JPH0655713B2 - １，３−シクロヘキサジオン誘導体およびそれらの中間体の製造方法 - Google Patents
１，３−シクロヘキサジオン誘導体およびそれらの中間体の製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明の背景 本発明はアルフア、ベータ不飽和ケトン類および置換
１，３−シクロヘキサンジオン類の製造方法に関する。
前述の化合物は医薬および殺虫剤、特に除草剤の中間体
として有用である。
１，３−シクロヘキサンジオン類の製造方法に関する。
前述の化合物は医薬および殺虫剤、特に除草剤の中間体
として有用である。
例えば、アルフア、ベータ−不飽和ケトンは下記の公知
の反応径路により、２−オキシイミノ−５−置換−シク
ロヘキサン−１，３−ジオン系の除草剤を製造するのに
有用である。
の反応径路により、２−オキシイミノ−５−置換−シク
ロヘキサン−１，３−ジオン系の除草剤を製造するのに
有用である。
（式中Ｒは種々の有機残基でありR1は水素または有機残
基であり、Raは低級アルキル基であり、Rcは低級アルキ
ル基であり、R4はアルキル、アルケニル、ハロアルケニ
ル基等であり、Ｘはシアノ、ニトロまたは−COORb（式
中Rbは低級アルキル基である。）である。） このような除草剤は例えば米国特許第3,950,420号、第
3,989,737号、第4,011,256号、第4,249,937号、第4,33
4,913号、第4,440,566号、第4,422,864号、ドイツ特許
出願DE３，２１９，３１５、DE３，２２７，３３２、DE
３，２２７，３８９、欧州特許委出願公報第０４６，８
６０号および日本特許出願Ｊ５１０１３７５５（Derwen
t Abstract No.２１４５６Ｘ／１２）に記述されてい
る。
基であり、Raは低級アルキル基であり、Rcは低級アルキ
ル基であり、R4はアルキル、アルケニル、ハロアルケニ
ル基等であり、Ｘはシアノ、ニトロまたは−COORb（式
中Rbは低級アルキル基である。）である。） このような除草剤は例えば米国特許第3,950,420号、第
3,989,737号、第4,011,256号、第4,249,937号、第4,33
4,913号、第4,440,566号、第4,422,864号、ドイツ特許
出願DE３，２１９，３１５、DE３，２２７，３３２、DE
３，２２７，３８９、欧州特許委出願公報第０４６，８
６０号および日本特許出願Ｊ５１０１３７５５（Derwen
t Abstract No.２１４５６Ｘ／１２）に記述されてい
る。
米国特許第4,355,184号には脂肪族第二級アミンの存在
下混合不均一溶媒系においてアルデヒドとアセト酢酸の
アルカリ金属塩を反応することによりアルフア、ベータ
−不飽和ケトンを製造する方法が述べられている。
下混合不均一溶媒系においてアルデヒドとアセト酢酸の
アルカリ金属塩を反応することによりアルフア、ベータ
−不飽和ケトンを製造する方法が述べられている。
米国特許第4,355,184号における技術記述によればアル
デヒド類およびアセトンのアルドール縮合によるアルフ
ア、ベータ−不飽和ケトン類の合成はBer４０、４７６
４（１９０７）に記述されている。Indian J.Chem.Vol.
１６Ｂ、９７０（１９７８）にはピペリジン−酢酸触媒
系の存在下でのアルデヒド類とケトン類との縮合が記述
されている。Ber.Vol.１０３ ２０７７（１９７０）に
はアルデヒドとウイテイツヒ試薬との反応によるアルフ
ア、ベータ−不飽和ケトン類の合成が記述されている。
Acta.Chem.Scand.Ｖ．１７、２２１６（１９６３）には
ｐ−トルエンスルホン酸の存在下でのアルフア、ベータ
不飽和−ベータ−ケトエステル類の熱分解による上述の
ようなケトン類の製造方法が記述されている。米国特許
第2,108,427号にはアルデヒドとジケテンの反応による
アルフア、ベータ不飽和ケトン類の合成が記述されてい
る。
デヒド類およびアセトンのアルドール縮合によるアルフ
ア、ベータ−不飽和ケトン類の合成はBer４０、４７６
４（１９０７）に記述されている。Indian J.Chem.Vol.
１６Ｂ、９７０（１９７８）にはピペリジン−酢酸触媒
系の存在下でのアルデヒド類とケトン類との縮合が記述
されている。Ber.Vol.１０３ ２０７７（１９７０）に
はアルデヒドとウイテイツヒ試薬との反応によるアルフ
ア、ベータ−不飽和ケトン類の合成が記述されている。
Acta.Chem.Scand.Ｖ．１７、２２１６（１９６３）には
ｐ−トルエンスルホン酸の存在下でのアルフア、ベータ
不飽和−ベータ−ケトエステル類の熱分解による上述の
ようなケトン類の製造方法が記述されている。米国特許
第2,108,427号にはアルデヒドとジケテンの反応による
アルフア、ベータ不飽和ケトン類の合成が記述されてい
る。
ドイツ特許第840,090号には、水媒体中で修酸の存在
下、加熱によるベータ−ヒドロキシケトン脱水反応によ
り対応する不飽和ケトンを製造する手順が述べられてい
る。
下、加熱によるベータ−ヒドロキシケトン脱水反応によ
り対応する不飽和ケトンを製造する手順が述べられてい
る。
日本特許第５５−１４１４２９号にはメタノール中、第
三級アミンの存在下、適宜置換されたアルデヒドとアセ
ト酢酸ナトリウムとの反応によるベータ−ヒドロキシケ
トンの製造方法が開示されている。酸性にした後、得ら
れる生成物は２−ケト−４−ヒドロキシ−６−エチルチ
オヘプタンである。
三級アミンの存在下、適宜置換されたアルデヒドとアセ
ト酢酸ナトリウムとの反応によるベータ−ヒドロキシケ
トンの製造方法が開示されている。酸性にした後、得ら
れる生成物は２−ケト−４−ヒドロキシ−６−エチルチ
オヘプタンである。
本発明の要約 本発明はアルフア、ベータ−不飽和ケトン類、５−置換
−１，３−シクロヘキサジオン類および４，５−ジ置換
−１，３−シクロヘキサジオンの改良製造法に関する。
前述の置換１，３−シクロヘキサンジオン類は上述の２
−オキシイミノシクロヘキサン−１，３−ジオン系除草
剤の製造における次工程の中間体である。
−１，３−シクロヘキサジオン類および４，５−ジ置換
−１，３−シクロヘキサジオンの改良製造法に関する。
前述の置換１，３−シクロヘキサンジオン類は上述の２
−オキシイミノシクロヘキサン−１，３−ジオン系除草
剤の製造における次工程の中間体である。
アルフア、ベータ−不飽和ケトン生成混合物を製造する
本発明の製造方法は、適切なアルデヒド（RCHO）または
ケトン〔RC(O)R1〕を第三級アミンの存在下アセト酢酸
塩と反応する事により対応する４−置換−４−ヒドロキ
シアルカン−２−オンを得ることから成る。次にこの生
成物を脱水すると対応するアルフア、ベータ不飽和ケト
ン生成混合物を得る。
本発明の製造方法は、適切なアルデヒド（RCHO）または
ケトン〔RC(O)R1〕を第三級アミンの存在下アセト酢酸
塩と反応する事により対応する４−置換−４−ヒドロキ
シアルカン−２−オンを得ることから成る。次にこの生
成物を脱水すると対応するアルフア、ベータ不飽和ケト
