JPH06502866A - レトロウィルスプロテアーゼ阻害物質 - Google Patents

レトロウィルスプロテアーゼ阻害物質

Info

Publication number
JPH06502866A
JPH06502866A JP4502309A JP50230991A JPH06502866A JP H06502866 A JPH06502866 A JP H06502866A JP 4502309 A JP4502309 A JP 4502309A JP 50230991 A JP50230991 A JP 50230991A JP H06502866 A JPH06502866 A JP H06502866A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
alkyl
compound according
butyl
groups
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4502309A
Other languages
English (en)
Inventor
リード，キャスリン，リー
タリィ，ジョン，ジェフリィ
Original Assignee
モンサント　カンパニー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by モンサント　カンパニー filed Critical モンサント　カンパニー
Publication of JPH06502866A publication Critical patent/JPH06502866A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/24—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
    • C07D213/36—Radicals substituted by singly-bound nitrogen atoms
    • C07D213/40—Acylated substituent nitrogen atom
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K31/00—Medicinal preparations containing organic active ingredients
    • A61K31/16—Amides, e.g. hydroxamic acids
    • A61K31/17—Amides, e.g. hydroxamic acids having the group >N—C(O)—N< or >N—C(S)—N<, e.g. urea, thiourea, carmustine
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K31/00—Medicinal preparations containing organic active ingredients
    • A61K31/185—Acids; Anhydrides, halides or salts thereof, e.g. sulfur acids, imidic, hydrazonic or hydroximic acids
    • A61K31/19—Carboxylic acids, e.g. valproic acid
    • A61K31/195—Carboxylic acids, e.g. valproic acid having an amino group
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K31/00—Medicinal preparations containing organic active ingredients
    • A61K31/185—Acids; Anhydrides, halides or salts thereof, e.g. sulfur acids, imidic, hydrazonic or hydroximic acids
    • A61K31/19—Carboxylic acids, e.g. valproic acid
    • A61K31/195—Carboxylic acids, e.g. valproic acid having an amino group
    • A61K31/197—Carboxylic acids, e.g. valproic acid having an amino group the amino and the carboxyl groups being attached to the same acyclic carbon chain, e.g. gamma-aminobutyric acid [GABA], beta-alanine, epsilon-aminocaproic acid or pantothenic acid
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K31/00—Medicinal preparations containing organic active ingredients
    • A61K31/21—Esters, e.g. nitroglycerine, selenocyanates
    • A61K31/27—Esters, e.g. nitroglycerine, selenocyanates of carbamic or thiocarbamic acids, meprobamate, carbachol, neostigmine
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K31/00—Medicinal preparations containing organic active ingredients
    • A61K31/33—Heterocyclic compounds
    • A61K31/395—Heterocyclic compounds having nitrogen as a ring hetero atom, e.g. guanethidine or rifamycins
    • A61K31/435—Heterocyclic compounds having nitrogen as a ring hetero atom, e.g. guanethidine or rifamycins having six-membered rings with one nitrogen as the only ring hetero atom
    • A61K31/47—Quinolines; Isoquinolines
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K31/00—Medicinal preparations containing organic active ingredients
    • A61K31/33—Heterocyclic compounds
    • A61K31/395—Heterocyclic compounds having nitrogen as a ring hetero atom, e.g. guanethidine or rifamycins
    • A61K31/435—Heterocyclic compounds having nitrogen as a ring hetero atom, e.g. guanethidine or rifamycins having six-membered rings with one nitrogen as the only ring hetero atom
    • A61K31/47—Quinolines; Isoquinolines
    • A61K31/4709—Non-condensed quinolines and containing further heterocyclic rings
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K31/00—Medicinal preparations containing organic active ingredients
    • A61K31/33—Heterocyclic compounds
    • A61K31/395—Heterocyclic compounds having nitrogen as a ring hetero atom, e.g. guanethidine or rifamycins
    • A61K31/495—Heterocyclic compounds having nitrogen as a ring hetero atom, e.g. guanethidine or rifamycins having six-membered rings with two or more nitrogen atoms as the only ring heteroatoms, e.g. piperazine or tetrazines
    • A61K31/496—Non-condensed piperazines containing further heterocyclic rings, e.g. rifampin, thiothixene or sparfloxacin
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K31/00—Medicinal preparations containing organic active ingredients
    • A61K31/33—Heterocyclic compounds
    • A61K31/395—Heterocyclic compounds having nitrogen as a ring hetero atom, e.g. guanethidine or rifamycins
    • A61K31/535—Heterocyclic compounds having nitrogen as a ring hetero atom, e.g. guanethidine or rifamycins having six-membered rings with at least one nitrogen and one oxygen as the ring hetero atoms, e.g. 1,2-oxazines
    • A61K31/5375—1,4-Oxazines, e.g. morpholine
    • A61K31/5377—1,4-Oxazines, e.g. morpholine not condensed and containing further heterocyclic rings, e.g. timolol
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/12—Antivirals
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P37/00—Drugs for immunological or allergic disorders
    • A61P37/02—Immunomodulators
    • A61P37/04—Immunostimulants
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C213/00—Preparation of compounds containing amino and hydroxy, amino and etherified hydroxy or amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C213/00—Preparation of compounds containing amino and hydroxy, amino and etherified hydroxy or amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C213/02—Preparation of compounds containing amino and hydroxy, amino and etherified hydroxy or amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton by reactions involving the formation of amino groups from compounds containing hydroxy groups or etherified or esterified hydroxy groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C213/00—Preparation of compounds containing amino and hydroxy, amino and etherified hydroxy or amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C213/08—Preparation of compounds containing amino and hydroxy, amino and etherified hydroxy or amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton by reactions not involving the formation of amino groups, hydroxy groups or etherified or esterified hydroxy groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C269/00—Preparation of derivatives of carbamic acid, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C269/04—Preparation of derivatives of carbamic acid, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups from amines with formation of carbamate groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/10—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C271/20—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/10—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C271/22—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by carboxyl groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C275/00—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C275/04—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C275/06—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic and saturated carbon skeleton
