JPH0653309A - 基板用保持固定具 - Google Patents

基板用保持固定具

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JPH0653309A
JPH0653309A JP11868193A JP11868193A JPH0653309A JP H0653309 A JPH0653309 A JP H0653309A JP 11868193 A JP11868193 A JP 11868193A JP 11868193 A JP11868193 A JP 11868193A JP H0653309 A JPH0653309 A JP H0653309A
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    • B25B11/00Work holders not covered by any preceding group in the subclass, e.g. magnetic work holders, vacuum work holders
    • B25B11/005Vacuum work holders
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    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
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    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49998Work holding

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明の目的は、柔軟な基板の表面をサブミ
クロンの許容差に平面化できるようにするために基板を
確実に支持することができる、保持固定具を提供するこ
とである。 【構成】 本発明によれば、基板上の4つの外周点と基
板の中心で支持を行う、5つの別個の真空要素を有する
保持固定具が提供される。2つの外周真空要素は、剛体
フレーム上の定位置に固定される。残りの外周要素と中
央要素は、ジンバル円板に固定される。このジンバル円
板は、フレームに対する回転運動の自由度を3つ有する
形でフレームに取り付けられる。2つの固定要素上にあ
る基板の下向き圧力が、基板のたわみを許容または発生
させずに、ジンバル円板に取り付けられた3つの支持部
材をすべて基板と接触させる。この取付けをロックし、
すべての要素に真空をかけて、平面化操作に適した位置
に基板を固定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、特に基板表面の精密平
面化の際に、基板を保持するための改良された固定具に
関し、具体的には、柔軟な基板を保持するための改良さ
れた保持固定具に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体産業で一般的に使用されるガラス
・セラミック基板や半導体ウェハなど、薄く柔軟な基板
の精密平面化は非常に困難である。このような基板は、
保持固定具に取り付けた時に簡単にたわみ、平面化の
後、取り外した時に弛緩して、平面化された表面に平坦
でない状態を引き起こす。基板の表面が平行または平坦
でない可能性があり、また一方または両方の表面に欠陥
が存在する可能性があるために、問題はさらに複雑にな
る。精密に制御された深さまでの詳細機械加工、フォト
リソグラフィ露光、および類似の応用例で、同様の問題
が発生する。
【0003】真空チャックの様々な設計に関して、従来
技術で多数の提案が行われてきた。しかし、これらの提
案のどれも、柔軟な基板の表面の1つを精密平面化する
際に基板を精密に保持するのに完全に満足なものではな
い。下記に、これらの提案のいくつかを示す。
【0004】米国特許第4088312号明細書には、
可変輪郭締付システムが開示されている。この保持機構
は、ハウジングに取り付けた調節式スピンドルの隔置ア
レイを含む。各スピンドルは、その一端に基礎部材支持
カップを有する。カップに真空をかけて、部材をカップ
に隣接して着座させる。
【0005】米国特許第4684113号明細書には、
輪郭付き保持面を有する加工物を保持するための万能保
持固定具が開示されている。この固定具は、個別に高さ
を調節でき、これによって輪郭付き保持面の輪郭を再現
する、複数の加工物係合ロッドを含む。
【0006】米国特許第4656791号明細書には、
高速流体ジェット切断操作中に加工物を支持するための
支持装置が開示されている。この支持装置は、切断中の
シート全体を均一に支持するように共同して働く、1対
の独立した支持部材を備える。
【0007】ロシア特許SU−761−411号明細書