ン生成混合物を得る。
本発明の更なる側面は本製造法に係るアルフア、ベータ
−不飽和ケトン粗成物を置換酢酸エステルおよび金属ア
ルコキシドとを反応条件下で作用させ高収率で置換−
１，３−ヘキサンジオン−４−カルボキシレート誘導体
を得ることから成り、更にこれを脱炭酸すると対応する
５−置換−１，３−シクロヘキサンジオンが得られる。
−不飽和ケトン粗成物を置換酢酸エステルおよび金属ア
ルコキシドとを反応条件下で作用させ高収率で置換−
１，３−ヘキサンジオン−４−カルボキシレート誘導体
を得ることから成り、更にこれを脱炭酸すると対応する
５−置換−１，３−シクロヘキサンジオンが得られる。
本発明を更に詳細に以下に説明する。
本発明の詳細な説明および好ましい態様 本製造法を図式的に示すと以下の全反応式となる： （式中Ｒは置換または未置換の脂肪族または脂環残基で
あり、Ｍはカチオンでありｍはその原子価である。また
T.A.は第三級アミンである。） 本製造法の第１段階は触媒量の第３級アミンの存在下に
反応条件下でアルデヒド(A)とアセト酢酸塩(B)とを作用
させる事により行われるが好ましくは水溶液中で行うこ
とが望ましいが不活性有機溶媒中で行つても良い。
あり、Ｍはカチオンでありｍはその原子価である。また
T.A.は第三級アミンである。） 本製造法の第１段階は触媒量の第３級アミンの存在下に
反応条件下でアルデヒド(A)とアセト酢酸塩(B)とを作用
させる事により行われるが好ましくは水溶液中で行うこ
とが望ましいが不活性有機溶媒中で行つても良い。
本製造法は、典型的には、約２０から６５℃の範囲の温
度で、好ましくは５０〜５５℃で、約２から８時間の
間、好ましくは２〜４時間、１〜1.5モル当量、好まし
くは１〜1.3モル当量の化合物Ｂと、化合物Ａの１モル
当り0.01〜0.1モル、好ましくは0.03〜0.05モルの第三
級アミンを用いて行われる。好ましくは本製造法は約８
〜１０のpH範囲で、更に好ましくは約8.2〜8.6で行われ
る。
度で、好ましくは５０〜５５℃で、約２から８時間の
間、好ましくは２〜４時間、１〜1.5モル当量、好まし
くは１〜1.3モル当量の化合物Ｂと、化合物Ａの１モル
当り0.01〜0.1モル、好ましくは0.03〜0.05モルの第三
級アミンを用いて行われる。好ましくは本製造法は約８
〜１０のpH範囲で、更に好ましくは約8.2〜8.6で行われ
る。
使用できる適切な第三級アミンとしては例えばトリエチ
ルアミン、メチルジエチルアミンのようなトリアルキル
アミン、Ｎ−メチルピペリジン、ピリジン等の窒素含有
複素環化合物等が含まれる。不活性有機溶媒を用いる場
合、使用できる適切な溶媒としては例えば液体のアルカ
ノール類（例えばメタノール、エタノール等）のベンゼ
ン、トルエンのような芳香族炭化水素類、塩化メチレン
クロロホルムのような塩素化炭化水素類、ヘキサン、ヘ
プタンのようなアルカン類等またこれらの混合溶媒が含
まれる。また前に指摘したように塩Ｂの水溶液を使用す
る事が好ましい。塩(B)の水溶液の濃度は、典型的に
は、約５〜３０重量パーセントの範囲であり、好ましく
は１０〜１５パーセントの範囲である。
ルアミン、メチルジエチルアミンのようなトリアルキル
アミン、Ｎ−メチルピペリジン、ピリジン等の窒素含有
複素環化合物等が含まれる。不活性有機溶媒を用いる場
合、使用できる適切な溶媒としては例えば液体のアルカ
ノール類（例えばメタノール、エタノール等）のベンゼ
ン、トルエンのような芳香族炭化水素類、塩化メチレン
クロロホルムのような塩素化炭化水素類、ヘキサン、ヘ
プタンのようなアルカン類等またこれらの混合溶媒が含
まれる。また前に指摘したように塩Ｂの水溶液を使用す
る事が好ましい。塩(B)の水溶液の濃度は、典型的に
は、約５〜３０重量パーセントの範囲であり、好ましく
は１０〜１５パーセントの範囲である。
またRR１′C＝CHC(O)CH3（ここでR１′は有機残基であ
る）を製造する場合にはアルデヒドＡの代りに相当する
ケトンRC(O)Ｒ１′(A′)が上記製造に使用され得る。例
えばアセトンを用いる事によりCH3(CH3)C＝CHC(O)CH3が
製造される。しかしながら一般にはアルデヒドを用いた
方が良い結果が得られる。
る）を製造する場合にはアルデヒドＡの代りに相当する
ケトンRC(O)Ｒ１′(A′)が上記製造に使用され得る。例
えばアセトンを用いる事によりCH3(CH3)C＝CHC(O)CH3が
製造される。しかしながら一般にはアルデヒドを用いた
方が良い結果が得られる。
出発物質であるアルデヒド(A)およびケトン(A′)は公知
の化合物であり適宜置換された原料を用いて既知の方法
により製造される。
の化合物であり適宜置換された原料を用いて既知の方法
により製造される。
前に指摘したように化合物Ａ、Ｃ、Ｄ中の置換基Ｒ（お
よびケトンを用いる場合は置換基R１′も）は事実上有
機残基である。置換基ＲおよびR１′の代表的なものと
しては例えば炭素数１から１０のアルキル基、好ましく
は低級アルキル基、炭素数３から７の環状アルキル基；
（環状アルキル）アルキル基、炭素数６から１０のアリ
ル基、アリル基の炭素数が６から１０で且つ、低級アル
キル、低級アルケニル、低級アルコキシ、低級アルキル
チオ、ハロゲン１または２個の炭素数で１から３個の同
じまたは異なるハロゲン原子を持つハロアルキル基およ
びニトロ基の群から独立して選択される１から３個の置
換基を有する置換アリル基、アルキル部分の炭素数が１
から４であり且つ炭素数が６から１０のアリルアルキル
基；アルキル基の炭素数が１から４であり置換されたア
リル部分が上で定義されるような置換アリルアルキル
基；複素環、アルキル基の炭素数が１から４であり複素
環が５または６環で且つその中の１または２個の原子が
独立して酸素、硫黄または窒素、好ましくは酸素または
窒素で残りが炭素原子であるような複素環アルキル基で
ある；またはＲは残基R5S(O)nR4−（ここでR4は低級ア
ルキレン基でありR5は上で定義した低級アルキル、低級
アルケニル、環状アルキル基であるか、または、アリル
または上で定義したような置換アリル基であり、ｎは
０、１、または２を表わす）である。ケトンを使用する
場合R1と独立してＲで示された群から選ばれる残基であ
るかまたはR1とＲは結合している炭素原子と共に、炭素
原子から成る５または６員環を有する環状アルキリデン
基を形成し得る。
よびケトンを用いる場合は置換基R１′も）は事実上有
機残基である。置換基ＲおよびR１′の代表的なものと
しては例えば炭素数１から１０のアルキル基、好ましく
は低級アルキル基、炭素数３から７の環状アルキル基；
（環状アルキル）アルキル基、炭素数６から１０のアリ
ル基、アリル基の炭素数が６から１０で且つ、低級アル
キル、低級アルケニル、低級アルコキシ、低級アルキル
チオ、ハロゲン１または２個の炭素数で１から３個の同
じまたは異なるハロゲン原子を持つハロアルキル基およ
びニトロ基の群から独立して選択される１から３個の置
換基を有する置換アリル基、アルキル部分の炭素数が１
から４であり且つ炭素数が６から１０のアリルアルキル