    • C07C275/14—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic and saturated carbon skeleton being further substituted by nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C275/00—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C275/04—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C275/18—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to acyclic carbon atoms of a saturated carbon skeleton containing rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C275/00—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C275/04—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C275/20—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to acyclic carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton
    • C07C275/24—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to acyclic carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton containing six-membered aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C275/00—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C275/28—Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/30—Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/45—Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups at least one of the singly-bound nitrogen atoms being part of any of the groups, X being a hetero atom, Y being any atom, e.g. N-acylaminosulfonamides
    • C07C311/47—Y being a hetero atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
    • C07C317/44—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
    • C07C317/44—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C317/48—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C317/50—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups at least one of the nitrogen atoms being part of any of the groups, X being a hetero atom, Y being any atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/50—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/51—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
    • C07C323/60—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton with the carbon atom of at least one of the carboxyl groups bound to nitrogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C335/00—Thioureas, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C335/04—Derivatives of thiourea
    • C07C335/06—Derivatives of thiourea having nitrogen atoms of thiourea groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C335/10—Derivatives of thiourea having nitrogen atoms of thiourea groups bound to acyclic carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton
    • C07C335/12—Derivatives of thiourea having nitrogen atoms of thiourea groups bound to acyclic carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton the carbon skeleton containing six-membered aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D213/78—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms, with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • C07D213/81—Amides; Imides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D215/48—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D215/48—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen
    • C07D215/50—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen attached in position 4
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D215/48—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen
    • C07D215/54—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen attached in position 3
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D217/00—Heterocyclic compounds containing isoquinoline or hydrogenated isoquinoline ring systems
    • C07D217/22—Heterocyclic compounds containing isoquinoline or hydrogenated isoquinoline ring systems with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to carbon atoms of the nitrogen-containing ring
    • C07D217/26—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D235/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings
    • C07D235/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D235/04—Benzimidazoles; Hydrogenated benzimidazoles
    • C07D235/06—Benzimidazoles; Hydrogenated benzimidazoles with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D235/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings
    • C07D235/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D235/04—Benzimidazoles; Hydrogenated benzimidazoles
    • C07D235/24—Benzimidazoles; Hydrogenated benzimidazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D239/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
    • C07D239/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
    • C07D239/24—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D239/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D239/32—One oxygen, sulfur or nitrogen atom
    • C07D239/38—One sulfur atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D241/00—Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings
    • C07D241/36—Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D241/38—Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings condensed with carbocyclic rings or ring systems with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atoms
    • C07D241/40—Benzopyrazines
    • C07D241/44—Benzopyrazines with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D295/12—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms
    • C07D295/125—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms with the ring nitrogen atoms and the substituent nitrogen atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings
    • C07D295/13—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms with the ring nitrogen atoms and the substituent nitrogen atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings to an acyclic saturated chain
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D295/14—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • C07D295/145—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals with the ring nitrogen atoms and the carbon atoms with three bonds to hetero atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings
    • C07D295/15—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals with the ring nitrogen atoms and the carbon atoms with three bonds to hetero atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings to an acyclic saturated chain
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D307/78—Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans
    • C07D307/82—Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
    • C07D307/84—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen
    • C07D307/85—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen attached in position 2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
    • C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
    • C07D401/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07K—PEPTIDES
    • C07K5/00—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof
    • C07K5/02—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof containing at least one abnormal peptide link
    • C07K5/0207—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof containing at least one abnormal peptide link containing the structure -NH-(X)4-C(=0), e.g. 'isosters', replacing two amino acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07K—PEPTIDES
    • C07K5/00—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof
    • C07K5/04—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof containing only normal peptide links
    • C07K5/06—Dipeptides
    • C07K5/06008—Dipeptides with the first amino acid being neutral
    • C07K5/06017—Dipeptides with the first amino acid being neutral and aliphatic
    • C07K5/06026—Dipeptides with the first amino acid being neutral and aliphatic the side chain containing 0 or 1 carbon atom, i.e. Gly or Ala
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07K—PEPTIDES
    • C07K5/00—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof
    • C07K5/04—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof containing only normal peptide links
    • C07K5/06—Dipeptides
    • C07K5/06139—Dipeptides with the first amino acid being heterocyclic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07K—PEPTIDES
    • C07K5/00—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof
    • C07K5/04—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof containing only normal peptide links
    • C07K5/06—Dipeptides
    • C07K5/06191—Dipeptides containing heteroatoms different from O, S, or N
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K38/00—Medicinal preparations containing peptides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
    • C07B2200/00—Indexing scheme relating to specific properties of organic compounds
    • C07B2200/07—Optical isomers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/02—Systems containing only non-condensed rings with a three-membered ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/04—Systems containing only non-condensed rings with a four-membered ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/06—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring
    • C07C2601/08—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring the ring being saturated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/14—The ring being saturated

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Pharmacology & Pharmacy (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Biophysics (AREA)
  • Proteomics, Peptides & Aminoacids (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Genetics & Genomics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Communicable Diseases (AREA)
  • Virology (AREA)
  • Oncology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
  • Emergency Medicine (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
  • Medicines That Contain Protein Lipid Enzymes And Other Medicines (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 レトロウィルスプロテアーゼ阻害物質 本出願は１９９０年１１月１９日提出の米国特許願連続第０７／６１５．２１０ 号明細書と一部継続する。
本発明はレトロウィルスプロテアーゼ阻害物質に関し、更に詳しく言えば、レト ロウィルスのプロテアーゼを阻害するための新規化合物および組成物ならびに方 法に関するものである。とりわけ本発明はレトロウィルスプロテアーゼ、例えば ヒト免疫不全ウィルス（ＨＩＶ）プロテアーゼを阻害するための、またはレトロ ウィルス感染症、例えばＨＩＶ感染症を治療するためのヒドロキシエチルアミン プロテアーゼ阻害化合、物、組成物、および方法に関する。本発明はまたこのよ うな化合物の製造法ならびにかかる方法に有用な中間体に関するものである。
２、　関連する技術 レトロウィルスの複製サイクルの間に、ギャグおよびギヤグーボール遺伝子生成 物かタンパク質として翻訳される。これらタンパク質はその後ウィルスでコード 化されたプロテアーゼ（あるいはプロテアーゼ）により処理されウィルス酵素お よびウィルス中核の構造タンパク質を生成する。最も一般的には、ギャグ前駆体 タンパク質は中核タンパクに処理され、またボール前駆体タンパク質はウィルス 酵素、例えばリバーストランスクリブターゼおよびレトロウィルスプロテアーゼ に処理される。
感染性ピリオンを組立てるためにはレトロウィルスプロテアーゼによる前駆体タ ンパク質の正しい処理が必要であることが示されている。例えば、ＨＩＶのボー ル遺伝子のプロテアーゼ領域におけるフレームシフト変異はギャグ前駆体タンパ ク質の処理を妨げることか示された。
また、ＨＩＶプロテアーゼにおけるアスパラギン酸残基の部位特異的変異誘発に より、ギャグ前駆体タンパク質の処理か妨げられることも示された。従って、レ トロウィルスプロテアーゼの作用を阻害することによってウィルス複製を抑制す る試みかなされている。
レトロウィルスプロテアーゼの阻害は典型的には遷移状態擬似の関与であり、レ トロウィルスプロテアーゼをギャグおよびギヤグーボールタンパク質と競合して 酵素に結合する（典型的には可逆的に）擬似化合物に曝露して構造タンパク質の 複製を、そしてより重要なことには、レトロウィルスプロテアーゼ自身の複製を 阻害するものである。この方法でレトロウィルスプロテアーゼの複製を効果的に 阻害できる。
とりわけプロテアーゼ阻害のため、例えばＨＩＶプロテアーゼの阻害のため、数 群の擬似化合物か提唱された。
このような擬似化合物にはヒドロキシエチルアミン等配電子体および還元アミド 等配電子体か含まれる。例えば、欧州特許第０．３４６，８４７号明細書：欧州 特許第０．３４２．５４１号明細書；　Ｒｏｂｅｒｔｓ等、ｒＲａｔｉｏｎａｌ 　Ｄｅｓｉｇｎ　ｏｆＰｅｐｔｉｄｅ−Ｂａｓｅｄ　Ｐｒｏｔｅｉｎａｓｅ　［ ｎｈｉｂｉｔｏｒｓ、５ｃｉｅｎｃｅ　、２４８．３５８　（１９９０）；およ びＥｒ１ｃｋｓｏｎ等、ｒＤｅｓｉｇｎＡｃｔｉｖｉｔｙ、および２６８人Ｃｒ ｙｓｔａｌ　５ｔｒｕｃｔｕｒｅ　ｏｆ　ａ　Ｃ２ＳｙｍｍｅＣ２５ｙ　［ｎｈ ｉｂｉｔｏｒ　Ｃｏｍｐｌｅｘｅｄ　ｔｏ　Ｈ［Ｖ−Ｉ　Ｐｒｏｔｅａｓｅ、Ｊ Ｓｃｉｅｎｃｅ、　２４９，５２７　（１９９０）参照。
擬似化合物の幾つかの群はタンパク質分解酵素レニンの阻害物質として有用であ ることか知られている。例えば、米国特許第４．５９９．１９８号明細書：英国 特許第２゜１８４．７３０号明細書；英国特許第２．２０９．７５２号明細書、 欧州特許第０．２ｆｔ４，７９５号明細書：英国特許第２．２００，１１５号明 細書およびＵ、Ｓ、ＳＩＲＨ７２５号参照。しかし、レニンおよびＨＩＶプロテ アーゼは両方ともアスパラギンプロテアーゼとして分類されているか、効果的レ ニン阻害物質である化合物が一般に有効なＨＩＶプロテアーゼ阻害物質であると 予言することは本発明はウィルス抑制化合物および組成物を指向している。更に 詳しく言えば、本発明はレトロウィルスプロテアーゼ阻害化合物および組成物、 レトロウィルスプロテアーゼ阻害法、該化合物の製造法ならびにこのような製造 法に有用な中間体を指向するものである。
本発明によると、式： を育するレトロウィルスプロテアーゼ阻害化合物あるいはその製薬上容認しうる 塩、プロドラッグまたはエステルか提供されるが、式中、Ａは次式： （Ａ１） ＲＮ（ＣＲ１′Ｒ’″）　、　−ＣＨＣ−Ｒ’　Ｒ’ （Ａ２） （Ａ３） により表わされる残基を表わし、上記式中、Ｒは水素、アルコキシカルボニル、 アルアルコキシカルボニル、アルキルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、 シクロアルキルアルコキシカルボニル、シクロアルキルアルカノイル、アルカノ イル、アルアルカノイル、アロイル、アリールオキシカルボニル、アリールオキ ジアルカノイル、ヘテロシクリルカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル 、ヘテロシクリルアルカノイル、ヘテロシクリルアルコキシカルボニル、ヘテロ アルアルコキシカルボニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、ヘテロアロイル 、アルキル、アリール、アルアルキル、アリールオキシアルキル、ヘテロアリー ルオキシアルキル、ヒドロキシアルキル、アルキルアミノカルボニル、アリール アミノカルボニル、アルアルキルアミノアルキルカルボニル、アミノアルカノイ ル、アルキルアミノアルキルカルボニル、および−一および二置換アミノアルカ ノイル基（この置換基はアルキル、アリール、アルアルキル、シクロアルギル、 シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアルアルキル、ヘテロシクロ アルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル基から選ばれる）を表わし： Ｒ′は水素およびＲ３に対して定義したと同し残基を表わし、あるいはＲとＲ′ はそれらか付いている窒素と一緒にヘテロシクロアルキルまたはヘテロアリール 基を形成し； ｔはＯか１を表わし； Ｒ１は水素、−ＣＨ，５Ｏ１ＮＨ，、アルキル、アルケニル、アルキニルおよび シクロアルキル基およびアミノ酸側鎖（アスパラギン、Ｓ−メチルシスティンお よびその対応するスルホキシドおよびスルホン誘導体、グリシン、ロイシン、イ ソロイシン、アローイソロイシン、ｔｅｒｔ−ロイシン、フェニルアラニン、オ ルニチン、アラニン、ヒスチジン、ノルロイシン、グルタミン、バリン、トレオ ニン、セリン、アルパラギン酸、ベーターシアノアラニン、およびアロートレオ ニン側鎖から選ばれる）を表わし； Ｒ１＋およびＲＩ＃はそれぞれ水素およびＲ１に対して定義したと同じ基を表わ し： Ｒ２はアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキルおよびア ルアルキル基を表わし、そして前記基は−ＯＲ’、−３Ｒ”　（Ｒ”は水素およ びアルキル基を表わす）、およびハロゲン基から選ばれる基で任意に置換され。
