JPH0651462A - ウオッシュ・アウト色素を生成できる写真カプラーの製造方法 - Google Patents
ウオッシュ・アウト色素を生成できる写真カプラーの製造方法Info
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- JPH0651462A JPH0651462A JP5116173A JP11617393A JPH0651462A JP H0651462 A JPH0651462 A JP H0651462A JP 5116173 A JP5116173 A JP 5116173A JP 11617393 A JP11617393 A JP 11617393A JP H0651462 A JPH0651462 A JP H0651462A
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- C07D271/10—1,3,4-Oxadiazoles; Hydrogenated 1,3,4-oxadiazoles
- C07D271/113—1,3,4-Oxadiazoles; Hydrogenated 1,3,4-oxadiazoles with oxygen, sulfur or nitrogen atoms, directly attached to ring carbon atoms, the nitrogen atoms not forming part of a nitro radical
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- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/305—Substances liberating photographically active agents, e.g. development-inhibiting releasing couplers
- G03C7/30511—Substances liberating photographically active agents, e.g. development-inhibiting releasing couplers characterised by the releasing group
- G03C7/30517—2-equivalent couplers, i.e. with a substitution on the coupling site being compulsory with the exception of halogen-substitution
- G03C7/30523—Phenols or naphtols couplers
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、改良されたアキュータンス、安定
性及びインターイメージ効果を有する画像を形成するた
めに、写真処理の際に写真感光材料中にウオッシュ・ア
ウト色素を生成できる新規写真カプラー及び写真感光材
料並びにこのようなカプラーを用いるプロセスに関す
る。 【構成】 写真的に有用な基（ＰＵＧ）を含有するフェ
ノキシタイミング基を付着せしめたアリールオキシ、チ
オアリールオキシ、ヘテロサイクリックオキシ及びチオ
ヘテロサイクリックオキシ放出性基より選ばれる置換も
しくは無置換のバラスト化放出性基（Ａ）を含有するカ
プラー部分（ＣＯＵＰ）を含んで成るウオッシュ・アウ
ト写真カプラーの製造方法を提供する。
性及びインターイメージ効果を有する画像を形成するた
めに、写真処理の際に写真感光材料中にウオッシュ・ア
ウト色素を生成できる新規写真カプラー及び写真感光材
料並びにこのようなカプラーを用いるプロセスに関す
る。 【構成】 写真的に有用な基（ＰＵＧ）を含有するフェ
ノキシタイミング基を付着せしめたアリールオキシ、チ
オアリールオキシ、ヘテロサイクリックオキシ及びチオ
ヘテロサイクリックオキシ放出性基より選ばれる置換も
しくは無置換のバラスト化放出性基（Ａ）を含有するカ
プラー部分（ＣＯＵＰ）を含んで成るウオッシュ・アウ
ト写真カプラーの製造方法を提供する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、改良されたアキュータ
ンス、安定性及びインターイメージ効果を有する画像を
形成するために、写真処理の際に写真感光材料中にウオ
ッシュ・アウト色素を生成できる新規写真カプラー及び
写真感光材料並びにこのようなカプラーを用いるプロセ
スに関する。
ンス、安定性及びインターイメージ効果を有する画像を
形成するために、写真処理の際に写真感光材料中にウオ
ッシュ・アウト色素を生成できる新規写真カプラー及び
写真感光材料並びにこのようなカプラーを用いるプロセ
スに関する。
【０００２】
【従来の技術】写真感光材料及びプロセス中で化合物、
例えば、カプラーからの写真的に有用な基（ＰＵＧ）、
例えば、発色現像抑制剤の放出について多様な方法が写
真技術分野で認められている。例えば、米国特許第 4,2
48,962号及び同第 4,861,701号明細書は、写真感光材料
中での分子内求核置換反応によって写真的に有用な基を
放出する化合物を記載する。写真的に有用な基を放出す
るための手段の別の具体例は、例えば、米国特許第 4,4
09,323号及び同第 4,861,701号明細書に記載されてい
る。写真的に有用な基を放出できるこれらの化合物類、
特にカプラー類は、写真的に有用な基の拡散速度及び拡
散距離と同様に放出のタイミング及び速度を制御する程
度を提供する。
例えば、カプラーからの写真的に有用な基（ＰＵＧ）、
例えば、発色現像抑制剤の放出について多様な方法が写
真技術分野で認められている。例えば、米国特許第 4,2
48,962号及び同第 4,861,701号明細書は、写真感光材料
中での分子内求核置換反応によって写真的に有用な基を
放出する化合物を記載する。写真的に有用な基を放出す
るための手段の別の具体例は、例えば、米国特許第 4,4
09,323号及び同第 4,861,701号明細書に記載されてい
る。写真的に有用な基を放出できるこれらの化合物類、
特にカプラー類は、写真的に有用な基の拡散速度及び拡
散距離と同様に放出のタイミング及び速度を制御する程
度を提供する。
【０００３】写真的に有用な基の放出後に写真感光材料
中に残存する化合物の一部及び酸化された発色現像主薬
との反応により感光材料中に生成された色素は、写真処
理中又はその後に写真感光材料中に望ましくない性質を
提供することが多い。例えば、写真的に有用な基の放出
の際にカプラーより生成される色素は、所望の画像に悪
影響を与えることが多い。これに対する１つの解答は、
カプラーより生成された色素を、写真処理の際に写真要
素からウオッシュ・アウトできるような、親カプラー上
に水可溶化基を担持するカプラーを提供することであっ
た。このようなカプラー類は、例えば、米国特許第 4,4
82,629号明細書に記載されている。
中に残存する化合物の一部及び酸化された発色現像主薬
との反応により感光材料中に生成された色素は、写真処
理中又はその後に写真感光材料中に望ましくない性質を
提供することが多い。例えば、写真的に有用な基の放出
の際にカプラーより生成される色素は、所望の画像に悪
影響を与えることが多い。これに対する１つの解答は、
カプラーより生成された色素を、写真処理の際に写真要
素からウオッシュ・アウトできるような、親カプラー上
に水可溶化基を担持するカプラーを提供することであっ
た。このようなカプラー類は、例えば、米国特許第 4,4
82,629号明細書に記載されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】写真感光材料及びプロ
セスに、写真処理中にカプラーより生成された色素をウ
オッシュ・アウトによって除去できると同時に、アキュ
ータンスを改良された画像を形成できるカプラーを提供
する必要性が存在する。更に、このようなニーズは、基
の最終的な用途に悪影響を及ぼさないように、このよう
な化合物が現像抑制剤基を著しく変性することを必要と
すべきではないという更なるパラメーターを伴って存在
する。
セスに、写真処理中にカプラーより生成された色素をウ
オッシュ・アウトによって除去できると同時に、アキュ
ータンスを改良された画像を形成できるカプラーを提供
する必要性が存在する。更に、このようなニーズは、基
の最終的な用途に悪影響を及ぼさないように、このよう
な化合物が現像抑制剤基を著しく変性することを必要と
すべきではないという更なるパラメーターを伴って存在
する。
【０００５】更に、反応が、カプラーの放出性基にタイ
ミング基部分を付着することのできる特定な条件の塩基
及び溶剤を必要とするので、このようなカプラーは合成
するのが難しい。
ミング基部分を付着することのできる特定な条件の塩基
及び溶剤を必要とするので、このようなカプラーは合成
するのが難しい。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、写真的に有用
な基（ＰＵＧ）を含有するフェノキシタイミング基を付
着せしめたアリールオキシ、チオアリールオキシ、ヘテ
ロサイクリックオキシ及びチオヘテロサイクリックオキ
シ放出性基より選ばれる置換もしくは無置換のバラスト
化放出性基（Ａ）を含有するカプラー部分（ＣＯＵＰ）
を含んで成るウオッシュ・アウト写真カプラーの製造方
法であって、放出性基が脱離的電子移動により上記タイ
ミング基を放出でき、上記方法が、（ａ）カプリング脱
離部位に放出性基（Ａ）を担持するカプラー部分（ＣＯ
ＵＰ）を提供する工程であって、放出性基（Ａ）が２−
もしくは４−位の少なくとも１つに置換もしくは無置換
のハロメチルを有する工程、（ｂ）アルキルピリジン及
び二極性非プロトン性溶剤の存在下で置換もしくは無置
換のヒドロキシアリールアルデヒドもしくはヒドロキシ
アリールケトンを、工程（ａ）のハロメチル基と反応せ
しめて第１生成物を生成する工程、並びに（ｃ）第１生
成物を還元せしめそして上記還元第１生成物をハロゲン
化せしめ、その後に写真的に有用な基と反応せしめて上
記ウオッシュ・アウト写真カプラーを生成せしめる工
程、を含んで成る方法を提供することにより、これらの
課題を解決する。
な基（ＰＵＧ）を含有するフェノキシタイミング基を付
着せしめたアリールオキシ、チオアリールオキシ、ヘテ
ロサイクリックオキシ及びチオヘテロサイクリックオキ
シ放出性基より選ばれる置換もしくは無置換のバラスト
化放出性基（Ａ）を含有するカプラー部分（ＣＯＵＰ）
を含んで成るウオッシュ・アウト写真カプラーの製造方
法であって、放出性基が脱離的電子移動により上記タイ
ミング基を放出でき、上記方法が、（ａ）カプリング脱
離部位に放出性基（Ａ）を担持するカプラー部分（ＣＯ
ＵＰ）を提供する工程であって、放出性基（Ａ）が２−
もしくは４−位の少なくとも１つに置換もしくは無置換
のハロメチルを有する工程、（ｂ）アルキルピリジン及
び二極性非プロトン性溶剤の存在下で置換もしくは無置
換のヒドロキシアリールアルデヒドもしくはヒドロキシ
アリールケトンを、工程（ａ）のハロメチル基と反応せ
しめて第１生成物を生成する工程、並びに（ｃ）第１生
成物を還元せしめそして上記還元第１生成物をハロゲン
化せしめ、その後に写真的に有用な基と反応せしめて上
記ウオッシュ・アウト写真カプラーを生成せしめる工
程、を含んで成る方法を提供することにより、これらの
課題を解決する。
【０００７】ハロメチルは、少なくとも１つの水素、置
換もしくは無置換のアルキル及び置換もしくは無置換の
アリールで置換できる。アルキルピリジンは、モノ−、
ジ−及びトリアルキルピリジン、例えば、2-ピコリン、
3-ピコリン、4-ピコリン、もしくは2,4,6,−トリメチル
ピリジン並びに好ましくはジアルキルピリジン、例え
ば、2,4-ルチジンより選択できる。
換もしくは無置換のアルキル及び置換もしくは無置換の
アリールで置換できる。アルキルピリジンは、モノ−、
ジ−及びトリアルキルピリジン、例えば、2-ピコリン、
3-ピコリン、4-ピコリン、もしくは2,4,6,−トリメチル
ピリジン並びに好ましくはジアルキルピリジン、例え
ば、2,4-ルチジンより選択できる。
【０００８】二極性非プロトン性溶剤は、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド及びアセトニトリルよ
り選択できる。好ましい態様では、ヨウ化メチル化合物
を生成するためにヨウ化カリウムを工程（ｂ）で反応に
添加し、それによって反応速度を増強できる。
ムアミド、ジメチルアセトアミド及びアセトニトリルよ
り選択できる。好ましい態様では、ヨウ化メチル化合物
を生成するためにヨウ化カリウムを工程（ｂ）で反応に
添加し、それによって反応速度を増強できる。
【０００９】ヒドロキシアリールアルデヒドもしくはヒ
ドロキシアリールケトンは、アルデヒドもしくはケトン
基に対して2-もしくは4-位にヒドロキシ基を担持する。
ハロメチルは、ブロモメチルもしくはクロロメチルであ
る。本発明を写真カプラー類について具体的に説明して
きたが、合成は別の化合物を製造するのに使用できる。
ドロキシアリールケトンは、アルデヒドもしくはケトン
基に対して2-もしくは4-位にヒドロキシ基を担持する。
ハロメチルは、ブロモメチルもしくはクロロメチルであ
る。本発明を写真カプラー類について具体的に説明して
きたが、合成は別の化合物を製造するのに使用できる。
【００１０】
【具体的な態様】本発明の好ましい方法は、次式の化合
物の製造方法を提供する。
物の製造方法を提供する。
【００１１】
【化１】
【００１２】（上式中、ＰＭＴは、フェニルメルカプト
テトラゾールである。） その方法は、次式の化合物
テトラゾールである。） その方法は、次式の化合物
【００１３】
【化２】
【００１４】を、ジメチルアセトアミド中2,6-ルチジン
の存在下で反応せしめ、次いでアルデヒド生成物をホウ
水素化ナトリウムと反応せしめて対応する-CH2OH化合物
を生成し、次いで得られた-CH2OH化合物をPBr3とエーテ
ル中で反応せしめて得られた-CH2Br化合物を生成し、そ
して次いで得られた-CH2Br化合物をフェニルメルカプト
テトラゾールナトリウムと反応せしめる工程を含んで成
る。
の存在下で反応せしめ、次いでアルデヒド生成物をホウ
水素化ナトリウムと反応せしめて対応する-CH2OH化合物
を生成し、次いで得られた-CH2OH化合物をPBr3とエーテ
ル中で反応せしめて得られた-CH2Br化合物を生成し、そ
して次いで得られた-CH2Br化合物をフェニルメルカプト
テトラゾールナトリウムと反応せしめる工程を含んで成
る。
【００１５】典型的な合成工程は、I-13〜I-16について
与えられた反応工程により具体的に説明される。更に、
写真要素が、少なくとも１つの写真ハロゲン化銀乳剤層
及び水可溶化基を有する少なくとも１つのカプラー
（Ａ）を担持する支持体含んで成ることを記載する（こ
こでカプラー（Ａ）は、写真処理中に写真要素よりウオ
ッシュ・アウトされる化合物を生成でき、そしてそれは
下記一般式により表されるカプリング脱離基を有す
る）。
与えられた反応工程により具体的に説明される。更に、
写真要素が、少なくとも１つの写真ハロゲン化銀乳剤層
及び水可溶化基を有する少なくとも１つのカプラー
（Ａ）を担持する支持体含んで成ることを記載する（こ
こでカプラー（Ａ）は、写真処理中に写真要素よりウオ
ッシュ・アウトされる化合物を生成でき、そしてそれは
下記一般式により表されるカプリング脱離基を有す
る）。
【００１６】
【化３】
【００１７】上式中、Ｘは、酸素、窒素もしくは硫黄よ
り選ばれ、Ｘ−ＲＥＬは、放出を実質的に遅らせること
なく、写真処理中に分子内置換反応もしくは電子移動反
応のどちらかによりＸ−ＲＥＬからＴ−ＩＮＨを放出す
るための放出性基であり、Ｔは、写真処理中にタイミン
グの遅延を伴って、脱離的電子移動反応もしくは分子内
置換反応のどちらかによりＩＮＨを放出するタイミング
基であり、そしてＩＮＨは、現像抑制剤基である。
り選ばれ、Ｘ−ＲＥＬは、放出を実質的に遅らせること
なく、写真処理中に分子内置換反応もしくは電子移動反
応のどちらかによりＸ−ＲＥＬからＴ−ＩＮＨを放出す
るための放出性基であり、Ｔは、写真処理中にタイミン
グの遅延を伴って、脱離的電子移動反応もしくは分子内
置換反応のどちらかによりＩＮＨを放出するタイミング
基であり、そしてＩＮＨは、現像抑制剤基である。
【００１８】Ｘ−ＲＥＬ−Ｔ−ＩＮＨは、カプラーの酸
化的カプリングの際にカプラー部分より放出される。写
真処理中、カプラー（Ａ）と酸化された発色現像主薬と
の反応は、カプリング脱離基及びカプラー部分間の結合
を開裂する。次いでＸ−ＲＥＬ（放出性基）及びＴ（タ
イミング基）間の結合は、放出を実質的に遅らせること
なく開裂される。次いでＴ及びＩＮＨ間の結合は、タイ
ミングの遅延を伴って開裂される。ＩＮＨ及びＴ間の結
合の開裂は、例えば、米国特許第 4,409,323号及び同第
4,959,299 号明細書に記載されるもののような脱離によ
って、又は例えば、米国特許第 4,248,962号明細書に記
載されるもののような分子内置換反応によって可能であ
る。所定のＩＮＨの要件に対してＸ−ＲＥＬ及びＴの置
換部分を選択することは、ＩＮＨの放出のタイミング及
び速度を制御を許容する。本発明を、以下のより詳細な
クラスに記載する。
化的カプリングの際にカプラー部分より放出される。写
真処理中、カプラー（Ａ）と酸化された発色現像主薬と
の反応は、カプリング脱離基及びカプラー部分間の結合
を開裂する。次いでＸ−ＲＥＬ（放出性基）及びＴ（タ
イミング基）間の結合は、放出を実質的に遅らせること
なく開裂される。次いでＴ及びＩＮＨ間の結合は、タイ
ミングの遅延を伴って開裂される。ＩＮＨ及びＴ間の結
合の開裂は、例えば、米国特許第 4,409,323号及び同第
4,959,299 号明細書に記載されるもののような脱離によ
って、又は例えば、米国特許第 4,248,962号明細書に記
載されるもののような分子内置換反応によって可能であ
る。所定のＩＮＨの要件に対してＸ−ＲＥＬ及びＴの置
換部分を選択することは、ＩＮＨの放出のタイミング及
び速度を制御を許容する。本発明を、以下のより詳細な
クラスに記載する。
【００１９】クラス１ 第１の発明では、少なくとも１つの写真ハロゲン化銀乳
剤層及び水可溶化基を有する少なくとも１つのカプラー
（Ａ）を担持する支持体含んで成ると言及された写真要
素を提供する（ここでカプラー（Ａ）は、写真処理中に
写真要素よりウオッシュ・アウトされる化合物を生成で
きる）。カプラー（Ａ）は、次式により表されるカプリ
ング脱離基を有する。
剤層及び水可溶化基を有する少なくとも１つのカプラー
（Ａ）を担持する支持体含んで成ると言及された写真要
素を提供する（ここでカプラー（Ａ）は、写真処理中に
写真要素よりウオッシュ・アウトされる化合物を生成で
きる）。カプラー（Ａ）は、次式により表されるカプリ
ング脱離基を有する。
【００２０】
【化４】
【００２１】上式中、Ｘは、酸素、窒素もしくは硫黄よ
り選ばれ、Ｘ−ＲＥＬ1 は、放出を実質的に遅らせるこ
となく、写真処理中に分子内置換反応によりＸ−ＲＥＬ
1 からＴ1 −ＩＮＨを放出するための放出性基であり、
Ｔ1 は、写真処理中にタイミングの遅延を伴って、脱離
的電子移動反応によりＩＮＨを放出するタイミング基で
あり、そしてＩＮＨは、現像抑制剤基である。
り選ばれ、Ｘ−ＲＥＬ1 は、放出を実質的に遅らせるこ
となく、写真処理中に分子内置換反応によりＸ−ＲＥＬ
1 からＴ1 −ＩＮＨを放出するための放出性基であり、
Ｔ1 は、写真処理中にタイミングの遅延を伴って、脱離
的電子移動反応によりＩＮＨを放出するタイミング基で
あり、そしてＩＮＨは、現像抑制剤基である。
【００２２】上記Ｘ−ＲＥＬ1 は、放出を実質的に遅ら
せることなく、写真処理中に分子内置換反応によりＸ−
ＲＥＬ1 からＴ1 −ＩＮＨを放出するいずれかのＸ−Ｒ
ＥＬ 1 放出性基である。上記Ｘ−ＲＥＬ1 は、Ｔ1 −Ｉ
ＮＨの放出を実質的に遅らせるタイミング基ではない。
Ｘ−ＲＥＬ1 は、露光及び写真処理の前にカプラーの写
真バラスト基用のキャリヤーとして供給できる。
せることなく、写真処理中に分子内置換反応によりＸ−
ＲＥＬ1 からＴ1 −ＩＮＨを放出するいずれかのＸ−Ｒ
ＥＬ 1 放出性基である。上記Ｘ−ＲＥＬ1 は、Ｔ1 −Ｉ
ＮＨの放出を実質的に遅らせるタイミング基ではない。
Ｘ−ＲＥＬ1 は、露光及び写真処理の前にカプラーの写
真バラスト基用のキャリヤーとして供給できる。
【００２３】典型的なＸ−ＲＥＬ1 基は、次式により表
される。
される。
【化５】
【００２４】上式中、Ｒ1 及びＲ2 は、水素、置換もし
くは無置換のアルキル及び置換もしくは無置換のアリー
ルより選ばれ、Ｒ3 は、置換もしくは無置換のアルキル
又は置換もしくは無置換のアリールであり、Ｒ4 は、水
素又は、Ｔ1 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない置換
基であり、Ｚ1 は、５員もしくは６員アリール又は複素
環基を完成するのに必要な原子を表し、そしてｎは、
０，１もしくは２である。
くは無置換のアルキル及び置換もしくは無置換のアリー
ルより選ばれ、Ｒ3 は、置換もしくは無置換のアルキル
又は置換もしくは無置換のアリールであり、Ｒ4 は、水
素又は、Ｔ1 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない置換
基であり、Ｚ1 は、５員もしくは６員アリール又は複素
環基を完成するのに必要な原子を表し、そしてｎは、
０，１もしくは２である。
【００２５】Ｔ1 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない
置換基並びに置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールは、ニトロ、水素、アミノ、置
換アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキシ、クロ
ロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2CH3 、ケト基
類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CONHCH3、-NHS
O2CH3 又は-SO2NHCH3 より選択してもよい。Ｒ1 、
Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 の少なくとも１つは、写真バラスト
基でありうる。
置換基並びに置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールは、ニトロ、水素、アミノ、置
換アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキシ、クロ
ロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2CH3 、ケト基
類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CONHCH3、-NHS
O2CH3 又は-SO2NHCH3 より選択してもよい。Ｒ1 、
Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 の少なくとも１つは、写真バラスト
基でありうる。
【００２６】上記Ｔ1 は、カプラー（Ａ）の酸化的カプ
リング及びＩＮＨの放出の間の時間を遅らせることので
きる、脱離的電子移動反応によりＩＮＨを放出するいず
れかのタイミング基である。Ｔ1 は時間を遅らせること
ができるが、一方Ｘ−ＲＥＬ 1 は実質的に時間を遅らせ
ることができないので、Ｔ1 はＸ−ＲＥＬ1 とは異な
る。
リング及びＩＮＨの放出の間の時間を遅らせることので
きる、脱離的電子移動反応によりＩＮＨを放出するいず
れかのタイミング基である。Ｔ1 は時間を遅らせること
ができるが、一方Ｘ−ＲＥＬ 1 は実質的に時間を遅らせ
ることができないので、Ｔ1 はＸ−ＲＥＬ1 とは異な
る。
【００２７】典型的なＴ1 は、次式により表される。
【化６】
【００２８】上式中、Ｚ2 は、５員もしくは６員アリー
レン又は複素環基を完成するのに必要な原子を表し、Ｒ
5 及びＲ6 は、水素、置換もしくは無置換のアルキル又
は置換もしくは無置換のアリールより選ばれ、Ｒ7 は、
水素又は、Ｘ−ＲＥＬ1 からのＴ1 −ＩＮＨの放出を実
質的に遅らせない置換基である。
レン又は複素環基を完成するのに必要な原子を表し、Ｒ
5 及びＲ6 は、水素、置換もしくは無置換のアルキル又
は置換もしくは無置換のアリールより選ばれ、Ｒ7 は、
水素又は、Ｘ−ＲＥＬ1 からのＴ1 −ＩＮＨの放出を実
質的に遅らせない置換基である。
【００２９】Ｔ1 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない
置換基並びに置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールは、ニトロ、水素、アミノ、置
換アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキシ、クロ
ロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2CH3 、ケト基
類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CONHCH3、-NHS
O2CH3 又は-SO2NHCH3 より選択してもよい。
置換基並びに置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールは、ニトロ、水素、アミノ、置
換アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキシ、クロ
ロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2CH3 、ケト基
類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CONHCH3、-NHS
O2CH3 又は-SO2NHCH3 より選択してもよい。
【００３０】好ましくはＸ−ＲＥＬ1 は、米国特許第
4,248,962号明細書に記載されるような基であり、それ
は分子内置換反応によってＸ−ＲＥＬ1 からＴ1 −ＩＮ
Ｈを放出でき、そして好ましくはＴ1 は、米国特許第
4,409,323号及び同第4,959,299号明細書に記載されるよ
うな基であり、それは電子移動によって、好ましくはエ
チレン共役鎖によってＴ1 からＩＮＨを放出できる。
4,248,962号明細書に記載されるような基であり、それ
は分子内置換反応によってＸ−ＲＥＬ1 からＴ1 −ＩＮ
Ｈを放出でき、そして好ましくはＴ1 は、米国特許第
4,409,323号及び同第4,959,299号明細書に記載されるよ
うな基であり、それは電子移動によって、好ましくはエ
チレン共役鎖によってＴ1 からＩＮＨを放出できる。
【００３１】本発明のクラス１の典型的なカプラー
（Ａ）は、次式で表されるナフトール系カプラーであ
る。
（Ａ）は、次式で表されるナフトール系カプラーであ
る。
【００３２】
【化７】
【００３３】上式中、Ｒ9 は、写真バラスト基及びＴ1
−ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない置換基より選ば
れ、Ｒ10は、１〜３個の炭素原子を含有する置換及び無
置換のアルキル並びに写真バラストより選ばれ、そして
Ｒ11は、ニトロである。ニトロの代わりに考えられる別
の基は、水素、アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メト
キシ、クロロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2CH
3 、ケト基類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CON
HCH3、-NHSO2CH 3 、-SO2NHCH3 であり、又Ｒ11は、タイ
ミング基Ｔ1 と組み合わさって、置換もしくは無置換の
ピリジル部分を構成できる。
−ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない置換基より選ば
れ、Ｒ10は、１〜３個の炭素原子を含有する置換及び無
置換のアルキル並びに写真バラストより選ばれ、そして
Ｒ11は、ニトロである。ニトロの代わりに考えられる別
の基は、水素、アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メト
キシ、クロロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2CH
3 、ケト基類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CON
HCH3、-NHSO2CH 3 、-SO2NHCH3 であり、又Ｒ11は、タイ
ミング基Ｔ1 と組み合わさって、置換もしくは無置換の
ピリジル部分を構成できる。
【００３４】Ｒ12は、水素、CH3 、メトキシフェニル、
ヒドロキシエトキシフェニル、カルボキシフェニル、-C
H2CO2CH3、-CH2CH2COOH もしくは-CH2OCH2CH2COOH であ
り、そしてＩＮＨは、複素環式現像抑制剤基である。特
に好ましいナフトール系カプラーは、第１表の構造I-1
〜 I-12 によって表される。
ヒドロキシエトキシフェニル、カルボキシフェニル、-C
H2CO2CH3、-CH2CH2COOH もしくは-CH2OCH2CH2COOH であ
り、そしてＩＮＨは、複素環式現像抑制剤基である。特
に好ましいナフトール系カプラーは、第１表の構造I-1
〜 I-12 によって表される。
【００３５】クラス２ 第２の発明では、少なくとも１つの写真ハロゲン化銀乳
剤層及び水可溶化基を有する少なくとも１つのカプラー
（Ａ）を担持する支持体含んで成ると言及された写真要
素を提供する（ここでカプラー（Ａ）は、写真処理中に
写真要素よりウオッシュ・アウトされる化合物を生成で
きる）。カプラー（Ａ）は、次式により表されるカプリ
ング脱離基を有する。
剤層及び水可溶化基を有する少なくとも１つのカプラー
（Ａ）を担持する支持体含んで成ると言及された写真要
素を提供する（ここでカプラー（Ａ）は、写真処理中に
写真要素よりウオッシュ・アウトされる化合物を生成で
きる）。カプラー（Ａ）は、次式により表されるカプリ
ング脱離基を有する。
【００３６】
【化８】
【００３７】上式中、Ｘは、酸素、窒素もしくは硫黄よ
り選ばれ、Ｘ−ＲＥＬ2 は、写真バラストを含有し、且
つ放出を実質的に遅らせることなく、写真処理中に脱離
的電子移動反応によりＸ−ＲＥＬ2 からＴ2 −ＩＮＨを
放出するための放出性基であり、Ｔ2 は、写真処理中に
タイミングの遅延を伴って、脱離的電子移動反応により
ＩＮＨを放出するタイミング基であり、そしてＩＮＨ
は、現像抑制剤基である。
り選ばれ、Ｘ−ＲＥＬ2 は、写真バラストを含有し、且
つ放出を実質的に遅らせることなく、写真処理中に脱離
的電子移動反応によりＸ−ＲＥＬ2 からＴ2 −ＩＮＨを
放出するための放出性基であり、Ｔ2 は、写真処理中に
タイミングの遅延を伴って、脱離的電子移動反応により
ＩＮＨを放出するタイミング基であり、そしてＩＮＨ
は、現像抑制剤基である。
【００３８】上記Ｘ−ＲＥＬ2 は、放出を実質的に遅ら
せることなく、写真処理中に脱離的電子移動反応により
Ｘ−ＲＥＬ2 からＴ2 −ＩＮＨを放出するいずれかのＸ
−ＲＥＬ2 放出性基である。上記Ｘ−ＲＥＬ2 は、Ｔ2
−ＩＮＨの放出を実質的に遅らせるタイミング基ではな
い。Ｘ−ＲＥＬ2 は、露光及び写真処理の前にカプラー
の写真バラスト基用のキャリヤーとして供給できる。
せることなく、写真処理中に脱離的電子移動反応により
Ｘ−ＲＥＬ2 からＴ2 −ＩＮＨを放出するいずれかのＸ
−ＲＥＬ2 放出性基である。上記Ｘ−ＲＥＬ2 は、Ｔ2
−ＩＮＨの放出を実質的に遅らせるタイミング基ではな
い。Ｘ−ＲＥＬ2 は、露光及び写真処理の前にカプラー
の写真バラスト基用のキャリヤーとして供給できる。
【００３９】典型的なＸ−ＲＥＬ2 基は、次式により表
される。
される。
【化９】
【００４０】上式中、Ｒ13は、水素又は、Ｔ2 −ＩＮＨ
の放出を実質的に遅らせない置換基であり、Ｒ14及びＲ
15は、水素、置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールより選ばれ、Ｚ1 は、５員もし
くは６員アリール又は複素環基を完成するのに必要な原
子を表す。Ｒ13、Ｒ14及びＲ15少なくとも１つは、写真
バラスト基でありうる。
の放出を実質的に遅らせない置換基であり、Ｒ14及びＲ
15は、水素、置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールより選ばれ、Ｚ1 は、５員もし
くは６員アリール又は複素環基を完成するのに必要な原
子を表す。Ｒ13、Ｒ14及びＲ15少なくとも１つは、写真
バラスト基でありうる。
【００４１】Ｔ2 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない
置換基並びに置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールは、ニトロ、水素、アミノ、置
換アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキシ、クロ
ロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2CH3 、ケト基
類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CONHCH3、-NHS
O2CH3 又は-SO2NHCH3 より選択してもよい。
置換基並びに置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールは、ニトロ、水素、アミノ、置
換アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキシ、クロ
ロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2CH3 、ケト基
類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CONHCH3、-NHS
O2CH3 又は-SO2NHCH3 より選択してもよい。
【００４２】上記Ｔ2 は、カプラー（Ａ）の酸化的カプ
リング及びＩＮＨの放出の間の時間を遅らせることので
きる脱離的電子移動反応によりＩＮＨを放出するいずれ
かのタイミング基である。Ｔ2 は時間を遅らせることが
できるが、一方Ｘ−ＲＥＬ2は実質的に時間を遅らせる
ことができないので、Ｔ2 はＸ−ＲＥＬ2 とは異なる。
リング及びＩＮＨの放出の間の時間を遅らせることので
きる脱離的電子移動反応によりＩＮＨを放出するいずれ
かのタイミング基である。Ｔ2 は時間を遅らせることが
できるが、一方Ｘ−ＲＥＬ2は実質的に時間を遅らせる
ことができないので、Ｔ2 はＸ−ＲＥＬ2 とは異なる。
【００４３】典型的なＴ2 は、次式により表される。
【００４４】
【化１０】
【００４５】上式中、Ｒ16は、水素又は、Ｘ−ＲＥＬ2
からのＴ2 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない置換基
であり、Ｒ16、Ｒ17及びＲ18は、少なくとも５秒間の最
低遅れ時間を提供するように選択され、Ｒ17及びＲ
18は、水素、置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールより選ばれ、且つＸ−ＲＥＬ2
からのＴ2 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせないように
選択され、Ｚ2 は、５員もしくは６員アリーレン又は複
素環基を完成するのに必要な原子を表す。
からのＴ2 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない置換基
であり、Ｒ16、Ｒ17及びＲ18は、少なくとも５秒間の最
低遅れ時間を提供するように選択され、Ｒ17及びＲ
18は、水素、置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールより選ばれ、且つＸ−ＲＥＬ2
からのＴ2 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせないように
選択され、Ｚ2 は、５員もしくは６員アリーレン又は複
素環基を完成するのに必要な原子を表す。
【００４６】Ｔ2 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない
置換基並びに置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールは、ニトロ、水素、アミノ、置
換アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキシ、クロ
ロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2CH3 、ケト基
類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CONHCH3、-NHS
O2CH3 又は-SO2NHCH3 より選択してもよい。
置換基並びに置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールは、ニトロ、水素、アミノ、置
換アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキシ、クロ
ロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2CH3 、ケト基
類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CONHCH3、-NHS
O2CH3 又は-SO2NHCH3 より選択してもよい。
【００４７】好ましくはＸ−ＲＥＬ2 及びＴ2 は、米国
特許第 4,409,323号及び同第4,959,299 号明細書に記載
されるような基であり、それは電子移動によって、好ま
しくはエチレン共役鎖によってＸ−ＲＥＬ2 からＴ2 −
ＩＮＨを、そしてＴ2 −ＩＮＨからＩＮＨを放出でき
る。
特許第 4,409,323号及び同第4,959,299 号明細書に記載
されるような基であり、それは電子移動によって、好ま
しくはエチレン共役鎖によってＸ−ＲＥＬ2 からＴ2 −
ＩＮＨを、そしてＴ2 −ＩＮＨからＩＮＨを放出でき
る。
【００４８】本発明のクラス２の典型的なカプラー
（Ａ）は、次式で表されるナフトール系カプラーであ
る。
（Ａ）は、次式で表されるナフトール系カプラーであ
る。
【００４９】
【化１１】
【００５０】上式中、Ｒ19は、水素、CH3 、メトキシフ
ェニル、ヒドロキシエトキシフェニル、カルボキシフェ
ニル、-CH2CO2CH3、-CH2CH2COOH もしくは-CH2OCH2CH2C
OOH であり、Ｒ20は、写真バラストもしくはＸ−ＲＥＬ
2 からのＴ2 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない置換
基であり、Ｒ21及びＲ22は、水素、置換もしくは無置換
のアルキル又は置換もしくは無置換のアリール又は写真
バラストより選ばれ、且つＸ−ＲＥＬ2 からのＴ2 −Ｉ
ＮＨの放出を実質的に遅らせないように選択され、Ｒ23
は、ニトロである。ニトロの代わりに考えられる別の基
は、水素、アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキ
シ、クロロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2C
H3 、ケト基類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CO
NHCH3、-NHSO2CH 3 、-SO2NHCH3 であり、又Ｒ23は、タ
イミング基Ｔ2 と組み合わさって、置換もしくは無置換
のピリジル部分を構成できる。
ェニル、ヒドロキシエトキシフェニル、カルボキシフェ
ニル、-CH2CO2CH3、-CH2CH2COOH もしくは-CH2OCH2CH2C
OOH であり、Ｒ20は、写真バラストもしくはＸ−ＲＥＬ
2 からのＴ2 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない置換
基であり、Ｒ21及びＲ22は、水素、置換もしくは無置換
のアルキル又は置換もしくは無置換のアリール又は写真
バラストより選ばれ、且つＸ−ＲＥＬ2 からのＴ2 −Ｉ
ＮＨの放出を実質的に遅らせないように選択され、Ｒ23
は、ニトロである。ニトロの代わりに考えられる別の基
は、水素、アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキ
シ、クロロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2C
H3 、ケト基類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CO
NHCH3、-NHSO2CH 3 、-SO2NHCH3 であり、又Ｒ23は、タ
イミング基Ｔ2 と組み合わさって、置換もしくは無置換
のピリジル部分を構成できる。
【００５１】Ｒ24及びＲ25は、水素、置換もしくは無置
換のアルキル又は置換もしくは無置換のアリールより選
ばれ、且つＸ−ＲＥＬ2 からのＴ2 −ＩＮＨの放出を実
質的に遅らせないように選択され、ＩＮＨは、複素環式
現像抑制剤基である。特に好ましいナフトール系カプラ
ーは、第２表の構造I-13〜 I-16 によって表される。本
発明をナフトール系カプラーに関して記載してきたとは
いえ、それは、別のカプラー、例えば、イエローもしく
はマゼンタ色素生成性カプラーにも適用される。
換のアルキル又は置換もしくは無置換のアリールより選
ばれ、且つＸ−ＲＥＬ2 からのＴ2 −ＩＮＨの放出を実
質的に遅らせないように選択され、ＩＮＨは、複素環式
現像抑制剤基である。特に好ましいナフトール系カプラ
ーは、第２表の構造I-13〜 I-16 によって表される。本
発明をナフトール系カプラーに関して記載してきたとは
いえ、それは、別のカプラー、例えば、イエローもしく
はマゼンタ色素生成性カプラーにも適用される。
【００５２】クラス３ 第３の発明では、少なくとも１つの写真ハロゲン化銀乳
剤層及び水可溶化基を有する少なくとも１つのカプラー
（Ａ）を担持する支持体含んで成ると言及された写真要
素を提供する（ここでカプラー（Ａ）は、写真処理中に
写真要素よりウオッシュ・アウトされる化合物を生成で
きる）。カプラー（Ａ）は、次式により表されるカプリ
ング脱離基を有する。
剤層及び水可溶化基を有する少なくとも１つのカプラー
（Ａ）を担持する支持体含んで成ると言及された写真要
素を提供する（ここでカプラー（Ａ）は、写真処理中に
写真要素よりウオッシュ・アウトされる化合物を生成で
きる）。カプラー（Ａ）は、次式により表されるカプリ
ング脱離基を有する。
【００５３】
【化１２】
【００５４】上式中、Ｘは、酸素、窒素もしくは硫黄よ
り選ばれ、Ｘ−ＲＥＬ3 は、写真バラストを含有し、且
つ放出を実質的に遅らせることなく、写真処理中に分子
内置換反応によりＸ−ＲＥＬ3 からＴ3 −ＩＮＨを放出
するための放出性基であり、Ｔ3 は、写真処理中にタイ
ミングの遅延を伴って、分子内置換反応によりＩＮＨを
放出するタイミング基であり、そしてＩＮＨは、現像抑
制剤基である。
り選ばれ、Ｘ−ＲＥＬ3 は、写真バラストを含有し、且
つ放出を実質的に遅らせることなく、写真処理中に分子
内置換反応によりＸ−ＲＥＬ3 からＴ3 −ＩＮＨを放出
するための放出性基であり、Ｔ3 は、写真処理中にタイ
ミングの遅延を伴って、分子内置換反応によりＩＮＨを
放出するタイミング基であり、そしてＩＮＨは、現像抑
制剤基である。
【００５５】上記Ｘ−ＲＥＬ3 は、放出を実質的に遅ら
せることなく、写真処理中に分子内置換反応によりＸ−
ＲＥＬ3 からＴ3 −ＩＮＨを放出するいずれかのＸ−Ｒ
ＥＬ 3 放出性基である。上記Ｘ−ＲＥＬ3 は、Ｔ3 −Ｉ
ＮＨの放出を実質的に遅らせるタイミング基ではない。