基；アルキル基の炭素数が１から４であり置換されたア
リル部分が上で定義されるような置換アリルアルキル
基；複素環、アルキル基の炭素数が１から４であり複素
環が５または６環で且つその中の１または２個の原子が
独立して酸素、硫黄または窒素、好ましくは酸素または
窒素で残りが炭素原子であるような複素環アルキル基で
ある；またはＲは残基R5S(O)nR4−（ここでR4は低級ア
ルキレン基でありR5は上で定義した低級アルキル、低級
アルケニル、環状アルキル基であるか、または、アリル
または上で定義したような置換アリル基であり、ｎは
０、１、または２を表わす）である。ケトンを使用する
場合R1と独立してＲで示された群から選ばれる残基であ
るかまたはR1とＲは結合している炭素原子と共に、炭素
原子から成る５または６員環を有する環状アルキリデン
基を形成し得る。
塩Ｂについて上で指摘したようにＭはカチオンである。
好ましいカチオンとは水溶性の塩(B)を生成するもので
あり例えばアルカリ金属カチオン（例えばナトリウム、
カリウム等）が含まれる。
好ましいカチオンとは水溶性の塩(B)を生成するもので
あり例えばアルカリ金属カチオン（例えばナトリウム、
カリウム等）が含まれる。
第二段階である脱水工程は高温で化合物Ｃを適切な脱水
触媒と接触させる事により行われる。この時不活性有機
溶媒または水を用いても良い。
触媒と接触させる事により行われる。この時不活性有機
溶媒または水を用いても良い。
この工程は、代表的には、約６０から２００℃の範囲の
温度で、好ましくは８０から１５０℃で、約１から３時
間の間、好ましくは１から1.5時間、化合物Ｃ１モル当
り約0.03から0.15、好ましくは0.04から0.08モル当量の
脱水触媒を用いて行われる。脱水触媒の最適量は用いる
個々の触媒によつて異るが、通常の実験により決定でき
る。
温度で、好ましくは８０から１５０℃で、約１から３時
間の間、好ましくは１から1.5時間、化合物Ｃ１モル当
り約0.03から0.15、好ましくは0.04から0.08モル当量の
脱水触媒を用いて行われる。脱水触媒の最適量は用いる
個々の触媒によつて異るが、通常の実験により決定でき
る。
使用できる代表的な脱水触媒には、例えば修酸、マロン
酸のような３から６個の炭素原子を持つジカルボン酸ま
たは修酸と同程度のpKa値を持つ置換された酢酸等が含
まれる。我々は修酸を用いた場合に最も良い結果が得ら
れることを発見した。
酸のような３から６個の炭素原子を持つジカルボン酸ま
たは修酸と同程度のpKa値を持つ置換された酢酸等が含
まれる。我々は修酸を用いた場合に最も良い結果が得ら
れることを発見した。
この工程は不活性有機溶媒または水中で行つても良い。
しかしながら溶媒なしでも非常に良い結果が得られる。
不活性有機溶媒を用いる場合使用出来る適切な有機溶媒
としては例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
およびそれらの相溶性混合物が含まれる。一般に最も良
い結果は無溶媒または溶媒としてトルエン又はキシレン
を用いた場合に得られる。反応が無溶媒で行われる場
合、好ましくは約１００から１１５℃の範囲の温度で行
うのが良い。この工程はまたトルエン−水共沸溶媒また
はキシレン−水共沸溶媒中でも簡便に行われ、この場合
本工程は各々約８５から１１５℃および９０から１４５
℃の範囲の温度で行う事が望ましい。共沸混合物は脱水
反応の副生物として生ずる水により形成される。
しかしながら溶媒なしでも非常に良い結果が得られる。
不活性有機溶媒を用いる場合使用出来る適切な有機溶媒
としては例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
およびそれらの相溶性混合物が含まれる。一般に最も良
い結果は無溶媒または溶媒としてトルエン又はキシレン
を用いた場合に得られる。反応が無溶媒で行われる場
合、好ましくは約１００から１１５℃の範囲の温度で行
うのが良い。この工程はまたトルエン−水共沸溶媒また
はキシレン−水共沸溶媒中でも簡便に行われ、この場合
本工程は各々約８５から１１５℃および９０から１４５
℃の範囲の温度で行う事が望ましい。共沸混合物は脱水
反応の副生物として生ずる水により形成される。
本製造法はアルデヒドＡまたはケトンA′基底でアルフ
ア、ベータ−不飽和ケトンを高収率、代表的には全収率
で９０％で、与える。代表的には生成物はトランスとシ
スの異性体の混合物であり、主成分の異性体はトランス
体である。粗反応生成物（すなわち溶媒を除去した後の
反応生成物）は又少量の、一般的には５wt、％以下のケ
トン付加物、すなわち （式中ＲとR1は前で定義したものと同じである）を含ん
でいる。例えば６−エチルチオブチリルアルデヒドを用
いた場合付加物は２，６−ジ（エチルチオ）ヘプタン−
２−オンである。粗反応生成物はまた少量の、典型的に
は４％以下の、４−ヒドロキシブタン−２−オン中間体
Ｃを含んでいる。しかしながらどの生成物も１，３−シ
クロヘキサンジオン誘導体を製造するための粗生成物の
有用性を落すものではない。なぜなら低濃度の両生成物
は、シスとトランス型のアルフア、ベータ−不飽和ケト
ン異性体と同様に１，３−シクロヘキサンジオンに変換
される。最終的には反応を阻害する水という副生物が反
応により発生するために、４−ヒドロキシアルカン−２
−オン中間体Ｃは、単独では、シクロヘキサンジオンを
製造するのに用いる事はできないという事が示摘され
る。しかしながら本粗生成物中の中間体Ｃは少量である
ため、環化反応により生ずる相当する少量の副生物であ
る水は許容範囲内である。
ア、ベータ−不飽和ケトンを高収率、代表的には全収率
で９０％で、与える。代表的には生成物はトランスとシ
スの異性体の混合物であり、主成分の異性体はトランス
体である。粗反応生成物（すなわち溶媒を除去した後の
反応生成物）は又少量の、一般的には５wt、％以下のケ
トン付加物、すなわち （式中ＲとR1は前で定義したものと同じである）を含ん
でいる。例えば６−エチルチオブチリルアルデヒドを用
いた場合付加物は２，６−ジ（エチルチオ）ヘプタン−
２−オンである。粗反応生成物はまた少量の、典型的に
は４％以下の、４−ヒドロキシブタン−２−オン中間体
Ｃを含んでいる。しかしながらどの生成物も１，３−シ
クロヘキサンジオン誘導体を製造するための粗生成物の
有用性を落すものではない。なぜなら低濃度の両生成物
は、シスとトランス型のアルフア、ベータ−不飽和ケト
ン異性体と同様に１，３−シクロヘキサンジオンに変換
される。最終的には反応を阻害する水という副生物が反
応により発生するために、４−ヒドロキシアルカン−２
−オン中間体Ｃは、単独では、シクロヘキサンジオンを
製造するのに用いる事はできないという事が示摘され
る。しかしながら本粗生成物中の中間体Ｃは少量である
ため、環化反応により生ずる相当する少量の副生物であ
る水は許容範囲内である。
この様に本工程は１，３−シクロヘキサン−ジオン誘導
体の製造に特に有用な中間体を与えるものである。
体の製造に特に有用な中間体を与えるものである。
