前記CCDはケースに収められている
が、光入射面にはガラスが嵌め込まれていない状態のも
のとする。図6は従来技術のキャリヤホルダーを示す斜
視図であり、図7は図6のAーA線上における断面図で
あり、そして図8は従来技術の洗浄処理装置を概念的に
表した略線図である。
【0003】先ず、図6及び図7を用いて従来技術のキ
ャリヤホルダーを説明する。符号1は全体として従来技
術のキャリヤホルダーを示す。このキャリヤホルダー1
はその両側端にそれぞれ断面コ字状をしたフレーム2及
び3が配置されていて、これらのフレーム2及び3の両
側面部2a、2b及び3a、3bをそれぞれ貫通する連
結杆4及び5のような連結装置で両者が連結されてい
る。なお、フレーム3はフレーム2の構成及び構造と同
一である。
【0004】また、前記両フレーム2及び3の内部上方
の両側面部2c、2d及び3c、3dには平板なローラ
支持板6a及び6bが差し渡されて固定されており、ま
た前記両フレーム2及び3の下端面部2e、2f及び3
e、3fには、前記と同様の平板なローラ支持板7a及
び7bが差し渡されて固定されている。
【0005】これらのローラ支持板6a、6b及び7
a、7bには等間隔で複数のローラ8a、8b及び9
a、9bがボルトで固定されている。図7には最外側に
ある上下各一対のローラ8a、8b及び9a、9bのみ
が示されている。これらのローラ8a、8b及び9a、
9bの周辺には環状溝10a、10b及び11a、11
bが形成されている。
【0006】また、前記両フレーム2及び3の内部上方
の内面中央部2g及び3gにテフロンで被覆されたロッ
ド12が差し渡されており、また前記両フレーム2及び
3の側面部2b及び3bの内面に固定されたL型状金具
13の先端部下方に同様のロッド14が、前記ロッド1
2と上下位置が一致するようにして差し渡されている。
また、このロッド12の下面と各ローラ8a及び8bの
各環状溝10a及び10bを結ぶ面との距離は、ロッド
14の下面と各ローラ9a及び9bの各環状溝11a及
び11bを結ぶ面との距離と同一であるように構成され
ている。
【0007】図6には、このキャリヤホルダー1に一部
が挿入、保持された状態のキャリヤ20が示されてい
る。この長尺のキャリヤ20は複数の、例えば、7個の
ワークを収納できる複数の収納部21が形成されてお
り、またその長尺のキャリヤ20の両側面長手方向に直
線状の鍔22a及び22bが形成されている。そして図
6及び図7にはワークの一つであるCCD23が収納さ
れたキャリヤ20が2本、前記ローラ8a、8b及び9
a、9bの環状溝10a、10b及び11a、11bに
案内されながら挿入、装着されている。この場合、前記
各ロッド12、14と各CCD23との間には極めて微
小な隙間が開いているだけである。
【0008】このように複数のCCD23が収納された
キャリヤ20を装着したキャリヤホルダー1は、それら
のCCD23の表面を洗浄するために、次に説明する洗
浄処理装置30に搬入される。
【0009】その洗浄処理装置30を図8に示した。こ
の洗浄処理装置30は、例えば、洗浄槽A、洗浄槽B、
洗浄槽C及びベーパー槽Dから構成されていて、各槽の
前面部には、それぞれ固定の、一対のアームAa、B
a、Ca及びDaが取り付けられており、また前記各洗
浄槽A、B、C及びベーパー槽Dの上には矢印の方向に
上下に可動する一対のハンガーAb、Bb、Cb及びD
bキャリヤが取り付けられている。更にまた、前記洗浄
槽Aには前記アームAaとの間に反転用アームAcが、
また前記ベーパー槽Dにも前記アームDaとの間に反転
用アームDcが設置されている。そして更にまた、前記
各洗浄槽A、B、Cには、図示していないが、超音波発
信装置が設置されており、前記ベーパー槽Dには、これ
も図示していないが、加熱装置が設置されている。
【0010】前記洗浄槽A、B及びCには、洗浄剤とし
て、例えば、イソプロピルアルコール(以下、単に「I
PA」と記す)が満たされており、超音波振動を与える
ことにより、前者の二つの洗浄槽A及びBでCCD23
の表面に付着しているダストを除去するものであり、洗
浄槽Cでは洗浄槽Bで殆どダストが除去されたCCD2
3の表面を仕上げ洗浄するものである。前記ベーパー槽
Dでは洗浄槽Cで洗浄されたCCD23の表面に付着し
ているIPAを除去する機能を有するものである。また
各一対のアームAa、Ba、Ca及びDaはキャリヤホ
ルダー1を受ける役割をする。更にまた、前記反転用ア
