JPH065098A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH065098A
JPH065098A JP16580292A JP16580292A JPH065098A JP H065098 A JPH065098 A JP H065098A JP 16580292 A JP16580292 A JP 16580292A JP 16580292 A JP16580292 A JP 16580292A JP H065098 A JPH065098 A JP H065098A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory cell
inspection
data
chip
wafer
Prior art date
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Pending
Application number
JP16580292A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshio Yamamoto
平男 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH065098A publication Critical patent/JPH065098A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 組み立て完了後に、データを書き込むことな
く詳細な電気的特性の検査及び選別が容易にされた半導
体記憶装置を得る。 【構成】 OTPROMのチップ1上に、ウエハ検査で
の検査情報を記録する不揮発性の冗長メモリセル部3を
備える。組み立て完了後に、冗長メモリセル部3の検査
情報に基づいて詳細な電気的特性の検査及び選別を行
う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体記憶装置に関
し、特に不揮発性半導体記憶装置の電気的特性の選別を
容易にするものである。
【0002】
【従来の技術】不揮発性半導体記憶装置としてのOne
Time PROM(以下、OTPROMという)
は、FLOTOX形(フローティングゲート トンネル
オキサイド形)のEPROMのチップなどをモールド樹
脂封止して組み立てられる。そのため、組み立て完了
後、OTPROMは、EPROMの記憶データが消去さ
れる場合のように、記憶データ消去のための紫外線が照
射されてもチップには達せず、記憶データを消去するこ
とができない。
【0003】従って、OTPROMは、記憶データの書
き換えが不能であり、1回のみのデータ書き込みしかで
きない。このため、OTPROMは、ユーザにて任意の
データが書き込まれる場合には、メーカからはデータ未
書き込みの状態で供給される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
記憶装置は、組み立て完了後には記憶データの書き換え
が不能であるので、メーカからデータ未書き込みの状態
で供給しなければならないときには、組み立て完了後に
アクセスタイムなどの詳細な電気的特性の検査及び選別
ができないという問題点があった。
【0005】なお、組み立て前にウエハ検査が行われる
が、ウエハ検査では良品か不良品かの判定だけで、細か
な電気的特性の選別はされていない。
【0006】この発明は、このような問題点を解決する
ためになされたもので、組み立て完了後に、データを書
き込むことなく詳細な電気的特性の検査及び選別が容易
にされた半導体記憶装置を得ることを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体記
憶装置は、チップ上に、ウエハ検査での検査情報を記録
する不揮発性の冗長メモリセルを備えたものである。
【0008】
【作用】この発明においては、チップ上に備えられた不
揮発性の冗長メモリセルにウエハ検査での検査情報を記
録する。組み立て完了後に、この検査情報に基づいて検
査及び選別が行われる。
【0009】
【実施例】
実施例1.図1は、この発明の実施例1を示す平面図で
ある。同図において、1はOneTime PROM
(OTPROM)のチップ、2はチップ1上のユーザに
より書き込みが行われる不揮発性の本番メモリセル部、
3はチップ1上に追加されてウエハ検査での検査情報が
書き込まれる不揮発性の冗長メモリセル部である。
【0010】次に、上述した構成の動作を説明する。ウ
エハ検査工程において、検査用のデータを本番メモリセ
ル部2のメモリセルに書き込み、アクセスタイムなどの
電気的特性を検査する。
【0011】その後、チップ1に紫外線を照射して本番
メモリセル部2のメモリセルのデータを消去する。な
お、この段階はまだ組み立て(モールド樹脂封止)前で
あるので、チップ1にデータ消去のための紫外線を照射
することが可能である。
【0012】そして、ウエハ検査工程での検査情報とし
ての電気的特性を冗長メモリセル部3のメモリセルに書
き込んで、組み立てを行う。
【0013】組み立て完了後の電気的検査では、冗長メ
モリセル部3のメモリセルからウエハ検査工程での検査
情報を読み出し、このデータに基づいて詳細な電気的特
性の検査及び選別を行う。
【0014】実施例2.上記実施例1では、OTPRO
Mを例にして説明したが、マイクロコンピュータやAS
IC(Application Specific Integrated Circuit)な
どのOTPROMを内蔵した半導体装置の検査及び選別
にも有効である。
【0015】
【発明の効果】以上のように、この発明に係る半導体記
憶装置によれば、チップ上に冗長メモリセルを備えてウ
エハ検査での検査情報を記録するよう構成したことによ
り、データの書き換えが不能な半導体記憶装置は、組み
立て完了後に、ユーザが利用するメモリセルにデータを
書き込むことなく、冗長メモリセルの検査情報に基づい
て検査及び選別を容易に行うことができるという効果を
奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例1を示す平面図である。
【符号の説明】
1 チップ 3 冗長メモリセル部
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年12月10日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0015
【補正方法】変更
【補正内容】
【0015】
【発明の効果】以上のように、この発明に係る半導体記
憶装置によれば、チップ上に冗長メモリセルを備えてウ
エハ検査での検査情報を記録するよう構成したことによ
り、組み立て完了後メーカ側での検査用データの書き込
みが不能な半導体記憶装置であっても、ユーザが利用す
るメモリセルにデータを書き込むことなく、冗長メモリ
セルの検査情報に基づいて検査及び選別を容易に行うこ
とができるという効果を奏する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 チップ上に、ウエハ検査での検査情報を
    記録する不揮発性の冗長メモリセルを備えたことを特徴
    とする半導体記憶装置。
JP16580292A 1992-06-24 1992-06-24 半導体記憶装置 Pending JPH065098A (ja)

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JPH065098A true JPH065098A (ja) 1994-01-14

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6649931B2 (en) 2000-11-22 2003-11-18 Hitachi, Ltd. Semiconductor wafer, semiconductor chip, semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
JP2011517360A (ja) * 2008-03-07 2011-06-02 ジェムアルト エスアー 記憶回路スタックの製造方法と記憶回路のアドレス方法、及び対応するスタックと装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6649931B2 (en) 2000-11-22 2003-11-18 Hitachi, Ltd. Semiconductor wafer, semiconductor chip, semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
JP2011517360A (ja) * 2008-03-07 2011-06-02 ジェムアルト エスアー 記憶回路スタックの製造方法と記憶回路のアドレス方法、及び対応するスタックと装置

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