Ｘ−ＲＥＬ3 は、露光及び写真処理の前にカプラーの写
真バラスト基用のキャリヤーとして供給できる。
せることなく、写真処理中に分子内置換反応によりＸ−
ＲＥＬ3 からＴ3 −ＩＮＨを放出するいずれかのＸ−Ｒ
ＥＬ 3 放出性基である。上記Ｘ−ＲＥＬ3 は、Ｔ3 −Ｉ
ＮＨの放出を実質的に遅らせるタイミング基ではない。
Ｘ−ＲＥＬ3 は、露光及び写真処理の前にカプラーの写
真バラスト基用のキャリヤーとして供給できる。
【００５６】典型的なＸ−ＲＥＬ3 基は、次式により表
される。
される。
【化１３】
【００５７】上式中、Ｚ1 は、５員もしくは６員アリー
ル又は複素環基を完成するのに必要な原子を表し、Ｒ26
は、水素又は、Ｔ3 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせな
い置換基であり、Ｒ27及びＲ28は、水素、置換もしくは
無置換のアルキル及び置換もしくは無置換のアリールよ
り選ばれ、Ｒ29は、置換もしくは無置換のアルキル及び
置換もしくは無置換のアリールであり、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ
28及びＲ29は、Ｘ−ＲＥＬ3 からのＴ3 −ＩＮＨの放出
を実質的に遅らせないように選択され、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ
28及びＲ29の少なくとも１つは写真バラスト基であり、
ｎは、０，１もしくは２である。
ル又は複素環基を完成するのに必要な原子を表し、Ｒ26
は、水素又は、Ｔ3 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせな
い置換基であり、Ｒ27及びＲ28は、水素、置換もしくは
無置換のアルキル及び置換もしくは無置換のアリールよ
り選ばれ、Ｒ29は、置換もしくは無置換のアルキル及び
置換もしくは無置換のアリールであり、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ
28及びＲ29は、Ｘ−ＲＥＬ3 からのＴ3 −ＩＮＨの放出
を実質的に遅らせないように選択され、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ
28及びＲ29の少なくとも１つは写真バラスト基であり、
ｎは、０，１もしくは２である。
【００５８】Ｔ3 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない
置換基並びに置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールは、ニトロ、水素、アミノ、置
換アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキシ、クロ
ロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2CH3 、ケト基
類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CONHCH3、-NHS
O2CH3 又は-SO2NHCH3 より選択してもよい。
置換基並びに置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールは、ニトロ、水素、アミノ、置
換アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキシ、クロ
ロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2CH3 、ケト基
類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CONHCH3、-NHS
O2CH3 又は-SO2NHCH3 より選択してもよい。
【００５９】上記Ｔ3 は、カプラー（Ａ）の酸化的カプ
リング及びＩＮＨの放出の間の時間を遅らせることので
きる分子内置換反応によりＩＮＨを放出するいずれかの
タイミング基である。Ｔ3 は時間を遅らせることができ
るが、一方Ｘ−ＲＥＬ3 は実質的に時間を遅らせること
ができないので、Ｔ3 はＸ−ＲＥＬ3 とは異なる。
リング及びＩＮＨの放出の間の時間を遅らせることので
きる分子内置換反応によりＩＮＨを放出するいずれかの
タイミング基である。Ｔ3 は時間を遅らせることができ
るが、一方Ｘ−ＲＥＬ3 は実質的に時間を遅らせること
ができないので、Ｔ3 はＸ−ＲＥＬ3 とは異なる。
【００６０】典型的なＴ3 は、次式により表される。
【化１４】
【００６１】上式中、Ｒ30は、水素又は、Ｘ−ＲＥＬ3
からのＴ3 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない置換基
であり、Ｒ30、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33は、少なくとも５秒
間の最低遅れ時間を提供するように選択され、Ｒ31及び
Ｒ32は、水素、置換もしくは無置換のアルキル及び置換
もしくは無置換のアリールより選ばれ、Ｒ33は、置換も
しくは無置換のアルキル又は置換もしくは無置換のアリ
ールであり、Ｒ30、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33は、Ｘ−ＲＥＬ
3 からのＴ3 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせないよう
に選択され、Ｚ2 は、５員もしくは６員アリーレン又は
複素環基を完成するのに必要な原子を表し、ｎは、０，
１もしくは２である。
からのＴ3 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない置換基
であり、Ｒ30、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33は、少なくとも５秒
間の最低遅れ時間を提供するように選択され、Ｒ31及び
Ｒ32は、水素、置換もしくは無置換のアルキル及び置換
もしくは無置換のアリールより選ばれ、Ｒ33は、置換も
しくは無置換のアルキル又は置換もしくは無置換のアリ
ールであり、Ｒ30、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33は、Ｘ−ＲＥＬ
3 からのＴ3 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせないよう
に選択され、Ｚ2 は、５員もしくは６員アリーレン又は
複素環基を完成するのに必要な原子を表し、ｎは、０，
１もしくは２である。
【００６２】Ｔ3 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない
置換基並びに置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールは、ニトロ、水素、アミノ、置
換アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキシ、クロ
ロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2CH3 、ケト基
類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CONHCH3、-NHS
O2CH3 又は-SO2NHCH3 より選択してもよい。
置換基並びに置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールは、ニトロ、水素、アミノ、置
換アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキシ、クロ
ロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2CH3 、ケト基
類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CONHCH3、-NHS
O2CH3 又は-SO2NHCH3 より選択してもよい。
【００６３】好ましくはＸ−ＲＥＬ3 及びＴ3 は、米国
特許第 4,248,962号明細書に記載されるような基であ
り、それは分子内置換反応によって、Ｘ−ＲＥＬ3 から
Ｔ3 −ＩＮＨをそしてＴ3 −ＩＮＨからＩＮＨを放出で
きる。
特許第 4,248,962号明細書に記載されるような基であ
り、それは分子内置換反応によって、Ｘ−ＲＥＬ3 から
Ｔ3 −ＩＮＨをそしてＴ3 −ＩＮＨからＩＮＨを放出で
きる。
【００６４】本発明のクラス３の典型的なカプラー
（Ａ）は、次式で表されるナフトール系カプラーであ
る。
（Ａ）は、次式で表されるナフトール系カプラーであ
る。
【００６５】
【化１５】
【００６６】上式中、Ｒ34は、水素、CH3 、メトキシフ
ェニル、ヒドロキシエトキシフェニル、カルボキシフェ
ニル、-CH2CO2CH3、-CH2CH2COOH もしくは-CH2OCH2CH2C
OOH であり、Ｒ35は、写真バラスト、水素もしくはＸ−
ＲＥＬ3 からのＴ3 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせな
い置換基であり、Ｒ36及びＲ37は、水素、１〜３個の炭
素原子を含有する置換及び無置換のアルキル又は置換も
しくは無置換のアリール並びに写真バラストより選ば
れ、Ｒ38は、１〜３個の炭素原子を含有する置換及び無
置換のアルキル又は置換もしくは無置換のアリール並び
に写真バラストより選ばれ、そしてＲ39は、ニトロであ
る。ニトロの代わりに考えられる別の基は、水素、アミ
ノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキシ、クロロ、ブロ
モ、エステル基類、例えば、-CO2CH3 、ケト基類、例え
ば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CONHCH3、-NHSO2CH 3 、
-SO2NHCH3 であり、又Ｒ39は、タイミング基Ｔ3 と組み
合わさって、置換もしくは無置換のピリジル部分を構成
できる。
ェニル、ヒドロキシエトキシフェニル、カルボキシフェ
ニル、-CH2CO2CH3、-CH2CH2COOH もしくは-CH2OCH2CH2C
OOH であり、Ｒ35は、写真バラスト、水素もしくはＸ−
ＲＥＬ3 からのＴ3 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせな
い置換基であり、Ｒ36及びＲ37は、水素、１〜３個の炭
素原子を含有する置換及び無置換のアルキル又は置換も
しくは無置換のアリール並びに写真バラストより選ば
れ、Ｒ38は、１〜３個の炭素原子を含有する置換及び無
置換のアルキル又は置換もしくは無置換のアリール並び
に写真バラストより選ばれ、そしてＲ39は、ニトロであ
る。ニトロの代わりに考えられる別の基は、水素、アミ
ノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキシ、クロロ、ブロ
モ、エステル基類、例えば、-CO2CH3 、ケト基類、例え
ば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CONHCH3、-NHSO2CH 3 、
-SO2NHCH3 であり、又Ｒ39は、タイミング基Ｔ3 と組み
合わさって、置換もしくは無置換のピリジル部分を構成
できる。
【００６７】Ｒ40及びＲ41は、水素、１〜３個の炭素原
子を含有する置換及び無置換のアルキル並びに置換もし
くは無置換のアリールより選ばれ、Ｒ42は、１〜３個の
炭素原子を含有する置換及び無置換のアルキル又は置換
もしくは無置換のアリールより選ばれ、ｎ及びｍは、個
別に０，１もしくは２であり、Ｔ3 −ＩＮＨの放出を実
質的に遅らせない置換基、並びに置換もしくは無置換の
アルキル及び置換もしくは無置換のアリールは、ニト
ロ、水素、アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキ
シ、クロロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2C
H3 、ケト基類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CO
NHCH3、-NHSO2CH3 、-SO2NHCH3 より選択してもよい。
ＩＮＨは、複素環式現像抑制剤基である。
子を含有する置換及び無置換のアルキル並びに置換もし
くは無置換のアリールより選ばれ、Ｒ42は、１〜３個の
炭素原子を含有する置換及び無置換のアルキル又は置換
もしくは無置換のアリールより選ばれ、ｎ及びｍは、個
別に０，１もしくは２であり、Ｔ3 −ＩＮＨの放出を実
質的に遅らせない置換基、並びに置換もしくは無置換の
アルキル及び置換もしくは無置換のアリールは、ニト
ロ、水素、アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキ
シ、クロロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2C
H3 、ケト基類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CO
NHCH3、-NHSO2CH3 、-SO2NHCH3 より選択してもよい。
ＩＮＨは、複素環式現像抑制剤基である。
【００６８】特に好ましいナフトール系カプラーは、第
３表の構造I-17〜 I-21 によって表される。本発明をナ
フトール系カプラーに関して記載してきたとはいえ、そ
れは、別のカプラー、例えば、イエローもしくはマゼン
タ色素生成性カプラーにも適用される。
３表の構造I-17〜 I-21 によって表される。本発明をナ
フトール系カプラーに関して記載してきたとはいえ、そ
れは、別のカプラー、例えば、イエローもしくはマゼン
タ色素生成性カプラーにも適用される。
【００６９】クラス４ 第４の発明では、少なくとも１つの写真ハロゲン化銀乳
剤層及び水可溶化基を有する少なくとも１つのカプラー
（Ａ）を担持する支持体含んで成ると言及された写真要
素を提供する（ここでカプラー（Ａ）は、写真処理中に
写真要素よりウオッシュ・アウトされる化合物を生成で
きる）。カプラー（Ａ）は、次式により表されるカプリ
ング脱離基を有する。
剤層及び水可溶化基を有する少なくとも１つのカプラー
（Ａ）を担持する支持体含んで成ると言及された写真要
素を提供する（ここでカプラー（Ａ）は、写真処理中に
写真要素よりウオッシュ・アウトされる化合物を生成で
きる）。カプラー（Ａ）は、次式により表されるカプリ
ング脱離基を有する。
【００７０】
【化１６】
【００７１】上式中、Ｘは、酸素、窒素もしくは硫黄よ
り選ばれ、Ｘ−ＲＥＬ4 は、放出を実質的に遅らせるこ
となく、写真処理中に脱離的電子移動反応によりＸ−Ｒ
ＥＬ4 からＴ4 −ＩＮＨを放出するための放出性基であ
り、Ｔ4 は、写真処理中にタイミングの遅延を伴って、
分子内置換反応によりＩＮＨを放出するタイミング基で
あり、そしてＩＮＨは、現像抑制剤基である。
り選ばれ、Ｘ−ＲＥＬ4 は、放出を実質的に遅らせるこ
となく、写真処理中に脱離的電子移動反応によりＸ−Ｒ
ＥＬ4 からＴ4 −ＩＮＨを放出するための放出性基であ
り、Ｔ4 は、写真処理中にタイミングの遅延を伴って、
分子内置換反応によりＩＮＨを放出するタイミング基で
あり、そしてＩＮＨは、現像抑制剤基である。
【００７２】上記Ｘ−ＲＥＬ4 は、放出を実質的に遅ら
せることなく、写真処理中に脱離的電子移動反応により
Ｘ−ＲＥＬ4 からＴ4 −ＩＮＨを放出するいずれかのＸ
−ＲＥＬ4 放出性基である。上記Ｘ−ＲＥＬ4 は、Ｔ4
−ＩＮＨの放出を実質的に遅らせるタイミング基ではな
い。Ｘ−ＲＥＬ4 は、露光及び写真処理の前にカプラー
の写真バラスト基用のキャリヤーとして供給できる。
せることなく、写真処理中に脱離的電子移動反応により
Ｘ−ＲＥＬ4 からＴ4 −ＩＮＨを放出するいずれかのＸ
−ＲＥＬ4 放出性基である。上記Ｘ−ＲＥＬ4 は、Ｔ4
−ＩＮＨの放出を実質的に遅らせるタイミング基ではな
い。Ｘ−ＲＥＬ4 は、露光及び写真処理の前にカプラー
の写真バラスト基用のキャリヤーとして供給できる。
【００７３】典型的なＸ−ＲＥＬ4 基は、次式により表
される。
される。
【化１７】
【００７４】上式中、Ｒ43は、水素又は、Ｔ4 −ＩＮＨ
の放出を実質的に遅らせない置換基であり、Ｒ44及びＲ
45は、水素、置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールより選ばれ、且つＴ4 −ＩＮＨ
の放出を実質的に遅らせないように選択され、Ｒ43、Ｒ
44及びＲ45は、写真バラストであることができ且つＴ4
−ＩＮＨの放出を実質的に遅らせないように選択され、
Ｚ1 は、５員もしくは６員アリール又は複素環基を完成
するのに必要な原子を表し、そしてＴ4 −ＩＮＨの放出
を実質的に遅らせない置換基並びに置換もしくは無置換
のアルキル及び置換もしくは無置換のアリールは、ニト
ロ、水素、アミノ、置換アミノ、カルボン酸、スルホン
酸、メトキシ、クロロ、ブロモ、エステル基類、例え
ば、-CO2CH3 、ケト基類、例えば、-COCH3もしくは-NHC
OCH3、-CONHCH3、-NHSO2CH3 又は-SO2NHCH3 より選択し
てもよい。
の放出を実質的に遅らせない置換基であり、Ｒ44及びＲ
45は、水素、置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールより選ばれ、且つＴ4 −ＩＮＨ
の放出を実質的に遅らせないように選択され、Ｒ43、Ｒ
44及びＲ45は、写真バラストであることができ且つＴ4
−ＩＮＨの放出を実質的に遅らせないように選択され、
Ｚ1 は、５員もしくは６員アリール又は複素環基を完成
するのに必要な原子を表し、そしてＴ4 −ＩＮＨの放出
を実質的に遅らせない置換基並びに置換もしくは無置換
のアルキル及び置換もしくは無置換のアリールは、ニト
ロ、水素、アミノ、置換アミノ、カルボン酸、スルホン
酸、メトキシ、クロロ、ブロモ、エステル基類、例え
ば、-CO2CH3 、ケト基類、例えば、-COCH3もしくは-NHC
OCH3、-CONHCH3、-NHSO2CH3 又は-SO2NHCH3 より選択し
てもよい。
【００７５】上記Ｔ4 は、カプラー（Ａ）の酸化的カプ
リング及びＩＮＨの放出の間の時間を遅らせることので
きる分子内置換反応によりＩＮＨを放出するいずれかの
タイミング基である。Ｔ4 は時間を遅らせることができ
るが、一方Ｘ−ＲＥＬ4 は実質的に時間を遅らせること
ができないので、Ｔ4 はＸ−ＲＥＬ4 とは異なる。
リング及びＩＮＨの放出の間の時間を遅らせることので
きる分子内置換反応によりＩＮＨを放出するいずれかの
タイミング基である。Ｔ4 は時間を遅らせることができ
るが、一方Ｘ−ＲＥＬ4 は実質的に時間を遅らせること
ができないので、Ｔ4 はＸ−ＲＥＬ4 とは異なる。
【００７６】典型的なＴ4 は、次式により表される。
【化１８】
【００７７】上式中、Ｚ2 は、５員もしくは６員アリー
レン又は複素環基を完成するのに必要な原子を表し、Ｒ
46は、水素又は、Ｘ−ＲＥＬ4 からのＴ4 −ＩＮＨの放
出を実質的に遅らせない置換基であり、Ｒ47及びＲ
48は、水素、置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールより選ばれ、Ｒ49は、置換もし
くは無置換のアルキル又は置換もしくは無置換のアリー
ルであり、Ｒ46、Ｒ47、Ｒ48及びＲ49は、少なくとも５
秒間の最低遅れ時間を提供するように選択され、そして
ｎは、０，１もしくは２である。
レン又は複素環基を完成するのに必要な原子を表し、Ｒ
46は、水素又は、Ｘ−ＲＥＬ4 からのＴ4 −ＩＮＨの放
出を実質的に遅らせない置換基であり、Ｒ47及びＲ
48は、水素、置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールより選ばれ、Ｒ49は、置換もし
くは無置換のアルキル又は置換もしくは無置換のアリー
ルであり、Ｒ46、Ｒ47、Ｒ48及びＲ49は、少なくとも５
秒間の最低遅れ時間を提供するように選択され、そして
ｎは、０，１もしくは２である。
【００７８】Ｔ4 −ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない
置換基並びに置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールは、ニトロ、水素、アミノ、置
換アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキシ、クロ
ロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2CH3 、ケト基
類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CONHCH3、-NHS
O2CH3 又は-SO2NHCH3 より選択してもよい。
置換基並びに置換もしくは無置換のアルキル及び置換も
しくは無置換のアリールは、ニトロ、水素、アミノ、置
換アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキシ、クロ
ロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2CH3 、ケト基
類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CONHCH3、-NHS
O2CH3 又は-SO2NHCH3 より選択してもよい。
【００７９】好ましくはＸ−ＲＥＬ4 は、米国特許第
4,409,323号及び同第4,959,299 号明細書に記載される
ような基であり、それは電子移動によってＸ−ＲＥＬ4
からＴ 4 −ＩＮＨを放出でき、そして好ましくはＴ
4 は、米国特許第 4,248,962号明細書に記載されるよう
な基であり、それは分子内置換反応によってＴ4 からＩ
ＮＨを放出できる。
4,409,323号及び同第4,959,299 号明細書に記載される
ような基であり、それは電子移動によってＸ−ＲＥＬ4
からＴ 4 −ＩＮＨを放出でき、そして好ましくはＴ
4 は、米国特許第 4,248,962号明細書に記載されるよう