１，３−シクロヘキサンジオンの環化は下の反応式によ
り表わされる： （式中ＲとR1は前の定義と同じである；M′はカチオン
であり、好ましくはナトリウムの様なアルカリ金属であ
る；RaとR2は独立に低級アルキルであり、Ｘはシアノ、
ニトロまたは−COORb（式中Rbは低級アルキルである）
である。） 本工程は生成物Ｄを化合物Ｅおよびアルカノラート塩
(F)と、好ましくは不活性有機溶媒中で、接触させるこ
とにより行われる。
り表わされる： （式中ＲとR1は前の定義と同じである；M′はカチオン
であり、好ましくはナトリウムの様なアルカリ金属であ
る；RaとR2は独立に低級アルキルであり、Ｘはシアノ、
ニトロまたは−COORb（式中Rbは低級アルキルである）
である。） 本工程は生成物Ｄを化合物Ｅおよびアルカノラート塩
(F)と、好ましくは不活性有機溶媒中で、接触させるこ
とにより行われる。
代表的には本工程は約１５から７０℃、好ましくは２０
から４０℃の範囲の温度で、３から１０時間、好ましく
は３から７時間の間化合物Ｄを混合物１モル当り1.0か
ら1.5モル、好ましくは1.0から1.2モルの化合物Ｅを用
いて行われる。
から４０℃の範囲の温度で、３から１０時間、好ましく
は３から７時間の間化合物Ｄを混合物１モル当り1.0か
ら1.5モル、好ましくは1.0から1.2モルの化合物Ｅを用
いて行われる。
使用できる適切な不活性溶媒としては例えばメタノー
ル、エタノールのようなアルコール類、ベンゼン、トル
エンの様な芳香族炭化水素等およびこれらの相溶性混合
物が含まれる。使用できる適切な置換酢酸エステルとし
ては例えばジメチルマロネート；メチルシアノアセテー
ト；メチルニトロアセテート等が含まれる。４位に置換
のない最終生成物を製造しようとする場合、代表的には
市販のものが手に入り易く比較的安価であるためジメチ
ルマロネートまたはジエチルマロネートが使われ、良い
結果が得られる。
ル、エタノールのようなアルコール類、ベンゼン、トル
エンの様な芳香族炭化水素等およびこれらの相溶性混合
物が含まれる。使用できる適切な置換酢酸エステルとし
ては例えばジメチルマロネート；メチルシアノアセテー
ト；メチルニトロアセテート等が含まれる。４位に置換
のない最終生成物を製造しようとする場合、代表的には
市販のものが手に入り易く比較的安価であるためジメチ
ルマロネートまたはジエチルマロネートが使われ、良い
結果が得られる。
４位に置換基のない生成物を製造しようとする場合式Ｇ
の４−アルコキシカルボニル（すなわちＸがCOORb）化
合物を製造する事が望ましい。この場合４位の置換基は
まず塩基性加水分解により脱アルコキシ化してカルボキ
シ基または塩基カルボン酸塩となり続いて脱炭酸により
４位のカルボキシル基を脱離させる。
の４−アルコキシカルボニル（すなわちＸがCOORb）化
合物を製造する事が望ましい。この場合４位の置換基は
まず塩基性加水分解により脱アルコキシ化してカルボキ
シ基または塩基カルボン酸塩となり続いて脱炭酸により
４位のカルボキシル基を脱離させる。
塩基性加水分解は代表的には１２から１４のpHで２０か
ら４０℃の温度で約１から３時間の間化合物G′を塩基
（例えば水酸ナトリウム、水酸化カリウム）と接触させ
る事により容易に行われる。生成物は酸（例えば塩酸、
硫酸等）と接触させる事により脱炭酸される。この反応
は、代表的には４から4.5のpHで１から４時間の間、２
０から１００℃の範囲の温度で行われる。
ら４０℃の温度で約１から３時間の間化合物G′を塩基
（例えば水酸ナトリウム、水酸化カリウム）と接触させ
る事により容易に行われる。生成物は酸（例えば塩酸、
硫酸等）と接触させる事により脱炭酸される。この反応
は、代表的には４から4.5のpHで１から４時間の間、２
０から１００℃の範囲の温度で行われる。
本発明の特に有用で且つ価置のある応用例は２−ケト−
６−エチルチオ−ヘプテン−３の製造であり、この化合
物は更に高収率で５−置換および４−カルボアルコキシ
−５−置換シクロヘキサン−１，３−ジオンを与える。
いくつかの場合において化合物は比較的高純度で得られ
る。この場合、触媒量の第三級アミンの存在下、酸を加
える事によりpHを６から９に調製して不活性有機溶媒中
で３−エチルチオブチラルデヒドをアセト酢酸と反応さ
せる。得られた粗生成物を次いで触媒量の修酸と接触さ
せる事により所望の２−ケト−６−エチルチオヘプタ−
３−エンが高純度、高収率で製造される。
６−エチルチオ−ヘプテン−３の製造であり、この化合
物は更に高収率で５−置換および４−カルボアルコキシ
−５−置換シクロヘキサン−１，３−ジオンを与える。
いくつかの場合において化合物は比較的高純度で得られ
る。この場合、触媒量の第三級アミンの存在下、酸を加
える事によりpHを６から９に調製して不活性有機溶媒中
で３−エチルチオブチラルデヒドをアセト酢酸と反応さ
せる。得られた粗生成物を次いで触媒量の修酸と接触さ
せる事により所望の２−ケト−６−エチルチオヘプタ−
３−エンが高純度、高収率で製造される。
この場合の本発明の好ましい具体例を述べると、本製造
法の第一段階は例えば塩酸または他の鉱酸の様な適切な
酸を加える事によりpHを約8.2から8.6に調製したアセト
酢酸ナトリウムの水溶液を用いて行われる。不活性有機
溶媒としては例えばメタノール又はエタノールが加えら
れ、次いで触媒量の第三級アミンが添加される。次に混
合物を２０から２５℃の範囲の温度でかき混ぜながら３
−エチルチオブチラルデヒドをゆつくりと加える。アル
デヒドを全て加え終つてから更に約1/2から1.1/2時間の
間２０から２５℃でかきまぜた後昇温し４５〜５５℃で
２から４時間の間反応するかまたは分析による反応率が
９０〜９５％になるまで反応する。次に水と混和しない
溶媒、例えばトルエンを加え次いで濃塩酸を加えpHを約
４にする。水層と有機層を分離する。次に粗生成物を含
むトルエン層に出発物質のアルデヒド基底で約５モル％
の修酸を加え混合する。得られた混合物を８５から１１
９℃の範囲の温度に加熱し共沸により脱水する。溶媒を
同時に蒸留しても良い。そうすれば脱水反応が無溶媒で
行われ、代表的には、反応時間も１時間以内に改良され
る。この加熱は原料の６−エチルチオ−４−ヒドロキシ
ヘプタン−２−オンが分析により２％以下になるまで続
けられる。製造はトルエンの様な溶媒に溶解し炭酸ソー
ダ水溶液で洗浄後共沸脱水する事により行なうことがで
きる。最後に蒸留によりトルエンを除去し粗生成物を得
る。
法の第一段階は例えば塩酸または他の鉱酸の様な適切な
酸を加える事によりpHを約8.2から8.6に調製したアセト
酢酸ナトリウムの水溶液を用いて行われる。不活性有機
溶媒としては例えばメタノール又はエタノールが加えら
れ、次いで触媒量の第三級アミンが添加される。次に混
合物を２０から２５℃の範囲の温度でかき混ぜながら３
−エチルチオブチラルデヒドをゆつくりと加える。アル
デヒドを全て加え終つてから更に約1/2から1.1/2時間の
間２０から２５℃でかきまぜた後昇温し４５〜５５℃で
２から４時間の間反応するかまたは分析による反応率が