Ｒ３はアルキル、アルケニル、ヒドキシアルキル、シクロアルキル、シクロアル キルアルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクロアルキル アルキル、アリール、アルアルキル、およびヘテロアルアルキル基を表わし： ＸはＯおよびＣ（Ｒ１７）を表わし、そしてＲＩ７は水素およびアルキル基を表 わし： Ｘ′は○、ＮおよびＣ（Ｒ”）を表わすか、ただしＸおよび（または）Ｘ′か存 在しないときはＲ′および（または）Ｒ３４は存在しないことを条件とじ：Ｙ、 Ｙ′およびＹ＃はそれぞれＯ２ＳおよびＮＲＩ６を表わし、そしてＲＩＳはＲ３ に対して定義したと同じ基を表オつ　し　： Ｒ４およびＲ５はそれぞれ水素およびＲ３により定義される基を表わすか、ある いはＲ４とＲ５はそれらか結合している炭素原子と一緒にシクロアルキルおよび アリール、ヘテロアリール、およびヘテロシクロアルキル基を表わし。
Ｒ６は水素およびＲ３に対して定義したと同じ基を表わし。
Ｒ２Ｏ，Ｒ２１，Ｒ３０，Ｒ３１およびＲ３２はＲ１に対して定義したと同じ基 を表わし、あるいはＲ１とＲ２Ｏのいずれか−っは１ｌｉ３１および１ｌｉ３２ のいずれか一つおよびそれらか付いている炭素原子と一緒にシクロアルキル基を 形成し。
１１ｉｆｆ３およびＲ３４はそれぞれ水素およびＲ３に対して定義したと同し基 を表わすか、あるいはＲ３３およびＲ２４はＸ′と一緒にシクロアルキル、アリ ール、ヘテロシクリルおよびヘテロアリール基を表わす。
本発明に係る特に適当な一群のレトロウィルス抑制化合物は式： により表わされる化合物あるいはその製薬上容認しうる塩、プロドラッグまたは エステルであり、そしてヒドロキシ基に関する立体化学は（Ｒ）で表示されるの がよく、上記式中、 Ｒは水素、アルコキシカルボニル、アルアルコキシカルボニル、アルキルカルボ ニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルキルアルコキシカルボニル、シク ロアルキルアルカノイル、アルカノイル、アルアルカノイル、アロイル、アリー ルオキシカルボニル、アリールオキジアルカノイル、ヘテロシクリルカルボニル 、ヘテロシクリルオキシカルボニル、ヘテロシクリルアルカノイル、ヘテロシク リルアルコキシカルボニル、ヘテロアルアルコキシカルボニル、ヘテロアリール オキシカルボニル、ヘテロアロイル、アルキル、アリール、アルアルキル、アリ ールオキシアルキル、ヘテロアリールオキシアルキル、ヒドロキシアルキル、ア ルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルアルキルアミノアル キルカルボニル、アミノアルカノイル、アルキルアミノアルキルカルボニル、お よび−−および二置換アミノアルカノイル基（この置換基はアルキル、アリ−ル 、アルアルギル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、 ヘテロアルアルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル基 から選ばれる）を表わし。
Ｒ′は水素およびＲ３に対して定義したと同じ残基を表わし、あるいはＲとＲ′ はそれらか付いている窒素と−ｍにヘテロシクロアルキルおよびヘテロアリール 基を表わし： Ｒ１は水素、−ＣＨｚＳＯ２ＮＨｚ　、アルキル、アルケニル、アルキニルおよ びシクロアルキル基、およびアミノ酸側ｗｉ（アスパラギン、Ｓ−メチルシステ ィンおよびそのスルホキシド（ＳＯ）およびスルホン（ＳＯ□）誘導体、イソロ イシン、アローイソロイシン、アラニン、ロイシン、　ｔｅｒｔ−ロイシン、フ ェニルアラニン、オルニチン、ヒスチジン、ノルロイシン、グルタミン、トレオ ニン、グリシン、アロートレオニン、セリン、アルバラギン酸、β−シアノアラ ニンおよびバリン側鎖から選ばれる）を表わし。
Ｒ”　とＲ１＃はそれぞれ水素およびＲ１に対して定義したと同じ基を表わし： Ｒ２はアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、および アルアルキル基を表わし、そして前記基はアルキル基、ＯＲ”およびＳＲ”（式 中、Ｒ１は水素およびアルキル基を表わす）、およびハロゲン基から選ばれる基 で任意に置換され：Ｒ３はアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル 、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリール、ヘテロア リール、アルアルキルおよびヘテロアルアルキル基を表わし：Ｒ４およびＲ８は それぞれ水素およびＲ３により定義されたと同じ基を表わすか、あるいはそれら か結合している炭素原子と一緒にシクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテ ロアリールおよびアリール基を表わし： ｔは０か１を表わし： ＸはＯおよびＣ（Ｒ”）を表わし、そしてＲ１７は水素およびアルキル基を表わ すか、ただしＸがＯであるときＲ６は存在しないときＲ′は存在しないことを条 件とし。
ＹおよびＹ′はそれぞれＯ，Ｓ、およびＮＲＩＳを表わし、そしてＲＩｓはＲ３ に対して定義したと同し基を表わすが、なるべくはＹおよびＹ′は０を表わすの かよい。
なるべくＲ２は上で定義した基でイソプロピル基やｔ−ブチル基におけるように α−分技を含まないものがよい。
特に適当な基は尿素の窒素とこの基の残りの部分との間に−ＣＨ２一部分を含む ものである。特に適当なこのような基の例としてベンジル、イソブチル、ｎ−ブ チル、イソアミル、シクロヘキシルメチルなとがあげられるかこれらに限定され ない。
特に適当なもう一つの群の化合物は式。
式中、ｔ、ｘ、ｙ、ｙ’、Ｒ′、Ｒ１，Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ２°および Ｒｆｉｌは上で定義した通りである、により表わされる化合物あるｕｎｉｔその 製薬上容認しつる塩、プロドラッグまたはエステルである。
更にもう一つの特に適当な化合物群（よ式：式中、ｔ、ｘ、ｘ’　、Ｙ、Ｙ’、 ｙ＃、　Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ３１１、Ｒ３１、Ｒｆｆ２　、Ｒ３ ３およびＲ３４（ま上で定義した通りである、 により表わされる化合物あるいはその製薬上容認しうる塩、プロドラッグまたは エステルである。
本明細書中て用いた「アルキル」と（１う用８吾（±、単Ｉ虫でもまたは複合語 においても、ｌから約１０、なるへくは１から約８、炭素原子を含む直鎖または 分枝鎖アルアキル基を意味する。このような基の例にはメチｌし、エチル、ｎ− プロピル、イノプロピル、ｎ−ブチル、イソフ゛チル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒ ｔ−ブチル、ペンチル、イソアミル、５　ヘキシル、オクチルなどが含まれる。
「アルコキシ」という用語は、単独でもまたは複合語においても、アルキルエー テル基（このアルキルという用語は上で定義した通りである）を意味する。適当 なアルキルエーテル基の例にはメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロ ポキシ、ｎ−ブトキシ、イソ−ブトキシ、５ｅｅ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキ シなどが含まれる。「シクロアルキル」という用語は約３から約８炭素原子を含 む環状のアルキル基を意味する。用語「シクロアルキルアルキル」は約３から約 ８、なるべくは約３から約６、炭素原子を含むシクロアルキル基により置換され た上に定義されているアルキル基を意味する。このようなシクロアルキル基の例 にはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが含 まれる。「アリール」どう用語は、単独においてもまたは複合語においても、ア ルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノなどから選ばれる１個以上 の置換基を任意に育するフェニル基またはナフチル基、例えばフェニル、ｐ−ト リル、４−メトキシフェニル、４−　（ｔｅｒｔ−ブトキシ）フェニル、４−フ ルオロフェニル、４−クロロフェニル、４−ヒドロキシフェニル、１−ナフチル 、２−ナフチルなどを意味する。「アルアルキル」とう用語は、単独でもまたは 複合語においても、１個の水素原子が上で定義したアリール基により置換された アルキル基（上で定義した通り）、例えばベンジル、２−フェニルエチルなと、 を意味する。「アルアルコキシカルボニル」という用語は、単独でもまたは複合 語においても、式−〇（０）−０−アルアルキル（式中、用語「アルアルキル」 は上に示した意味をもつ）を有する基を意味する。アルアルコキシカルボニル基 の１例はベンジルオキシカルボニルである。
「アリールオキシ」という用語は式アリール−０−（式中、用語アリールは上に 示した意味をもつ）を存する基を意味する。「アルカノイル」という用語は、単 独でもまたは複合語においても、・アルカンカルボン酸から誘導されるアシル基 を意味し、その例にはアセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、４−メチ ルバレリルなどが含まれる。用語「シクロアルキルカルボニル」は単環式の酸ま たは架橋したシクロアルカンカルボン酸から誘導されるアシル基、例えばシクロ プロパンカルボニル、シクロヘキサンカルボニル、アダマンタンカルボニルなと 、あるいはベンズ−縮合単環式シクロアルカンカルボン酸（例えば、アルカノイ ルアミノにより任意に置換される）から誘導されるアシル基、例えばｌ、２．　 ３．　４＝テトラヒドロ−２−ナフトイル、２−アセトアミド−１，２，３，４ −テトラヒドロ−２−ナフトイル、を意味する。「アルアルカノイル」という用 語はアリール置換アルカンカルボン酸から誘導されるアシル基、例えばフェニル アセチル、３−フェニルプロピオニル（ヒドロノンナモイル）、４−フェニルブ チリル、（２−ナフチル）アセチル、４−クロロヒドロシンナモイル、４−アミ ノヒトロノンナモイル、４−メトキシヒドロノンナモイルなどを意味する。「ア ロイル」という用語は芳香族カルボン酸から誘導されたアシル基を意味する。こ のような基の例には芳香族カルボン酸、任意に置換された安息香酸またはナフト エ酸から誘導されたアシル基、例えばベンゾイル、４−クロロベンゾイル、４− カルボキシベンゾイル、４−（ベンジルオキシカルボニル）ベンゾイル、ｌ−ナ フトイル、２−ナフトイル、６−カルボキシ−２−ナフトイル、６−（ベンジル オキシカルボニル）−２−ナフトイル、３−ベンジルオキシ−２−ナフトイル、 ３−ヒドロキシ−２−ナフトイル、３−（ベンジルオキシホルムアミド）−２− ナフトイルなどが含まれる。ヘテロシクリルカルボニル、ヘテロシクリルオキシ カルボニル、ヘテロシクリルアルコキシカルボニル、またはへテロシクリルアル キル基などのへテロシクリル、またはへテロシクロアルキル部分は飽和または部 分不飽和な単環式、二環式または三環式複素環であり、このものは窒素、酸素お よび硫黄から選ばれる１個以上のへテロ原子を含み、そして１個以上の炭素原子 上でハロゲン、アルキル、アルコキシ、オキソなどにより、そして（または）第 二級窒素原子（即ち、−ＮＨ−）上でアルキル、アルアルコキシカルボニル、ア ルカノイル、フェニルまたはフェニルアルキルにより、あるいは第三級窒素原子 （即ち、＝Ｎ−）上でオキシドにより任意に置換され、そして−炭素原子を経て 結合する。ヘテロアロイル、ヘテロアリールオキシカルボニル、またはヘテロア ルアルコキシカルボニル基なとのへテロアリール部分はへテロ原子（複数）を含 む芳香族単環式、二環式、または三環式複素環てあり、ヘテロシクリルの定義に 関して上で定義したように任意に置換される。このようなヘテロシクリルおよび ヘテロアリール基の例は、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホ リニル、チアモルホリニル、ピロリル、イミダゾリル（例えば、イミダゾール− ４−イル、１−ベンジルオキシカルボニルイミダゾール−４−イル、など）、ピ ラゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、フリル、チェニル、トリアゾ リル、オキサシリル、チアゾリル、インドリル（例えば、２−インドリルなと） 、キノリニル（例えば、２−キノリニル、３−キノリニル、ｌ−オキシド−２− キノリニルなと）、イソキノリニル（例えば、ｌ−イソキノリニル、３−イソキ ノリニルなど）、テトラヒドロキノリニル（例えば、ｌ、２，３．４−テトラヒ ドロ−２−キノリニルなと）、１，２，３．４−テトラヒドロイソキノリニル（ 例えば、１．　２．　３．　４−テトラヒドロ−１−オキソ−イソキノリニルな ど）、キノキサリニル、β−カルボリニル、ベンゾフランカルボニル、ベンゾイ ミダゾリル基なとである。用語「シクロアルキルアルコキソ力ルボニルＪは式シ クロアルキルアルキル−〇　−ＣＯＯＨ（式中、シクロアルキルアルキルは上に 示した意味をもつ）を育するンクロアルキルアルコキシヵルポン酸から誘導され るアシル基を意味する。用語「アリールオキジアルカノイル」は式アリールオキ ジアルカノイル（式中、アリールおよびアルカノイルは上に示した意味をもつ） を有するアシル基である。用語「ヘテロシクリルオキシカルボニル」はへテロシ クリル−〇−ＣＯＯＨ（式中、ヘテロシクリルは上で定義した通りである）から 誘導されるアシル基である。「ヘテロシクリルアルカノイル」という用語はへテ ロシクリル置換アルカンカルボン酸（ヘテロシクリルは上に示した意味をもつ） から誘導されるアシル基である。「ヘテロシクリルアルコキシカルボニル」とい う用語はへテロシクリル−置換アルカン−〇−ＣＯＯＨ（式中、ヘテロシクリル は前記の意味をもつ）から誘導されるアシル基を意味する。「ヘテロアリールオ キシカルボニル」という用語はへテロアリール−〇−ＣＯＯＨ（式中、ヘテロア リールは前記の意味をもつ）により表わされるカルボン酸から誘導されるアシル 基を意味する。