には、分割円錐ブッシュを有する円筒ロケータと、ナッ
トを有するねじ部と、剛体ロッドに接続された真空コレ
クタ・チャンバとを有する、真空作動式つり上げグラブ
装置が開示されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の1つの目的
は、柔軟な基板の表面をサブミクロンの許容差に平面化
できるようにするために基板を確実に支持することので
きる、保持固定具を提供することである。本発明のもう
1つの目的は、基板をたわませずに支持し保持する保持
固定具を提供することである。本発明のもう1つの目的
は、基板表面の平坦度、平行度または表面の完全さと無
関係に、表面平坦度のサブミクロン制御を可能にする、
保持固定具を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】要約すると、本発明で、
基板上の4つの外周点と基板中心とで支持を行う5つの
別個の真空要素を有する、保持固定具を提供することを
企図している。2つの外周真空要素は、剛体フレーム上
の定位置に固定される。残りの外周要素と中央要素は、
ジンバル円板に固定される。このジンバル円板は、フレ
ームに対する回転運動の自由度を3つ有する形でフレー
ムに取り付けられる。2つの固定要素上にある基板の下
向き圧力が、基板のたわみを許容または発生させずに、
ジンバル円板に取り付けた3つの支持部材すべてを基板
と接触した状態にする。この取付けをロックし、すべて
の要素に真空を印加して、平面化操作に適した位置に基
板を固定する。
【0010】支持部材の調節は不要である。支持部材
は、完全に自動位置合せ式であり、したがって、基板の
取付けと取外しは、迅速である。このため、この固定具
は、製造プロセスに非常に適しており、スループットが
高い。
【0011】本発明の教示による保持固定具の主要動作
は、3点で平面が確立されるという原理を拡張したもの
である。3点システムを使用して、加工物の輪郭に影響
を与えずに、比較的平坦な加工物を支持することは当技
術分野で知られている。これによって、安定した、揺れ
のない支持がもたらされる。しかしながら、支持されな
い区域が、その加工物の変形を引き起こす可能性のあ
る、どんな外力が印加されてもそれに抵抗できるだけの
強さを持たなければならないので、かなりの剛性を有す
る加工物でなければ、このようにして保持することはで
きない。本発明は、3点支持の原理を守りながら、追加
のより均一な支持を提供する。
【0012】
【実施例】ここで図1を参照すると、5つの別個の真空
要素10、12、14、16、18が、剛体フレーム2
0の形の台板上に取り付けられる。これら別個の真空要
素は、たとえばガラス・セラミック基板や半導体基板な
どの基板22(破線で示す)の4つの角の領域と中央の
領域の支持を行うように配置される。フレーム20に固
定されたピン24が、基板22を真空要素に対して位置
決めする。
【0013】真空要素のうちの2つ、真空要素10およ
び12は、フレーム20に堅固に固定され、残りの3つ
の真空要素14、16、18は、ジンバル円板26に固
定される。ジンバル円板26は、図4に関して詳細に説
明するように、フレーム20に対する真空要素14、1
6、18の回転運動の自由度を3つ許容する。ジンバル
円板内にある通路30が、外部真空源ホース取付け具3
1を、たわみホース32を介して真空要素14、16、
18に結合する。フレーム20内の通路34が、外部真
空源ホース35を真空要素10および12に結合する。
通路36が、ジンバル円板26を外部ホース取付け具3
8を介して適当な圧縮空気供給源に結合する。
【0014】ここで図2と図3を参照すると、各真空要
素は、実質的に同一の構造であることが好ましい。各真
空要素は、保持固定具上に取り付けた基板の下側表面と
の点接触をもたらす、支え面42を有する剛体の支持部
材40を備える。このような支え面は、たとえば球面や
放物面など、曲率半径を有する面である。支持部材40
は、真空要素10および12の場合にはフレーム20に
固定され、真空要素14、16、18の場合にはジンバ
ル円板26に固定される。密封ワッシャ、Oリング、密
封ベローズなどのシール44が、支え面または支持部材
40に取り付けられる。支持部材40内の通路46を介
して真空をかけると、基板22が支え面または支持部材
40に固定される。
【0015】ここで図4を参照すると、真空要素10お
よび12の場合、通路34を貫通するねじ48で支持部
材40をフレーム20に固定する。真空要素14、16
および18の場合は、ねじ50で支持部材40をジンバ
ル円板26に固定する。
【0016】ジンバル円板26は、球面52を有する。
この球面52は、フレーム20内の対合する球面54に
ぴたりとはまり、フレーム20に対する真空要素14、
16、18の回転運動の自由度を3つ許容するが、固定
された真空要素10および12に対する並進運動は事実
上許容しないことが好ましい。ただし、所望の調整能力