９０〜９５％になるまで反応する。次に水と混和しない
溶媒、例えばトルエンを加え次いで濃塩酸を加えpHを約
４にする。水層と有機層を分離する。次に粗生成物を含
むトルエン層に出発物質のアルデヒド基底で約５モル％
の修酸を加え混合する。得られた混合物を８５から１１
９℃の範囲の温度に加熱し共沸により脱水する。溶媒を
同時に蒸留しても良い。そうすれば脱水反応が無溶媒で
行われ、代表的には、反応時間も１時間以内に改良され
る。この加熱は原料の６−エチルチオ−４−ヒドロキシ
ヘプタン−２−オンが分析により２％以下になるまで続
けられる。製造はトルエンの様な溶媒に溶解し炭酸ソー
ダ水溶液で洗浄後共沸脱水する事により行なうことがで
きる。最後に蒸留によりトルエンを除去し粗生成物を得
る。
本例の脱水工程は約５％の修酸触媒を加え無溶媒で１時
間以内の反応時間で行うことができる。粗反応生成物は
トランスおよびシスの２−ケト−６−エチルチオヘプト
−３−エンの混合物である。触媒を除去し乾燥した後の
粗生成物は直接ナトリウムメトキシドのような塩基の存
在下ジメチルマロネートの様なジアルキルマロネートと
反応する事ができ非常に良い収率で４−カルバルコキシ
−５−（２−エチルチオプロピル）−シクロヘキサン−
１，３−ジオンを与える事を我々は見出した。
間以内の反応時間で行うことができる。粗反応生成物は
トランスおよびシスの２−ケト−６−エチルチオヘプト
−３−エンの混合物である。触媒を除去し乾燥した後の
粗生成物は直接ナトリウムメトキシドのような塩基の存
在下ジメチルマロネートの様なジアルキルマロネートと
反応する事ができ非常に良い収率で４−カルバルコキシ
−５−（２−エチルチオプロピル）−シクロヘキサン−
１，３−ジオンを与える事を我々は見出した。
一般的製造条件 上で述べた工程において特に明白に書いてある場合を除
いて次の反応工程に進む前に個々の生成物を単離する事
が一般的に好ましい。これらの生成物は各々のこれらの
反応生成混合物から任意の適切な分離および精製操作、
例えば抽出、蒸留又はクロマトグラフイにより回収され
る。適切な分離および精製操作は例えば以下に示した実
施例により説明される。
いて次の反応工程に進む前に個々の生成物を単離する事
が一般的に好ましい。これらの生成物は各々のこれらの
反応生成混合物から任意の適切な分離および精製操作、
例えば抽出、蒸留又はクロマトグラフイにより回収され
る。適切な分離および精製操作は例えば以下に示した実
施例により説明される。
一般に上で述べた反応は液相で行われるので反応が還流
下に行われる場合の温度（沸点）に影響する以外は圧力
は一般に重要ではない。それ故これらの反応は一般に３
００から3,000mmHgの圧力で行われ、大気圧近辺あるい
は外圧下で容易に行われる。
下に行われる場合の温度（沸点）に影響する以外は圧力
は一般に重要ではない。それ故これらの反応は一般に３
００から3,000mmHgの圧力で行われ、大気圧近辺あるい
は外圧下で容易に行われる。
代表的な又は好ましい製造条件（例えば反応温度、時
間、反応物のモル比、溶媒など）が与えられている場合
でも、他の製造条件を使用しても良い。最適の反応条件
（例えば温度、反応時間、モル比、溶媒、等）は使用す
る個々の反応物または有機溶媒により変化するが通常の
最適化手順で決定される。
間、反応物のモル比、溶媒など）が与えられている場合
でも、他の製造条件を使用しても良い。最適の反応条件
（例えば温度、反応時間、モル比、溶媒、等）は使用す
る個々の反応物または有機溶媒により変化するが通常の
最適化手順で決定される。
定義 ここで用いる以下の表現は明白にそうでないと述べない
かぎり以下の意味を持つ； “低級アルキル”という表現は全炭素数が１から６、好
ましくは１から４、の直鎖および分岐アルキル基を言い
１級、２級及び３級のアルキル基を含む。代表的なアル
キル基としては例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、
イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチルが含まれる。
かぎり以下の意味を持つ； “低級アルキル”という表現は全炭素数が１から６、好
ましくは１から４、の直鎖および分岐アルキル基を言い
１級、２級及び３級のアルキル基を含む。代表的なアル
キル基としては例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、
イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチルが含まれる。
“低級アルキレン”という表現は炭素数１から６、好ま
しくは１から４の直鎖および分岐アルキレン基を言い例
えば −CH2−；−CH2−CH2−； 等を含む“低級アルケニル”という表現は炭素数２から
６、好ましくは２から４のアルケニル基を言い例えばビ
ニル、１−プロペニル、２−ブロペニル、１−メチルビ
ニル、１−ブテニル、２−メチル−プロプ−１−エニル
等を含む。
しくは１から４の直鎖および分岐アルキレン基を言い例
えば −CH2−；−CH2−CH2−； 等を含む“低級アルケニル”という表現は炭素数２から
６、好ましくは２から４のアルケニル基を言い例えばビ
ニル、１−プロペニル、２−ブロペニル、１−メチルビ
ニル、１−ブテニル、２−メチル−プロプ−１−エニル
等を含む。
“低級アルコキシ”という表現は基−OR′（式中R′は
低級アルキル基である）を言う。
低級アルキル基である）を言う。
“低級アルキルチオ”という表現は基−SR′（式中R′
は低級アルキル基である）を言う “低級アルコキシアルキル”という表現は基R′OR″−
（式中R′とR″は独立して炭素数１から３の直鎖又は分
岐アルキル基である）を言う。
は低級アルキル基である）を言う “低級アルコキシアルキル”という表現は基R′OR″−
（式中R′とR″は独立して炭素数１から３の直鎖又は分
岐アルキル基である）を言う。
“低級アルキルチオアルキル”という表現は基R′SR″
は独立して炭素数１から３の直鎖又は分岐アルキル基で
ある）を言う。
は独立して炭素数１から３の直鎖又は分岐アルキル基で
ある）を言う。
“低級アルコキシカルボニルアルキル”という表現は、
基 （式中R′は低級アルキル基であり、好ましくは炭素数
１から４のアルキル基であり、R″は炭素数１から４の
アルキレンであり直鎖でも分岐でも良い）を言う。代表
的なアルコキシカルボニルアルキル基としては例えば−
CH2C(O)OCH3；−CH(CH3)C(O)OC2H５′等が含まれる。
基 （式中R′は低級アルキル基であり、好ましくは炭素数
１から４のアルキル基であり、R″は炭素数１から４の
アルキレンであり直鎖でも分岐でも良い）を言う。代表
的なアルコキシカルボニルアルキル基としては例えば−
CH2C(O)OCH3；−CH(CH3)C(O)OC2H５′等が含まれる。
“ハロ”という表現はフルオロ、クロロ、ブロモ及びヨ
ードを言う。
ードを言う。
“低級ハロアルキル”という表現は炭素数１から４で且