「アミノアルカノイル」という用語はアミノ−置換アルカンカルボン酸から誘導 されるアシル基を意味し、前記アミノ基は水素、およびアルキル、アリール、ア ルアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル基などから選ばれる置換 基を含む第一級、第二級または第三級アミノ基でよい。「ハロゲン」という用語 はフッ素、塩素、臭素またはヨウ素を意味する。「脱離基」という用語は一般に アミン、千オールまたは請求核試薬といった核試薬により容易に置換しつる基を 指す。このような脱離基はよく知られていて、カルボキシレート、Ｎ−ヒドロキ シスクシ：／イミド、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール、ハロゲン化物、トリ フレート、トシレート、−ＯＲおよび−ＳＲなとが含まれる。特に適当な脱離基 は適宜本明細書中に示される。
式■の化合物の製造手順を下に述べる。この一般手順は明記された立体化学を有 する化合物、例えばヒドロキシル基についての立体化学が（Ｒ）と指定された化 合物の製造に関するように示しである。しかし、説明にある通り、このような手 順は反対の立体配置をもつ化合物、例えばヒドロキシル基周りの立体化学が（Ｓ ）である化合物に対しても一般に適用できる。
式１１を有する化合物の製造 前記式Ｉ＋により表わされる本発明化合物は下記の一般手順を用いることにより 製造できる。式：式中、Ｐはアミノ保護基を表わし、Ｒ２は前に定義した通りで ある、を有するアミノ酸のＮ−保護クロロケトン誘導体を、適当な還元剤を用い て対応するアルコールに還元する。適当なアミノ保護基はこの分野で公知であり 、カルボベンズオキシ、ブチリル、ｔ−ブトキシカルボニル、アセチル、ベンゾ イルなとか含まれる。特に適当な′アミノ保護基はカルボベンズオキシである。
特に適当なＮ−保護クロロケトンはＮ−ベンジルオキシカルボニル−し−フェニ ルアラニンクロロメチルケトンである。特に適当な還元剤は水素化ホウ素ナトリ ウムである。この還元反応は適当な溶媒系、例えばテトラヒドロフランなどの中 で一１Ｏ°Ｃから約２５℃の温度で、なるべくは約０°Ｃで行なわれる。Ｎ−保 護クロロケトンはＢａｅｈｅｍ。
Ｉｎｃ、、ドルランス、カリホルニア州から市販されている。
他方このクロロケトンはＳ、　Ｊ、　Ｆｉｔｔｋａｎ、　Ｊ、　Ｐｒａｋｔ。
Ｃｈｅｍ、、３１５．１０３７　（１９７３）に述べられた手順により調製でき 、その後Ｎ−保護利用法はこの分野でよく知られている。
次に、ここで得られたアルコールを、なるべくは室温で、適当な溶媒系中で適当 な塩基と反応させることにより、式。
式中、ＰおよびＲ２は上で定義した通りである、を育するＮ−保護アミノエポキ シドをつくる。アミノエポキシドの調製に適した溶媒系にはエタノール、メタノ ール、イソプロパツール、テトラヒドロフラン、ジオキサンなと、およびこれら の混合物か含まれる。還元されたクロロケトンからエポキシドをつくるために適 した塩基には水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、カリウムを一ブトキシド、Ｄ ＢＵなどか含まれる。特に適当な塩基は水酸化カリウムである。
次にこのアミノエポキシドを、適当な溶媒系中で当量、またはなるべくは過剰の 式： 式中、Ｒ３は水素、あるいは前に定義された通りである、を有する希望のアミン と反応させる。反応は広範囲の温度にわたって、例えば約ｌＯ℃から約１００° Ｃまでで行ないつるが、なるべくは、ただし必ずしも必要ではないか、溶媒が還 流し始める温度で行なうのかよい。適当な溶媒系には溶媒がアルコール、例えば メタノール、エタノール、イソプロパツールなど、エーテル類、例えばテトラヒ ドロフラン、ジオキサンなど、およびトルエン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド 、ジメチルスルホキシド、およびこれらの混合物である系が含まれる。特に適当 な溶媒はイソプロパツールである。式Ｒ２ＮＨ，に相当する代表的アミンの例と してベンジルアミン、イソブチルアミン、ｎ−ブチルアミン、イソペンチルアミ ン、イソアミルアミン、シクロヘキサンメチルアミン、ナフチレンメチルアミン などかあげられる。この結果生じた生成物は３−（Ｎ−保護アミノ）　−３−（ Ｒ”）−１−（ＮＨＲリ−ブロバンー２−オール誘導体（以後はアミノアルコー ルと呼ぶ）であり、式： 式中、ＰＳＲ”およびＲ３は上記の通りである、により表わすことができる。
Ｘが０またはＣいずれかであるとき、適当な類縁化合物は上記アミノアルコール を酸塩化物または無水物と反応させることによりＸがＣである類縁体をつくるか 、またはクロロホルメートまたはピロカーボネートと反応させてＸが０である類 縁体をつくることにより調製できる。
これら化合物をアミンと反応させる手順はこの分野で公知である。このような化 合物の例としてｔ−ブチルアセチルクロリド、無水酢酸、ｔ−ブチルピロカーボ ネート、およびブチールクロロホルメートがあげられる。これら類縁化合物は式 ： により表わされる。
アミノアルコールおよび相当するその硫黄類縁体の誘導体は式。
により表わされる。
このような誘導体の調製後、アミノ保護基Ｐを分子の残りの部分に影響しない条 件下で除去する。これらの方法はこの分野で公知であり、酸加水分解、水素化分 解などが含まれる。特に適当な方法は保護基の除去に関わるもので、例えばアル コール、酢酸などあるいはその混合物といった適当な溶媒系の中でパラジウム／ 炭素を使用する水素化分解によりカルポヘンズオキシ基を除去する方法である。
保護基がｔ−ブトキシカルボニル基である場合には、適当な溶媒系、例えばジオ キサンまたは塩化メチレン、の中で無機酸または有機酸、例えばＨＣＩまたはト リフルオロ酢酸を用いて除去できる。得られた生成物はアミン塩誘導体である。
塩の中和後、次にアミンを式：　（ＰＮ［ＣＲＩ′Ｒ’″］　、　ＣＨ（Ｒ’） ＣＯＯＨ）　（式中、ｔ、Ｒ’、Ｒ”およびＲｌ　＃は上て定義した通りである ）により表わされるアミノ酸または相当するその誘導体と反応させることにより 式 式中、ｔ、ｘ、ｐ、Ｒ’、Ｒ１′、Ｒ１−、Ｒ１，Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５およびＹは 上で定義した通りである、 を有する本発明抗ウィルス化合物を得る。この場合の特に適当な保護基はベンジ ルオキシカルボニルチルオキシカルボニル基である。アミンをアミノ酸誘導体（ 例えば、ｔ＝１、Ｒ”およびＲ１＃は両方ともＨであるとき、そのアミノ酸はβ −アミノ酸となる）と反応させる場合、このようなβ−アミノ酸は同時出願中の 米国特許願連続第０　７／３　４５，８　０　８号明細書に記載された手順に従 ってつくることができる。ｔが１、Ｒ”　とＲ１′の一つはＨそしてＲ１が水素 、従ってそのアミノ酸（よホモ−β−アミノ酸である場合、このようなホモ−β −アミノ酸も同じ手順でつくることができる。ｔが０、Ｒ１力＼アルキル、ンク ロアルキル、−ｃＨｚｓｏ□ＮＨ．またはアミノ酸側鎖である場合、このような 物質は公知であり、多く（まＳｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈから市販されている。
Ｎ−保護基はその後必要に応じ上記手順を用１，ｚることにより除去することか でき、そして次に式：により表わされるカルボキシレートと反応させる。上記式 中のＲは上で定義した通りであり、Ｌは適当な脱離基、例えばハロゲン化物、で ある。Ｒ１が天然に生ずるα−アミノ酸の側鎖である場合、ＲはＮ−ヒドロキシ スクシンイミド−２−キノリンカルボキシレート（即ち、Ｌはヒドロキシスクシ ンイミドである）がら誘導される２−キノリン基であるのかよい。遊離アミン（ あるいはアミン酢酸塩）の溶液および約１．０当量のカルボキシレートを適当な 溶媒系中で混合し、はぼ室温において５当量までの塩基、例えばＮ−メチルモル ホリンで任意に処理する。
適当な溶媒系にはテトラヒドロフラン、塩化メチレンまたはＮ，Ｎ−ジメチルホ ルムアミドなと、およびこれらの混合物が含まれる。
Ｒ’ を有する置換メタクリレートとＭｉｃｈａｅｌ付加により反応させる。このＭｊ ｃｈａｅｌ付加は適当な溶媒中適当な塩基の存在下に行ない、式： ％式％ 式中、Ｒ′およびＲ’は上で定義した基を表わし、Ｒｚ。
およびＲｚ＋は水素およびＲ’に対して定義したと同し基を表わし、Ｒ２２はＲ ２により定義されたと同じ基を表わす、により表わされる相当したチオール誘導 体をつくる。
Ｍｉｃｈａｅｌ付加を行なうことのできる適当な溶媒にはアルコール類、例えば メタノール、エタノール、ブタノールなど、ならびにエーテル類、例えばＴＨＦ 、およびアセトニトリル、ＤＭＦ，ＤＭＳＯなど、およびこれらの混合物が含ま れる。適当な塩基には第■族金属アルコキシド、例えばナトリウムブトキシド、 ナトリウムエトキッド、ナトリウムブトキシドなと、ならびに第１族金属水素化 物、例えば水素化ナトリウム（その混合物を含めて）、が含まれる。
この千オール誘導体は適当な溶媒中適当な酸化剤を用いてチオール誘導体を酸化 することにより式・を有する相当するスルホンに変える。適当な酸化剤には、例 えば過酸化水素、〃−−過ホウ酸ナトリウム、オキソオギシ安息香酸など、およ びこれらの混合物が含まれる。
適当な溶媒には酢酸（Ｊ９−過ホウ酸ナトリウム酸化に対し）、そして他の過酸 に対しては、エーテル類、例えばＴＨＦおよびジオキサン、およびアセトニトリ ル、ＤＭＦなど、およびこれらの混合物が含まれる。
次にスルホンを、適当な溶媒、例えばＴＨＦ、アセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＳ Ｏ１塩化メチレンなど（これチウム、水酸化ナトリウムなと（これらの混合物を 含む）、を利用して式： の対応する遊離酸に変換する。
次にこの遊離酸を、前記のようにこの分野で公知の手順を用いることにより、式 ＩＩの化合物の製造に対して前述したアミノアルコールの尿素誘導体、あるいは その類縁体、に結合させる。この結果上ずる生成物が式［１１により表わされる 化合物である。
別法として、尿素の等配電子体を市販の酸、ＨＩ に結合させ、適当な塩基、例えば水酸化物、またはアミン、例えばアンモニア、 を用いてチオアセチル基を除去し、次に生じたチオールをアルキル化剤、例えば ハロゲン化アルキル、トシレートまたはメシレートと反応させて下記の構造： ＣＨ，ＯＨＲ２Ｒ’ を有する化合物を得る。
次に、前記のように適当な酸化剤を用いて硫黄を対応するスルホンに酸化するこ とにより下記の構造：を有する望みの化合物を得ることができる。別法として、 式ＩＩＩの化合物をつくるには、式： 式中、Ｌは前に定義した脱離基を表わし、Ｒ３ｓおよびＲ３＠は水素およびＲ１ に対して定義した基を表わし、Ｒ３７はアルキル、アルアルキル、シクロアルキ ルおよびシクロアルキルアルキル基を表わす、 を有する置換メタクリレートを、適当なスルホン化剤、例えば式Ｒ’　Ｓｏ□Ｍ （式中、Ｒ′は上で定義した基を表わし、Ｍは酸の塩をつくるのに適合した金属 、例えばナトリウムを表わす）により表わされるスルホン酸、と反応させて式： 式中、Ｒ′、Ｒ３Ｓ　、Ｒ３＝およびＲ３７は上で定義した通りである、 により表わされる対応したスルホンをつくる。次にこのスルホンを適当な塩基、 例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウムなど、の存在下で加水分解し式：式中 、Ｒ’　、ＲｌＳおよびＲ３−は上で定義した基を表わす、 により表わされる化合物とする。ここで得られた化合物を次に不斉水素化触媒、 例えばルテニウム−ＢＩＮＡＰ錯体、を用いて不斉水素化し式： 式中、Ｒ’　、Ｒ２％およびＲ３１は上で定義した基を表わす、 により表わされるより活性な異性体に実質的に富んだ還元生成物をつくる。活性 のより大きい異性体がＲ−立体化学を有する場合にはＲｕ　（Ｒ−Ｂ　ＩＮＡＰ ）不斉水素化触媒を利用することかできる。反対に、より活性な異性体かＳ−立 体化学を有する場合にはＲｕ（Ｓ−ＢＩＮＡＰ）触媒を利用できる。両方の異性 体とも活性である場合、あるいは二つのジアステレオマーの混合物を手に入れた い場合には、白金あるいは炭素上パラジウムといった水素化触媒を用いて上記化 合物を還元するとよい。
次−に還元化合物を上記のようにアミノアルコール誘導体に結合させて式ＩＩＩ の化合物をつくる。
式ＩＶを育する化合物の製造 式ＩＶの化合物をつ（るには式： 式中、Ｐ′はアルキル基、例えばエチル、メチル、ベンジルなどを表わす、 を有するラクテートから出発する。ラクテートのヒドロキシル基を適当な酸の存 在下適当な溶媒系中でメチルイソプロペニルエーテル（ｌ、２−メトキシプロパ ン）との反応によりそのケタールとして保護する。適当な溶媒系には塩化メチレ ン、テトラヒドロフランなど、ならびにその混合物が含まれる。適当な酸にはＰ ＯＣＩｓなどが含まれる。メチルイソプロペニルエーテル以外のよく知られた化 合物群を用いてケタールをつくりうることに注目すべきである。次にケタールを 一７８°Ｃで水素化ジイソブチルアルミニウム（Ｄ　Ｉ　ＢＡＬ）を用いて還元 して対応するアルデヒドをつくり、次にこれをエチリデントリフェニルホスホラ ンで処理して（Ｗｉｔｔｉｇ反応）式。
により表わされる化合物をつくる。
次にケタール保護基を温和な酸加水分解によるといったこの分野でよく知られる 手順を用いて除去する。得られた化合物を次に塩化イソブチリルでエステル化し て式： を有する化合物をつくる。
次にこの化合物を一７８°Ｃにおいてリチウムジイソプロピルアミドで処理し、 続いて反応混合物を室温まで温めることによりＣ１ａｉｓｅｎ転位（（３，３） ）を行なわせ式： により表わされる対応した酸をつくる。
この酸を第三級アミン塩基、例えばＤＢＵ、の存在下に臭化ベンジルで処理して 対応するエステルとし、次にこのエステルを酸化的に開裂させて三置換コハク酸 ：を得る。
次にこの三置換コハク酸を前述したように尿素等配電子体に結合させる。遊離酸 をつくるために、このベンジルエステルを水素化分解により除去して対応する酸 とする。次にこの酸をこの分野で公知の方法により第一級アミドに変換すること ができる。
三置換コハク酸をつくるもう一つの方法は式：式中、Ｒは適当な保護基、例えば メチル、エチル、ベンジル、またはｔ−ブチルである、 により表わされるアセト酢酸のエステルを適当な溶媒中で、例えばＴＨＦ中で水 素化ナトリウムおよびハロゲン化ヒドロカルビル（Ｒ”　ＸまたはＲ３２Ｘ）と 反応させることにより式： により表わされる対応する二置換誘導体をつくるものである。この二置換アセト 酢酸誘導体を次に約−１０’ＣでＰｈＮ（トリフレート）２の存在下にリチウム ジイソプロピルアミドで処理して式・ を有するビニルトリフレートをつくる。
次にこのビニルトリフレートをＤＭＦといった適当な溶媒中でアルコール（Ｒ’ 　ＯＨ）または水（Ｒ″＝Ｈ）および塩基、例えばトリエチルアミン、存在下に パラジウム触媒、例えばＰｄ２（ＯＡｅ）（Ｐｈ、）Ｐ　、を用いてカルボニル 化して式： を育するオレフィンエステルまたは酸をつくる。その後このすレフインを前記の ように不斉水素化して式：を育する三置換コハク酸誘導体をつくる。もしＰ′が Ｈで−ないならば、このエステル基を加水分解、アシドリシス、または水素化分 解のいずれかにより除去することができ、そして対応する酸を次に前述したよう なアミノアルコール誘導体に結合させ、次に任意にＲ基を除去して対応する酸を つくり、そして任意にアミドへ変換する。