な基であり、それは分子内置換反応によってＴ4 からＩ
ＮＨを放出できる。
【００８０】本発明のクラス４の典型的なカプラー
（Ａ）は、次式で表されるナフトール系カプラーであ
る。
（Ａ）は、次式で表されるナフトール系カプラーであ
る。
【００８１】
【化１９】
【００８２】上式中、Ｒ50は、水素、CH3 、メトキシフ
ェニル、ヒドロキシエトキシフェニル、カルボキシフェ
ニル、-CH2CO2CH3、-CH2CH2COOH もしくは-CH2OCH2CH2C
OOH であり、Ｒ51は、水素及びＸ−ＲＥＬ4 からのＴ4
−ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない置換基であり、Ｒ
52及びＲ53は、水素、置換及び無置換のアルキル又は置
換もしくは無置換のアリールより選ばれ、Ｒ54は、ニト
ロである。ニトロの代わりに考えられる別の基は、水
素、アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキシ、クロ
ロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2CH3 、ケト基
類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CONHCH3、-NHS
O2CH 3 、-SO2NHCH3 であり、又Ｒ54は、タイミング基Ｔ
4 と組み合わさって、置換もしくは無置換のピリジル部
分を構成できる。
ェニル、ヒドロキシエトキシフェニル、カルボキシフェ
ニル、-CH2CO2CH3、-CH2CH2COOH もしくは-CH2OCH2CH2C
OOH であり、Ｒ51は、水素及びＸ−ＲＥＬ4 からのＴ4
−ＩＮＨの放出を実質的に遅らせない置換基であり、Ｒ
52及びＲ53は、水素、置換及び無置換のアルキル又は置
換もしくは無置換のアリールより選ばれ、Ｒ54は、ニト
ロである。ニトロの代わりに考えられる別の基は、水
素、アミノ、カルボン酸、スルホン酸、メトキシ、クロ
ロ、ブロモ、エステル基類、例えば、-CO2CH3 、ケト基
類、例えば、-COCH3もしくは-NHCOCH3、-CONHCH3、-NHS
O2CH 3 、-SO2NHCH3 であり、又Ｒ54は、タイミング基Ｔ
4 と組み合わさって、置換もしくは無置換のピリジル部
分を構成できる。
【００８３】Ｒ55及びＲ56は、水素、置換及び無置換の
アルキル又は置換もしくは無置換のアリールより選ば
れ、Ｒ57は、１〜３個の炭素原子を含有する置換及び無
置換のアルキル又は置換もしくは無置換のアリールより
選ばれ、Ｒ51、Ｒ52もしくはＲ53は、写真バラストを含
有し、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56及びＲ
57は、Ｘ−ＲＥＬ4 からのＴ4 −ＩＮＨの放出を実質的
に遅らせないように選択され、ｎ及びｍは、個別に０，
１もしくは２であり、そしてＩＮＨは、複素環式現像抑
制剤基である。
アルキル又は置換もしくは無置換のアリールより選ば
れ、Ｒ57は、１〜３個の炭素原子を含有する置換及び無
置換のアルキル又は置換もしくは無置換のアリールより
選ばれ、Ｒ51、Ｒ52もしくはＲ53は、写真バラストを含
有し、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56及びＲ
57は、Ｘ−ＲＥＬ4 からのＴ4 −ＩＮＨの放出を実質的
に遅らせないように選択され、ｎ及びｍは、個別に０，
１もしくは２であり、そしてＩＮＨは、複素環式現像抑
制剤基である。
【００８４】特に好ましいナフトール系カプラーは、第
４表の構造I-22〜 I-25 によって表される。本発明をナ
フトール系カプラーに関して記載してきたとはいえ、そ
れは、別のカプラー、例えば、イエローもしくはマゼン
タ色素生成性カプラーにも適用される。
４表の構造I-22〜 I-25 によって表される。本発明をナ
フトール系カプラーに関して記載してきたとはいえ、そ
れは、別のカプラー、例えば、イエローもしくはマゼン
タ色素生成性カプラーにも適用される。
【００８５】半減期により測定される放出の遅れは拡大
できるが、しかし写真要素を現像するのに必要とされる
時間の正常の期間を越えない。即ち、本発明では、カプ
リング脱離されるＩＮＨの少なくとも半分が現像期間の
最終時に放出されねばならない。一般的には、ＩＮＨの
放出の遅れは約５秒間以上であり、好ましくは５〜600
秒間の範囲内であり、そして典型的には10〜100 秒間の
範囲内である。これは、pH10もしくはpH14の水性溶液中
多くの場合に決定できる。
できるが、しかし写真要素を現像するのに必要とされる
時間の正常の期間を越えない。即ち、本発明では、カプ
リング脱離されるＩＮＨの少なくとも半分が現像期間の
最終時に放出されねばならない。一般的には、ＩＮＨの
放出の遅れは約５秒間以上であり、好ましくは５〜600
秒間の範囲内であり、そして典型的には10〜100 秒間の
範囲内である。これは、pH10もしくはpH14の水性溶液中
多くの場合に決定できる。
【００８６】本発明では、写真要素の現像中のタイミン
グ基の放出は、実質的に遅れることはない。タイミング
基の放出（半減期により測定される）は、通常半減期が
５秒間以内であり、好ましくは２〜３秒間以内であり、
そして典型的には１秒間以内で起こる。このようにして
半減期は、pH10もしくはpH14の水性溶液中多くの場合に
決定できる。
グ基の放出は、実質的に遅れることはない。タイミング
基の放出（半減期により測定される）は、通常半減期が
５秒間以内であり、好ましくは２〜３秒間以内であり、
そして典型的には１秒間以内で起こる。このようにして
半減期は、pH10もしくはpH14の水性溶液中多くの場合に
決定できる。
【００８７】「pH10の水性溶液」とは、３％トリトン
（Triton) Ｘ-100（非イオン性界面活性剤，Aldrich Ch
emical Co.,Milwaukee,WI.より市販）を含有し、23℃及
びリン酸緩衝液を用いてpHを10に調整した水性溶液を意
味する。。「pH14の水性溶液」とは、45％アセトニトリ
ル及び55％水性0.1N水酸化カリウムを含有する23℃の溶
液を意味する。
（Triton) Ｘ-100（非イオン性界面活性剤，Aldrich Ch
emical Co.,Milwaukee,WI.より市販）を含有し、23℃及
びリン酸緩衝液を用いてpHを10に調整した水性溶液を意
味する。。「pH14の水性溶液」とは、45％アセトニトリ
ル及び55％水性0.1N水酸化カリウムを含有する23℃の溶
液を意味する。
【００８８】好ましくは、カプリング脱離基が付着され
るカプラー部分が、シアン、マゼンタもしくはイエロー
色素生成性カプラー部分である。アセトアニリド及びナ
フトールカプラー類が特に好ましい。
るカプラー部分が、シアン、マゼンタもしくはイエロー
色素生成性カプラー部分である。アセトアニリド及びナ
フトールカプラー類が特に好ましい。
【００８９】本明細書で用いられる「カプラー」の語
は、ＩＮＨを包含するカプリング脱離基及びカプラー部
分（ＣＯＵＰ）を包含する化合物全体を称する。「カプ
ラー部分」の語は、カプリング脱離基以外の化合物の部
分を称する。記載された利点を有する画像の形成方法
は、記載されたカプラー（Ａ）の存在下で発色現像主薬
によって露光された写真要素を現像する工程を含んでな
る。
は、ＩＮＨを包含するカプリング脱離基及びカプラー部
分（ＣＯＵＰ）を包含する化合物全体を称する。「カプ
ラー部分」の語は、カプリング脱離基以外の化合物の部
分を称する。記載された利点を有する画像の形成方法
は、記載されたカプラー（Ａ）の存在下で発色現像主薬
によって露光された写真要素を現像する工程を含んでな
る。
【００９０】水可溶化基（ＳＯＬ）は、カプラー（Ａ）
より写真処理中に生成される色素をウオッシュ・アウト
できることが写真技術分野で既知であるいずれかの水可
溶化基（ＳＯＬ）でありうる。典型的な水可溶化基に
は、酸基を末端とする基、例えば、カルボキシ、スルホ
もしくはヒドロキシ（それらはまた塩の形成が可能であ
る）並びに米国特許第 4,482,629号明細書（カラム４，
１〜３行）に記載される別の基が挙げられる。カプラー
（Ａ）は、１つ以上の水可溶化基を担持できる。水可溶
化基の数及びタイプは、露光及び処理の前にカプラー
（Ａ）が写真要素中を移動するのに十分であるべきでは
ない。
より写真処理中に生成される色素をウオッシュ・アウト
できることが写真技術分野で既知であるいずれかの水可
溶化基（ＳＯＬ）でありうる。典型的な水可溶化基に
は、酸基を末端とする基、例えば、カルボキシ、スルホ
もしくはヒドロキシ（それらはまた塩の形成が可能であ
る）並びに米国特許第 4,482,629号明細書（カラム４，
１〜３行）に記載される別の基が挙げられる。カプラー
（Ａ）は、１つ以上の水可溶化基を担持できる。水可溶
化基の数及びタイプは、露光及び処理の前にカプラー
（Ａ）が写真要素中を移動するのに十分であるべきでは
ない。
【００９１】典型的な水可溶化基（ＳＯＬ）は、カルボ
ンアミド基 -CONHRa （ここで、Ｒaは、水素、１〜３
個の炭素原子を含有するアルキル基、好ましくは-CONHC
H3もしくは-CONHC2H5 ；又は水可溶化基、例えば、カル
ボキシ、スルホもしくはヒドロキシ基を含有する基、例
えば、-CONH2CH2CH2OH、-CONH2CH2CO2H 、又は-CONH2CH
2CH2CO2Hである）である。このような基は、例えば、カ
プリング部位にカプリング脱離基を含有するナフトール
系カプラーの２位に存在してもよい。
ンアミド基 -CONHRa （ここで、Ｒaは、水素、１〜３
個の炭素原子を含有するアルキル基、好ましくは-CONHC
H3もしくは-CONHC2H5 ；又は水可溶化基、例えば、カル
ボキシ、スルホもしくはヒドロキシ基を含有する基、例
えば、-CONH2CH2CH2OH、-CONH2CH2CO2H 、又は-CONH2CH
2CH2CO2Hである）である。このような基は、例えば、カ
プリング部位にカプリング脱離基を含有するナフトール
系カプラーの２位に存在してもよい。
【００９２】ＩＮＨは、いずれかの放出可能な現像抑制
剤基でありうる。典型的なＩＮＨ基類は、例えば、米国
特許第 4,477,563号、同第 4,782,012号、同第 4,886,7
36号、同第 4,912,024号、同第 4,959,299号及び同第
5,026,628号明細書に記載されており、その開示は引用
することにより本明細書に組み入れられる。好ましい現
像抑制剤基は、例えば、メルカプトテトラゾール類、メ
ルカプトオキサジアゾール類、メルカプトチアジアゾー
ル類及びベンゾトリアゾール類を包含する複素環式抑制
剤基である。以下の構造Ａ−１〜Ａ−８は、典型的な放
出可能な現像抑制剤基を表す。
剤基でありうる。典型的なＩＮＨ基類は、例えば、米国
特許第 4,477,563号、同第 4,782,012号、同第 4,886,7
36号、同第 4,912,024号、同第 4,959,299号及び同第
5,026,628号明細書に記載されており、その開示は引用
することにより本明細書に組み入れられる。好ましい現
像抑制剤基は、例えば、メルカプトテトラゾール類、メ
ルカプトオキサジアゾール類、メルカプトチアジアゾー
ル類及びベンゾトリアゾール類を包含する複素環式抑制
剤基である。以下の構造Ａ−１〜Ａ−８は、典型的な放
出可能な現像抑制剤基を表す。
【００９３】
【化２０】
【００９４】上式中、Ｒb 、Ｒe 、Ｒh 及びＲi は、別
個に水素、炭素原子数１〜８の置換もしくは無置換のア
ルキル、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、
1-エチルペンチル、2-エトキシエチル、置換フェニル、
無置換フェニル、炭素原子数６〜１０の置換もしくは無
置換のフェニル、アルキルチオ、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチルもしくはオクチルチオ、又はアル
キルエステル類、例えば、−ＣＯ2ＣＨ3、−ＣＯ2Ｃ2Ｈ
5 、−ＣＯ2Ｃ3Ｈ7 、−ＣＯ2Ｃ4Ｈ9 、−ＣＨ2ＣＯ2Ｃ
Ｈ3 、−ＣＨ2ＣＯ2Ｃ2Ｈ5、−ＣＨ2ＣＯ2Ｃ3Ｈ7、−Ｃ
Ｈ2ＣＯ2Ｃ4Ｈ9、−ＣＨ 2ＣＨ2ＣＯ2ＣＨ3、−ＣＨ2Ｃ
Ｈ2ＣＯ2Ｃ2Ｈ5、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯ2Ｃ3Ｈ7及び−ＣＨ2
ＣＨ2ＣＯ2Ｃ4Ｈ9、又はアリールエステル類、例えば、
−ＣＯ2Ｒj 、−ＣＨ2ＣＯ2Ｒj 、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯ2Ｒ
j（ここで、Ｒj は、置換もしくは無置換のアリールで
ある）であり、上式中Ｒc 、Ｒd 、Ｒf 及びＲg は、Ｒ
b 、Ｒe 、Ｒh 及びＲi について記載の通りであるか、
又は別個に１つ以上のハロゲン、例えば、クロロ、フル
オロ、もしくはブロモ、カルボキシルエステル類又は別
の置換基類、例えば、−ＮＨＣＯＣＨ 3 −ＳＯ2ＯＣ
Ｈ3、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＯ2ＣＨ3、−ＯＣＯＣＨ2Ｃ
Ｈ3、−ＮＨＣＯＣＨ3 もしくはニトロ基である。
個に水素、炭素原子数１〜８の置換もしくは無置換のア
ルキル、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、
1-エチルペンチル、2-エトキシエチル、置換フェニル、
無置換フェニル、炭素原子数６〜１０の置換もしくは無
置換のフェニル、アルキルチオ、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチルもしくはオクチルチオ、又はアル
キルエステル類、例えば、−ＣＯ2ＣＨ3、−ＣＯ2Ｃ2Ｈ
5 、−ＣＯ2Ｃ3Ｈ7 、−ＣＯ2Ｃ4Ｈ9 、−ＣＨ2ＣＯ2Ｃ
Ｈ3 、−ＣＨ2ＣＯ2Ｃ2Ｈ5、−ＣＨ2ＣＯ2Ｃ3Ｈ7、−Ｃ
Ｈ2ＣＯ2Ｃ4Ｈ9、−ＣＨ 2ＣＨ2ＣＯ2ＣＨ3、−ＣＨ2Ｃ
Ｈ2ＣＯ2Ｃ2Ｈ5、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯ2Ｃ3Ｈ7及び−ＣＨ2
ＣＨ2ＣＯ2Ｃ4Ｈ9、又はアリールエステル類、例えば、
−ＣＯ2Ｒj 、−ＣＨ2ＣＯ2Ｒj 、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯ2Ｒ
j（ここで、Ｒj は、置換もしくは無置換のアリールで
ある）であり、上式中Ｒc 、Ｒd 、Ｒf 及びＲg は、Ｒ
b 、Ｒe 、Ｒh 及びＲi について記載の通りであるか、
又は別個に１つ以上のハロゲン、例えば、クロロ、フル
オロ、もしくはブロモ、カルボキシルエステル類又は別
の置換基類、例えば、−ＮＨＣＯＣＨ 3 −ＳＯ2ＯＣ
Ｈ3、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＯ2ＣＨ3、−ＯＣＯＣＨ2Ｃ
Ｈ3、−ＮＨＣＯＣＨ3 もしくはニトロ基である。
【００９５】本明細書で用いられる写真バラスト基（Ｂ
ＡＬＬ）の語は、写真技術分野で既知であるバラスト基
である。記載されるバラスト基は、写真要素中に塗布さ
れている層から分子を十分非拡散性にするために、分子
上に十分な嵩を授与するようなサイズ及び立体配置の有
機基である。代表的なバラスト基には、典型的に炭素原
子８〜４０個を含有する置換もしくは無置換のアルキル
もしくはアリール基が挙げられる。記載されるバラスト
基は、Ｘ−ＲＥＬ1 上に配置されるか、Ｒ9 もしくはＲ
10のどちらかでありうる。
ＡＬＬ）の語は、写真技術分野で既知であるバラスト基
である。記載されるバラスト基は、写真要素中に塗布さ
れている層から分子を十分非拡散性にするために、分子
上に十分な嵩を授与するようなサイズ及び立体配置の有
機基である。代表的なバラスト基には、典型的に炭素原
子８〜４０個を含有する置換もしくは無置換のアルキル
もしくはアリール基が挙げられる。記載されるバラスト
基は、Ｘ−ＲＥＬ1 上に配置されるか、Ｒ9 もしくはＲ
10のどちらかでありうる。
【００９６】記載された利点を有する画像の形成方法
は、記載されたカプラー（Ａ）の存在下で発色現像主薬
によって露光された写真要素を現像する工程を含んでな
る。好ましいカプラー（Ａ）は、アセトアニリド又はナ
フトール系カプラーである。
は、記載されたカプラー（Ａ）の存在下で発色現像主薬
によって露光された写真要素を現像する工程を含んでな
る。好ましいカプラー（Ａ）は、アセトアニリド又はナ
フトール系カプラーである。
【００９７】カプラー部分（ＣＯＵＰ）は、カプラー部
分が、酸化された発色現像主薬と反応してカプリング脱
離基のＸ−ＲＥＬ（放出性基）部分及びカプラー部分間
の結合を開裂するであろうことを条件として、水可溶化
基を有するいずれかの部分でありうる。本明細書におけ
るカプラー部分は、酸化された発色現像主薬類との反応
で着色生成物を与えるカプラー部分と同様に、酸化され
た発色現像主薬類との反応で無色生成物を与える伝統的
な色生成性カプラー類に使用されるカプラー部分を包含
する。両タイプのカプラー部分が、写真技術者らに既知
である。
分が、酸化された発色現像主薬と反応してカプリング脱
離基のＸ−ＲＥＬ（放出性基）部分及びカプラー部分間
の結合を開裂するであろうことを条件として、水可溶化
基を有するいずれかの部分でありうる。本明細書におけ
るカプラー部分は、酸化された発色現像主薬類との反応
で着色生成物を与えるカプラー部分と同様に、酸化され
た発色現像主薬類との反応で無色生成物を与える伝統的
な色生成性カプラー類に使用されるカプラー部分を包含
する。両タイプのカプラー部分が、写真技術者らに既知
である。
【００９８】カプラー部分は、酸化的カプリングの際に
生成される色素が写真要素からウオッシュ・アウトでき
ることを条件として、バラスト化又は非バラスト化でき
る。それはモノマーであってもよく、又はそれはダイマ
ー、オリゴマーもしくはポリマーカプラーであってもよ
く、その場合には、ＰＵＧを含有するその１つ以上の基
がカプラーに含有されることができるか、又はそれが、
ＩＮＨが２つのカプラー部分間に連鎖の一部を形成して
いるビス化合物の一部を形成できる。
生成される色素が写真要素からウオッシュ・アウトでき
ることを条件として、バラスト化又は非バラスト化でき
る。それはモノマーであってもよく、又はそれはダイマ
ー、オリゴマーもしくはポリマーカプラーであってもよ
く、その場合には、ＰＵＧを含有するその１つ以上の基
がカプラーに含有されることができるか、又はそれが、
ＩＮＨが２つのカプラー部分間に連鎖の一部を形成して
いるビス化合物の一部を形成できる。
【００９９】ＩＮＨは、像様型の写真要素に標準的に利
用されるいずれかの言及された複素環式抑制剤基であり
うる。また、カプラー類の組み合わせ、例えば、カプラ
ー（Ａ）の組み合わせが有用である。少なくとも１つの
カプラー（Ａ）と試薬もしくは写真色素を放出できる別
のカプラーの組み合わせが有用である。本明細書におけ
る写真試薬は、放出の際に更に写真要素中の成分と反応
する部分、例えば、現像抑制剤、現像促進剤、漂白抑制
剤、漂白促進剤、カプラー（例えば、競合性カプラー、
色素生成性カプラー、もしくは現像抑制剤放出性カプラ
ー（ＤＩＲ））、色素前駆体、色素、現像主薬（例え
ば、競合性現像主薬、色素生成性現像主薬、もしくはハ
ロゲン化銀現像主薬）、銀錯化剤、定着剤、画像トナ
ー、安定剤、硬化剤、タンニング剤、カブリ剤、紫外線
吸収剤、カブリ防止剤、核生成剤、化学もしくは分光増
感剤又は減感剤である。
用されるいずれかの言及された複素環式抑制剤基であり
うる。また、カプラー類の組み合わせ、例えば、カプラ
ー（Ａ）の組み合わせが有用である。少なくとも１つの
カプラー（Ａ）と試薬もしくは写真色素を放出できる別
のカプラーの組み合わせが有用である。本明細書におけ
る写真試薬は、放出の際に更に写真要素中の成分と反応
する部分、例えば、現像抑制剤、現像促進剤、漂白抑制
剤、漂白促進剤、カプラー（例えば、競合性カプラー、
色素生成性カプラー、もしくは現像抑制剤放出性カプラ
ー（ＤＩＲ））、色素前駆体、色素、現像主薬（例え
ば、競合性現像主薬、色素生成性現像主薬、もしくはハ
ロゲン化銀現像主薬）、銀錯化剤、定着剤、画像トナ
ー、安定剤、硬化剤、タンニング剤、カブリ剤、紫外線
吸収剤、カブリ防止剤、核生成剤、化学もしくは分光増
感剤又は減感剤である。
【０１００】ＩＮＨは、予め形成された種としてカプリ
ング脱離基に存在できるが、又それは、ブロックされた
形で又は前駆体としてカプリング脱離基に存在できる。
本発明のカプラー及び本発明のカプラー（Ａ）に有用な
カプラー部分に有用である代表的なカプラー類を記載す
る特許及び刊行物を以下に列挙する。 Ｉ． ＣＯＵＰ′ｓ
ング脱離基に存在できるが、又それは、ブロックされた
形で又は前駆体としてカプリング脱離基に存在できる。
本発明のカプラー及び本発明のカプラー（Ａ）に有用な
カプラー部分に有用である代表的なカプラー類を記載す
る特許及び刊行物を以下に列挙する。 Ｉ． ＣＯＵＰ′ｓ
【０１０１】Ａ．酸化された発色現像主薬類との反応で
シアン色素類を生成するカプラー類は、米国特許第 2,7
72,162号、同第 2,895,826号、同第 3,002,836号、同第
3,034,892号、同第 2,474,293号、同第 2,423,730号、
同第 2,367,531号、同第 3,041,236号及び同第 4,333,9
99号明細書並びに「Farbkuppler-eine Literaturubersi
cht,」Agfa Mitteilungen 出版 ,Band III,156〜175 ペ
ージ(1961)を初めとする代表的な特許類及び刊行物類に
記載されている。好ましくはこのようなカプラー類は、
酸化された発色現像主薬との反応でシアン色素類を生成
するフェノール類及びナフトール類である。
シアン色素類を生成するカプラー類は、米国特許第 2,7
72,162号、同第 2,895,826号、同第 3,002,836号、同第
3,034,892号、同第 2,474,293号、同第 2,423,730号、
同第 2,367,531号、同第 3,041,236号及び同第 4,333,9
99号明細書並びに「Farbkuppler-eine Literaturubersi
cht,」Agfa Mitteilungen 出版 ,Band III,156〜175 ペ