ームAcは水平状態にアームAaで保持されているキャ
リヤホルダー1を垂直状態に反転させてハンガーAbに
保持させる機能を持ち、前記反転用アームDcはハンガ
ーDbで垂直状態に保持されているキャリヤホルダー1
をアームDa上に水平状態に保持させる機能を果たす。
【0011】次に、この洗浄処理装置30と前記キャリ
ヤホルダー1とを用いて前記CCD23を洗浄する方法
を説明する。洗浄槽A、B、C及びベーパー槽D内には
キャリヤホルダー1がそれぞれハンガーAb、Bb、C
b及びDbにより垂直状態に吊り下げられている。これ
らの吊り下げは各ハンガーAb、Bb、Cb及びDbの
先端部に形成したフックをキャリヤホルダー1の両フレ
ーム2及び3から外方の突き出ている連結杆4又は5に
掛けて行っている。
【0012】最終段階のベーパー槽Dの、複数のCCD
23を収納したキャリヤ20を装着したキャリヤホルダ
ー1は、それらのCCD23のベーパー乾燥が終了する
と、前記反転アームDcでアームDa上に水平状態で移
される。その後、洗浄された複数のCCD23を収納し
たキャリヤ20はキャリヤホルダー1から引き抜かれ、
次工程へと移送される。
【0013】ハンガーAb、Bb及びCbに吊り下げら
れている各キャリヤホルダー1は、図示していない別の
搬送機構で同時に各洗浄槽A、B及びCから矢印Yの方
向に引き揚げられて右矢印Xの方向に送られ、それぞれ
洗浄槽B及びC並びにベーパー槽Dの上でハンガーB
b、Cb及びDbに吊り下げられ、降下し、洗浄及びベ
ーパー乾燥が行われる。
【0014】キャリヤホルダー1が無くなった洗浄槽A
には、その洗浄槽Aの前面でアームAa上に水平状態で
待機している次のキャリヤ20が装着されたキャリヤホ
ルダー1が反転アームAcによってハンガーAbの先端
部のフックに掛けられる。
【0015】アームBa、Ca及びDa上で水平状態に
保持されている各キャリヤホルダー1は、図示していな
い別の搬送機構で同時に各アームBa、Ca及びDaか
ら持ち上げられ、左矢印Zの方向に移送され、再びアー
ムAa、Ba及びCa上に載置される。
【0016】洗浄槽Aに前面のアームAaに載置された
キャリヤホルダー1に、複数のCCD23を収納したキ
ャリヤ20を装着する。
【0017】前記段落〔0011〕乃至〔0017〕に
記載した動作が繰り返され、循環しながらCCD23が
洗浄される。キャリヤホルダー1は、前記の例では、7
個、洗浄処理装置30にセットされていることになる。
【0018】前記のように、図6及び図7に示したキャ
リヤホルダー1の各ロッド12、14は固定されてお
り、そしてそれらとそれぞれ対応するキャリヤ20の収
納部21に収納されたCCD23の表面との隙間は極め
て僅かであるために、前記反転アームAc、Dcでキャ
リヤホルダー1が反転させられても、また、前記各ハン
ガーAb、Bb、Cb及びDbでキャリヤホルダー1が
垂直状態に保持されても、前記ロッド12及び14が在
るために、キャリヤ20に収納されたCCD23は脱落
することがない。
【0019】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記隙間が微
小である故に、1/2インチのCCD、1/3インチの
CCDのように厚みが異なると、前記キャリヤホルダー
1をそのまま使用することができず、前記ロッド12、
14の高さ調整をやり直さねばならない。しかも図8に
示した従来の洗浄処理装置30では7個のキャリヤホル
ダー1を使用するため、各種調整を終了させるまでには
1時間以上も時間が掛かってしまい、このような洗浄処
理装置30は複数台あると、その調整に要する時間が膨
大になって能率的ではない。
【0020】また、前記調整のやり直しを行う毎に、洗
浄処理装置内に作業員が半身をのりださなけらばならな
いので、危険を伴う。
【0021】この非能率性を無くすためには、各型式の
CCDに応じたキャリヤホルダーを用意することにより
解決することはできるが、新型のCCDが開発される毎
にキャリヤホルダーを新たに用意しなければならなくな
る。そうすると生産コストが嵩むことにもなり、またキ
ャリヤホルダーの保管場所も必要になる。
【0022】そして何よりも品質上問題な点は、前記の
ように、CCDの表面とロッド12及び14との間に隙
間が在るため、超音波振動により、洗浄中に両者が接触
を繰り返し、その頻繁な両者の接触が発塵源になってい
る。この発明は前記諸問題を解決することを課題とする