別法として、アミノアルコール誘導体を次の構造二を有する適当にモノ保護され たコハク酸またはグルタル酸のいずれかと反応させ、続いて保護基を除去し、生 じた酸をアミドへ変換することもできる。また、次の構造。
を有する無水物をアミノアルコール誘導体と反応させ、次に異性体を分離するか または生じた酸をアミドに変えてから異性体を分離することもてきる。
Ｒ６を育する式をもつ化合物をつくるには、前述した手順に従いこれら化合物を 調製できるが、尿素誘導体またｌｅｔ　ソ（７）類縁体をアミノ酸、例えばＰＮ Ｈ（Ｃ１，）、　ＣＨ（Ｒ’）ＣＯＯＨｌにカップリングする前に、この分野で 還元的アミノ化と呼ばれる手順を実行することが企図されている。このようにし て、式Ｉ〜１■の化合物のいずれかを還元的にアミ２ノ化するため、水素化シア ノホウ素ナトリウムおよび適当なアルデヒドＲ”Ｃ（０）ＨまたはケトンＲ＠Ｃ （０）Ｒ“を尿素誘導体化合物または適当な類縁化合物と室温で反応させること ができる。またアミノアルコール中間体のＲ１が水素である場合、本抑制剤化合 物はアミノアルコールとアミンとの間の反応の最終生成物のあるいは抑制剤化合 物をつくる合成の他の段階での還元的アミノ化により製造できることも企図され ている。
抗ウィルス化合物および誘導体ならびに中間体に対して前述した一般式をもつ企 図された同等物は、他の点では本化合物と一致し同じ一般的性質を有する化合物 であって、この場合種々なＲ基のうちの１個以上がここに定義された置換基の簡 単な変体である、例えば指示されたものよりＲが高級アルキル基となっている。
更にまた、置換基か水素として表わされる場合、あるいは水素でありうる場合、 その位置における水素以外の置換基、例えばヒドロカルビル基またはハロゲン、 ヒドロキシ、アミノおよび同様な官能基、の正確な化学的性質は、それが全体的 活性および（または）合成手順に悪影響を及ぼさない限り特に制限はない。
上記の化学反応は本発明化合物の製造に対してその最も広い適用法について一般 に開示したものである。場合によっては、ここに開示された範囲内に包含される 各化合物に対し、これら反応を記載通りに適用できないこともありうる。そのよ うなことが起こる化合物は当業者により容易に認識されるであろう。このような 場合はすべて、当業者にとって公知の通常の修飾を行なうことにより、例えば妨 害基の適当な保護により、別の通常の試薬に変えることにより、反応条件の日常 的な修正により、等々を行なうことによって反応を順調に実行できるようにする か、あるいは対応する本発明化合物の製造に対してここに開示された他の反応を 、さもなければ通常の反応を、適用できるであろう。どの製造法においても、す べての出発原料は公知であり、あるいは公知の出発原料から容易に調製できるも のである。これ以上詳しく説明しなくても、当業者は前記の説明を用いることに よって本発明を最大限に利用できると考えられる。従って、以下に述へる特に好 ましい特定の具体例は単なる例示に過ぎないのであって、如何なる場合にも本開 示の残りの部分を制限しないと見做すべきである。
例１から例４５はＸがＯかＣ（Ｒ１７）ではなく、Ｎである化合物の例示である 。しかし、例４６および例４７に示したように、イソシアネートＲ’ＮＧＯをＸ がＣの場合には酸塩化物または無水物で、またＸがＯの場合にはクロロホルメー トまたはピロカーボネートで置き換えることによりこの窒素をこれら例４６およ び例４７に示したように置き換えて本発明化合物を調製することができる。更に また、例４８および例４９に示したように、このような化合物は効果的なレトロ ウィルスプロテアーゼ阻害物質である。
すべての試薬は特に精製せずに受け取ったままで使用した。すべてのプロトンお よび炭素ＮＭＲスペクトルはＶａｒｉａｎ　ＶＸＲ−３００またはＶＸＲ−４０ ０いずれかの核磁気共鳴分光計で得た。
メタノール８０７ｍ１とテトラヒドロフラン８０７ａ＋１との混合物中Ｎ−ベン ジルオキシカルボニル−し−フェニルアラニンクロロメチルケトン７５．０ｇ（ ０，２２６モル）の溶液へ、−２°Ｃで固体水素化ホウ素ナトリウム１３．１７ ｇ（０，３４８モル、１．５４当量）を１００分にわたり加えた。溶媒を４０° Ｃで減圧下に除去し、残留物を酢酸エチル（約１リツトル）に溶かした。溶液を １Ｍ硫酸水素カリウム、飽和重炭酸ナトリウム、そして次に飽和塩化ナトリウム 溶液で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過の後溶媒を減圧下 で除いた。得られた油状物へヘキサン（約１リツトル）を加え、混合物をまわし ながら６０°Ｃまで加温した。室温まで冷却後固体を集め、ヘキサン２リツトル で洗浄した。得られた固体を熱酢酸エチルおよびヘキサンから再結晶することに より３２．３ｇ（収率４３％）のＮ−ベンジルオキシカルボニル−３（Ｓ）−ア ミノ−１−クロロ−４−フェニル−２（Ｓ）−ブタノール、融点１５０−１５１ °ＣＳＭ＋Ｌｉ″″＝３４０、を得た。
Ｂ。
無水エタノール９６８ｍ１中水酸化カリウム６、５２　ｇ（０，１１６モル、１ ．２当量）の室温溶液へ、３２．３ｇ（０，０９７モル）のＮ−ＣＢＺ−３（Ｓ ）−アミノ−１−クロロ−４−フェニル−２（Ｓ）−ブタノールを加えた。１５ 分間かきまぜた後、溶媒を減圧下で除去し、固体を塩化メチレンに溶かした。水 洗し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、ストリッピングした後に２７．９ ｇの白色固体を得た。熱酢酸エチルおよびヘキサンから再結晶し２２．３ｇ（収 率７７％）のＮ−ベンジルオキシカルボニル−３（Ｓ）−アミノ−１，２（Ｓ） −エポキシ−４−フェニルブタン、融点１０２〜１０３°ＣおよびＭＨ′″２９ ８、を得た。
イソプロピルアルコール１０ｍ１中Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３（Ｓ）− アミノ−１，２（Ｓ）−エポキシ−４−フェニルブタン（１，００ｇ、３．３６ ミリモル）およびイソブチルアミン（４，９０ｇ、６７．２ミリモル、２０当量 ）の溶液を１．５時間還流加熱した。溶液を室温まで冷却し、真空て濃縮し、次 にかきませながら１００ｍ１のヘキサン中に注ぐと溶液から生成物か晶出した。
生成物を濾別し、風乾して１．１８ｇ（９５％）のＮ−（（３（Ｓ）−フェニル メチルカルバモイル）了ミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニルブチル）　 −Ｎ−（（２−メチルプロピル）〕アミン、融点１０８．０〜１０９．５°Ｃ， ＭＨ”　ｔｎ／ｚ　＝　３７１、を得た。
Ｄ　＝ テトラヒドロフラン１０ｍ１中（２（Ｒ）　、３　（Ｓ）　）−Ｎ−（Ｃ３−（ フェニルメチルカルバモイル）アミノコ−２−ヒドロキシ−４−フェニルブチル 〕−Ｎ−〔（２−メチルプロピル）〕アミンの溶液を室温においてｔｅｒｔ−プ チルイソシアネー）　（２６７ｍｇ、　２．７０ミリモル）で５分間処理した。
溶媒を真空で除去し、酢酸エチルで置換した。酢酸エチル溶液を５％クエン酸、 水、塩水で洗浄し、無水ＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、真空で濃縮して１．１９ ｇ（９７％）の（２（Ｒ）　、３　（Ｓ）　−Ｎ−（Ｃ３−（フェニルメチルカ ルバモイル）アミノコ−２−ヒドロキシ−４−フェニル）−１−（（２−メチル プロピル）〕〕アミノー２−１．１−ジメチル）アミノ〕カルボニル〕ブタン、 ＭＨ″″　ｍ／ｚ＝４７０、を得た。
Ｅ。
メタノール２０ｍ１中［２（Ｒ）、３　（Ｓ））−Ｎ−（（３−（フェニルメチ ルカルバモイル）アミノコ−２−ヒドロキシ−４−フェニル）−１−（（２−メ チルプロピル）〕〕アミノー１−１．１−ジメチルエチル）アミノ〕カルボニル 〕ブタン（１，００ｇ、　２．２１ミリモル）の溶液を、１０％パラジウム／炭 素上で４時間水素化し、　（２（Ｒ）、３　（Ｓ））−４−（［３−アミノコ− ２−ヒドロキシ−４−フェニル）−１−［（２−メチルプロピル）アミノ−１− （１，１−ジメチルエチル）アミノ〕カルボニル〕ブタン７２０ｍｇ、９７％を 得た。
ソベンゾトリアゾール（４９３ｍｇ、３．２２ミリモル）の溶液を０°Ｃに冷却 し、ＥＤＣ（４７３ｍｇ、２．４７ミリモル）で処理した。溶液を０°Ｃで２０ 分かきまぜてからジメチルホルムアミド１ｍｌ中Ｃ２（Ｒ）　、３　（Ｓ）　） 　−Ｎ−〔〔３−アミノコ−２−ヒドロキシ−４−フェニル〕−１−（（２−メ チルプロピル）〕〕アミノー１−１゜１−ジメチルエチル）アミン〕カルボニル 〕ブタン（７２０ｍｇ、２．１５　ミリモル）で処理した。溶液を室温まで加温 し、この温度に７時間保持した。次に反応混合物を１００＋ｕＬの６０％飽和重 炭酸ナトリウム水溶液中に注ぐと白色沈澱を生じ、これを濾別した。フィルター ケーキを水、５％クエン酸水溶液、水で洗浄し、次に真空で乾燥することにより １．０４ｇ（８３％）の（ｌＳ−（ＩＲ′″　（Ｒ”）、２Ｓ”））−Ｎ’　［ ３−（（［（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（２−メチルプ ロピル）アミノ〕、融点１６４．０〜１６６．５°ＣＳＭＨ″″ｍ／ｚ＝５８４ 、を得た。
ニー メタノール１０ｍ１中（ＩＳ−ＣＩＲ”　（Ｒ”　）、２Ｓ”））−Ｎ’　（３ −（（［：（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（２−メチルプ ロピル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル）−２− Ｃ（フェニルメチルカルｌくモイル）アミノゴーブタンジアミド（１，００ｇ、 　１．７２ミリモル）の溶液を１０％パラジウム／炭素上で４時間水素化しくＩ Ｓ−［ＩＲ”　（Ｒ”）、２Ｓ”））−Ｎ’　（３−（（（（１゜１−ジメチル エチル）アミノコカルボニル〕　（２−メチルプロピル）アミノコ−２−ヒドロ キシ−１−（フェニルメチル）プロピルツー２−アミノ〕−ブタンジアミド、７ ８４ｍｇ、９９％、を得た。
ジクロロメタン５ｍｌ中［ＩＳ−（ＩＲ”　（Ｒ”）、２Ｓ”１）−Ｎ’　［３ −（［〔（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（２−メチルプロ ピル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピルゴー２−ア ミン〕−ブタンジアミド（７８４ｍｇ、　１．７０ミリモル）、２−キノリンカ ルボン酸Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドエステル（４５９ｍｇ、　１．７０ミリ モル）、Ｎ−メチルモルホリン（３４３ｍｇ、３．４０ミリモル）の混合物を室 温で１５分かきまぜた。溶媒を真空で除去し、酢酸エチルで置換し、５％クエン 酸水溶液、飽和重炭酸ナトリウム水溶液、塩水で洗浄し、無水Ｍｇ５Ｏａ上で乾 燥し、濾過し、真空で濃縮した。粗製生成物をアセトン／ヘキサンから再結晶し て７９０ｍｇ（７７％）の（ＩＳ−（ＩＲ”　（Ｒ”）、２Ｓ”））−Ｎ’　（ ３−（（（（１゜１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（２−メチルプ ロピル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル）−２− （（２−キノリニルカルボニル）アミノコ−ブタンジアミド、融点１０７．０〜 １０９．８°Ｃ，ＭＨ”　＝６０５、を得た。
例　２ 例１．Ｃ−Ｈの部で述べた手順を用いて（Ｉｓ−（ＩＲ”　（Ｒ”）、２Ｓ”） ）−Ｎ’　（３−（（（（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（ ３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピ ル）−２−（（２−キノリニルカルボニル）アミノコ−ブタンジアミドを調製し た。
（（）Ｎ−ベンジルオキシカルボニル３（Ｓ）−アミノ−１，２−（Ｓ）−エポ キシ−４−フェニルブタン１゜０６ｇ（３，５６ミリモル）とイソアミルアミン ６．２５ｇ（７１，７ミリモル）とを反応させ１．２７ｇ（９２％）の（２（Ｒ ）　、　３　（Ｓ）　）　−Ｎ−（（３−（フェニルメチルカルバモイル）アミ ノコ−２−ヒドロキシ−４−フェニルブチル）−Ｎ−（（３−メチルブチル）〕 アミン、融点１３０−１３２°Ｃ１ＭＨ”　３８５、を得る。次＋：　コ（７） 　７ミン（４００ｍｇ。
ｈ（１１０ｍｇ、１．１１ミリモル）と反応させて５゜Ｏｍｇ（１００％）の（ ２（Ｒ）　、　３　（Ｓ）　）　−Ｎ−（（３−（フェニルメチルカルバモイル ）アミノコ−２−ヒドロキシ−４−フェニル）−１−（（３−メチルブチル）〕 〕アミノー１−１．１−ジメチルエチル）アミノ〕カルボニル〕ブタンを油状物 、ＭＨ”　４８４、として得た。
（ロ）コのＣＢＺて保護した化合物（５３０ｍｇ、１．１０ミリモル）を次に１ ０％パラジウム／炭素上での水素化により脱保護し、得られた遊離アミンをＮ− ヒドロキシベンゾトリアゾール（２９０ｍｇ、　２．１５ミリモル）およびＥＤ Ｃ（３００ｍｇ、　１．５６　ミリモル）の存在下でＮ−ＣＢＺ−Ｌ−アスパラ ギン（３７７Ｂ、　１．４２ミリモル）と結合させて［：ＩＳ−［：ＩＲ”　（ Ｒ”）、２Ｓ”））−Ｎ’　（３−（（（（１゜エージメチルエチル）アミノコ カルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１＝（フェニ ルメチル）プロピル）−２−（（フェニルメチルカルバモイル）アミノコ−ブタ ンジアミド、融点１４８〜１５ピＣ（分解）　、ＭＨ”　５９８、（４３０ｍｇ 、５３％）を得た。この化合物（３７０ｍｇ。
０．６１９ミリモル）を次に１０％パラジウム／炭素上での水素化によって脱保 護し、生じた遊離アミンをＮ−メチルモルホリンの存在下で２−キノリンカルボ ン酸Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドエステル（１９３ｍｇ、　０．７１４ミリモ ル）と結合させることにより３１０ｍｇ（７０％）の純粋な（Ｉｓ−（ＩＲ”　 （Ｒ”）、２Ｓ”））−Ｎ’　（３−（（（（１゜ｌ−ジメチルエチル）アミノ コカルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェ ニルメチル）プロピル）−２−（（２−キノリニルカルボニル）アミノコ−ブタ ンジアミド、融点９３．５〜９５．５°Ｃ，ＭＨゝ６１９、を得た。
例　３ 例１．Ｃ−Ｈの部で述べた手順を用いて［ｌ５−（ＩＲ”　（Ｒ”）、２Ｓ”） ）−Ｎ’　（３−［（（（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（ ２−ナフチルメチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロ ピル）−２−（（２−キノリニルカルボニル）アミノコ−ブタンジアミドを調製 した。