を得るのに必要な回転運動の自由度は、2つだけであ
る。必要な2本の回転軸は、互いに直交し、ジンバル円
板26の平面内にある。この好ましい実施例で設けられ
る第3の軸は、ジンバル円板26に垂直である。外部ホ
ース取付け具38からの圧縮空気は、通路を介してチャ
ンバ56に導かれる。チャンバ56が加圧される時、ジ
ンバル円板26は、対合する球面52と球面54の間を
通る空気の薄い層の上に浮上する。これによって、ジン
バル円板が、真空要素14、16または18上に基板が
加える力のわずかな不釣合に応答して、自由に移動でき
るよになる。5つの点接触真空要素がすべて基板表面と
接触している時に、チャンバ56内を部分的に真空吸引
して、ジンバル円板26をフレームにロックすることが
できる。
【0017】チャンバ56のたわみホース32は、外部
真空源ホース取付け具31をジンバル円板26内の通路
30に結合し、通路30は、支持部材内の通路46に通
じている。これによって、基板22を支持部材40に固
定するための低圧が、シール44内にもたらされる。
【0018】合計5つの支持点が、加工物または基板に
接触する。これらの支持部材のうちの3つは、ジンバル
円板の頂面に堅固に取り付けられ、三角形の各頂点とし
て等間隔に置かれている。この円板の外周は球面形であ
り、ジンバル・セットの半分を形成する。残りの2つの
支持部材は、固定されており、三角形の2頂点を形成す
るように、より大きなフレームの頂面の1辺に面して堅
固に取り付けられる。このフレームまたは台板はまた、
その頂面内に球面座が形成されており、この球面座が、
上述の円板と対合するジンバル・セットの残り半分にな
る。この座は、固定された支持部材の中央に、それらに
対向する辺に面して置かれる。ジンバル円板上の支持部
材は、台板またはフレームに対して、これらの支持部材
のうちの2つが、フレーム内の固定された2つの支持部
材に対向するフレーム頂面の辺に面するような向きにあ
る。これら4つの支持部材は、正方形の頂点を形成する
ことになる。ジンバル円板上の第3の支持部材は、他の
4つの支持部材の中央にある。
【0019】ジンバル円板は、その球面上で、台板また
はフレームの球面座内を自由に浮動できる。これによっ
て、ジンバル円板26上の3つの支持部材が、それらに
提示された任意の平面の向きに従えるようになる。ジン
バル円板上の3つの支持部材が、ジンバル幾何形状によ
る制限の範囲内で自由に浮動できる第1平面の3点を確
立する。ジンバルの中央点は、フレームに取り付けられ
た2つの支持部材と共に、第2平面の3点を確立するの
に利用される。その後、ジンバル円板を、真空を用いて
その座にロックする。この時、加工物または基板は、5
つの点によって従順な形で支持される。
【0020】動作に際しては、平坦な下側表面を有する
柔軟な基板を、上記の形で配置された5つの支持部材に
近接して置く。5つの支持部材がすべて基板表面と接触
するまで、ジンバル円板に接続された3つの支持部材
(すなわち、剛体の三角形を形成する3つの支持部材)
からなる三角形の平面を調節する。その後、この平面が
フレームに対してそれ以上移動しないように、三角形を
形成する支持部材をロックする。
【0021】ここで図5を参照すると、図1と図4に示
した実施例に類似の保持固定具が、フレーム20を用い
てステージ60に取り付けられている。ステージ60
は、三角形の形状を有し、3点で支持されて台板62上
に立つ。2点にある水準ねじ64および66を用いて、
基板(図示せず)の頂面の平面を平面化工具に対して位
置合せすることができる。
【0022】単一の好ましい実施例に関して本発明を説
明してきたが、請求項の趣旨および範囲を逸脱せずに変
更を加えて本発明を実施できることが、当業者には理解
されよう。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の教示による保持固定具の1実施例の平
面図である。
【図2】真空要素の詳細な平面図である。
【図3】真空要素の、図2の線2B−2Bに沿った断面
図である。
【図4】図1に示した保持固定具の、諸部分の(図1の
線3−3に沿った)横断面を示す側面図である。
【図5】水準ねじを用いて、フレームをステージとして
取り付けた所を示す、本発明の教示による保持固定具の
平面図である。
【符号の説明】
10 真空要素 12 真空要素 14 真空要素 16 真空要素 18 真空要素 20 フレーム 22 基板 26 ジンバル円板 40 支持部材 42 支え面 44 シール 52 球面 54 球面 56 チャンバ 60 ステージ 64 水準ねじ 66 水準ねじ
フロントページの続き (72)発明者 ケニス・ファーマン アメリカ合衆国12538、ニューヨーク州ハ イド・パーク、フォールキル・ロード315 エイ (72)発明者 ロバート・ダブリュー・パスコ アメリカ合衆国12590、ニューヨーク州ワ ッピンガーズ・フォールズ、アルパート・ ドライブ1