つフルオロ、クロロ、ブロモおよびヨードの群から独立
して選択された１から３個のハロ原子を持つハロアルキ
ル基を言う。
つフルオロ、クロロ、ブロモおよびヨードの群から独立
して選択された１から３個のハロ原子を持つハロアルキ
ル基を言う。
”低級ハロアルコキシ”という表現はフルオロ、クロ
ロ、ブロモ、およびヨードの群から独立して選択された
１から３個のハロ原子を持つ“低級アルコキシ”基を言
う。
ロ、ブロモ、およびヨードの群から独立して選択された
１から３個のハロ原子を持つ“低級アルコキシ”基を言
う。
“アリル”という表現は炭素数６から１０のアリル基を
言い例えばフエニル、ナフチル、インデニルが含まれ
る。代表的なアリル基とはフエニルまたはナフチルであ
る。なぜならその様な基を持つ化合物は他のアリル化合
物より市販品を容易に入手しやすいからである。
言い例えばフエニル、ナフチル、インデニルが含まれ
る。代表的なアリル基とはフエニルまたはナフチルであ
る。なぜならその様な基を持つ化合物は他のアリル化合
物より市販品を容易に入手しやすいからである。
“置換アリル”という表現は低級アルキル、低級アルコ
キシ、ハロ、ニトロまたは炭素数１から４で且つ１から
３個のハロ原子を持つハロアルキル基の群から独立して
選択された１から３個の置換基を持つアリル基を言う。
代表的な置換アリル基には例えば２−フルオロフエニ
ル、２−クロロフエニル、２，６−ジメチルフエニル、
４−フルオロフエニル、２−メチルフエニル、２−クロ
ロ、３−クロロメチルフエニル、２−ニトロ、５−メチ
ルフエニル、２，６−ジクロロフエニル、３−トリフル
オロメチルフエニル、２−メトキシフエニル、２−ブロ
モナフト−１−イル、３−メトキシインデン−１−イル
等が含まれる。
キシ、ハロ、ニトロまたは炭素数１から４で且つ１から
３個のハロ原子を持つハロアルキル基の群から独立して
選択された１から３個の置換基を持つアリル基を言う。
代表的な置換アリル基には例えば２−フルオロフエニ
ル、２−クロロフエニル、２，６−ジメチルフエニル、
４−フルオロフエニル、２−メチルフエニル、２−クロ
ロ、３−クロロメチルフエニル、２−ニトロ、５−メチ
ルフエニル、２，６−ジクロロフエニル、３−トリフル
オロメチルフエニル、２−メトキシフエニル、２−ブロ
モナフト−１−イル、３−メトキシインデン−１−イル
等が含まれる。
“アリルアルキレン”という表現は基ArR3−（式中Arは
アリルでありR3は炭素数１から３のアルキレンであり、
直鎖又は分岐アルキレンを含み例えばメチレン、エチ
ル、１−メチルエチルおよびプロピルである）を言う。
アリルでありR3は炭素数１から３のアルキレンであり、
直鎖又は分岐アルキレンを含み例えばメチレン、エチ
ル、１−メチルエチルおよびプロピルである）を言う。
“（置換アリル）アルキレン”または“環−置換アリル
アルキレン”という表現は基Ar′Ｒ3（式中Ar′は置換
アリルでありR3はアリルアルキレンについて定義したも
のと同じアルキレンである。）を言う。
アルキレン”という表現は基Ar′Ｒ3（式中Ar′は置換
アリルでありR3はアリルアルキレンについて定義したも
のと同じアルキレンである。）を言う。
“室温”又は“外温”という表現は約２０−２５℃を言
う。
う。
以下の非限定的製造法および実施例により本発明を更に
理解する事ができる。そこにおいては明白にそうでない
と述べない限りすべての温度および温度範囲はセツ氏で
表わされており“室温”または“外温”という表現は２
０−２５℃を言う。“パーセント”又は“％”という表
現は重量パーセントで言い、“モル”又は“モル数”と
いう表現はグラムモルを言う。“当量”という表現は有
限のモル数又は重量又は容量で表わされた該実施例に列
挙される反応原料又は反応生成物のモル数に対し、同モ
ル数の反応物の量を言う。可能な場合はプロトン核磁気
共鳴スペクトル（p.m.r。又はn.m.r.）が９０mHzで測定
され、シグナルはシングレツト(S)、ブロードシングレ
ツト（bis）、ダブレツト（ｄ）、ダブルダブレツト（d
d）、トリプレツト(t)、ダブルトリプレツト（dt）、カ
ルテツト(q)およびマルテイプレツト(m)として帰属され
る；又cpsは１秒当りのサイクル数を表わす。又必要に
応じて次の実施例に必要な付加的出発物質を得るために
実施例が繰り返された。
理解する事ができる。そこにおいては明白にそうでない
と述べない限りすべての温度および温度範囲はセツ氏で
表わされており“室温”または“外温”という表現は２
０−２５℃を言う。“パーセント”又は“％”という表
現は重量パーセントで言い、“モル”又は“モル数”と
いう表現はグラムモルを言う。“当量”という表現は有
限のモル数又は重量又は容量で表わされた該実施例に列
挙される反応原料又は反応生成物のモル数に対し、同モ
ル数の反応物の量を言う。可能な場合はプロトン核磁気
共鳴スペクトル（p.m.r。又はn.m.r.）が９０mHzで測定
され、シグナルはシングレツト(S)、ブロードシングレ
ツト（bis）、ダブレツト（ｄ）、ダブルダブレツト（d
d）、トリプレツト(t)、ダブルトリプレツト（dt）、カ
ルテツト(q)およびマルテイプレツト(m)として帰属され
る；又cpsは１秒当りのサイクル数を表わす。又必要に
応じて次の実施例に必要な付加的出発物質を得るために
実施例が繰り返された。
製造例１ ３−エチルチオブチラルデヒド この例では１モルのエチルメルカプタンを、１モルのク
ロトンアルデヒドと0.005モルのトリエチルアミンとの
混合物中に室温で滴下した。約２時間後混合物を真空下
蒸留によりわづかに濃縮し過剰のメルカプタンを除去し
表題の化合物を液体として得た。
ロトンアルデヒドと0.005モルのトリエチルアミンとの
混合物中に室温で滴下した。約２時間後混合物を真空下
蒸留によりわづかに濃縮し過剰のメルカプタンを除去し
表題の化合物を液体として得た。
実施例１ ６−エチルチオ−４−ヒドロキシヘプタン−２−オン 117.6ｇの水と50.4ｇの水酸化ナトリウムを含む水酸化
ナトリウム水溶液を、139.32ｇのメチルアセトアセテー
トと168ｇの水を含む混合物に室温で滴下した。水酸化
ナトリウムの水溶液を加えた後、混合物を３５℃で６時
間加熱してアセト酢酸ナトリウムの溶液を得た。９wt.
％の塩酸水溶液を加えてアセト酢酸ナトリウム溶液のpH
を8.3に調整した。次に２００mlのメタノールを加え次
いで３ｇのトリエチルアミンを加えた。製造例１の３−
エチルチオブチラルデヒドの全反応生成物を滴下した
後、室温で１時間の間かきまぜた。反応混合物を５０〜
５５℃で一定時間加熱した。この間反応の進行度を液相
ガスクロマトグラフでモニターし面積パーセントを記録
した。この分析結果を下の表１に示す。記録を簡略化す
るために、化合物は表Ａに示したコードナンバーで帰属
された。
ナトリウム水溶液を、139.32ｇのメチルアセトアセテー
トと168ｇの水を含む混合物に室温で滴下した。水酸化
ナトリウムの水溶液を加えた後、混合物を３５℃で６時
間加熱してアセト酢酸ナトリウムの溶液を得た。９wt.