（４）　Ｎ−ベンジルオキシカルボニル３（Ｓ）−アミノ−１，２−（Ｓ）−エ ポキシ−４−フェニルブタン１゜８０ｇ（６，０５ミリモル）と２−（アミノメ チル）ナフタレン１．１５ｇ（７，３１ミリモル）との反応から２．１１ｇ（７ ７％）のＣ２（Ｒ）、３　（Ｓ））−Ｎ−（（３−（フェニルメチルカルバモイ ル）アミノコ−２−ヒドロキシ−４−フェニルブチル）−Ｎ−〔（２−ナフチル メチル）〕アミン、ＭＨ’″４５５、を得る。次にこのアミン（３６６，８ｍｇ 、０．８０７ミリモル）を胆ロープチルイソシアネーｈ（６６，４ｍｇ、０、ロ アミリモル）と反応させて３５０．０ｍｇ（９４９６）の（２（Ｒ）、３　（Ｓ ））−Ｎ−（（３−（フェニルメチルカルバモイル）アミノコ−２−ヒドロキシ −４−フェニル）−１−（（２−ナフチルメチ　−ル）〕〕アミノー１−１．１ −ジメチルエチル）アミノ〕カルボニル〕ブタンを油状物、ＭＨ”　５５４、と して得た。
（ロ）このＣＢＺ保護化合物（３３０ｍｇ、　０．５９６ミリモル）を次に１０ ％パラジウム／炭素上での水素化により脱保護し、生じた遊離アミンをＮ−ヒド ロキシベンゾトリアゾール（１４２，３ｍｇ１０．９３ミリモル）およびＥＤＣ （１３０，７ｍｇ、　０．６８ミリモル）の存在下てＮ−ＣＢＺ−Ｌ−アスパラ ギン（１６５゜１ｍｇ、０．６２ミリモル）と結合させることにより１６１．７ ｍｇ（４１％）の（ＩＳ−（ＩＲ”　（Ｒ”’）。
２３″））−Ｎ’　（３−Ｃ（（（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニ ル〕　（２−ナフチルメチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチ ル）プロピル）−２−（（フェニルメチルカルバモイル）アミノコ−ブタンジア ミド、融点１５１〜１５２°Ｃ（分解）、Ｍｌ（”６６Ｂを得た。次にこの化合 物（９１，０ｍｇ、０．１３６ミリモル）を１０％パラジウム／炭素上での水素 化により脱保護し、生じた遊離アミンをＮ−メチルモルホリンの存在下で２−キ ノリンカルボン酸Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドエステル（３６，８ｍｇ、Ｏ， １３６ミリモル）と結合させることにより６５．８ｍｇ（７０％）の純粋な（Ｉ ｓ−（ＩＲ’（Ｒ“）、２Ｓ”））−Ｎ’　（３−（（（（１，１−ジメチルエ チル）アミン〕カルボニル〕　（２−ナフチルメチル）アミンクー２−ヒドロキ シ−１−（フェニルメチル）プロピル〕−２−〔（２−キノリニルカルボニル） アミノコ−ブタンジアミド、融点１１９〜１２０°Ｃ，Ｍｌ（”６８９、を例１ ．Ｃ−Ｈの部で述べた手順を用いて（ＩＳ−（ＩＲ”　（Ｒ”）、２３’））− Ｎ’　（３−（（（（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（２− フェニルエチル）アミノツー２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル ）−２−（（２−キノリニルカルボニル）アミノコ−ブタンジアミドを調製した 。
（イ）Ｎ−ベンジルオキシカルボニル３（Ｓ）−アミノ−１，２−（Ｓ）−エポ キシ−４−フェニルブタン１゜００ｇ（３，３６ミリモル）と２−フェネチルア ミン８．１９ｇ（６７，０ミリモル）との反応から１．　ｌ　Ｏｇ（７９％）の （２（Ｒ）　、　３　（Ｓ）　）　−Ｎ−（（３−（フェニルメチルカルバモイ ル）アミンツー２−ヒドロキシ−４−フェニルブチル〕−Ｎ−（（３−フェニル エチル）〕アミン、融点１３７〜１３８℃、Ｍｌｌ”　４１９、を得る。次にこ のアミン（７５０ｍｇ。
１．７９ミリモル）をｔｅｒｔ−ブチルイソシアネート（１７８ｍｇ、１．７９ ミリモル）と反応させて８９７ｍｇ　（９７％）の（２（Ｒ）　、　３　（Ｓ） 　）　−Ｎ−（〔３−（フェニルメチルカルバモイル）了ミノ〕−２−ヒドロキ シー４−フェニル）−１−（（２−フェニルエチル）〕〕アミノー１−１．１− ジメチルエチル）アミノ〕カルボニル〕ブタンを油状物、ＭＨ”５１８、として 得た。
（ロ）このＣＢＺ保護化合物（８９７ｍｇ５１．７３ミリモル）を１０％パラジ ウム／炭素上での水素化により脱保護し、生じた遊離アミンをＮ−ヒドロキシベ ンゾトリアゾール（５０９，５ｍｇ、　３．３３ミリモル）およびＥＤＣ（４８ ８，０ｍｇ、２．５５ミリモル）の存在下でＮ−ＣＢＺ−Ｌ−アスパラギン（６ ２０，７ｍｇ。
２．３３ミリモル）と結合させることにより１．００　ｇ（９２％）の（ＩＳ− ［：ＩＲ”　（Ｒ′″）、２Ｓ”））−Ｎ’　［３−［［（（１，１−ジメチル エチル）アミノコカルボニル〕　（２−フェニルエチル）アミノツー２−ヒドロ キシ−１−（フェニルメチル）プロピル）−２−（（フェニルメチルカルバモイ ル）アミノコ−ブタンジアミド、融点１４５℃（分解）、ＭＨ”６３２を得た。
この化合物（８６０ｍｇ、　１．３６ミリモル）を１０％パラジウム／炭素上で の水素化により脱保護し、生じた遊離アミンをＮ−メチルモルホリンの存在下で ２−キノリンカルボン酸Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドエステル（３３８ｍｇ、 １．２５ミリモル）と結合させることにより４５０．４ｍｇ（５５％）の純粋な （ＩＳ−１：ＩＲ”（Ｒ”）、２Ｓ”））−Ｎｌ　（３−（（（（１，１−ジメ チルエチル）アミノコカルボニル〕　（２−フェニルエチル）アミノツー２−ヒ ドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル）−２−（（２−キノリニルカルボ ニル）アミノコ−ブタンジアミド、融点１３９〜１４０°ＣＳＭＨ’″６５３を 得た。
例　５ 例１．Ｃ−Ｈの部で述へた手順を用いて（ＩＳ−（ＩＲ’　（Ｒ”）、２Ｓ”） ）−Ｎ’　（３−〔（（（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル：ｌ　 （２，２−ジメチルプロピル）アミノツー２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチ ル）プロピル）−２−（（２−キノリニルカルボニル）アミン〕−ブタンジアミ ドを調製した。
（（）Ｎ−ベンジルオキシカルボニル３（Ｓ）−アミノ−１，２−（Ｓ）−エポ キシ−４−フェニルブタン１゜００ｇ（３，３６ミリモル）とネオペンチルアミ ン７゜９ｍ１（約ロアミリモル）との反応から０．６９ｇ（４９％）のＣ２（Ｒ ）　、　３　（Ｓ）　）　−Ｎ−［（３−（フェニルメチルカルバモイル）アミ ノコ−２−ヒドロキシ−４−フェニルブチル）−Ｎ−（（２，２−ツメチルプロ ピル）〕アミン、ＭＨゝ３８５、を得る。次にこのアミン（６８６ｍｇ、　１． ７８ミリモル）をｔｅｒｔ−ブチルイソシアネート（１８０ｍｇ、　１．７８ミ リモル）と反応させて８６０ｍｇ（１００％）の（２（Ｒ）、３　（Ｓ））−Ｎ −（（３−（フェニルメチルカルバモイル）アミノコ−２−ヒドロキシ−４−フ ェニル）−１−（（２，２−ジメチルプロピル）〕〕アミノー１−１．１−ジメ チルエチル）アミノ〕カルボニル〕ブタン、ＭＨゝ４８４、を得た。
（ロ）このＣＢＺ保護化合物（８６０ｍｇ、１．７８ミリモル）を１０％パラジ ウム／炭素上での水素化により脱保護し、生じただ遊離アミンをＮ−ヒドロキシ ベンゾトリアゾール（４０６ｍｇ、　２．６６ミリモル）およびＥＤＣ（３７４ ｍｇ、１．９５ミリモル）の存在下でＮ−ＣＢＺ−Ｌ−アスパラギン（４７１ｍ ｇ、　１．７７ミリモル）と結合させることにより３２６ｍｇ（３４％）の（Ｉ Ｓ−（Ｒ”　（Ｒ”）、　２Ｓ“〕〕−Ｎ’　［３−［：（（（１，１−ジメチ ルエチル）アミノコカルボニル）（２，２−ジメチルプロピル）アミノツー２− ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル）−２−（（フェニルエチルカル ノくモイル）アミノコ−ブタンジアミド、融点１７７〜１７８°Ｃ，ＭＨ”５９ ８、を得た。次にこの化合物（２４５ｍｇ、０．４１ミリモル）を１０％ノ（ラ ジウム／炭素上での水素化により脱保護し、生じた遊離アミンをＮ−メチルモル ホリンの存在下で２−キノリンカルボン酸Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドエステ ル（ｌ１１ｍｇ、　０．４１ミリモル）と結合させることにより純粋な（Ｉ　Ｓ −（Ｒ”　（Ｒ”　）、２Ｓ”　〕）−Ｎ’（３−（（（（１，ｔ−ジメチルエ チル）了ミノ〕カルボニル）　（２，２−ジメチルプロピル）アミノツー２−ヒ ドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル）−２−（（２−キノリニルカルボ ニル）アミノコ−ブタンジアミド、融点１１５〜１１７°Ｃ１ＭＨ”　６１９． １５０ｍｇ（５９％）を得た。
例　６ 例１ｃｍＨの部記載の手順を用いて（Ｉｓ−（Ｒ”（Ｒ“）、２Ｓ”））−Ｎ’ 　（３−（（（（１，ｌ−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（４−メト キシフェニルメチル）アミノツー２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロ ピル）−２−（（２−キノリニルカルボニル）アミノコ−ブタンジアミドを調製 した。
＜４＞　Ｎ−ベンジルオキシカルボニル３（Ｓ）−アミノ−１，２−（Ｓ）−エ ポキシ−４−フェニルブタン１゜００ｇ（３，３６ミリモル）と４−メトキシベ ンジルアミン９．２ｇ（ロアミリモル）との反応から１．１２ｇ（７６％）の（ ２（Ｒ）　、　３　（Ｓ）　）　−Ｎ−（〔３−（フェニルメチルカルバモイル ）アミノコ−２−ヒドロキシ−４−フェニルブチル）Ｎ−（（４−メトキシフェ ニルメチル）〕アミン、ＭＨ”　４３５を得る。次にこのアミン（１，１２ｇ、 ２．５８ミリモル）をｔｅｒｔ−プチルイソシアネー）　（２６０ｍｇ、　２゜ ５８ミリモル）と反応させて１．３５ｇ（９８％）の（２（Ｒ）、３　（Ｓ）） −Ｎ−（（３−（フェニルメチルカルバモイル）アミノコ−２−ヒドロキシ−４ −フェニル）−１−（（４−メトキシフェニルメチル）〕〕アミノー１−１．１ −ジメチルエチル）アミノ〕カルボニル〕ブタン、ＭＨ”　５３４を得た。
（ロ）次にこのＣＢＺ保護化合物（１，３５ｇ、　２．５３ミリモル）を１０％ パラジウム／炭素上での水素化により脱保護し、生じた遊離塩基をＮ−ヒドロキ シベンゾトリアゾール（５９０ｍｇ、　３．８５ミリモル）およびＥＤＣ（５４ ３ｍｇ、　２．８３ミリモル）の存在下でＮ−ＣＢＺ−Ｌ−アスパラギン（６８ ４ｍｇ、　２．５７ミリモル）と結合させることにより４４２ｍｇ（２９％）の （ＩＳ−（ＩＲ”　（Ｒ”）、　２Ｓ”））　−Ｎ’　（３−（（（（１，１− ジメチルエチル）アミン〕カルボニル〕　（４−メトキシフェニルメチル）アミ ノツー２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル）−２−（（フェニル メチルカルバモイル）アミノコ−ブタンジアミド、融点１７５°Ｃ（分解）、Ｍ Ｈゝ６４８、を得た。次にこの化合物（３４５ｍｇ、０．５３ミリモル）を１０ ％パラジウム／炭素上での水素化により脱保護し、生じた遊離アミンをＮ−メチ ルモルホリンの存在下で２−キノリンカルボン酸Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド エステル（１１８ｍｇ、０．４４ミリモル）と結合させることにより１０８ｍｇ （３１％）の純粋な（ＩＳ−（ＩＲ”　（Ｒ’）、２Ｓ”））−Ｎ’　（３−（ （（（１゜１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（４−メトキシフェニ ルメチル）アミノツー２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル）−２ −［（２−キノリニルカルボニル）アミノコ−ブタンジアミド、融点２２０°Ｃ （分解）、Ｍしピロ７５、を例１、Ｃ−Ｈの部に記載の手順を用いて（ＩＳ−（ ＩＲ”　（Ｒ”）、２Ｓ”））−Ｎｌ　（３−（（（（１，１−ジメチルエチル ）アミノコカルボニル〕　（ｎ−ブチル）アミノツー２−ヒドロキシ−１−（フ ェニルメチル）プロピル）−２−（（２−キノリンカルボニル）アミノコブタン ジアミドを調製した。
（ＯＮ−ベンジルオキシカルボニル３（Ｓ）−アミノ−１，２−（Ｓ）−エポキ シ−４−フェニルブタン１゜４８ｇ（５，０ミリモル）とｎ−ブチルアミン７． ３１４ｇ（１００，０ミリモル）との反応から１．５０ｇ（８０％）の（２（Ｒ ）　、　３　（Ｓ）　）　−Ｎ−（（３−（フェニルメチルカルバモイル）アミ ノコ−２−ヒドロキシ−４−フェニルブチル）Ｎ−（（ｎ−ブチル）〕アミンを 得る。次にこのアミン（１，４８ｇ。
４．０ミリモル）をｔｅｒｔ−プチルイソソアネート（３９６ｍｇ、４．０ミリ モル）と反応させて１．８７ｇ（１００％）の（２（Ｒ）　、　３　（Ｓ）　） 　−Ｎ−（［３−（フェニルメチルカルバモイル）アミノコ−２−ヒドロキシ− ４−フェニル）−１−（（ｎ−ブチル）〕〕アミノー１−１．１−ジメチルエチ ル）アミノ〕カルボニル〕ブタンを油状物として得た。
（Ｉ］）このＣＢＺ保護化合物（１，８７ｇ、４．０ミリモル）を次に１０％パ ラジウム／炭素上での水素化により脱保護し、生じた遊離アミンをＮ−ヒドロキ シベンゾトリアゾール（５３５ｍｇ、　７．９ミリモル）およびＥＤＣ（７５９ ｍｇ、　３．９６ミリモル）の存在下でＮ−ＣＢＺ−Ｌ−アスパラギン（１，０ ５ｇ１３．９６ミリモル）と結合させ１．７５ｇ（７６％）の〔ｌ５−（ＩＲ” 　（Ｒ”）、２Ｓ”））−Ｎ’　（３−（（（（１，１−ジメチルエチル）アミ ノコカルボニル）（ｎ−ブチル）アミノツー２−ヒドロキシ−１−（フェニルメ チル）プロピル）−２−（（フェニルメチルカルバモイル）アミノコ−ブタンジ アミド、融点１６６〜１６７°Ｃ１およびＭｌ”　５８４、を得た。
例　８ 例１、Ｃ−Ｈの部に記載の手順を用いて（１３−（ＩＲ”　（Ｒ’）、２Ｓ”） ）−Ｎ’　（３−（（（（１，１−ジメチルエチル）アミン〕カルボニル〕　（ フェニルメチルファミノ〕−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル ）−２−（（２−キノリニルカルボニル）アミノコ−ブタンジアミドを調製した 。
（（）Ｎ−ベンジルオキシカルボニル３（Ｓ）−アミノ−１，２−（Ｓ）−エポ キシ−４−フェニルブタン１゜４８ｇ（５，０ミリモル）とベンジルアミン１０ ．６８ｇ（１００，０ミリモル）との反応から１．８８ｇ（９５％）の（２（Ｒ ）　、　３　（Ｓ）　）　−Ｎ−（（３−（フェニルメチルカルバモイル）アミ ノコ−２−ヒドロキシ−４−フェニルブチル）Ｎ−（（フェニルメチル）〕アミ ンを得る。次にこのアミン（１，８８ｇ、４．６５ミリモル）をｔｅｒｔ−ブチ ルイソシアネート（４６０，０ｍｇ、４．６ミリモル）と反応させ２．２４ｇ（ ９６％）の（２（Ｒ）　、　３　（Ｓ）　）　−Ｎ−［〔３−（フェニルメチル カルバモイル）アミノ〕−２−１１）’ロキシー４−フェニル）　−１−（（７ 二二ルメチル）〕〕アミノー１−１．１−ジメチルエチル）アミノ〕カルボニル 〕ブタンを得た。