ージ(1961)を初めとする代表的な特許類及び刊行物類に
記載されている。好ましくはこのようなカプラー類は、
酸化された発色現像主薬との反応でシアン色素類を生成
するフェノール類及びナフトール類である。
【０１０２】Ｂ．酸化された発色現像主薬類との反応で
マゼンタ色素類を生成するカプラー類は、米国特許第
2,600,788号、同第 2,369,489号、同第 2,343,703号、
同第 2,311,082号、同第 3,152,896号、同第 3,519,429
号、同第 3,062,653号、及び同第 2,908,573号明細書並
びに「Farbkuppler-eine Literaturubersicht,」Agfa M
itteilungen 出版 ,Band III,126〜156 ページ(1961)を
初めとする代表的な特許類及び刊行物類に記載されてい
る。好ましくはこのようなマゼンタ色素生成性カプラー
類は、ピラゾロン類及びピラゾロトリアゾールカプラー
類である。
マゼンタ色素類を生成するカプラー類は、米国特許第
2,600,788号、同第 2,369,489号、同第 2,343,703号、
同第 2,311,082号、同第 3,152,896号、同第 3,519,429
号、同第 3,062,653号、及び同第 2,908,573号明細書並
びに「Farbkuppler-eine Literaturubersicht,」Agfa M
itteilungen 出版 ,Band III,126〜156 ページ(1961)を
初めとする代表的な特許類及び刊行物類に記載されてい
る。好ましくはこのようなマゼンタ色素生成性カプラー
類は、ピラゾロン類及びピラゾロトリアゾールカプラー
類である。
【０１０３】Ｃ．酸化された発色現像主薬類との反応で
イエロー色素類を生成するカプラー類は、米国特許第
2,875,057号、同第 2,407,210号、同第 3,265,506号、
同第 2,298,443号、同第 3,048,194号及び同第 3,447,9
28号明細書並びに「Farbkuppler-eine Literaturubersi
cht,」Agfa Mitteilungen 出版 ,Band III,112〜126 ペ
ージ(1961)を初めとする代表的な特許類及び刊行物類に
記載されている。好ましくはこのようなイエロー色素生
成性カプラー類は、アシルアセトアミド類、例えば、ベ
ンゾイルアセトアミド類及びピバロイルアセトアミド類
である。
イエロー色素類を生成するカプラー類は、米国特許第
2,875,057号、同第 2,407,210号、同第 3,265,506号、
同第 2,298,443号、同第 3,048,194号及び同第 3,447,9
28号明細書並びに「Farbkuppler-eine Literaturubersi
cht,」Agfa Mitteilungen 出版 ,Band III,112〜126 ペ
ージ(1961)を初めとする代表的な特許類及び刊行物類に
記載されている。好ましくはこのようなイエロー色素生
成性カプラー類は、アシルアセトアミド類、例えば、ベ
ンゾイルアセトアミド類及びピバロイルアセトアミド類
である。
【０１０４】Ｃ．酸化された発色現像主薬類との反応で
無色生成物類を生成するカプラー類は、イギリス特許第
861,138号細書並びに米国特許第 3,632,345号、同第
3,928,041号、同第 3,958,993号及び同第 3,961,959号
明細書を初めとする代表的な特許類に記載されている。
無色生成物類を生成するカプラー類は、イギリス特許第
861,138号細書並びに米国特許第 3,632,345号、同第
3,928,041号、同第 3,958,993号及び同第 3,961,959号
明細書を初めとする代表的な特許類に記載されている。
【０１０５】本発明の写真カプラー類は、写真技術分野
で既知である手段及び方法によって写真要素に組み入れ
ることができる。露光及び処理前の写真要素中では、写
真カプラーは、それが写真層を介して拡散しないような
サイズ及び立体配置であるべきである。
で既知である手段及び方法によって写真要素に組み入れ
ることができる。露光及び処理前の写真要素中では、写
真カプラーは、それが写真層を介して拡散しないような
サイズ及び立体配置であるべきである。
【０１０６】本発明の写真要素は、色素生成性カプラー
類及び発色現像主薬類が別個の処理溶液もしくは組成物
又は要素に組み入れられている伝統的な技術により処理
できる。
類及び発色現像主薬類が別個の処理溶液もしくは組成物
又は要素に組み入れられている伝統的な技術により処理
できる。
【０１０７】本発明のカプラー類が組み入れられている
写真要素は、支持体及び単一ハロゲン化銀乳剤層を含ん
で成る単一要素であることができ、又はそれらは、多層
多色要素であってもよい。本発明のカプラー類は、少な
くとも１つのハロゲン化銀乳剤層及び／又は少なくとも
１つの別の層、例えば、隣接層に組み入れることがで
き、そこでそれらは、乳剤層中のハロゲン化銀を現像し
た酸化された発色現像主薬と共同して反応性になるであ
ろう。ハロゲン化銀乳剤層は、それ、別の写真カプラー
化合物類、例えば、色素生成性カプラー類、カラードマ
スキングカプラー類及び／又は競合カプラー類を含有す
るか又は組合わさっていることができる。これらの別の
写真カプラー類は、本発明の写真カプラー類と同一又は
異なる色彩及び色相の色素を生成できる。更に、ハロゲ
ン化銀乳剤層及び写真要素の別の層は、このような層に
伝統的に含有される添加剤類を含有できる。
写真要素は、支持体及び単一ハロゲン化銀乳剤層を含ん
で成る単一要素であることができ、又はそれらは、多層
多色要素であってもよい。本発明のカプラー類は、少な
くとも１つのハロゲン化銀乳剤層及び／又は少なくとも
１つの別の層、例えば、隣接層に組み入れることがで
き、そこでそれらは、乳剤層中のハロゲン化銀を現像し
た酸化された発色現像主薬と共同して反応性になるであ
ろう。ハロゲン化銀乳剤層は、それ、別の写真カプラー
化合物類、例えば、色素生成性カプラー類、カラードマ
スキングカプラー類及び／又は競合カプラー類を含有す
るか又は組合わさっていることができる。これらの別の
写真カプラー類は、本発明の写真カプラー類と同一又は
異なる色彩及び色相の色素を生成できる。更に、ハロゲ
ン化銀乳剤層及び写真要素の別の層は、このような層に
伝統的に含有される添加剤類を含有できる。
【０１０８】典型的な多層多色写真要素は、シアン色素
画像形成性材料と組合わさった赤感性ハロゲン化銀乳剤
単位、マゼンタ色素画像形成性材料と組合わさった緑感
性ハロゲン化銀乳剤単位及びイエロー色素画像形成性材
料と組合わさった青感性ハロゲン化銀乳剤単位であっ
て、少なくとも１つのハロゲン化銀乳剤単位が本発明の
写真カプラーと組合わさっている単位を担持する支持体
を含んで成ることができる。各ハロゲン化銀乳剤単位は
１つ以上の層から成り、そして多種単位及び層は互いに
関して異なる場所に配置できる。
画像形成性材料と組合わさった赤感性ハロゲン化銀乳剤
単位、マゼンタ色素画像形成性材料と組合わさった緑感
性ハロゲン化銀乳剤単位及びイエロー色素画像形成性材
料と組合わさった青感性ハロゲン化銀乳剤単位であっ
て、少なくとも１つのハロゲン化銀乳剤単位が本発明の
写真カプラーと組合わさっている単位を担持する支持体
を含んで成ることができる。各ハロゲン化銀乳剤単位は
１つ以上の層から成り、そして多種単位及び層は互いに
関して異なる場所に配置できる。
【０１０９】本発明のカプラーは、写真要素の１つ以上
の層もしくは単位に組み入れるか、又はそれらと組み合
わせることができる。例えば、ＰＵＧにより影響を受け
る層及び単位は、所望の層もしくは単位にＰＵＧの作用
を制限するであろうスカベンジャー層を要素の適当な場
所に組み入れることにより調節できる。写真要素の少な
くとも１つの層は、例えば、媒染層もしくはバリヤー層
でありうる。
の層もしくは単位に組み入れるか、又はそれらと組み合
わせることができる。例えば、ＰＵＧにより影響を受け
る層及び単位は、所望の層もしくは単位にＰＵＧの作用
を制限するであろうスカベンジャー層を要素の適当な場
所に組み入れることにより調節できる。写真要素の少な
くとも１つの層は、例えば、媒染層もしくはバリヤー層
でありうる。
【０１１０】感光性ハロゲン化銀乳剤層は、粗、レギュ
ラーもしくは微細粒状ハロゲン化銀結晶又はそれらの混
合物を含むことができ、且つ塩化銀、臭化銀、臭ヨウ化
銀、塩臭化銀、塩ヨウ化銀及び塩臭ヨウ化銀並びにそれ
らの混合物を初めとするハロゲン化銀を含んで成ること
ができる。乳剤は、ネガ型又はポジ型乳剤でありうる。
それらは、主にハロゲン化銀粒子の表面上に又は主にハ
ロゲン化銀粒子の内部に潜像を形成できる。それらは化
学もしくは分光増感できる。典型的には、乳剤はゼラチ
ン乳剤であるとはいえ、別の親水性コロイドが有用であ
る。例えば、リサーチ・ディスクロージャー（Research
Disclosure ），1983年１月，Item No.22534,及び米国
特許第 4,434,226号明細書に記載されるような平板状粒
子感光性ハロゲン化銀は、特に有用である。
ラーもしくは微細粒状ハロゲン化銀結晶又はそれらの混
合物を含むことができ、且つ塩化銀、臭化銀、臭ヨウ化
銀、塩臭化銀、塩ヨウ化銀及び塩臭ヨウ化銀並びにそれ
らの混合物を初めとするハロゲン化銀を含んで成ること
ができる。乳剤は、ネガ型又はポジ型乳剤でありうる。
それらは、主にハロゲン化銀粒子の表面上に又は主にハ
ロゲン化銀粒子の内部に潜像を形成できる。それらは化
学もしくは分光増感できる。典型的には、乳剤はゼラチ
ン乳剤であるとはいえ、別の親水性コロイドが有用であ
る。例えば、リサーチ・ディスクロージャー（Research
Disclosure ），1983年１月，Item No.22534,及び米国
特許第 4,434,226号明細書に記載されるような平板状粒
子感光性ハロゲン化銀は、特に有用である。
【０１１１】支持体は、写真要素に使用されるいずれか
の支持体でありうる。典型的な支持体には、硝酸セルロ
ースフィルム、酢酸セルロースフィルム、ポリビニルア
セタールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィル
ム、ポリカーボネートフィルム及び関連フィルム又は樹
脂材料並びにガラス、紙、金属などが挙げられる。典型
的には、軟質支持体、例えば、ポリマーフィルムもしく
は紙支持体が使用される。紙支持体はアセチル化する
か、又はバリタ及び／又はα−オレフィンポリマー、詳
細には、２〜１０個の炭素原子を含有するα−オレフィ
ンのポリマー、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレン−ブチレンコポリマー類などで被覆でき
る。
の支持体でありうる。典型的な支持体には、硝酸セルロ
ースフィルム、酢酸セルロースフィルム、ポリビニルア
セタールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィル
ム、ポリカーボネートフィルム及び関連フィルム又は樹
脂材料並びにガラス、紙、金属などが挙げられる。典型
的には、軟質支持体、例えば、ポリマーフィルムもしく
は紙支持体が使用される。紙支持体はアセチル化する
か、又はバリタ及び／又はα−オレフィンポリマー、詳
細には、２〜１０個の炭素原子を含有するα−オレフィ
ンのポリマー、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレン−ブチレンコポリマー類などで被覆でき
る。
【０１１２】カプラー（Ａ）は、以前から写真要素に使
用されてきたメルカプトテトラゾール抑制剤基を放出す
る写真カプラー類と同様の方法で写真要素に使用でき
る。しかしながら、ＩＮＨの放出を調節するように改良
された能力によって、カプラー類は効果が増強されるか
又はより選択的になる。
用されてきたメルカプトテトラゾール抑制剤基を放出す
る写真カプラー類と同様の方法で写真要素に使用でき
る。しかしながら、ＩＮＨの放出を調節するように改良
された能力によって、カプラー類は効果が増強されるか
又はより選択的になる。
【０１１３】本発明の乳剤及び要素に使用される適当な
材料についての以下の検討では、引用はリサーチ・ディ
スクロージャー（Research Disclosure ），1978年12
月，Item No.17643,Industrial Opportunities Ltd. 出
版,Homewell Havant,Hampshir,P09 1EF,U.K., に対して
成され、その記載内容は引用することにより本発明に組
み入れられる。この刊行物は以下本発明では「リサーチ
・ディスクロージャー」の語と同一である。写真要素
は、リサーチ・ディスクロージャー第XVII節及びそこに
記載される文献に記載されるような多種支持体上に塗布
できる。
材料についての以下の検討では、引用はリサーチ・ディ
スクロージャー（Research Disclosure ），1978年12
月，Item No.17643,Industrial Opportunities Ltd. 出
版,Homewell Havant,Hampshir,P09 1EF,U.K., に対して
成され、その記載内容は引用することにより本発明に組
み入れられる。この刊行物は以下本発明では「リサーチ
・ディスクロージャー」の語と同一である。写真要素
は、リサーチ・ディスクロージャー第XVII節及びそこに
記載される文献に記載されるような多種支持体上に塗布
できる。
【０１１４】写真要素は、化学輻射線、典型的には可視
スペクトル領域で露光され、リサーチ・ディスクロージ
ャー第XVIII 節に記載されるように潜像を形成し次いで
リサーチ・ディスクロージャー第XIX 節に記載されるよ
うに処理されると可視色素画像を形成する。可視色素画
像を形成するための処理は、要素を発色現像主薬と接触
せしめて現像可能なハロゲン化銀を還元し且つ発色現像
主薬を酸化する工程を含む。酸化された発色現像主薬
は、次いでカプラーと反応して色素を与える。
スペクトル領域で露光され、リサーチ・ディスクロージ
ャー第XVIII 節に記載されるように潜像を形成し次いで
リサーチ・ディスクロージャー第XIX 節に記載されるよ
うに処理されると可視色素画像を形成する。可視色素画
像を形成するための処理は、要素を発色現像主薬と接触
せしめて現像可能なハロゲン化銀を還元し且つ発色現像
主薬を酸化する工程を含む。酸化された発色現像主薬
は、次いでカプラーと反応して色素を与える。
【０１１５】本発明に有用な好ましい発色現像主薬はｐ
−フェニレンジアミン類である。特に好ましいものは、
４−アミノ−N, N−ジエチルアニリン塩酸塩、４−アミ
ノ−３−メチル−N, N−ジエチルアニリン塩酸塩、４−
アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−β−（メタンス
ルホンアミド）エチルアニリン硫酸塩水和物、４−アミ
ノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−β−ヒドロキシエチ
ルアニリン硫酸塩、４−アミノ−３−β−（メタンスル
ホンアミド）エチルメチル−N, N−ジエチルアニリン塩
酸塩、及び４−アミノ−Ｎ−エチル−Ｎ−（２−メトキ
シエチル）−ｍ−トルイジン ジ−ｐ−トルエンスルホ
ン酸である。
−フェニレンジアミン類である。特に好ましいものは、
４−アミノ−N, N−ジエチルアニリン塩酸塩、４−アミ
ノ−３−メチル−N, N−ジエチルアニリン塩酸塩、４−
アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−β−（メタンス
ルホンアミド）エチルアニリン硫酸塩水和物、４−アミ
ノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−β−ヒドロキシエチ
ルアニリン硫酸塩、４−アミノ−３−β−（メタンスル
ホンアミド）エチルメチル−N, N−ジエチルアニリン塩
酸塩、及び４−アミノ−Ｎ−エチル−Ｎ−（２−メトキ
シエチル）−ｍ−トルイジン ジ−ｐ−トルエンスルホ
ン酸である。
【０１１６】記載された写真材料及びプロセスは、例え
ば、リサーチ・ディスクロージャー（Research Disclos
ure ），1989年12月，Item No.308,119,（その記載内容
は引用することにより本発明に組み入れられる）に記載
されるような、写真技術分野で有用であることが既知で
ある写真ハロゲン化銀乳剤類及び添加剤類と共に使用で
きる。
ば、リサーチ・ディスクロージャー（Research Disclos
ure ），1989年12月，Item No.308,119,（その記載内容
は引用することにより本発明に組み入れられる）に記載
されるような、写真技術分野で有用であることが既知で
ある写真ハロゲン化銀乳剤類及び添加剤類と共に使用で
きる。
【０１１７】ネガ型ハロゲン化銀を用いると上記処理工
程はネガ画像を与える。ポジ（又はリバーサル）画像を
得るためには、この工程に先立って、色素を生成しない
で露光されたハロゲン化銀を現像する非色素生成性現像
主薬で現像し、次いで要素を均一にカブらせて露光され
ていないハロゲン化銀を現像可能にすることができる。
あるいは、直接ポジティブ乳剤がポジ画像を得るために
使用できる。
程はネガ画像を与える。ポジ（又はリバーサル）画像を
得るためには、この工程に先立って、色素を生成しない
で露光されたハロゲン化銀を現像する非色素生成性現像
主薬で現像し、次いで要素を均一にカブらせて露光され
ていないハロゲン化銀を現像可能にすることができる。
あるいは、直接ポジティブ乳剤がポジ画像を得るために
使用できる。
【０１１８】現像は、銀もしくはハロゲン化銀を取り除
くための伝統的な漂白、定着又は漂白定着、洗浄そして
乾燥工程と続く。本発明の代表的な化合物は、以下のよ
うに製造できる。
くための伝統的な漂白、定着又は漂白定着、洗浄そして
乾燥工程と続く。本発明の代表的な化合物は、以下のよ
うに製造できる。
【０１１９】
【化２１】
【０１２０】
【化２２】
【０１２１】化合物（２） ２−フルオロ−５−ニトロアニリン（75ｇ，0.48モ
ル），（１）をＴＨＦ（750 mL）に入れた。この溶液を
０℃まで冷却し、トリフルオロ酢酸無水物（ 130mL,0.9
33モル）を30分間に亘ってかなり迅速に添加した。添加
終了時に黄色のアミンはオレンジ色の溶液に変化した。
反応混合物を室温で８時間攪拌した。この期間の終了時
に減圧下で溶剤を除去し、残渣をトルエンを用いて共蒸
発せしめ、そして固体をトルエンから再結晶した。生成
物，化合物（２）をオフホワイトの固体,106ｇ（88％）
として採取した。
ル），（１）をＴＨＦ（750 mL）に入れた。この溶液を
０℃まで冷却し、トリフルオロ酢酸無水物（ 130mL,0.9
33モル）を30分間に亘ってかなり迅速に添加した。添加
終了時に黄色のアミンはオレンジ色の溶液に変化した。
反応混合物を室温で８時間攪拌した。この期間の終了時
に減圧下で溶剤を除去し、残渣をトルエンを用いて共蒸
発せしめ、そして固体をトルエンから再結晶した。生成
物，化合物（２）をオフホワイトの固体,106ｇ（88％）
として採取した。
【０１２２】化合物（３） 化合物（２）（ 103.5ｇ，0.41モル）をアセトン（500
mL）に入れた。この溶液にヨウ化メチル（ 187.6ｇ，1.
32モル）を攪拌しながら添加し、続いて85%-KOH （94
ｇ, 1.68モル）を添加した。室温で攪拌を続けると、こ
こで溶液は還流し始めた。約30〜45分後に還流は鎮静し
そして温度は低下し始めた。約 1.5時間攪拌を続けた。
この期間の終了時に沈殿したKIを濾取しそして濾液を減
圧下で濃縮した 。このようにして得られた残渣を酢酸
エチルと水の混合物に入れ、分離せしめて、そして酢酸
エチル層を水（Ｘ３）で洗浄した。次いでオリジナル層
を乾燥し（ MgSO4）、濾過し、そして減圧下で溶剤を除
去した。このようにして得られた結晶をヘプタンでフラ
スコから洗い出した。生成物，化合物（３）は 122.5ｇ
（88％）に達した。
mL）に入れた。この溶液にヨウ化メチル（ 187.6ｇ，1.
32モル）を攪拌しながら添加し、続いて85%-KOH （94
ｇ, 1.68モル）を添加した。室温で攪拌を続けると、こ
こで溶液は還流し始めた。約30〜45分後に還流は鎮静し
そして温度は低下し始めた。約 1.5時間攪拌を続けた。
この期間の終了時に沈殿したKIを濾取しそして濾液を減
圧下で濃縮した 。このようにして得られた残渣を酢酸
エチルと水の混合物に入れ、分離せしめて、そして酢酸
エチル層を水（Ｘ３）で洗浄した。次いでオリジナル層
を乾燥し（ MgSO4）、濾過し、そして減圧下で溶剤を除
去した。このようにして得られた結晶をヘプタンでフラ
スコから洗い出した。生成物，化合物（３）は 122.5ｇ
（88％）に達した。
【０１２３】化合物（４） ０℃で１時間に亘って無水酢酸（8.3 mL）及び蟻酸（4.
2 mL）より製造した混合無水物を、０℃のＴＨＦ（50m
L）中化合物（３）（ 6.6ｇ,38.76ミリモル）に滴下し
た。反応混合物の温度を室温にし、そして溶液を２時間
攪拌した。この期間の終了時に、油状物になるまで溶液
を減圧下で濃縮し、そして酢酸エチルに入れた。次いで
酢酸エチルを2.5%Na2CO3（Ｘ３）、2N-HCl（Ｘ１）で洗
浄し、乾燥し（ MgSO4）、濾過し、そして油状物になる
まで溶液を濃縮すると、それは徐々に結晶化した。化合
物（４）の収量，5.0 ｇ（65％）。
2 mL）より製造した混合無水物を、０℃のＴＨＦ（50m
L）中化合物（３）（ 6.6ｇ,38.76ミリモル）に滴下し
た。反応混合物の温度を室温にし、そして溶液を２時間
攪拌した。この期間の終了時に、油状物になるまで溶液
を減圧下で濃縮し、そして酢酸エチルに入れた。次いで
酢酸エチルを2.5%Na2CO3（Ｘ３）、2N-HCl（Ｘ１）で洗
浄し、乾燥し（ MgSO4）、濾過し、そして油状物になる
まで溶液を濃縮すると、それは徐々に結晶化した。化合
物（４）の収量，5.0 ｇ（65％）。
【０１２４】化合物（６） 1,4−ジヒドロキシナフタレン−２−カルボキシアミド
（５）（4.66ｇ,22.94ミリモル）を脱酸素化10％水性Ｄ
ＭＳＯ（60mL）に溶解し、そして溶液を窒素雰囲気下で
攪拌した。次いでこの溶液に85%-KOH （ 3.3ｇ,50.08ミ
リモル）を添加した。混合物を約15分間室温で攪拌して