ものである。
【0023】
【課題を解決するための手段】そのため、この発明で
は、キャリヤホルダーを、CCDのようなワークを収納
できる収納部を有するキャリヤを装着して、洗浄処理装
置でワークを洗浄するキャリヤホルダーにおいて、一対
のフレームと、これらのフレームを連結する連結装置
と、前記キャリヤを前記一対のフレーム間に案内する案
内装置と、前記案内装置を通じて、前記キャリヤホルダ
ーに前記キャリヤを着脱する時、前記キャリヤが着脱で
きる状態に、また前記キャリヤが装着されている時、前
記キャリヤに収納されているワークがそのキャリヤから
脱落することを防止する状態に、前記一対のフレームに
可動自在に取り付けられたワーク押圧装置とから構成
し、このキャリヤホルダーを用いてワークを洗浄する洗
浄処理装置に、前記キャリヤホルダーの前記ワーク押圧
装置を可動せしめる制御装置を備えつけた。
【0024】前記のような洗浄処理装置を用いることに
より、ワーク洗浄処理装置の入口側において、この発明
のキャリヤホルダーのワーク押圧装置を解除した状態
で、ワークを収納したキャリヤを装着し、その後、この
ようなキャリヤホルダーを前記キャリヤホルダー入口側
からワーク洗浄処理装置の方に移動させた時に、前記ワ
ーク押圧装置が作動して前記ワークを押圧し、このワー
ク押圧状態で前記キャリヤに収納されたワークを洗浄処
理し、そのワークの洗浄処理終了後、前記ワーク洗浄処
理装置の出口側において、前記ワーク押圧装置を解除
し、この解除状態で前記キャリヤホルダーから前記キャ
リヤを取り出すワークの洗浄処理方式を採ることができ
る。この発明はこのようにワークの表面処理方式及びそ
の装置で前記課題を解決した。
【0025】
【作用】従って、キャリヤホルダーにCCDなどのワー
クの形状や厚さに関係なく汎用性を持たすことができ、
また従来技術のような発塵源が無いので、品質が向上
し、しかも低コストで生産できる。
【0026】
【実施例】以下、この発明の実施例を図1乃至図5を用
いて説明する。図1はこの発明のキャリヤホルダーを示
す斜視図であり、図2は図1のAーA線上における断面
図であり、同図Aは全体を示した断面を、同図Bはワー
ク押圧装置の一部構成部分の拡大図であり、図3は図1
に示したキャリヤホルダーの一部斜視図であり、そして
図4は図2に示した断面図において、2本のキャリヤを
キャリヤホルダーに装着した状態を示した断面図であ
り、そして図5はこの発明はワーク表面処理装置を概念
的に表した略線図である。なお、図6乃至図8に示した
従来技術と同一の構成部分には同一の符号を付し、それ
らの詳細な説明を省略する。
【0027】先ず、図1乃至図3を用いて、この発明の
CCDのようなワークを収納するキャリヤホルダー1A
を説明する。この発明のキャリヤホルダー1Aが図6に
示した従来技術のキャリヤホルダー1と異なる点は、従
来のキャリヤホルダー1におけるワーク押圧装置である
ロッド12及び14に相当するプッシングロッド43及
び46を両フレーム2及び3に可動自在に取り付けた点
である。
【0028】これらのワーク押圧装置40はフレーム2
及び3に組み込まれている。説明を簡潔にするために、
以下の説明ではフレーム2に組み込まれているワーク押
圧装置40についてのみ説明する。そのワーク押圧装置
40を図2に示した。このワーク押圧装置40は、主と
してF字型アーム41と、その上アーム42の先端部の
下面に取り付けられたプッシングロッド43と、その下
アーム44とサポートアーム45の先端部の下面に取り
付けられたプッシングロッド46と、フレーム2の内部
に形成した案内空間47の側面ガイド47a、47b、
47cなどの表面を滑動する案内ローラ48a、48
b、48c及び48dなどとから構成されている。
【0029】また、フレーム2及び3の側面部2a及び
3aの内側面中間部にはZ字型のサポートアーム49が
ボルト50に固定されている。このサポートアーム49
はF字型アーム41が下降した場合に、その下アーム4
4がサポートアーム49で下降の下限位置を規制する役
割を備えている。またそのサポートアーム49の表面に
はテフロンシートのようなスペーサ51を介在させてあ
り、下アーム44が下降してサポートアーム49に当接
する時の衝撃を和らげ、かつ発塵を防止するようにして
いる。
【0030】そして、プッシングロッド46は、図2B
に示したように、下アーム44の先端部に開けた貫通孔
52とサポートアーム49に開けた貫通孔53に、ボル