％の塩酸水溶液を加えてアセト酢酸ナトリウム溶液のpH
を8.3に調整した。次に２００mlのメタノールを加え次
いで３ｇのトリエチルアミンを加えた。製造例１の３−
エチルチオブチラルデヒドの全反応生成物を滴下した
後、室温で１時間の間かきまぜた。反応混合物を５０〜
５５℃で一定時間加熱した。この間反応の進行度を液相
ガスクロマトグラフでモニターし面積パーセントを記録
した。この分析結果を下の表１に示す。記録を簡略化す
るために、化合物は表Ａに示したコードナンバーで帰属
された。
実施例２ ６−エチルチオヘプト−３−エン−２−オン 本実施例では4.5ｇの修酸を実施例１に従い製造した15
2.2ｇ（0.8モル）の６−エチルチオ−４−ヒドロキシヘ
プタン−２−オンと１００mlのトルエンを含む溶液に加
え還流させた。反応混合物の進行度をガスクロマトグラ
フイーによりモニターした。
2.2ｇ（0.8モル）の６−エチルチオ−４−ヒドロキシヘ
プタン−２−オンと１００mlのトルエンを含む溶液に加
え還流させた。反応混合物の進行度をガスクロマトグラ
フイーによりモニターした。
反応が完結した後トルエンを加え更に2.5重量％の重炭
酸ナトリウム溶液２００mlで洗浄し分液した。トルエン
溶液を共沸脱水すると出発物質である６−エチルチオヘ
プタン−２−オン基底で９８％の収率に相当する0.784
モルのアルフア、ベータ−不飽和ケトンを含んでいる事
が分つた。溶媒がない状態で粗生成物を外部標準を用い
て液相ガスクロマトグラフイーにより分析した結果、8
7.3重量パーセントの６−エチルチオヘプト−３−エン
−２−オン（トランスおよびシス異性体）、4.28重量パ
ーセントの４，６−ジ（エチルチオ）−ヘプタン−２−
オン及び2.02重量パーセントの４−ヒドロキシ−６−エ
チルチオヘプタン−２−オンを含んでいた。
酸ナトリウム溶液２００mlで洗浄し分液した。トルエン
溶液を共沸脱水すると出発物質である６−エチルチオヘ
プタン−２−オン基底で９８％の収率に相当する0.784
モルのアルフア、ベータ−不飽和ケトンを含んでいる事
が分つた。溶媒がない状態で粗生成物を外部標準を用い
て液相ガスクロマトグラフイーにより分析した結果、8
7.3重量パーセントの６−エチルチオヘプト−３−エン
−２−オン（トランスおよびシス異性体）、4.28重量パ
ーセントの４，６−ジ（エチルチオ）−ヘプタン−２−
オン及び2.02重量パーセントの４−ヒドロキシ−６−エ
チルチオヘプタン−２−オンを含んでいた。
同様に実施例１の出発物質であるアルデヒドまたはケト
ンを用いて実施例１および２の操作を応用することによ
り以下の化合物が製造される： ２−ケト−６−エチルスルホニルヘプタ−３−エン； ２−ケト−６−エチルスルフイニルヘプタ−３−エン； ２−ケト−３−ヘキサン； ２−ケト−４−シクロヘキシルブタ−３−エン； ２−ケト−５−シクロペンチルペンタ−３−エン； ２−ケト−４−フエニルブタ−３−エン； ２−ケト−４−（２−メチルフエニル）ブタ−３−エ
ン； ２−ケト−４−（３，５−ジクロロフエニル）ブタ−３
−エン； ２−ケト−４−（３−トリフルオロメチルフエニル）ブ
タ−３−エン； ２−ケト−４−（４−ニトロフエニル）ブタ−３−エ
ン； ２−ケト−６−エトキシヘプタ−３−エン； ２−ケト−５−（２−メトキシフエニル）ペンタ−３−
エン； ２−ケト−５−（３−メチルチオフエニル）ペンタ−３
−エン； ２−ケト−５−（４−アリールフエニル）ペンタ−３−
エン； ２−ケト−６−（３−トリフルオロメチルフエニル）ヘ
キサ−３−エン； ２−ケト−５−（テトラヒドロピラン−４−イル）ペン
タ−３−エン； ２−ケト−５−（１，３−ジオキサン−２−イル）ペン
タ−３−エン； ２−ケト−５−（１，３−ジチオラン−２−イル）ペン
タ−３−エン； ２−ケト−５−（チエン−２−イル）ペンタ−３−エ
ン； ２−ケト−７−（１，３−ジオキサン−２−イル）ヘプ
タ−３−エン； ２−ケト−４−メチルペンタ−３−エン；および ２−ケト−３−シクロヘキシリデン−プロパン 実施例３ ５−（２−エチルチオプロピル）−１，３−シクロヘキ
サンジオン 標題の化合物は以下の操作により製造される。
ンを用いて実施例１および２の操作を応用することによ
り以下の化合物が製造される： ２−ケト−６−エチルスルホニルヘプタ−３−エン； ２−ケト−６−エチルスルフイニルヘプタ−３−エン； ２−ケト−３−ヘキサン； ２−ケト−４−シクロヘキシルブタ−３−エン； ２−ケト−５−シクロペンチルペンタ−３−エン； ２−ケト−４−フエニルブタ−３−エン； ２−ケト−４−（２−メチルフエニル）ブタ−３−エ
ン； ２−ケト−４−（３，５−ジクロロフエニル）ブタ−３
−エン； ２−ケト−４−（３−トリフルオロメチルフエニル）ブ
タ−３−エン； ２−ケト−４−（４−ニトロフエニル）ブタ−３−エ
ン； ２−ケト−６−エトキシヘプタ−３−エン； ２−ケト−５−（２−メトキシフエニル）ペンタ−３−
エン； ２−ケト−５−（３−メチルチオフエニル）ペンタ−３
−エン； ２−ケト−５−（４−アリールフエニル）ペンタ−３−
エン； ２−ケト−６−（３−トリフルオロメチルフエニル）ヘ
キサ−３−エン； ２−ケト−５−（テトラヒドロピラン−４−イル）ペン
タ−３−エン； ２−ケト−５−（１，３−ジオキサン−２−イル）ペン
タ−３−エン； ２−ケト−５−（１，３−ジチオラン−２−イル）ペン
タ−３−エン； ２−ケト−５−（チエン−２−イル）ペンタ−３−エ
ン； ２−ケト−７−（１，３−ジオキサン−２−イル）ヘプ
タ−３−エン； ２−ケト−４−メチルペンタ−３−エン；および ２−ケト−３−シクロヘキシリデン−プロパン 実施例３ ５−（２−エチルチオプロピル）−１，３−シクロヘキ
サンジオン 標題の化合物は以下の操作により製造される。
本実施例においては124.17ｇのジメチルマロネート（0.