溶解を完了させた。次いでこの溶液を５℃まで冷却しそ
して化合物（４）（ 5.0ｇ,25.23ミリモル）を固体とし
てすべて一度に添加した。攪拌を続けると、温度は約10
℃まで上昇した。温度を 5〜10℃の範囲内に15分間維持
せしめた後、次いで反応混合物を氷冷2N−HCl に注ぎ込
み、濾過し、水で洗浄し、そして最終的に風乾した。こ
れで、化合物（６），収量，8.5 ｇ（97％）、次工程で
使用するには十分純粋である，が得られた。
（５）（4.66ｇ,22.94ミリモル）を脱酸素化10％水性Ｄ
ＭＳＯ（60mL）に溶解し、そして溶液を窒素雰囲気下で
攪拌した。次いでこの溶液に85%-KOH （ 3.3ｇ,50.08ミ
リモル）を添加した。混合物を約15分間室温で攪拌して
溶解を完了させた。次いでこの溶液を５℃まで冷却しそ
して化合物（４）（ 5.0ｇ,25.23ミリモル）を固体とし
てすべて一度に添加した。攪拌を続けると、温度は約10
℃まで上昇した。温度を 5〜10℃の範囲内に15分間維持
せしめた後、次いで反応混合物を氷冷2N−HCl に注ぎ込
み、濾過し、水で洗浄し、そして最終的に風乾した。こ
れで、化合物（６），収量，8.5 ｇ（97％）、次工程で
使用するには十分純粋である，が得られた。
【０１２５】化合物（７） 化合物（６）（8.5 ｇ, 22.29 ミリモル）をＴＨＦ（50
mL）に入れ、そしてメチルアルコール（ 150mL）を添加
した。次いで水（Ｘ３）及びメチルアルコール（Ｘ３）
で予備洗浄したラネーニッケル（Raney-Nickel）触媒を
溶液に添加し、そして室温、50 psiで水素化を実施し
た。水素化中に生成物が晶出したが、更なるＴＨＦの添
加により再溶解できた。数時間後、水素取り込みが終わ
ると、触媒を注意深く濾取して残渣を熱ピリジンで洗浄
した。濃縮すると、生成物，化合物（７）が晶出しそれ
を濾取した。収量7.83ｇ（ 100％）。
mL）に入れ、そしてメチルアルコール（ 150mL）を添加
した。次いで水（Ｘ３）及びメチルアルコール（Ｘ３）
で予備洗浄したラネーニッケル（Raney-Nickel）触媒を
溶液に添加し、そして室温、50 psiで水素化を実施し
た。水素化中に生成物が晶出したが、更なるＴＨＦの添
加により再溶解できた。数時間後、水素取り込みが終わ
ると、触媒を注意深く濾取して残渣を熱ピリジンで洗浄
した。濃縮すると、生成物，化合物（７）が晶出しそれ
を濾取した。収量7.83ｇ（ 100％）。
【０１２６】化合物（８） 化合物（７）（7.83ｇ, 22.29 ミリモル）をドライピリ
ジン（ 100mL）に溶解し、そしてｎ−ヘキサデシルスル
ホニルクロリド（7.97ｇ, 24.52 ミリモル）を添加し
た。得られた溶液を約30分間攪拌した後、ｎ−ヘキサデ
シルスルホニルクロリド（ 1.0ｇ）の更なるバッチを添
加した。更に30分後にピリジンを減圧下で濃縮しそして
油状残渣を酢酸エチルに入れ、それを2N−HCl （Ｘ３）
で洗浄し、乾燥し（ MgSO4）、濾過しそして濃縮すると
油状物が得られた。アセトニトリルで処理すると化合物
（８）のホルムアミドが晶出し、それを濾取しそして風
乾すると 9.5ｇ（67％）得られた。上記ホルムアミド
（ 8.0ｇ, 12.50 ミリモル）をＤＭＳＯ（20mL）に溶解
し、それに水（20mL）中85％-KOH（8.24ｇ,12.48ミリモ
ル）を添加した。得られた溶液を蒸気浴上で約５時間加
熱した。この期間の終了時に、反応溶液を冷却し、2N−
HCl に注ぎ入れ、そして酢酸エチルで抽出した。次いで
酢酸エチル抽出物を2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、乾燥し
（ MgSO4）、濾過しそして減圧下で濃縮した。乾燥状態
になる前に生成物が晶出し、それを濾取し、少量の冷酢
酸エチルで洗浄し、そして風乾した。生成物，化合物
（８）が、オフホワイトの固体として得られた，収量
4.7ｇ（62％）。
ジン（ 100mL）に溶解し、そしてｎ−ヘキサデシルスル
ホニルクロリド（7.97ｇ, 24.52 ミリモル）を添加し
た。得られた溶液を約30分間攪拌した後、ｎ−ヘキサデ
シルスルホニルクロリド（ 1.0ｇ）の更なるバッチを添
加した。更に30分後にピリジンを減圧下で濃縮しそして
油状残渣を酢酸エチルに入れ、それを2N−HCl （Ｘ３）
で洗浄し、乾燥し（ MgSO4）、濾過しそして濃縮すると
油状物が得られた。アセトニトリルで処理すると化合物
（８）のホルムアミドが晶出し、それを濾取しそして風
乾すると 9.5ｇ（67％）得られた。上記ホルムアミド
（ 8.0ｇ, 12.50 ミリモル）をＤＭＳＯ（20mL）に溶解
し、それに水（20mL）中85％-KOH（8.24ｇ,12.48ミリモ
ル）を添加した。得られた溶液を蒸気浴上で約５時間加
熱した。この期間の終了時に、反応溶液を冷却し、2N−
HCl に注ぎ入れ、そして酢酸エチルで抽出した。次いで
酢酸エチル抽出物を2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、乾燥し
（ MgSO4）、濾過しそして減圧下で濃縮した。乾燥状態
になる前に生成物が晶出し、それを濾取し、少量の冷酢
酸エチルで洗浄し、そして風乾した。生成物，化合物
（８）が、オフホワイトの固体として得られた，収量
4.7ｇ（62％）。
【０１２７】化合物（１０） 化合物（８）（6.5 ｇ, 10.62 ミリモル）をＴＨＦ（50
mL）に溶解し、そしてトルエン中ホスゲンの12％溶液
（26mL, 31.87 ミリモル）を添加し、続いて N,N−ジエ
チルアニリン（1.14mL，7.19ミリモル）を添加した。室
温で15分間攪拌した後、減圧下で溶剤を除去すると化合
物（８）の粗塩化カルバミルが得られた。次いでこの塩
化カルバミルを次工程で用いた。上記粗塩化カルバミル
をドライピリジン（60mL）に溶解し、そして４−ヒドロ
キシメチル−２−ニトロフェノール（９）（1.97ｇ, 1
1.68 ミリモル）を添加しそして得られた溶液を室温で
３時間攪拌した。次いで溶液を減圧下で濃縮し、そして
油状物を酢酸エチルに入れ、2N−HCl （Ｘ３）で洗浄
し、乾燥し（ MgSO4）、濾過しそして再度濃縮すると油
状物が得られた。この油状物を、酢酸エチル（50％）、
ジクロロメタン（10％）及びヘプタン（40％）の混合物
に溶解し、そしてシリカゲルでの加圧クロマトグラフィ
ーにかけて同じ溶剤混合物で溶離した。主なバンドを採
取すると化合物（１０）,7.5ｇ（88％）が得られた。
mL）に溶解し、そしてトルエン中ホスゲンの12％溶液
（26mL, 31.87 ミリモル）を添加し、続いて N,N−ジエ
チルアニリン（1.14mL，7.19ミリモル）を添加した。室
温で15分間攪拌した後、減圧下で溶剤を除去すると化合
物（８）の粗塩化カルバミルが得られた。次いでこの塩
化カルバミルを次工程で用いた。上記粗塩化カルバミル
をドライピリジン（60mL）に溶解し、そして４−ヒドロ
キシメチル−２−ニトロフェノール（９）（1.97ｇ, 1
1.68 ミリモル）を添加しそして得られた溶液を室温で
３時間攪拌した。次いで溶液を減圧下で濃縮し、そして
油状物を酢酸エチルに入れ、2N−HCl （Ｘ３）で洗浄
し、乾燥し（ MgSO4）、濾過しそして再度濃縮すると油
状物が得られた。この油状物を、酢酸エチル（50％）、
ジクロロメタン（10％）及びヘプタン（40％）の混合物
に溶解し、そしてシリカゲルでの加圧クロマトグラフィ
ーにかけて同じ溶剤混合物で溶離した。主なバンドを採
取すると化合物（１０）,7.5ｇ（88％）が得られた。
【０１２８】化合物（１１） 化合物（１０）（ 7.0ｇ, 8.67ミリモル）をドライエー
テル（ 100mL）に溶解し、そしてエーテル（10mL）中三
臭化リン（ 0.9mL, 9.54ミリモル）を滴下した。添加後
固体が沈殿し、ＴＨＦ（20mL）を追加することによりそ
れを溶解した。反応溶液を室温で30分間攪拌した後に、
それを濃縮しそして油状物を酢酸エチルに入れた。次い
で酢酸エチル溶液を2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、乾燥し
（ MgSO4）、そして再度油状物を得た。この油状物，化
合物（１１）を次工程で用いた。
テル（ 100mL）に溶解し、そしてエーテル（10mL）中三
臭化リン（ 0.9mL, 9.54ミリモル）を滴下した。添加後
固体が沈殿し、ＴＨＦ（20mL）を追加することによりそ
れを溶解した。反応溶液を室温で30分間攪拌した後に、
それを濃縮しそして油状物を酢酸エチルに入れた。次い
で酢酸エチル溶液を2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、乾燥し
（ MgSO4）、そして再度油状物を得た。この油状物，化
合物（１１）を次工程で用いた。
【０１２９】化合物（１２）−本発明Ｉ−１ 粗化合物（１１）（9.29ミリモル）をドライＤＭＦ（60
mL）に溶解しそしてNaPMT （2.05ｇ,10.22ミリモル）を
添加した。この溶液を室温で１時間攪拌した後、それを
2N−HCl に注ぎ入れ、そして酢酸エチル（Ｘ３）で抽出
した。酢酸エチル抽出物を合わせ、2N−HCl （Ｘ３）で
洗浄し、 2.5％−Na2CO3（Ｘ１）で洗浄し、2N−HCl
（Ｘ１）で洗浄し、乾燥し（ MgSO4）、濾過しそして濃
縮すると油状物が得られた。この油状物を、酢酸エチル
（30％）、ジクロロメタン（10％）及びヘプタン（60
％）の溶剤混合物に入れ、そしてシリカゲルでの加圧ク
ロマトグラフィーにかけてこの30:10:60の溶剤混合物で
溶離し次いで40:10:50の溶剤混合物に変えて溶離して主
なバンドを採取した。化合物（１２）−本発明Ｉ−１を
白色固体として採取した，収量 7.0ｇ（78％）。 C49H58N8O9S2についての計算値：％Ｃ 60.85, ％Ｈ 6.0
4, ％Ｎ11.59 及び％Ｓ6.63 。実験値：％Ｃ 60.74,
％Ｈ 6.01, ％Ｎ11.18 及び％Ｓ 6.78 。
mL）に溶解しそしてNaPMT （2.05ｇ,10.22ミリモル）を
添加した。この溶液を室温で１時間攪拌した後、それを
2N−HCl に注ぎ入れ、そして酢酸エチル（Ｘ３）で抽出
した。酢酸エチル抽出物を合わせ、2N−HCl （Ｘ３）で
洗浄し、 2.5％−Na2CO3（Ｘ１）で洗浄し、2N−HCl
（Ｘ１）で洗浄し、乾燥し（ MgSO4）、濾過しそして濃
縮すると油状物が得られた。この油状物を、酢酸エチル
（30％）、ジクロロメタン（10％）及びヘプタン（60
％）の溶剤混合物に入れ、そしてシリカゲルでの加圧ク
ロマトグラフィーにかけてこの30:10:60の溶剤混合物で
溶離し次いで40:10:50の溶剤混合物に変えて溶離して主
なバンドを採取した。化合物（１２）−本発明Ｉ−１を
白色固体として採取した，収量 7.0ｇ（78％）。 C49H58N8O9S2についての計算値：％Ｃ 60.85, ％Ｈ 6.0
4, ％Ｎ11.59 及び％Ｓ6.63 。実験値：％Ｃ 60.74,
％Ｈ 6.01, ％Ｎ11.18 及び％Ｓ 6.78 。
【０１３０】
【化２３】
【０１３１】
【化２４】
【０１３２】化合物（５） フェニル 1,4−ジヒドロキシ−２−ナフトエート（ 100
ｇ, 356.78ミリモル）を脱酸素化テトラヒドロフラン
（ 500mL）に溶解し、脱酸素化メタノール（ 500mL）を
添加した。窒素雰囲気下室温で攪拌したこの溶液に、酢
酸アンモニウム（50.5 ｇ, 648.63ミリモル）を添加
し、続いて濃水酸化アンモニウム（ 1.0Ｌ）を添加し
た。３時間攪拌後、次いで反応溶液を氷冷2N−HCl （
4.0Ｌ）に注ぎ込み、そしてpH１にするのに十分な濃HCl
を添加した。得られた生成物，化合物（５）を濾取
し、水でよく洗浄し、そして風乾した。この物質をジク
ロロメタンで洗浄し、そして再度風乾した。収量 62.0
ｇ, （72％）。
ｇ, 356.78ミリモル）を脱酸素化テトラヒドロフラン
（ 500mL）に溶解し、脱酸素化メタノール（ 500mL）を
添加した。窒素雰囲気下室温で攪拌したこの溶液に、酢
酸アンモニウム（50.5 ｇ, 648.63ミリモル）を添加
し、続いて濃水酸化アンモニウム（ 1.0Ｌ）を添加し
た。３時間攪拌後、次いで反応溶液を氷冷2N−HCl （
4.0Ｌ）に注ぎ込み、そしてpH１にするのに十分な濃HCl
を添加した。得られた生成物，化合物（５）を濾取
し、水でよく洗浄し、そして風乾した。この物質をジク
ロロメタンで洗浄し、そして再度風乾した。収量 62.0
ｇ, （72％）。
【０１３３】化合物（１３） 化合物（５）（50.0ｇ,0.246ミリモル）をドライピリジ
ン（ 150mL）に溶解し、そしてアセトニトリル（75mL）
を添加した。溶液を攪拌し、そして−５°〜０℃まで冷
却した。次いでクロロ蟻酸エチル（50mL,0.523ミリモ
ル）を攪拌しながら滴下すると同時に温度を０℃に維持
した。添加後、冷却浴を取り除き、そして温度を室温に
到達するようにした。次いで反応混合物を徐々に加熱還
流し、そして溶剤を留去した。この処理を、温度が約 1
20℃に上昇するまで続け、そして溶剤 150mLを採取し
た。加熱還流を更に１時間続けた。次いで反応混合物を
約50℃まで冷却し、そして室温に維持した2N−HCl （
3.0Ｌ）に注ぎ込んだ。次いで懸濁液を約15分間攪拌
し、濾過しそして残渣を水、アセトニトリルそして最後
にエーテルよくで洗浄した。これで、生成物，化合物
（１３），次工程で使用するには十分純粋である，が得
られた。収量 43.5ｇ（77％）。
ン（ 150mL）に溶解し、そしてアセトニトリル（75mL）
を添加した。溶液を攪拌し、そして−５°〜０℃まで冷
却した。次いでクロロ蟻酸エチル（50mL,0.523ミリモ
ル）を攪拌しながら滴下すると同時に温度を０℃に維持
した。添加後、冷却浴を取り除き、そして温度を室温に
到達するようにした。次いで反応混合物を徐々に加熱還
流し、そして溶剤を留去した。この処理を、温度が約 1
20℃に上昇するまで続け、そして溶剤 150mLを採取し
た。加熱還流を更に１時間続けた。次いで反応混合物を
約50℃まで冷却し、そして室温に維持した2N−HCl （
3.0Ｌ）に注ぎ込んだ。次いで懸濁液を約15分間攪拌
し、濾過しそして残渣を水、アセトニトリルそして最後
にエーテルよくで洗浄した。これで、生成物，化合物
（１３），次工程で使用するには十分純粋である，が得
られた。収量 43.5ｇ（77％）。
【０１３４】化合物（１５） 化合物（１３）（23.0ｇ, 100.35ミリモル）を脱酸素化
ジメチルスルホキシド（ 250mL）に溶解し、そして脱酸
素化水（25mL）を添加した。窒素下室温で攪拌したこの
溶液に、85％水酸化カリウム（9.9 ｇ, 150.53ミリモ
ル）を添加し、そして溶解するまで約15分間攪拌を続け
た。次いで４−クロロ−３−ニトロベンズアルデヒド
（１４）（ 18.62ｇ, 100.35ミリモル）を一度に全て添
加し、そして得られた溶液を60℃で１時間攪拌した。次
いで反応混合物を氷冷2N−HCl （ 2.0Ｌ）に注ぎ入れ、
そして濾取した。生成物，化合物（１５）をエーテルで
洗浄した。この生成物は、次工程で使用するには十分純
粋であった。収量 28.0ｇ（74％）。
ジメチルスルホキシド（ 250mL）に溶解し、そして脱酸
素化水（25mL）を添加した。窒素下室温で攪拌したこの
溶液に、85％水酸化カリウム（9.9 ｇ, 150.53ミリモ
ル）を添加し、そして溶解するまで約15分間攪拌を続け
た。次いで４−クロロ−３−ニトロベンズアルデヒド
（１４）（ 18.62ｇ, 100.35ミリモル）を一度に全て添
加し、そして得られた溶液を60℃で１時間攪拌した。次
いで反応混合物を氷冷2N−HCl （ 2.0Ｌ）に注ぎ入れ、
そして濾取した。生成物，化合物（１５）をエーテルで
洗浄した。この生成物は、次工程で使用するには十分純
粋であった。収量 28.0ｇ（74％）。
【０１３５】化合物（１６） 粉末状の化合物（１５）（28.0ｇ,74.01ミリモル）をテ
トラヒドロフラン（ 150mL）及びメタノール（ 100mL）
に懸濁した。水（ 100mL）を添加し、続いてホウ水素化
ナトリウム（ 2.8ｇ,74.01ミリモル）を少しずつ添加し
た。更なるテトラヒドロフラン（50mL）を補助的に攪拌
しながら添加した。ホウ水素化ナトリウム添加完了の最
終時に溶解が達成した。反応を更に15分間続行し、次い
で氷冷2N−HCl （ 2.0Ｌ）に注ぎ入れ、そして生成物を
濾取した。生成物をメタノールで洗浄し、そしてまだ溶
剤で湿っていたが、エタノールに懸濁しそして加熱還流
した。溶液を冷却し、濾過し、メタノールで洗浄し、エ
ーテルで洗浄し、そして最後に風乾した。母液を濃縮す
ると第２の収穫物が得られた。化合物（１６）のベンジ
ルアルコール前駆体の総収量は、19.5ｇ（67％）であっ
た。
トラヒドロフラン（ 150mL）及びメタノール（ 100mL）
に懸濁した。水（ 100mL）を添加し、続いてホウ水素化
ナトリウム（ 2.8ｇ,74.01ミリモル）を少しずつ添加し
た。更なるテトラヒドロフラン（50mL）を補助的に攪拌
しながら添加した。ホウ水素化ナトリウム添加完了の最
終時に溶解が達成した。反応を更に15分間続行し、次い
で氷冷2N−HCl （ 2.0Ｌ）に注ぎ入れ、そして生成物を
濾取した。生成物をメタノールで洗浄し、そしてまだ溶
剤で湿っていたが、エタノールに懸濁しそして加熱還流
した。溶液を冷却し、濾過し、メタノールで洗浄し、エ
ーテルで洗浄し、そして最後に風乾した。母液を濃縮す
ると第２の収穫物が得られた。化合物（１６）のベンジ
ルアルコール前駆体の総収量は、19.5ｇ（67％）であっ
た。
【０１３６】後者の化合物（19.0ｇ，50ミリモル）を、
85％水酸化カリウム（ 26.34ｇ,400ミリモル）を含有す
る水（ 200mL）に懸濁した。この混合物にメタノール
（50mL）を添加し、次いで80℃まで１時間加熱した。得
られた暗黄褐色溶液を冷却しそして氷冷2N−HCl （ 2.0
Ｌ）に注ぎ入れた。黄色生成物を濾取し、水でよく洗浄
し、そして風乾した。化合物（１６）の収量 17.7ｇ
（ 100％）。
85％水酸化カリウム（ 26.34ｇ,400ミリモル）を含有す
る水（ 200mL）に懸濁した。この混合物にメタノール
（50mL）を添加し、次いで80℃まで１時間加熱した。得
られた暗黄褐色溶液を冷却しそして氷冷2N−HCl （ 2.0
Ｌ）に注ぎ入れた。黄色生成物を濾取し、水でよく洗浄
し、そして風乾した。化合物（１６）の収量 17.7ｇ
（ 100％）。
【０１３７】化合物（１７） 化合物（１６）（17.7ｇ，50ミリモル）をテトラヒドロ
フラン（80mL）に溶解し、そしてメタノール（ 300mL）
を添加した。水で数回洗浄し、次いでメタノールで洗浄
したラネーニッケルを添加し、そして溶液を 55psiで水
素化した。水素取り込みは２時間後に終わった。触媒を
濾取し、メタノールで洗浄し、そして濾液を減圧下で濃
縮すると生成物が得られた。この生成物，化合物（１
７）のアミノ前駆体は、次工程で使用するには十分純粋
であると思った。収率 100％。
フラン（80mL）に溶解し、そしてメタノール（ 300mL）
を添加した。水で数回洗浄し、次いでメタノールで洗浄
したラネーニッケルを添加し、そして溶液を 55psiで水
素化した。水素取り込みは２時間後に終わった。触媒を
濾取し、メタノールで洗浄し、そして濾液を減圧下で濃
縮すると生成物が得られた。この生成物，化合物（１
７）のアミノ前駆体は、次工程で使用するには十分純粋
であると思った。収率 100％。
【０１３８】上記アミノ化合物（50.0ミリモル）をドラ
イピリジン（ 150mL）に溶解し、そしてｎ−ヘキサデシ
ルスルホニルクロリド（16.2ｇ, 50.0ミリモル）を添加
した。溶液を室温で窒素雰囲気下30分間攪拌した。ピリ
ジンを減圧下で濃縮し、そして残渣を酢酸エチルに入れ
た。次いで酢酸エチル溶液を2N−HCl （Ｘ３）で洗浄
し、乾燥し（ MgSO4）、濾過しそして濃縮した。得られ
た残渣をアセトニトリルから結晶化した。濾過後、アセ
トニトリルで洗浄し、そして乾燥すると、生成物，化合
物（１７）の収量は16.3ｇ〔53％，化合物（１６）より
計算した〕であった。
イピリジン（ 150mL）に溶解し、そしてｎ−ヘキサデシ
ルスルホニルクロリド（16.2ｇ, 50.0ミリモル）を添加
した。溶液を室温で窒素雰囲気下30分間攪拌した。ピリ
ジンを減圧下で濃縮し、そして残渣を酢酸エチルに入れ
た。次いで酢酸エチル溶液を2N−HCl （Ｘ３）で洗浄
し、乾燥し（ MgSO4）、濾過しそして濃縮した。得られ
た残渣をアセトニトリルから結晶化した。濾過後、アセ
トニトリルで洗浄し、そして乾燥すると、生成物，化合
物（１７）の収量は16.3ｇ〔53％，化合物（１６）より
計算した〕であった。
【０１３９】化合物（１８） 化合物（１７）（ 4.0ｇ, 6.53ミリモル）をドライエー
テル（30mL）に懸濁し、そしてエーテル（20mL）中三臭
化リン（0.68mL, 7.18ミリモル）を15分間に亘って滴下
した。添加後反応混合物をエーテルで希釈し、そしてエ
ーテル溶液を2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、乾燥し（ MgS
O4）、濾過し、そして濃縮すると化合物（１８）が得ら
れた。収率は 100％であった。
テル（30mL）に懸濁し、そしてエーテル（20mL）中三臭
化リン（0.68mL, 7.18ミリモル）を15分間に亘って滴下
した。添加後反応混合物をエーテルで希釈し、そしてエ
ーテル溶液を2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、乾燥し（ MgS
O4）、濾過し、そして濃縮すると化合物（１８）が得ら
れた。収率は 100％であった。
【０１４０】化合物（２０） 化合物（１８）（13.5ｇ,19.98ミリモル) をＤＭＦ（ 1
00mL）に溶解し、そして４−ヒドロキシ−３−ニトロベ
ンズアルデヒド（１９）（3.34ｇ,19.98ミリモル）続い
て 2,6−ルチジン（4.64mL，40ミリモル）を添加した。
反応溶液を室温で更に24時間攪拌した。更なるバッチの
塩基（4.64mL）を添加し、そして反応溶液を更に24時間
攪拌した。この期間の後、反応混合物の温度を60℃まで
上昇させ、そして更に24時間攪拌しながらそれを維持し