ト54を通し、その先端部に形成したネジでプッシング
ロッド46を結合し、ナット55によってネジの緩み止
めを行って、プッシングロッド46を支持するように構
成している。符号56はコイルバネで、サポートアーム
49の下面とナット55の上面との間でボルト54に通
されて、このコイルバネ56で常時プッシングロッド4
6が下方に押し下げられている。
【0031】一方のプッシングロッド43は上アーム4
2の先端部に開けられた貫通孔57に通されたボルト5
8の先端部に形成したネジでプッシングロッド43を結
合しナット59によってネジの緩み止めを行って、プッ
シングロッド43を支持するように構成している。符号
60はコイルバネで、上アーム42の先端部下面とナッ
ト59の上面との間でボルト58に通されて、このコイ
ルバネ60で常時プッシングロッド43を下方に押し下
げている。
【0032】なお、ローラ8b及び9bの右側方にはそ
れぞれ係止ローラ61、62が設けられていて、このキ
ャリヤホルダー1Aにキャリヤ20が装着された場合
に、キャリヤの鍔22a及び22bに所定の間隔幅で形
成されている孔24(図3)と係合し(図4)、キャリ
ヤホルダー1Aを所定の位置に係止する働きをするもの
である。
【0033】次に、図5を中心に図3及び図4を用い
て、この発明の一つである洗浄処理装置30Aを説明す
る。図5に示したこの発明の洗浄処理装置30Aの構成
は、図8に示した従来の洗浄処理装置30の構成と殆ど
同一であるが、異なる点は、洗浄槽Aの一対のアームA
aの各々にワーク押圧装置40を可動せしめる制御装置
である一対のL字状突片31、32を形成し、またベー
パー槽Dの一対のアームDaの各々にやはりワーク押圧
装置40を可動せしめる制御装置である一対のL字状突
片33、34を形成したことである。
【0034】図3に拡大して一個のL字状突片31(3
3)を示した。これらのL字状突片31、32は、図3
では、一対のアームAaの、前記キャリヤホルダー1A
の連結杆4が嵌まり込めるようにV字型に折り曲げ、形
成したフック部35の下面に固定されている。
【0035】次に、この発明のキャリヤホルダー1A及
び洗浄処理装置30Aの動作を図1乃至図5、特に図4
を用いて説明する。図1及び図3に示したように、複数
の収納部21aにCCD23を収納したキャリヤ20
は、図4に示したように、キャリヤホルダー1Aの一対
のローラ8a、8b及び9a、9bの環状溝10a、1
0b及び11a、11bに案内されて、係止ローラ6
1、62と孔24との係合により所定の位置において、
上下2段構造でキャリヤホルダー1Aに装着され、保持
される。
【0036】このキャリヤ20のキャリヤホルダー1A
への装着は、図8を用いて説明したように、図5の洗浄
槽Aの一対のアームAaにキャリヤホルダー1Aが載置
された時、それら一対のアームAaに設けたL字状突片
31、32にフレーム2及び3に設けたワーク押圧装置
40が載り、そのF字型アーム41全体がL字状突片3
1、32に押されて上方に平行移動し、従って、各プッ
シングロッド43、46もコイルバネ56、60の力に
抗して引き揚げられる。
【0037】従って、ローラ8aと8b及び9aと9b
をそれぞれ結ぶ面から前記各プッシングロッド43及び
46は充分に上方に後退しているので、CCD23を収
納したキャリヤ20を図4に示したように、それぞれ各
ローラ8a、8b及び9a、9bに装着することにな
る。
【0038】そして、キャリヤ20がキャリヤホルダー
1Aに装着されると、これを前記ハンガーAbに係止さ
せるために、図5に示した反転アームAcでキャリヤホ
ルダー1Aを持ち上げると、ワーク押圧装置40はコイ
ルバネ56及び60の反発力で降下し、従って、各プッ
シングロッド43及び46もコイルバネ60及び56で
CCD23の洗浄すべき主表面以外の、例えば、ガラス
を嵌めるケースの表面を軽く押圧するようになるので、
図5に示したように、ハンガーAbで垂直状態にキャリ
ヤホルダー1を吊るしても、CCD23はキャリヤ20
から落下することは無論ないばかりか、従来技術で見受
けられた隙間が無いので、ダストを発生することもなく
なる。
【0039】また、洗浄、ベーパーが終了し、キャリヤ
ホルダー1Aがベーパー槽DからハンガーDbで引き揚
げられ、そして反転アームDcで一対のアームDaに水
平状態で載置されると、それらのアームDaに設けた前
記L字状突片33、34によりキャリヤホルダー1Aの