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】剛体フレームと、 前記フレームに固定された第1の対の隔置された基板支
    持部材と、 ジンバル円板と、 前記ジンバル円板が前記フレームに対する回転運動の自
    由度を少なくとも2つ有するように前記ジンバル円板を
    前記剛体フレームに取り付ける手段と、 前記ジンバル円板に固定された第2の対の隔置された基
    板支持部材と、 前記ジンバル円板に固定された第5の基板支持部材とを
    併せて備え、 前記第1の対および前記第2の対の隔置された基板支持
    部材が、前記基板の4つの隔置された領域で前記基板に
    接触するように配置され、 前記第5の基板支持部材が、前記基板の中央領域に接触
    するように配置される、柔軟な基板用の保持固定具。
  2. 【請求項2】前記取付け手段が空気軸受であり、さら
    に、前記ジンバル円板の前記フレームに対する位置をロ
    ックする手段を含むことを特徴とする、請求項1の柔軟
    な基板用の保持固定具。
  3. 【請求項3】前記支持部材がそれぞれ、前記基板と点接
    触する表面を有することを特徴とする、請求項1の柔軟
    な基板用の保持固定具。
  4. 【請求項4】前記基板の前記4つの隔置された外周領域
    が、正方形の各頂点にあることを特徴とする、請求項1
    の柔軟な基板用の保持固定具。
  5. 【請求項5】さらに、前記フレームに固定された、前記
    基板を前記基板支持部材に対して位置決めするための手
    段を含む、請求項1の柔軟な基板用の保持固定具。
  6. 【請求項6】前記支持部材がそれぞれ、真空チャックで
    あることを特徴とする、請求項1の柔軟な基板用の保持
    固定具。
  7. 【請求項7】5つの支持部材のうちの2つが、フレーム
    に取り付けられ、前記5つの支持部材のうちの他の3つ
    が、剛体の三角形を形成し、前記三角形の平面が、前記
    フレームに関して可動であるように、基板を前記5つの
    支持部材の配列に近接して置くステップと、 前記5つの支持部材がすべて基板の下側表面に接触する
    まで、前記三角形の前記平面を調節するステップとを含
    む、下側表面を有する柔軟な基板を保持し支持する方
    法。
  8. 【請求項8】さらに、前記三角形の前記平面が前記フレ
    ームに対してそれ以上移動しないように、三角形を形成
    する前記支持部材をロックするステップを含む、請求項
    7の方法。
JP11868193A 1992-06-10 1993-05-20 基板用保持固定具および保持方法 Expired - Lifetime JPH07118503B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US897182 1986-08-15
US07/897,182 US5226636A (en) 1992-06-10 1992-06-10 Holding fixture for substrates

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0653309A true JPH0653309A (ja) 1994-02-25
JPH07118503B2 JPH07118503B2 (ja) 1995-12-18

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ID=25407479

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11868193A Expired - Lifetime JPH07118503B2 (ja) 1992-06-10 1993-05-20 基板用保持固定具および保持方法

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US (2) US5226636A (ja)
JP (1) JPH07118503B2 (ja)

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