た。この期間の終了時に、酢酸エチルで希釈することに
より反応をあおり、そして酢酸エチル層を2N−HCl （Ｘ
２）で洗浄し、２％−Na2CO3（Ｘ３）で洗浄し、2N−HC
l （Ｘ１）で洗浄し、乾燥し（ MgSO4）、濾過し、そし
て減圧下で濃縮すると油状物が得られた。この油状物
を、酢酸エチル（20）、ジクロロメタン（ 5）及びヘプ
タン（30）の溶剤混合物に溶解し、そしてシリカゲルで
の加圧クロマトグラフィーにかけて同じ溶剤混合物で溶
離した。以下の順に強い極性である３つの主要成分；化
合物（１７）の製造誘導体，生成物，化合物（２０），
及びベンジルアルコール化合物（１７），を採取した。
化合物（２０）の収量は 3.4ｇ（22％）であった。
00mL）に溶解し、そして４−ヒドロキシ−３−ニトロベ
ンズアルデヒド（１９）（3.34ｇ,19.98ミリモル）続い
て 2,6−ルチジン（4.64mL，40ミリモル）を添加した。
反応溶液を室温で更に24時間攪拌した。更なるバッチの
塩基（4.64mL）を添加し、そして反応溶液を更に24時間
攪拌した。この期間の後、反応混合物の温度を60℃まで
上昇させ、そして更に24時間攪拌しながらそれを維持し
た。この期間の終了時に、酢酸エチルで希釈することに
より反応をあおり、そして酢酸エチル層を2N−HCl （Ｘ
２）で洗浄し、２％−Na2CO3（Ｘ３）で洗浄し、2N−HC
l （Ｘ１）で洗浄し、乾燥し（ MgSO4）、濾過し、そし
て減圧下で濃縮すると油状物が得られた。この油状物
を、酢酸エチル（20）、ジクロロメタン（ 5）及びヘプ
タン（30）の溶剤混合物に溶解し、そしてシリカゲルで
の加圧クロマトグラフィーにかけて同じ溶剤混合物で溶
離した。以下の順に強い極性である３つの主要成分；化
合物（１７）の製造誘導体，生成物，化合物（２０），
及びベンジルアルコール化合物（１７），を採取した。
化合物（２０）の収量は 3.4ｇ（22％）であった。
【０１４１】化合物（２１） 化合物（２０）（ 9.5ｇ,12.47ミリモル）をＴＨＦ（30
mL）に溶解し、そしてメチルアルコール（30mL）を添加
した。ホウ水素化ナトリウム（0.47ｇ,12.47ミリモル）
を攪拌しながら徐々に添加した。ホウ水素化ナトリウム
を添加した後、得られた溶液を室温で15分間攪拌した。
次いで反応溶液を濃縮し、酢酸エチルに入れ、そして酢
酸エチル溶液を2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、乾燥し（ M
gSO4）、濾過し、そして減圧下で濃縮すると油状物が得
られた。この油状物、化合物（２１）を次工程で直接用
いたが、しかしそれをエーテルから結晶化することもで
きる。
mL）に溶解し、そしてメチルアルコール（30mL）を添加
した。ホウ水素化ナトリウム（0.47ｇ,12.47ミリモル）
を攪拌しながら徐々に添加した。ホウ水素化ナトリウム
を添加した後、得られた溶液を室温で15分間攪拌した。
次いで反応溶液を濃縮し、酢酸エチルに入れ、そして酢
酸エチル溶液を2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、乾燥し（ M
gSO4）、濾過し、そして減圧下で濃縮すると油状物が得
られた。この油状物、化合物（２１）を次工程で直接用
いたが、しかしそれをエーテルから結晶化することもで
きる。
【０１４２】化合物（２２） 化合物（２１）（ 12.47ミリモル）をＴＨＦ及びエーテ
ルの50％溶液（ 100mL）に溶解した。次いでエーテル
（20mL）中三臭化リン（ 1.2mL,12.47ミリモル）を滴下
した。添加の最終時に、反応溶液を室温で15分間攪拌し
た。次いで反応溶液を酢酸エチルで希釈し、2N−HCl
（Ｘ１）で洗浄し、ブライン（Ｘ１）で洗浄し、乾燥し
（ MgSO4）、濾過し、そして減圧下で濃縮すると油状物
が得られた。この油状物，化合物（２２）を反応順序の
次工程で直接用いた。
ルの50％溶液（ 100mL）に溶解した。次いでエーテル
（20mL）中三臭化リン（ 1.2mL,12.47ミリモル）を滴下
した。添加の最終時に、反応溶液を室温で15分間攪拌し
た。次いで反応溶液を酢酸エチルで希釈し、2N−HCl
（Ｘ１）で洗浄し、ブライン（Ｘ１）で洗浄し、乾燥し
（ MgSO4）、濾過し、そして減圧下で濃縮すると油状物
が得られた。この油状物，化合物（２２）を反応順序の
次工程で直接用いた。
【０１４３】化合物（２３）−本発明Ｉ−１３ 化合物（２２）（ 12.47ミリモル）をＤＭＦ（60mL) に
溶解し、そしてNaPMT（ 2.5ｇ,12.47ミリモル) を添加
した。反応混合物を室温で15分間攪拌した。次いでそれ
を酢酸エチルで希釈し、2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、
2.5％−Na2CO3（Ｘ１）で洗浄し、2N−HCl （Ｘ１）で
洗浄し、ブライン（Ｘ１）で洗浄し、乾燥し（ MgS
O4）、濾過し、そして減圧下で濃縮すると油状物が得ら
れた。この油状物を、酢酸エチル（15）、ジクロロメタ
ン（ 5）及びヘプタン（30）の溶剤混合物に溶解し、そ
してシリカゲルでの加圧クロマトグラフィーにかけて同
じ溶剤混合物で溶離した。化合物（２３）−本発明Ｉ−
１３の収量 9.8ｇ（85％）。 C48H57O8S2についての計算値：％Ｃ 62.38, ％Ｈ 6.22,
％Ｎ 10.61及び％Ｓ 6.14 。実験値：％Ｃ 62.15, ％
Ｈ 6.23, ％Ｎ 10.19及び％Ｓ 7.21 。
溶解し、そしてNaPMT（ 2.5ｇ,12.47ミリモル) を添加
した。反応混合物を室温で15分間攪拌した。次いでそれ
を酢酸エチルで希釈し、2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、
2.5％−Na2CO3（Ｘ１）で洗浄し、2N−HCl （Ｘ１）で
洗浄し、ブライン（Ｘ１）で洗浄し、乾燥し（ MgS
O4）、濾過し、そして減圧下で濃縮すると油状物が得ら
れた。この油状物を、酢酸エチル（15）、ジクロロメタ
ン（ 5）及びヘプタン（30）の溶剤混合物に溶解し、そ
してシリカゲルでの加圧クロマトグラフィーにかけて同
じ溶剤混合物で溶離した。化合物（２３）−本発明Ｉ−
１３の収量 9.8ｇ（85％）。 C48H57O8S2についての計算値：％Ｃ 62.38, ％Ｈ 6.22,
％Ｎ 10.61及び％Ｓ 6.14 。実験値：％Ｃ 62.15, ％
Ｈ 6.23, ％Ｎ 10.19及び％Ｓ 7.21 。
【０１４４】
【化２５】
【０１４５】
【化２６】
【０１４６】化合物（２５） 1,4−ジヒドロキシナフタレン−２−カルボキシアミド
（５）（10.0ｇ,49.21ミリモル）を水（30mL）を含有す
る脱酸素化ＤＭＳＯ（ 300mL）に溶解した。窒素下で攪
拌したこの溶液に、85%-KOH （12.2ｇ,0.184モル）を添
加し更に15分間攪拌を続けた。得られた暗色溶液に、Ｎ
−デシル−２−フルオロ−５−ニトロアニリン（２４）
（26.4ｇ,0.081モル）を全て一度に添加し、そして反応
混合物を60℃で２時間攪拌した。次いで反応混合物を2N
−HCl に注ぎ入れ、少量のエーテルで処理し、そして得
られた固体を濾取した。この固体をメタノールで洗浄
し、次いでエーテルで洗浄し、そして風乾すると、化合
物（２５），25.0ｇ（ 100％）が得られた。この生成物
は、次工程で使用するには十分純粋であった。
（５）（10.0ｇ,49.21ミリモル）を水（30mL）を含有す
る脱酸素化ＤＭＳＯ（ 300mL）に溶解した。窒素下で攪
拌したこの溶液に、85%-KOH （12.2ｇ,0.184モル）を添
加し更に15分間攪拌を続けた。得られた暗色溶液に、Ｎ
−デシル−２−フルオロ−５−ニトロアニリン（２４）
（26.4ｇ,0.081モル）を全て一度に添加し、そして反応
混合物を60℃で２時間攪拌した。次いで反応混合物を2N
−HCl に注ぎ入れ、少量のエーテルで処理し、そして得
られた固体を濾取した。この固体をメタノールで洗浄
し、次いでエーテルで洗浄し、そして風乾すると、化合
物（２５），25.0ｇ（ 100％）が得られた。この生成物
は、次工程で使用するには十分純粋であった。
【０１４７】化合物（２６） 化合物（２５）（24.6ｇ,48.46ミリモル）をＴＨＦ（ 3
00mL）に溶解し、そしてホスゲン（トルエン中15％溶
液，96mL，145.38ミリモル）を全て一度に添加した。室
温で15分間攪拌した後、反応溶液を減圧下で濃縮した。
得られた油状物をエーテルに溶解し、そして等量のヘプ
タンで処理した。黄色固体，化合物（２６）を濾取し、
ヘプタンで洗浄し、そして風乾すると22.0ｇ（80％）得
られた。
00mL）に溶解し、そしてホスゲン（トルエン中15％溶
液，96mL，145.38ミリモル）を全て一度に添加した。室
温で15分間攪拌した後、反応溶液を減圧下で濃縮した。
得られた油状物をエーテルに溶解し、そして等量のヘプ
タンで処理した。黄色固体，化合物（２６）を濾取し、
ヘプタンで洗浄し、そして風乾すると22.0ｇ（80％）得
られた。
【０１４８】化合物（２７） ２−（Ｎ−エチル）アミノメチル−４−ニトロフェノー
ル（95.9ｇ,0.412モル）をアセトニトリル（ 800mL）中
に攪拌しながら懸濁し、そしてトリエチルアミン（ 16
8.5mL, 1.22モル）を徐々に添加した。次いでこの溶液
に、ジ−ｔ−ブチルジカーボネート（ 100.0ｇ,0.458モ
ル）を添加した。次いで混合物を18時間穏やかに加熱還
流した。この期間の終了時に、反応溶液を冷却し、冷2N
−HCl （ 3.0Ｌ）に注ぎ込み、そして褐色固体を濾取し
た。生成物，化合物（２７）を水でよく洗浄し、そして
風乾すると、次工程で使用するには十分純粋な収率 100
％の生成物が得られた。
ル（95.9ｇ,0.412モル）をアセトニトリル（ 800mL）中
に攪拌しながら懸濁し、そしてトリエチルアミン（ 16
8.5mL, 1.22モル）を徐々に添加した。次いでこの溶液
に、ジ−ｔ−ブチルジカーボネート（ 100.0ｇ,0.458モ
ル）を添加した。次いで混合物を18時間穏やかに加熱還
流した。この期間の終了時に、反応溶液を冷却し、冷2N
−HCl （ 3.0Ｌ）に注ぎ込み、そして褐色固体を濾取し
た。生成物，化合物（２７）を水でよく洗浄し、そして
風乾すると、次工程で使用するには十分純粋な収率 100
％の生成物が得られた。
【０１４９】化合物（２８） 化合物（２６）（16.2ｇ,28.42ミリモル）をドライピリ
ジン（ 100mL）に溶解し、そして攪拌しながら化合物
（２７）（ 9.3ｇ,31.26ミリモル）を添加し、続いてト
リエチルアミン（ 4mL,28.42ミリモル）を添加した。得
られた暗黄色溶液を室温で窒素雰囲気下12時間攪拌し
た。次いで反応溶液を減圧下で濃縮し、そして残渣を酢
酸エチルに入れた。酢酸エチル溶液を2N−HCl （Ｘ１）
で洗浄し、乾燥し（ MgSO4）、濾過し、そして減圧下で
濃縮すると油状物が得られた。この油状物を、ヘプタン
中20％酢酸エチルに溶解し、そしてシリカゲルのパッド
を介して通過せしめ、同じ溶剤混合物で溶離して痕跡量
の不純物を除去し、次いで30％酢酸エチルを用いてシリ
カゲルより溶離した。生成物，化合物（２８）を、黄色
泡状物として単離した。収量 23ｇ（97％）。
ジン（ 100mL）に溶解し、そして攪拌しながら化合物
（２７）（ 9.3ｇ,31.26ミリモル）を添加し、続いてト
リエチルアミン（ 4mL,28.42ミリモル）を添加した。得
られた暗黄色溶液を室温で窒素雰囲気下12時間攪拌し
た。次いで反応溶液を減圧下で濃縮し、そして残渣を酢
酸エチルに入れた。酢酸エチル溶液を2N−HCl （Ｘ１）
で洗浄し、乾燥し（ MgSO4）、濾過し、そして減圧下で
濃縮すると油状物が得られた。この油状物を、ヘプタン
中20％酢酸エチルに溶解し、そしてシリカゲルのパッド
を介して通過せしめ、同じ溶剤混合物で溶離して痕跡量
の不純物を除去し、次いで30％酢酸エチルを用いてシリ
カゲルより溶離した。生成物，化合物（２８）を、黄色
泡状物として単離した。収量 23ｇ（97％）。
【０１５０】化合物（２９） 化合物（２８）（ 4.5ｇ, 5.42ミリモル）をジクロロメ
タン（30mL）に溶解し、そしてトリフルオロ酢酸（20m
L）を添加した。次いで反応溶液を室温で60分間攪拌し
た。この後溶液を濃縮し、そして酢酸エチルに溶解し
た。次いで酢酸エチル溶液を水（Ｘ３）で洗浄し、乾燥
し（ MgSO4）、濾過し、そして濃縮すると油状物が得ら
れた。この油状物，化合物（２９）を次工程で用いた。
タン（30mL）に溶解し、そしてトリフルオロ酢酸（20m
L）を添加した。次いで反応溶液を室温で60分間攪拌し
た。この後溶液を濃縮し、そして酢酸エチルに溶解し
た。次いで酢酸エチル溶液を水（Ｘ３）で洗浄し、乾燥
し（ MgSO4）、濾過し、そして濃縮すると油状物が得ら
れた。この油状物，化合物（２９）を次工程で用いた。
【０１５１】化合物（３０） 上記化合物（２９）（5.42ミリモル）をＴＨＦ（50mL）
に溶解し、そしてホスゲン（トルエン中20％溶液，8mL,
16.26ミリモル）を添加し、そして反応混合物を室温で
60分間攪拌した。この期間の終了時に、反応溶液を減圧
下で濃縮すると化合物（３０）が得られた。この生成物
を次工程で用いた。
に溶解し、そしてホスゲン（トルエン中20％溶液，8mL,
16.26ミリモル）を添加し、そして反応混合物を室温で
60分間攪拌した。この期間の終了時に、反応溶液を減圧
下で濃縮すると化合物（３０）が得られた。この生成物
を次工程で用いた。
【０１５２】化合物（３１）−本発明Ｉ−１７ 上記化合物（３０）（5.42ミリモル）をドライピリジン
（20mL）に溶解し、そしてフェニルメルカプトテトラゾ
ールのナトリウム塩（ 1.2ｇ, 5.96ミリモル）を添加し
た。得られた溶液を室温で１時間攪拌した。この期間の
終了時に、反応溶液を酢酸エチルで希釈し、そして酢酸
エチル溶液を2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、 2.5％−Na2C
O3（Ｘ２）で洗浄し、2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、乾燥
し（ MgSO4）、濾過し、そして減圧下で濃縮すると油状
物が得られた。この油状物を、ヘプタン中40％酢酸エチ
ルに溶解し、そして加圧クロマトグラフィーにかけてヘ
プタン中30％酢酸エチルで溶離すると、生成物，化合物
（３１）−本発明Ｉ−１７が得られた。収量 3.2ｇ〔63
％，化合物（２８）由来〕。m/z:ＦＤＭＳにより 933で
分子イオンを示した。
（20mL）に溶解し、そしてフェニルメルカプトテトラゾ
ールのナトリウム塩（ 1.2ｇ, 5.96ミリモル）を添加し
た。得られた溶液を室温で１時間攪拌した。この期間の
終了時に、反応溶液を酢酸エチルで希釈し、そして酢酸
エチル溶液を2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、 2.5％−Na2C
O3（Ｘ２）で洗浄し、2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、乾燥
し（ MgSO4）、濾過し、そして減圧下で濃縮すると油状
物が得られた。この油状物を、ヘプタン中40％酢酸エチ
ルに溶解し、そして加圧クロマトグラフィーにかけてヘ
プタン中30％酢酸エチルで溶離すると、生成物，化合物
（３１）−本発明Ｉ−１７が得られた。収量 3.2ｇ〔63
％，化合物（２８）由来〕。m/z:ＦＤＭＳにより 933で
分子イオンを示した。
【０１５３】
【化２７】
【０１５４】化合物（３２） 化合物（８）（10.0ｇ,16.34ミリモル）をＴＨＦ（50m
L）に溶解し、そしてトルエン中ホスゲンの12％溶液（
40mL, 49.03ミリモル）を添加した。室温で15分間攪拌
した後、減圧下で溶剤を除去すると化合物（８）の粗塩
化カルバミルが得られた。
L）に溶解し、そしてトルエン中ホスゲンの12％溶液（
40mL, 49.03ミリモル）を添加した。室温で15分間攪拌
した後、減圧下で溶剤を除去すると化合物（８）の粗塩
化カルバミルが得られた。
【０１５５】上記塩化カルバミル（ 16.34ミリモル）を
ピリジン（ 100mL）に溶解し、そして化合物（２７）
（5.33ｇ,17.98ミリモル）を添加した。得られた溶液を
室温で１時間攪拌した。この期間の終了時に、溶液を減
圧下で濃縮し、そして残渣を酢酸エチルに溶解した。次
いで酢酸エチル溶液を2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、乾燥
し（ MgSO4）、濾過し、そして濃縮すると油状物が得ら
れた。この油状物を、ヘプタン中30％酢酸エチルに溶解
し、そしてシリカゲルでの加圧クロマトグラフィーにか
けて同じ溶剤混合物で溶離して不純物を除去し、次いで
溶剤をヘプタン中50％酢酸エチルに変えて生成物，化合
物（３２）を採取した。収量 13.4ｇ〔88％，化合物
（８）由来〕。
ピリジン（ 100mL）に溶解し、そして化合物（２７）
（5.33ｇ,17.98ミリモル）を添加した。得られた溶液を
室温で１時間攪拌した。この期間の終了時に、溶液を減
圧下で濃縮し、そして残渣を酢酸エチルに溶解した。次
いで酢酸エチル溶液を2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、乾燥
し（ MgSO4）、濾過し、そして濃縮すると油状物が得ら
れた。この油状物を、ヘプタン中30％酢酸エチルに溶解
し、そしてシリカゲルでの加圧クロマトグラフィーにか
けて同じ溶剤混合物で溶離して不純物を除去し、次いで
溶剤をヘプタン中50％酢酸エチルに変えて生成物，化合
物（３２）を採取した。収量 13.4ｇ〔88％，化合物
（８）由来〕。
【０１５６】化合物（３３） 化合物（３２）（12.0ｇ,12.85ミリモル）をジクロロメ
タン（20mL）に溶解し、そして96％蟻酸（80mL）を添加
した。得られた反応溶液を室温で３時間攪拌した。この
期間の終了時に、溶液を水に注ぎ入れ、そして酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層を採取し、水（Ｘ３）で洗
浄し、乾燥し（ MgSO4）、濾過し、そして減圧下で濃縮
すると化合物（３３）が得られた。収量 9.5ｇ（89
％）。
タン（20mL）に溶解し、そして96％蟻酸（80mL）を添加
した。得られた反応溶液を室温で３時間攪拌した。この
期間の終了時に、溶液を水に注ぎ入れ、そして酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層を採取し、水（Ｘ３）で洗
浄し、乾燥し（ MgSO4）、濾過し、そして減圧下で濃縮
すると化合物（３３）が得られた。収量 9.5ｇ（89
％）。
【０１５７】化合物（３４）−本発明Ｉ−２０ 化合物（３３）（ 5.0ｇ, 6.00ミリモル）をＴＨＦ（50
mL）に溶解し、そしてトルエン中20％ホスゲンの溶液
（ 6.7mL,13.49ミリモル）を添加し、そして得られた反
応溶液を室温で２時間攪拌した。この期間の終了時に、
反応溶液を減圧下で濃縮すると化合物（３３）の塩化カ
ルバミルが得られた。
mL）に溶解し、そしてトルエン中20％ホスゲンの溶液
（ 6.7mL,13.49ミリモル）を添加し、そして得られた反
応溶液を室温で２時間攪拌した。この期間の終了時に、
反応溶液を減圧下で濃縮すると化合物（３３）の塩化カ
ルバミルが得られた。
【０１５８】上記塩化カルバミル（6.00ミリモル）をピ
リジン（40mL）に溶解した。この溶液に、ｎ−プロピル
− 2,5−ジヒドロ−５−チオキソ−１Ｈ−テトラゾール
−１−酢酸のシクロヘキシルアミン塩（ 2.0ｇ, 6.59ミ
リモル）を添加し、得られた溶液を室温で２時間攪拌し
た。この期間の終了時に、反応溶液を酢酸エチルで希釈
し、そしてこの溶液を2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、 2.5
％−Na2CO3（Ｘ３）で洗浄し、2N−HCl （Ｘ１）で洗浄
し、乾燥し（ MgSO4）、濾過し、そして減圧下で濃縮し
た。残渣をヘプタン中35％酢酸エチルに溶解し、そして
加圧クロマトグラフィーにかけて同じ溶剤混合物で溶離
して痕跡量の不純物を除去した。溶剤をヘプタン中50％
酢酸エチルに変えて化合物（３４）本発明Ｉ−２０を採
取した。収量 2.5ｇ〔39％，化合物（３３）由来〕。m/
z:ＦＤＭＳにより1061で分子イオンを示した。
リジン（40mL）に溶解した。この溶液に、ｎ−プロピル
− 2,5−ジヒドロ−５−チオキソ−１Ｈ−テトラゾール
−１−酢酸のシクロヘキシルアミン塩（ 2.0ｇ, 6.59ミ
リモル）を添加し、得られた溶液を室温で２時間攪拌し
た。この期間の終了時に、反応溶液を酢酸エチルで希釈
し、そしてこの溶液を2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、 2.5
％−Na2CO3（Ｘ３）で洗浄し、2N−HCl （Ｘ１）で洗浄
し、乾燥し（ MgSO4）、濾過し、そして減圧下で濃縮し
た。残渣をヘプタン中35％酢酸エチルに溶解し、そして
加圧クロマトグラフィーにかけて同じ溶剤混合物で溶離
して痕跡量の不純物を除去した。溶剤をヘプタン中50％
酢酸エチルに変えて化合物（３４）本発明Ｉ−２０を採
取した。収量 2.5ｇ〔39％，化合物（３３）由来〕。m/
z:ＦＤＭＳにより1061で分子イオンを示した。
【０１５９】
【化２８】
【０１６０】
【化２９】
【０１６１】化合物（３６） 化合物（１８）（14.0ｇ,20.72ミリモル）、２−ヒドロ
キシ−５−ニトロベンズアルデヒド（３５）（ 3.8ｇ,2
2.74ミリモル）、ヨウ化カリウム（5.16ｇ,31.08ミリモ
ル) 及び 2,6−ルチジン（ 4.8mL，41.4ミリモル）をア
セトニトリル（100mL）に懸濁し、そして窒素下70℃で1
2時間加熱した。この期間の終了時に、反応混合物を冷
却し、2N−HCl に注ぎ入れ、そして酢酸エチル（Ｘ３）
で抽出した。酢酸エチル層を合わせ、 2.5％−Na2CO
3（Ｘ３）で洗浄し、2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、乾燥
し（ MgSO4）、濾過し、そして減圧下で濃縮した。残留
油状物を酢酸エチル（15）、ヘプタン（35）及びジクロ