ワーク押圧装置40が押圧されて、前記のように、再び
F字型アーム41が上方に平行移動し、従って、各プッ
シングロッド43、46もコイルバネ56、60の力に
抗して引き揚げられ、各プッシングロッド43、46は
CCD23の表面から離れる。このような開状態の時
に、前記キャリヤ20はキャリヤホルダー1Aから引き
出すことができ、従って、洗浄、乾燥されたCCD23
を得ることができる。
【0040】前記のCCD23の厚さが、例えば、2.
8mmの1/3インチCCDであれば、従来技術のキャ
リヤホルダー1では、ロッド12が固定であったため
に、他のCCD23の厚さが、例えば、3.2mmの1
/2インチCCDを収納したキャリヤ20はキャリヤホ
ルダー1に装着するこができないが、この発明のキャリ
ヤホルダー1Aでは、前記L字状突片31、32により
プッシングロッド43及び60を充分に開くことによ
り、ワークをキャリヤ20に収納し、それらの表面処理
を行うことができる。
【0041】以上の説明では、CCD23のようなワー
クを押圧する手段として、複数のワークを同時に押圧す
るプッシングロッド43、46を用いたが、この押圧手
段はロッド状のものでなくてもよく、単なるロッドにそ
れぞれのワークを押圧するパッドのようなものでもよ
い。だだし、ワークを押圧する部分はそのワークの表面
処理をしなければならない主表面を避けた部分を押圧す
るような構造のものが望ましい。
【0042】また、前記の説明では、ワークとして保護
ガラスを外したCCDを挙げ、ワークの表面処理装置と
して洗浄処理装置を挙げて説明したが、ワークとしては
冒頭に挙げたような部品等をも対象にでき、また洗浄処
理装置のみならず、この発明は、例えば、メッキ処理装
置にも適用することができる。この場合には、例えば、
洗浄槽Aのような槽に一対の電極を配置し、電解液を入
れ、反転アームAcによりワークを垂直状態に吊るして
通電することにより電気メッキを施すことができる。
【0043】
【発明の効果】以上、説明したように、この発明によれ
ば、 1.ワークの厚みが変わっても、同一のキャリヤホルダ
ーで対応することができ、新たな専用のキャリヤホルダ
ーを作製する必要がなく、コストが下げられ、またキャ
リヤホルダーの保管場所も必要以上に必要としない 2.従来技術ではワークの表面とロッドとの間に隙間が
存在したので、両者が間断なく接触してダストを発生し
たが、この発明ではワークとプッシングロッドとの間に
隙間が無いので、ダストの発生がない 3.キャリヤホルダーを調整したり、交換する必要がな
くなるので、安全性及び作業能率が向上する 4.ワークの表面処理装置内に半身を乗り入れて作業を
行う必要がなくなるので、安全性が向上する 5.これまでは、複数の種類の型式のキャリヤホルダー
を用意しなければならず、そのために使用の誤りが生
じ、間違った場合には大量の不良品を発生させることが
あったが、この発明では、キャリヤホルダーを一種類だ
け用意すればよいので、型式を誤ることが全く無く、前
記のような不良品を発生させることがない 6.ワークの表面処理の歩留りが向上する など、数々の優れた効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明のキャリヤホルダーを示す斜視図であ
る。
【図2】図1のAーA線上における断面図であり、同図
Aは全体を示した断面を、同図Bはワーク押圧装置の一
部構成部分の拡大図である。
【図3】図1に示したキャリヤホルダーの一部斜視図で
ある。
【図4】図2に示した断面図において、2本のキャリヤ
をキャリヤホルダーに装着した状態を示した断面図であ
る。
【図5】この発明はワーク表面処理装置を概念的に表し
た略線図である。
【図6】従来技術のキャリヤホルダーを示す斜視図であ
る。
【図7】図3のAーA線上における断面図である。
【図8】従来技術のワーク表面処理装置を概念的に表し
た略線図である。
【符号の説明】
1A キャリヤホルダー 2 フレーム 3 フレーム 4 連結杆 5 連結杆 8a ローラ 8b ローラ 9a ローラ 9b ローラ 20 キャリヤ 23 ワーク(CCD) 31 突片 32 突片 33 突片 34 突片 40 ワーク押圧装置 41 F字型アーム 42 上アーム 43 プッシングロッド 44 下アーム 46 プッシングロッド 49 サポートアーム A 洗浄槽 B 洗浄槽 C 洗浄槽 D ベーパー槽 Aa アーム Ba アーム Ca アーム Da アーム Ab ハンガー Bb ハンガー Cb ハンガー Db ハンガー Ac 反転アーム Dc 反転アーム