94モル）を228.5ｇの２５重量パーセントのナトリウム
メトキシドのメタノール溶液（1.06モル）に加える。実
施例２の操作により製造された0.784モルの活性成分を
含有する粗製の６−エチルチオヘプタ−３−エン−２−
オンを分割して、1.5時間の間に２０から３０℃でナト
リウムメトキシド溶液に加える。混合物を室温で約７時
間の間かきまぜる。この間、４−メトキシカルボニル−
５−（２−エチルチオプロピル）−１，３−シクロヘキ
サンジオンへの転化率をNMRでモニターする。次いで２
２５mlの水を加えてから混合物を二つに分割する。
94モル）を228.5ｇの２５重量パーセントのナトリウム
メトキシドのメタノール溶液（1.06モル）に加える。実
施例２の操作により製造された0.784モルの活性成分を
含有する粗製の６−エチルチオヘプタ−３−エン−２−
オンを分割して、1.5時間の間に２０から３０℃でナト
リウムメトキシド溶液に加える。混合物を室温で約７時
間の間かきまぜる。この間、４−メトキシカルボニル−
５−（２−エチルチオプロピル）−１，３−シクロヘキ
サンジオンへの転化率をNMRでモニターする。次いで２
２５mlの水を加えてから混合物を二つに分割する。
(a)片方の半分を希塩酸水溶液でpH３にした後、メチレ
ンクロリドで抽出する。メチレンクロリド抽出物を合わ
せ、硫酸マグネシウムで乾燥し、留去すると４−メトキ
シカルボニル−５−（２−エチルチオプロピル）−１，
３−シクロヘキサンジオンを残渣として得る。
ンクロリドで抽出する。メチレンクロリド抽出物を合わ
せ、硫酸マグネシウムで乾燥し、留去すると４−メトキ
シカルボニル−５−（２−エチルチオプロピル）−１，
３−シクロヘキサンジオンを残渣として得る。
(b)水を入れた反応生成混合物の他の半分を室温下当量
の１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液で処理し、メトキシ基
を加水分解により除去する。加水分解が完結した後混合
物を５０から６０℃に加熱し、更に１８重量パーセント
の塩酸水溶液で酸性にすると４−位が脱炭酸され標題の
化合物を得る。
の１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液で処理し、メトキシ基
を加水分解により除去する。加水分解が完結した後混合
物を５０から６０℃に加熱し、更に１８重量パーセント
の塩酸水溶液で酸性にすると４−位が脱炭酸され標題の
化合物を得る。
同様にして実施例で列挙した化合物にこの操作を応用す
る事により、相当する５−置換−４−メトキシカルボニ
ル−１，３−シクロヘキサンジオン類が製造される。
る事により、相当する５−置換−４−メトキシカルボニ
ル−１，３−シクロヘキサンジオン類が製造される。
明らかな如く本発明の本質および範囲から逸脱する事な
く前述および後述する本発明の種々の応用および変形を
する事が出来る。
く前述および後述する本発明の種々の応用および変形を
する事が出来る。
Claims (4)
- 【請求項１】次の工程： (a)約２〜８時間約20〜60℃の範囲の温度の反応条件下
で３−エチルチオブチラルデヒドの１モル当り約１〜1.
5モルのアセト酢酸のアルカリ金属塩を用いて３−エチ
ルチオブチラルデヒドをアセト酢酸のアルカリ金属塩と
接触させることにより、４−ヒドロキシ−６−エチル−
チオヘプタン−２−オンを得る工程；および (b)60〜200℃の範囲の温度における反応条件下で工程
(a)の反応生成物を触媒量の修酸と接触させることによ
り粗製の６−エチルチオヘプト−３−エン−２−オンを
得る工程、 (c)約15〜70℃の範囲の温度における反応条件下で、工
程(b)の粗生成物を、ジ低級アルキルマロネートおよび
アルカリ金属低級アルコキシドと接触させることにより
式（Ｇ′）の化合物を得る工程、 から成る式： 〔式中、Ｘは−COORb（式中Rbは低級アルキルである）
である〕を有する化合物の製造方法。 - 【請求項２】工程(a)を水および液体アルカノール中で
行う請求の範囲第１項の方法。 - 【請求項３】該アセト酢酸のアルカリ金属塩がアセト酢
酸ナトリウムである請求の範囲第２項の方法。 - 【請求項４】４−ヒドロキシ−６−エチルチオヘプタン
−２−オンの１モル当り約0.04〜0.08モルの範囲の触媒
量の修酸を用いて工程(b)を行う請求の範囲第３項の方
法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US65577684A | 1984-09-27 | 1984-09-27 | |
| US655776 | 1984-09-27 | ||
| PCT/US1985/001853 WO1986002065A1 (en) | 1984-09-27 | 1985-09-26 | Process for preparing 1,3-cyclohexanedione derivatives and intermediates therefor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62500302A JPS62500302A (ja) | 1987-02-05 |
| JPH0655713B2 true JPH0655713B2 (ja) | 1994-07-27 |
Family
ID=24630306
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60504223A Expired - Lifetime JPH0655713B2 (ja) | 1984-09-27 | 1985-09-26 | １，３−シクロヘキサジオン誘導体およびそれらの中間体の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0195053B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0655713B2 (ja) |
| DE (1) | DE3585388D1 (ja) |
| WO (1) | WO1986002065A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3821197A1 (de) * | 1988-06-23 | 1989-12-28 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von (alpha),(beta)-ungesaettigten ketonen |
| JPH03161454A (ja) * | 1989-11-17 | 1991-07-11 | Nippon Soda Co Ltd | β―ヒドロキシケトン類の製造方法 |
| JP2830210B2 (ja) * | 1989-11-17 | 1998-12-02 | 日本曹達株式会社 | α，β―不飽和ケトン類の合成法 |
| CN107200701A (zh) * | 2017-07-03 | 2017-09-26 | 江苏威格瑞斯化工有限公司 | 一种合成环己烯酮类除草剂关键中间体的方法 |
| CN111808004A (zh) * | 2020-07-29 | 2020-10-23 | 辽宁先达农业科学有限公司 | 微通道反应器连续式合成5(2乙硫基丙基)-2丙酰基-3羟基-2环己烯-1酮的方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55141429A (en) * | 1979-04-24 | 1980-11-05 | Nippon Soda Co Ltd | Production of beta-hydroxyketone |
| JPS574930A (en) * | 1980-05-02 | 1982-01-11 | Nippon Soda Co Ltd | Synthesis of alpha,beta-unsaturated ketone |
| JPS5984860A (ja) * | 1982-08-09 | 1984-05-16 | シエブロン・リサ−チ・コンパニ− | シクロヘキサン―ジオン化合物および除草用組成物 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE840090C (de) * | 1950-11-29 | 1952-05-26 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung ª‡, ª‰-ungesaettigter aliphatischer Ketone |
| GB783458A (en) * | 1954-04-20 | 1957-09-25 | Celanese Corp | Aldehyde condensation reactions |
-
1985
- 1985-09-26 EP EP85904773A patent/EP0195053B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-09-26 WO PCT/US1985/001853 patent/WO1986002065A1/en active IP Right Grant
- 1985-09-26 JP JP60504223A patent/JPH0655713B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1985-09-26 DE DE8585904773T patent/DE3585388D1/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55141429A (en) * | 1979-04-24 | 1980-11-05 | Nippon Soda Co Ltd | Production of beta-hydroxyketone |
| JPS574930A (en) * | 1980-05-02 | 1982-01-11 | Nippon Soda Co Ltd | Synthesis of alpha,beta-unsaturated ketone |
| JPS5984860A (ja) * | 1982-08-09 | 1984-05-16 | シエブロン・リサ−チ・コンパニ− | シクロヘキサン―ジオン化合物および除草用組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3585388D1 (de) | 1992-03-26 |
| EP0195053A1 (en) | 1986-09-24 |
| WO1986002065A1 (en) | 1986-04-10 |
| EP0195053B1 (en) | 1992-02-12 |
| JPS62500302A (ja) | 1987-02-05 |
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