ロメタン（ 5）の溶剤混合物に溶解し、そしてシリカゲ
ルでの加圧クロマトグラフィーにかけて同じ溶剤混合物
で溶離した。これで若干の不純物が除去された。溶剤を
ヘプタン中50％酢酸エチルに変えて生成物，化合物（３
６）を採取した。収量 7.0ｇ（44％）。
キシ−５−ニトロベンズアルデヒド（３５）（ 3.8ｇ,2
2.74ミリモル）、ヨウ化カリウム（5.16ｇ,31.08ミリモ
ル) 及び 2,6−ルチジン（ 4.8mL，41.4ミリモル）をア
セトニトリル（100mL）に懸濁し、そして窒素下70℃で1
2時間加熱した。この期間の終了時に、反応混合物を冷
却し、2N−HCl に注ぎ入れ、そして酢酸エチル（Ｘ３）
で抽出した。酢酸エチル層を合わせ、 2.5％−Na2CO
3（Ｘ３）で洗浄し、2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、乾燥
し（ MgSO4）、濾過し、そして減圧下で濃縮した。残留
油状物を酢酸エチル（15）、ヘプタン（35）及びジクロ
ロメタン（ 5）の溶剤混合物に溶解し、そしてシリカゲ
ルでの加圧クロマトグラフィーにかけて同じ溶剤混合物
で溶離した。これで若干の不純物が除去された。溶剤を
ヘプタン中50％酢酸エチルに変えて生成物，化合物（３
６）を採取した。収量 7.0ｇ（44％）。
【０１６２】化合物（３７） 化合物（３６）（ 8.0ｇ, 10.5ミリモル）をメタノール
（80mL) に懸濁し、そして丁度溶解するのに十分なＴＨ
Ｆを添加した。この溶液にイソプロピルアミン（ 4.5m
L,52.50ミリモル）を添加し、そして得られた反応混合
物を蒸気浴上で４時間加熱還流した。この期間の終了時
に、反応混合物を冷却すると、化合物（３６）のアミン
が得られた。
（80mL) に懸濁し、そして丁度溶解するのに十分なＴＨ
Ｆを添加した。この溶液にイソプロピルアミン（ 4.5m
L,52.50ミリモル）を添加し、そして得られた反応混合
物を蒸気浴上で４時間加熱還流した。この期間の終了時
に、反応混合物を冷却すると、化合物（３６）のアミン
が得られた。
【０１６３】単離することなく、上記アミンを０℃まで
冷却し、そしてよく攪拌しながらホウ水素化ナトリウム
（ 0.4ｇ, 50ミリモル）で徐々に処理した。ホウ水素化
ナトリウムを添加した後、反応混合物を30分間に亘って
室温に到達させた。次いで反応混合物を水（１Ｌ）に注
ぎ入れ、そして2N−HCl でpH１に調整した。得られた沈
殿化合物（３７）を濾取し、水でよく洗浄し、そして風
乾した。収量 8.0ｇ〔（96％），化合物（３６）由
来〕。
冷却し、そしてよく攪拌しながらホウ水素化ナトリウム
（ 0.4ｇ, 50ミリモル）で徐々に処理した。ホウ水素化
ナトリウムを添加した後、反応混合物を30分間に亘って
室温に到達させた。次いで反応混合物を水（１Ｌ）に注
ぎ入れ、そして2N−HCl でpH１に調整した。得られた沈
殿化合物（３７）を濾取し、水でよく洗浄し、そして風
乾した。収量 8.0ｇ〔（96％），化合物（３６）由
来〕。
【０１６４】化合物（３８） 化合物（３７）（ 4.0ｇ,4.9ミリモル）をＴＨＦ（40m
L）に溶解し、次いでそれにトルエン中ホスゲンの20％
溶液（ 7.4mL, 14.9ミリモル）を添加し、続いてN,N−
ジメチルアニリン（0.63mL,4.9ミリモル）を添加した。
次いで得られた反応混合物を室温で30分間攪拌した。こ
の期間の終了時に、溶剤を減圧下で除去し、そして化合
物（３８）を含有する残渣を反応順序の次工程で用い
た。収率は 100％であると仮定した。
L）に溶解し、次いでそれにトルエン中ホスゲンの20％
溶液（ 7.4mL, 14.9ミリモル）を添加し、続いてN,N−
ジメチルアニリン（0.63mL,4.9ミリモル）を添加した。
次いで得られた反応混合物を室温で30分間攪拌した。こ
の期間の終了時に、溶剤を減圧下で除去し、そして化合
物（３８）を含有する残渣を反応順序の次工程で用い
た。収率は 100％であると仮定した。
【０１６５】化合物（３９）−本発明Ｉ−２３ 上記塩化カルバミル化合物（３８）（ 4.9ミリモル）を
ドライピリジン（50mL）に溶解し、そしてｎ−プロピル
2,5−ジヒドロ−５−チオキソ−１Ｈ−テトラゾール−
１−酢酸のシクロヘキシルアミン塩（1.48ｇ,4.9ミリモ
ル）を添加した。得られた反応溶液を室温で12時間攪拌
した。この期間の終了時に、溶剤を減圧下で除去し、そ
して残渣を酢酸エチルに溶解した。次いで酢酸エチル溶
液を2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、 2.5％−Na2CO3（Ｘ
３）で洗浄し、2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、乾燥し（ M
gSO4）、濾過し、そして減圧下で濃縮した。得られた油
状物をヘプタン中30％酢酸エチルに溶解し、そして加圧
クロマトグラフィーにかけて同じ溶剤混合物で溶離し
た。主なバンドを採取すると化合物（３９）−本発明２
３が得られた。収量 0.9ｇ〔18％，化合物（３７）由
来〕。m/z:ＦＤＭＳは予測した通り1032で分子イオンを
示した。
ドライピリジン（50mL）に溶解し、そしてｎ−プロピル
2,5−ジヒドロ−５−チオキソ−１Ｈ−テトラゾール−
１−酢酸のシクロヘキシルアミン塩（1.48ｇ,4.9ミリモ
ル）を添加した。得られた反応溶液を室温で12時間攪拌
した。この期間の終了時に、溶剤を減圧下で除去し、そ
して残渣を酢酸エチルに溶解した。次いで酢酸エチル溶
液を2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、 2.5％−Na2CO3（Ｘ
３）で洗浄し、2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、乾燥し（ M
gSO4）、濾過し、そして減圧下で濃縮した。得られた油
状物をヘプタン中30％酢酸エチルに溶解し、そして加圧
クロマトグラフィーにかけて同じ溶剤混合物で溶離し
た。主なバンドを採取すると化合物（３９）−本発明２
３が得られた。収量 0.9ｇ〔18％，化合物（３７）由
来〕。m/z:ＦＤＭＳは予測した通り1032で分子イオンを
示した。
【０１６６】本発明の更なる具体的な態様 ハロメチルが、少なくとも１つの水素、置換もしくは無
置換のアルキル及び置換もしくは無置換のアリールで置
換されていることを特徴とする請求項１に特許請求した
方法。
置換のアルキル及び置換もしくは無置換のアリールで置
換されていることを特徴とする請求項１に特許請求した
方法。
【０１６７】アルキルピリジンが、モノ−、ジ−及びト
リアルキルピリジンより選ばれる請求項１に特許請求し
た方法。二極性非プロトン性溶剤が、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド及びアセトニトリルより選
ばれる請求項１に特許請求した方法。ヨウ化カリウム
が、反応速度を増強するために工程（ｂ）で反応に添加
される請求項１に特許請求した方法。
リアルキルピリジンより選ばれる請求項１に特許請求し
た方法。二極性非プロトン性溶剤が、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド及びアセトニトリルより選
ばれる請求項１に特許請求した方法。ヨウ化カリウム
が、反応速度を増強するために工程（ｂ）で反応に添加
される請求項１に特許請求した方法。
【０１６８】ヒドロキシアリールアルデヒドもしくはヒ
ドロキシアリールケトンが、アルデヒドもしくはケトン
基に対して2-もしくは4-位にヒドロキシ基を担持する請
求項１に特許請求した方法。ハロメチルが、ブロモメチ
ル及びクロロメチルより選ばれる請求項１に特許請求し
た方法。
ドロキシアリールケトンが、アルデヒドもしくはケトン
基に対して2-もしくは4-位にヒドロキシ基を担持する請
求項１に特許請求した方法。ハロメチルが、ブロモメチ
ル及びクロロメチルより選ばれる請求項１に特許請求し
た方法。
【０１６９】次式の化合物の製造方法であって、
【０１７０】
【化３０】
【０１７１】（上式中、ＰＭＴは、フェニルメルカプト
テトラゾールである。） 次式の化合物
テトラゾールである。） 次式の化合物
【０１７２】
【化３１】
【０１７３】を、ジメチルアセトアミド中2,6-ルチジン
の存在下で反応せしめ、次いでアルデヒド生成物をホウ
水素化ナトリウムと反応せしめて対応する-CH2OH化合物
を生成し、次いで得られた-CH2OH化合物をPBr3とエーテ
ル中で反応せしめて得られた-CH2Br化合物を生成し、そ
して次いで得られた-CH2Br化合物をフェニルメルカプト
テトラゾールナトリウムと反応せしめる工程を含んで成
る方法。
の存在下で反応せしめ、次いでアルデヒド生成物をホウ
水素化ナトリウムと反応せしめて対応する-CH2OH化合物
を生成し、次いで得られた-CH2OH化合物をPBr3とエーテ
ル中で反応せしめて得られた-CH2Br化合物を生成し、そ
して次いで得られた-CH2Br化合物をフェニルメルカプト
テトラゾールナトリウムと反応せしめる工程を含んで成
る方法。
【０１７４】
【実施例】以下の例は、本発明を更に具体的に説明す
る。写真要素を、セルロースエステルフィルム支持体上
に以下の層を塗布することにより製造した（各成分の量
を mg/m2で示した）。
る。写真要素を、セルロースエステルフィルム支持体上
に以下の層を塗布することにより製造した（各成分の量
を mg/m2で示した）。
【０１７５】 乳剤層１： ゼラチン-2420;赤色増感臭ヨウ化銀（Agとして）−1615； フタル酸ジブチルに分散されたイエロー画像カプラー （受容体層，RECEIVER LAYER） 中間層： ゼラチン-860; ドデシルヒドロキノン−113 乳剤層２： ゼラチン-2690;緑色増感臭ヨウ化銀（Agとして）−1615； リン酸トリトリルに分散されたマゼンタ画像カプラー； N,N−ジエチルドデカンアミドに分散され且つ段階様緑色 光露光及び処理後のオリジナルコントラストの 0.5（半分） を提供するのに十分なベルで塗布された第１，２，３及び ４表のＤＩＲ化合物 （起因体層，CAUSER LAYER） 保護 オーバーコート： ゼラチン-5380; ビスビニルスルホニルメチルエーテル 総ゼラチン２％
【０１７６】画像カプラーの構造は以下の通りである。
【０１７７】
【化３２】
【０１７８】各要素のストリップを階調濃度段階タブレ
ットを介して、又は鮮鋭度測定用の35％変調フリンジチ
ャートを介して緑色光に対して露光し、次いで3.25分間
38℃で以下の発色現像液中で現像し、停止し、洗浄し、
漂白し、定着し、洗浄し、そして乾燥した。
ットを介して、又は鮮鋭度測定用の35％変調フリンジチ
ャートを介して緑色光に対して露光し、次いで3.25分間
38℃で以下の発色現像液中で現像し、停止し、洗浄し、
漂白し、定着し、洗浄し、そして乾燥した。
【０１７９】発色現像液 蒸留水 800mL メタ重亜硫酸ナトリウム 2.78ｇ 無水亜硫酸ナトリウム 0.38ｇ ＣＤ−４（発色現像主薬）* 4.52ｇ 無水炭酸カリウム 34.3ｇ 重炭酸カリウム 2.32ｇ 臭化ナトリウム 1.31ｇ ヨウ化カリウム 1.20mg 硫酸ヒドロキシルアミン（ＨＡＳ） 2.41ｇ ジエチレントリアミン五酢酸，五ナトリウム塩 8.43ｇ （40％溶液） 蒸留水 １Ｌまで pH10に調整* ＣＤ−４は４−アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ
−ベータ−ヒドロキシエチルアニリン硫酸塩である。
−ベータ−ヒドロキシエチルアニリン硫酸塩である。
【０１８０】処理した画像を緑色光で読み取りコントラ
スト及びＡＭＴアキュータンスを求めた。各現像抑制剤
放出性（ＤＩＲ）化合物の多様な付着レベルについての
ＡＭＴアキュータンス対コントラストの対数のプロット
から、ＤＩＲ化合物の存在しないそのオリジナルコント
ラストに比べて 0.5のコントラストでアキュータンスを
求めた。対照ＤＩＲカプラーについてのアキュータンス
を各ＡＭＴ値から引いて相対鮮鋭度値を得て、それらを
ＡＭＴにおける変化として第１，２，３，及び４表に報
告した。ＡＭＴの計算には、システム変調曲線下の階段
状に連続した領域が、「写真プロセスの理論（Theory o
f the Photographic Process）」第４版，1977，T.H.Ja
mes 出版，の 629ページの等式（21.104）で示されてい
る以下の式を使用した。ＡＭＴ＝ 100＋66 log〔階段状
に連続した領域／2.6696Ｍ〕（上式中、倍率係数Ｍは、
35mmシステムＡＭＴについて 3.8であった。ＣＭＴアキ
ュータンスの使用は、R.G.Gendron による「評価用画像
鮮鋭度の改良目的方法（Improved Objective Method of
Rating Picture Sharpness ）：ＣＭＴアキュータン
ス」，Journal of SMPTE，Vol.82, 1009〜12ページ,
（1973）に記載されている。ＡＭＴは、評価システムに
有用なＣＭＴの更なる変形であり、それはネガより製造
されるポジ画像の観察を包含する。
スト及びＡＭＴアキュータンスを求めた。各現像抑制剤
放出性（ＤＩＲ）化合物の多様な付着レベルについての
ＡＭＴアキュータンス対コントラストの対数のプロット
から、ＤＩＲ化合物の存在しないそのオリジナルコント
ラストに比べて 0.5のコントラストでアキュータンスを
求めた。対照ＤＩＲカプラーについてのアキュータンス
を各ＡＭＴ値から引いて相対鮮鋭度値を得て、それらを
ＡＭＴにおける変化として第１，２，３，及び４表に報
告した。ＡＭＴの計算には、システム変調曲線下の階段
状に連続した領域が、「写真プロセスの理論（Theory o
f the Photographic Process）」第４版，1977，T.H.Ja
mes 出版，の 629ページの等式（21.104）で示されてい
る以下の式を使用した。ＡＭＴ＝ 100＋66 log〔階段状
に連続した領域／2.6696Ｍ〕（上式中、倍率係数Ｍは、
35mmシステムＡＭＴについて 3.8であった。ＣＭＴアキ
ュータンスの使用は、R.G.Gendron による「評価用画像
鮮鋭度の改良目的方法（Improved Objective Method of
Rating Picture Sharpness ）：ＣＭＴアキュータン
ス」，Journal of SMPTE，Vol.82, 1009〜12ページ,
（1973）に記載されている。ＡＭＴは、評価システムに
有用なＣＭＴの更なる変形であり、それはネガより製造
されるポジ画像の観察を包含する。
【０１８１】インターイメージ効果（色補正の程度）を
昼光露光後に評価した。第１，２，３，及び４表に報告
されたインターイメージ効果を、緑感性層（起因体）の
ガンマ（γ）対赤感性層（受容体）のガンマ（γ）の比
として定量した。
昼光露光後に評価した。第１，２，３，及び４表に報告
されたインターイメージ効果を、緑感性層（起因体）の
ガンマ（γ）対赤感性層（受容体）のガンマ（γ）の比
として定量した。
【０１８２】
【表１】
【０１８３】
【表２】
【０１８４】
【表３】
【０１８５】
【表４】
【０１８６】
【表５】
【０１８７】
【化３３】
【０１８８】
【化３４】
【０１８９】
【化３５】
【０１９０】
【化３６】
【０１９１】
【化３７】
【０１９２】
【化３８】
【０１９３】
【化３９】
【０１９４】
【化４０】
【０１９５】
【化４１】
【０１９６】
【化４２】
【０１９７】
【化４３】
【０１９８】
【化４４】
【０１９９】
【化４５】
【０２００】
【化４６】
【０２０１】本発明のカプラー類の更なる具体例は以下
のとおりである。
のとおりである。
【化４７】
【０２０２】
【化４８】
【０２０３】
【化４９】
【０２０４】
【化５０】
【０２０５】
【化５１】
【０２０６】
【化５２】
【０２０７】
【化５３】
【０２０８】
【化５４】
【０２０９】
【化５５】
【０２１０】本明細書ではＰＭＴはフェニルメルカプト
テトラゾール基を意味する。本明細書ではＰｈはフェニ
ル基を意味する。
テトラゾール基を意味する。本明細書ではＰｈはフェニ
ル基を意味する。
【０２１１】第１，２，３，４，及び５表から、本発明
の化合物類が、対照１−Ａ及び比較１−Ｂを越える改良
されたアキュータンス、中間層インターイメージ及び安
定性を提供することが認められる。即ち、例えば、第５
表中のカプラーＩ−１及びＩ−３は安定性において全く
ロスを示さなかった。
の化合物類が、対照１−Ａ及び比較１−Ｂを越える改良
されたアキュータンス、中間層インターイメージ及び安
定性を提供することが認められる。即ち、例えば、第５
表中のカプラーＩ−１及びＩ−３は安定性において全く
ロスを示さなかった。
【０２１２】
【発明の効果】本発明は、写真カプラーの製造方法を提
供する。カプラーは、写真処理中にカプラーより製造さ
れた色素のウオッシュ・アウトによって除去でき、同時
にアキュータンスを改良された画像を形成できる。
供する。カプラーは、写真処理中にカプラーより製造さ
れた色素のウオッシュ・アウトによって除去でき、同時
にアキュータンスを改良された画像を形成できる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年７月２日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４３
【補正方法】変更
【補正内容】
【０１４３】化合物（２３）−本発明Ｉ−１３ 化合物（２２）（ 12.47ミリモル）をＤＭＦ（60mL) に
溶解し、そしてNaPMT（ 2.5ｇ,12.47ミリモル) を添加
した。反応混合物を室温で15分間攪拌した。次いでそれ
を酢酸エチルで希釈し、2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、
2.5％−Na2CO3（Ｘ１）で洗浄し、2N−HCl （Ｘ１）で
洗浄し、ブライン（Ｘ１）で洗浄し、乾燥し（ MgS
O4）、濾過し、そして減圧下で濃縮すると油状物が得ら
れた。この油状物を、酢酸エチル（15）、ジクロロメタ
ン（ 5）及びヘプタン（30）の溶剤混合物に溶解し、そ
してシリカゲルでの加圧クロマトグラフィーにかけて同
じ溶剤混合物で溶離した。化合物（２３）−本発明Ｉ−
１３の収量 9.8ｇ（85％）。 C48H 57N7 O8S2についての計算値：％Ｃ 62.38, ％Ｈ 6.2
2, ％Ｎ 10.61及び％Ｓ6.14 。実験値：％Ｃ 62.15,
％Ｈ 6.23, ％Ｎ 10.19及び％Ｓ 7.21 。
溶解し、そしてNaPMT（ 2.5ｇ,12.47ミリモル) を添加
した。反応混合物を室温で15分間攪拌した。次いでそれ
を酢酸エチルで希釈し、2N−HCl （Ｘ１）で洗浄し、
2.5％−Na2CO3（Ｘ１）で洗浄し、2N−HCl （Ｘ１）で
洗浄し、ブライン（Ｘ１）で洗浄し、乾燥し（ MgS
O4）、濾過し、そして減圧下で濃縮すると油状物が得ら
れた。この油状物を、酢酸エチル（15）、ジクロロメタ
ン（ 5）及びヘプタン（30）の溶剤混合物に溶解し、そ
してシリカゲルでの加圧クロマトグラフィーにかけて同
じ溶剤混合物で溶離した。化合物（２３）−本発明Ｉ−
１３の収量 9.8ｇ（85％）。 C48H 57N7 O8S2についての計算値：％Ｃ 62.38, ％Ｈ 6.2
2, ％Ｎ 10.61及び％Ｓ6.14 。実験値：％Ｃ 62.15,
％Ｈ 6.23, ％Ｎ 10.19及び％Ｓ 7.21 。
Claims (1)
- 【請求項１】 写真的に有用な基（ＰＵＧ）を含有する
フェノキシタイミング基を付着せしめたアリールオキ
シ、チオアリールオキシ、ヘテロサイクリックオキシ及
びチオヘテロサイクリックオキシ放出性基より選ばれる
置換もしくは無置換のバラスト化放出性基（Ａ）を含有
するカプラー部分（ＣＯＵＰ）を含んで成るウオッシュ
・アウト写真カプラーの製造方法であって、放出性基が
脱離的電子移動により上記タイミング基を放出でき、上
記方法が、 （ａ）カプリング脱離部位に上記放出性基（Ａ）を担持
するカプラー部分（ＣＯＵＰ）を提供する工程であっ
て、上記放出性基（Ａ）が２−もしくは４−位の少なく
とも１つに置換もしくは無置換のハロメチルを有する工
程、 （ｂ）アルキルピリジン及び二極性非プロトン性溶剤の
存在下で置換もしくは無置換のヒドロキシアリールアル
デヒドもしくはヒドロキシアリールケトンを、上記工程
（ａ）のハロメチル基と反応せしめて第１生成物を生成
する工程、並びに （ｃ）上記第１生成物を還元せしめそして上記還元第１
生成物をハロゲン化せしめ、その後に写真的に有用な基
と反応せしめて上記ウオッシュ・アウト写真カプラーを
生成せしめる工程、を含んで成る方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US903782 | 1992-06-24 | ||
| US07/903,782 US5264582A (en) | 1991-07-01 | 1992-06-24 | Method of forming a photographic coupler capable of forming a wash-out dye |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0651462A true JPH0651462A (ja) | 1994-02-25 |
Family
ID=25418063
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5116173A Pending JPH0651462A (ja) | 1992-06-24 | 1993-05-18 | ウオッシュ・アウト色素を生成できる写真カプラーの製造方法 |
Country Status (3)
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| JP (1) | JPH0651462A (ja) |
Families Citing this family (1)
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Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
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