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ワーク表面処理装置の入口側において、キ
    ャリヤホルダーのワーク押圧装置を解除した状態で、ワ
    ークを収納したキャリヤを装着し、その後、このような
    キャリヤホルダーを前記キャリヤホルダー入口側からワ
    ーク表面処理装置の方に移動させた時に、前記ワーク押
    圧装置が作動して前記ワークを押圧し、このワーク押圧
    状態で前記キャリヤに収納されたワークを表面処理し、
    そのワークの表面処理終了後、前記ワーク表面処理装置
    の出口側において、前記ワーク押圧装置を解除し、この
    解除状態で前記キャリヤホルダーから前記キャリヤを取
    り出すことを特徴とするワークの表面処理方式。
  2. 【請求項2】ワークを収納できる収納部を有するキャリ
    ヤを装着して、ワーク表面処理装置でワークを表面処理
    するキャリヤホルダーにおいて、一対のフレームと、こ
    れらのフレームを連結する連結装置と、前記キャリヤを
    前記一対のフレーム間に案内する案内装置と、前記案内
    装置を通じて、前記キャリヤホルダーに前記キャリヤを
    着脱する時、前記キャリヤが着脱できる状態に、また前
    記キャリヤが装着されている時、前記キャリヤに収納さ
    れているワークがそのキャリヤから脱落することを防止
    する状態に、前記一対のフレームに可動自在に取り付け
    られたワーク押圧装置とから構成されていることを特徴
    とするキャリヤホルダー。
  3. 【請求項3】前記ワーク押圧装置が前記キャリヤに収納
    されているワークがそのキャリヤから脱落することを防
    止する状態にある時、前記ワーク押圧装置は表面処理さ
    れるワークのその主表面に接しないように構成されてい
    ることを特徴とする請求項2に記載のキャリヤホルダ
    ー。
  4. 【請求項4】前記ワーク押圧装置はプッシングロッドか
    ら構成されていることを特徴とする請求項3に記載のキ
    ャリヤホルダー。
  5. 【請求項5】前記キャリヤホルダーを用いてワークを表
    面処理するワーク表面処理装置において、前記キャリヤ
    ホルダーの前記ワーク押圧装置を可動せしめる制御装置
    を具備していることを特徴とするワーク表面処理装置。
  6. 【請求項6】前記ワーク表面処理装置は表面処理槽とキ
    ャリヤホルダーを載置する一対のアームと前記キャリヤ
    ホルダーを吊るすハンガーと前記一対のアームから前記
    ハンガーに前記キャリヤホルダーを反転させる、或いは
    その逆に反転させる反転アームとから構成されていて、
    前記一対のアームに前記キャリヤホルダーの前記ワーク
    押圧装置を可動せしめる制御装置を設けたことを特徴と
    する請求項5に記載のワーク表面処理装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102487030A (zh) * 2010-12-06 2012-06-06 上海微电子装备有限公司 双工件台夹持机构
AU2013210592B2 (en) * 2012-01-17 2015-07-16 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Hydrogen sulfide gas production plant and method for recovering and using waste hydrogen sulfide gas

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AU2013210592B2 (en) * 2012-01-17 2015-07-16 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Hydrogen sulfide gas production plant and method for recovering and using waste hydrogen sulfide gas

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