（ロ）次にこのＣＢＺ保護化合物（２，２２ｇ、４．４ミリモル）を１０％パラ ジウム／炭素上での水素化により脱保護し、生した遊離アミンをＮ−ヒドロキシ ベンゾトリアゾール（１，１９ｇ、８，８ミリモル）およびＥＤＣ（８４３ｍｇ 、４．４ミリモル）の存在下てＮ−ＣＢＺ−Ｌ−アスパラギン（１，１７ｇ、４ ．４ミリモル）と結合させることにより２．１１ｇ（７８％）のＣｌ５−　（Ｉ Ｒ”　（Ｒ”　’）、２Ｓ’））−Ｎ’　Ｃ３−［（（（１，Ｉ−ジメチルメチ ル）アミノコカルボニル〕　（フェニルメチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１ −（フェニルメチル）プロピル〕−２−〔（フェニルメチルカルバモイル）アミ ノコ−ブタンジアミド、融点１５６〜１５８℃およびＭＨゝ６１８を得た。次に この化合物（１，０ｇ、１．６２ミリモル）を１０％パラジウム／炭素上での水 素化により脱保護し、生じた遊離アミンをＮ−メチルモルホリンの存在下で２− キノリンカルボン酸Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドエステル（４３７ｍｇ５１． ６２ミリモル）と結合させることにより６４０ｍｇ（６２％）の純粋な（ＩＳ− （ＩＲ”　（Ｒ”　）、２Ｓ”　））−Ｎ’　（３−（（（（１，１−ジメチル エチル）アミノコカルボニル〕　（フェニルメチル）アミノコ−２−ヒドロキシ −１−（フェニルメチル）プロピル〕−２−（（２−キノリニルカルボニル）ア ミノコ−ブタンジアミド、融点１１０．５〜１１２．５℃およびＭＨ”　６３９ 、を得た。
例　９ 本発明に係る他の代表的化合物を表１に掲げる。これらの化合物は下記の一般手 順に従って調製した。
乾燥イソプロピルアルコール（変換しようとするエポキシド１ミリモル当り２０ ｍ１）中アミンＲ３ＮＨ２（２０当量）の混合物を還流加熱し、次に式・ を有するＮ−ＣＢＺアミノエポキシドを固体用添加ロートから１０〜１５分間に わたり添加して処理する。添加終了後、溶液を更に１５分還流状態に保ち、反応 の進行をＴＬＣによりモニターする。殆どすへての場合について反応はこの時間 後で完全であることが分かる。次に反応混合物を真空で濃縮して油状物を得、迅 速にかきまぜながらこの油状物をｎ−へキサンで処理すると開環物質か溶液から 沈殿する。沈殿生成は一般に１時間以内に完了し、次に生成物をブフナーロート 上に濾別し、次に風乾する。この生成物を更に真空で乾燥する。この方法により 大抵の目的に対して十分な純度を有するアミノアルコールが得られる。
アミノアルコールとイソシアネートとの反応に対する一般手順　尿素類の製造 テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中アミノアルコールからの溶液を、式Ｒ’ＮＧＯ の適当なイソシアネートにより室温で窒素下に注射器を経て処理する。反応物を ５分間までかきまぜた後反応の進行をＴＬＣによりモニターする。
殆とすへての場合について反応は完全である。溶媒を真空で除去することにより 得られた生成物は大抵の目的に対して十分な純度のものである。この生成物は酢 酸エチルに溶かし、５％クエン酸水溶液、水、塩水で洗浄することにより更に精 製できる。溶液を無水硫酸マグネシウムて乾燥し、濾過し、真空で濃縮すると純 粋な尿素が得ＣＢＺ−保護ペプチド誘導体をメタノール（約２０１０１／ミリモ ル）に溶かし、１０％パラジウム／炭素触媒を窒素雰囲気下で加える。反応容器 をシールし、窒素で５回、次に水素で５回掃気する。圧力を５０ボンド／平方イ ンチゲージ圧に１〜１６時間保ち、次に水素を窒素で置換し、セライトの詰め物 に通して溶液を濾過することにより触媒を除去する。溶媒を真空で除去すると次 の工程に直接使用するのに適した純度の遊離アミノ誘導体が得られる。
Ｂ、酢酸溶媒 ＣＢＺ−保護ペプチド誘導体を氷酢酸（２０１１１１／ミリモル）に溶かし、１ ０％パラジウム／炭素触媒を窒素雰囲気下で加える。反応容器を窒素で５回、水 素で５回掃気し、次に４０ボンド／平方インチゲージ圧に約２時間保つ。次に水 素を窒素で置換し、反応混合物をセライトの詰め物に通して濾過することにより 触媒を除去する。
濾液を濃縮し、得られた生成物を無水エーテルにとり、蒸発乾固し、この操作を ３回繰り返す。最終生成物である酢酸塩を真空で乾燥する。このものは後の変換 に適した純度のものである。
Ｂｏｃ−保護アミノ酸またはペプチドを室温でかきまぜなからジオキサン中４Ｎ ＨＣ１の溶液で処理する。一般に、この脱保護反応は１５分以内に完了する。反 応の進行を薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）でモニターする。完了したならば 過剰のジオキサンとＨＣＩを真空で蒸発させることにより除去する。最後の痕跡 量のジオキサンとＨＣＩは再び無水エーテルまたはアセトンからの蒸発により除 くのが最もよい。このようにして得られた塩酸塩を真空で十分よく乾燥させる。
このものは先の反応に適し一ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）（１， ５当量）を乾燥ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（２〜５ｍｌ／ミリモル）に溶 かし、水浴で乾燥する。１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカル ボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）（１，Ｉ　Ｏ当量）を攪拌している溶液へ加え、０ °Ｃに１０分保つ。アミン成分（遊離アミン）の溶液、ＤＭＦ（１〜２ｍｌ／ミ リモル）中１．０当量、を加える。〔アミンの塩酸塩または酢酸塩の場合には１ 当量のＮ−メチルモルホリンも加える〕。反応混合物を０℃で１時間、次に室温 で５〜６時間までかきまぜる。次に反応混合物を６０％飽和重炭酸ナトリウム水 溶液（約５０１Ｉｌｌ／ミリモル）の迅速にかきまぜた溶液中に注ぐ。直ちに白 色沈殿が生ずるのでこれをブフナーロート上に集め、固体を飽和重炭酸ナトリウ ム水溶液、水、５％クエン酸水溶液および水で十分よく洗浄する。生成物を真空 で十分に乾燥し、再びＤＭＦに溶かし、濾過し、水へ加えることにより再沈殿さ せる。沈殿した生成物を濾別し、再び水洗し、真空で乾燥する。
無水ジクロロメタン中遊離アミン（あるいはアミンの酢酸塩）および１．０当量 のＮ−ヒドロキシスクシンイミド　２−キノリンカルボキシレートの溶液を１． ５当量のＮ−メチルモルホリン（ＮＭＭ）で室温において処理する。反応の進行 をＴＬＣてモニターし、反応が完了したならば反応混合物を追加量のジクロロメ タンで希釈し、溶液を飽和重炭酸ナトリウム水溶液、５％クエン酸水溶液、水お よび塩水で洗浄する。溶液を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、真空で濃縮する 。このようにして得られる生成物をアセトンとへキサンの混合物から再結晶す表 　１　（続き） 項目番号　４ ４７、　ｇ　−（ｃｘ、）、ｏｇ　−Ｃ（０％）。
表　１（続き） 項目番号　４ 表　１（続き） 」旦１！　４ 表　１（続き） 項目番号　−−ｔ−− 例１０ 例９て述べた一般化された手順に従い表２記載の化合物を調製した。
！Ｉ２ ２−　ＣｂＺ−ＩＡｕ　±−了ミル　１−Ｂｕ３、　Ｃｂｚ４１ｔ　土−アミｋ 　１−Ｂｕ４、　入ｃ−Ｄ−＊　％−Ｐｈｅ　１−Ｂｕ　、１ｌ−Ｂｕ５、　Ｑ ｕｉ−Ｏｒｎ（７−Ｃｂｚ）　−ＣＩ２−ロ　匁−Ｂｕ６、　Ｃｂｚ−ＪＩＬｓ ｎ　−ＣＨ２ＣＨＩＩＥ（Ｈ２ｇ−Ｂｕ７、　了ｔ＋ルーｔ−ＢｕＧｌｙ　±− Ｔミル　、＠−Ｂｕ８、　子電子に−Ｐｈｅ　ｉ　−アミル　１−Ｂｕ９、　了 七チルーエ１ｅ　±−了ミル　ふ−Ｂｕｌｏ、　了セチル−ＸＡｕ　ｉ−アミ＆ 　１−Ｂｕｏｌ、　アセチル−Ｈｉｓ　ニーアミ＃　ニー″″Ｂｕ１２、　アセ チル−Ｔｈｒ　±−丁ミル　ふ−Ｂｕ１６、　Ｃｂｚ−Ａｌａ　ｊ−７ミ＃　１ −Ｂｕｘ７．　Ｃｂｘ−ベーター−１了／Ａｌａ　ｉ　−アミｌｋ　１−ＢｕＩ Ｂ、　ｃｂｚ−ｔ−ＢｕＧｌｙ　ｉ　−アミ１ｅｔ−Ｂｕｚ９．　Ｑ−ｔ−Ｂｕ Ｇｌｙ　ｉ−Ｔミ＃　１−Ｂｕ２０、　Ｑ−５ＣＨ，Ｃｙｓ　±−アミｋ　＠− ｎｕ２１、　Ｃｂｚ−６Ｃ）Ｋ、Ｃｙｓ　土−丁ミル　ｔ−Ｂｕ２Ａ１」ＬＬ ２３−　Ｑ−Ａｓｐ　ニー了ミｋｇ−Ｂｕ例９の一般化された手順に従い、表３ に掲げた化合物を調製した。
表　３ 項目　Ｒ１ ４（Ｒ，Ｓ）　Ｃ）ｉ、；ＱＣ）１３ ５　ＣＨ２５０２ＮＨ２ ６α２５α。
９　（Ｓ）−０Ｈ（０１りＣＩ。
例９の一般化された手順に従い、表４に掲げた化合物を調製した。
表　４ ２、　１クロヘキノ６メチｋ　Ｃｂｚ−Ａｓｎコ、Ｂ−ＢｕＢｏｃ ｓ、　ｃ−ち（Ｒ２Ｂｏａ ６、　Ｃ−〜口〜　ｃｂｚ ７、　Ｃ，馬ｃＨ，＜７ブ４に ８、　７タロヘ牛ｌルメチル　ｃｂｚ ！、　ｎ−Ｂｕ　Ｑ−Ａｓｎ １０・　ツクαヘキシルメ千ｈ　Ｑ−ｍｎ１１、　ｃ、ｉｔ、口！、　（：ｂｚ −１１ｍ１２、　（：、Ｈ，（：Ｒ２Ｑ−Ｘｌ＠１コ、　Ｃ，Ｈ，ＣＩ、　Ｃｂ ｚ−ｔ−ＢｕＧｌｙ１４、　Ｃ，Ｈ−コ（、Ｑ−ｔ−ＢｕＧｌｙ１５、　Ｃ６Ｈ ３ＣＫ２　Ｃｂｚ−Ｖａｌ：Ｌ６．　Ｃ６Ｈ５０（、Ｑ−Ｖａｎ １７、　２−ｆ７チｆｉｌｆｋ　ＣｂＺ−Ａｓｎ１Ｂ、　２−ナフチルメチロ　 Ｑ−Ａｊｎ１９、　２−ナフチにメチル　ｃｂｚ ２１、　ｎ−Ｂｕ　Ｑ−Ｖａ１ ２２、　ｎ−ａｕ　ｇ−１１＠ ２コ＋　ｎ−Ｂｕ　Ｃｂｚ−ｔ−ＢｕＧｌｙ２４、　ｎ−ｍｕ　Ｑ−ｔ−ＢｕＧ ｌｙ２５、　ｐ−７（Ｃ６［４）ＣＭ、　Ｑ−Ａｍｎ２ｇ、　ｐ−Ｆ（Ｃ，Ｒ４ ）ＣＩ２　Ｃｂｚ２７、　ｐ−Ｆ（Ｃ，Ｈ４）口（、Ｃｂｚ−Ａｓｎ例１３ 例９の一般手順に従い表５に掲げた化合物を調製した。
項　目　ＸＲ’　入 １、　−ＮＨ”Ｂｕ　Ｃｂｚ−ＡＳｎ ２、−−Ｃｂｚ コ、　−ＷＨＣ（ＣＨ，）　２ＣＨ２ＣＨ，Ｃｂｚ例９記載の一般手順に従って 表６の化合物を調製したが、ただしイソシアネートの代りにイソチオシアネート 同等物を利用した。
表　６ 項　目　ＸＨＲ’ １、　ＮＨＥｔ ２、　ＮＨｔＢｕ 例１３および例１４に示した化合物のＣｂｚ基は例９に記載のように除去するこ とができ、そして生じた化合物を望むα−またはβ−アミノ酸なとに結合させて 本発明に係る化合物をつくることかできる。
例１５ 例７に示した化合物は下記の一般手順に従い調製した。
この一般手順は例９の一般手順に従ってつくられたアミノアルフール誘導体につ いてのＣｕｒｔｉｕｓ転位反応を説明するものである。
トルエン１２ｍ１およびトリエチルアミン３ミリモル中カルボン酸１ミリモルの 溶液へ、窒素雰囲気下に９０″Ｃてｌミリモルのアジ化ジフェニルホスホリルを 加えた。
１時間後、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドかトルエンいずれか３．５　ｍｌ中の アミノアルコール誘導体１ミリモルの溶液を加えた。１時間後溶媒を減圧下で除 去し、酢酸エチルと水を加え、層を分けた。有機層を５％クエン酸、重炭酸ナト リウム、塩水で洗浄し、乾燥し、濾過し、濃縮して粗製生成物を得た。次にこの ものを再結晶するかまたはシリカゲル上でクロマトグラフィーを行ない粗製され た最終生成物を得た。
表　７ −ＣＨ２ＣＨ（０１，）２　−ｃ（０１，）。
例１６ Ａ、　４（４−メトキシベンジル）イタコネートの製造定圧液加ロート、還流コ ンデンサー、窒素導入口、およびかきまぜ機を具えた５リツトル３頚丸底フラス コにイタコン酸無水物（６６０，８ｇ、　５．８８モル）とトルエン（２３００ ｍｌ）を入れた。溶液を加熱還流させ、２．６時間にわたり液加した４−メトキ シベンジルアルコール（８１２，４ｇ、　５．８８モル）で処理した。溶液を更 に！。
５時間還流状態に保ち、次に内容物を３個の２リツトルエルレンマイヤーフラス コ中に注入し結晶化させた。溶液を室温まで放冷するとめるモノ−エステルが晶 出した。この生成物をブフナーロート上に濾別し、風乾することにより融点８３ 〜８５゛Ｃをもつ物質８５０．２ｇ（５８％）を得た。濾液を水浴で冷却後第二 生成物（１７％）が単離された。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）　３００　ＭＨｚ　７．３２　（ｄ、　Ｊ＝８．７　 Ｈｚ、　２Ｈ）、　６．９１　（ｄ、　Ｊ＝８．７　Ｈｚ、　２Ｈ）、　６．４ ９　（ｓ、　ＩＨ）、　５．８５　（ｓ、　Ｈ（）。
５．１２　（ｓ、　２Ｈ）、　３．８３　（ｓ、　３Ｈ）、　３．４０　（ｓ、 　２Ｈ）。
８．４（４−メトキシベンジル）イタコン酸メチルの製還流コンデンサー、窒素 導入口、定圧滴下ロートおよびかきまぜ機を具えた５リツトル３頚丸底フラスコ に４（４−メトキシベンジル）イタコネー）（４５３，４ｇ、１．８１モル）を 入れ、温度が１５°Ｃ以上に上昇しないように液加したｌ、５−ジアザビシクロ ［４，３，０）−５−ノネン（ＤＢＵ）（２７５，６ｇ、１．８１モル）で処理 した。このかきまぜた混合物へトルエン２５０ｍ１中ヨウ化メチル（２５６，９ ｇ、１．８１モル）の溶液を４５分にわたり液加ロートから加えた。溶液を室温 まで加温し、更に３．２５時間かきまぜた。
沈殿したＤＢＵヨウ化水素酸塩を濾別し、トルエンで洗浄し、濾液を分液ロート に注入した。溶液を飽和ＮａＨＣＯ，水溶液（２Ｘ５００ｍｌ）、０．２Ｎ　Ｈ ＣＩ　（２Ｘ５００Ｉ［ｌｌ）、そして塩水（２ｘ５００ｍｌ）で洗浄し、無水 Ｍｇ５Ｏｎで乾燥し、濾過し、溶媒を真空で除去した。無色透明な油状物４５０ ．２ｇ（９４％）か得られ、そのＮＭＲは帰属した構造と一致した。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）　３００　ＭＨｚ　７．３０　（ｄ、　Ｊ：８．７　 Ｈｚ、　２Ｈ）、　６．９０　（ｄ、　Ｊ＝８．７　Ｈｚ、　２Ｈ）、　６．３ ４　（ｓ、　ＩＨ）、　５．７１　（ｓ、ＩＨ）。
５．０９　（ｓ、　２Ｈ）、　３．８２　（ｓ、　３Ｈ）、　３．７３　（ｓ、 　３Ｈ）、　３．３８　（ｓ。
２Ｈ）。”ＣＮＭＲ（ＣＤＣＩり　１７０．４６．１６６．４７．１５９．５１ ．　１３３゜５５、　１２９．９７．　１２８．４５．　１２７．７２．　１１ ３．７７．６６．３６，５５．１２゜５１．９４．　３７．６４゜ Ｃ０メチル４（４−メトキシベンジル”）　２　（Ｒ）　−メチルスクシネート の製造 ５００ｍ１のＦｉｓｈｅｒ−Ｐｏｒｔｅｒびんに４（４−メトキシベンジル）イ タコン酸メチル（７１，１ｇ、　０．２６９モル）、ロジウム（Ｒ，Ｒ）　Ｄｉ ＰＡＭＰ触媒（２０４Ｂ、０．２６９ミリモル、０．１モル％）およびガス抜き したメタノール（２１５ｍｌ）を入れた。びんを窒素で５回、水素で５回帰気し 最終圧を４０ボンド／平方インチゲージ圧とした。
直ちに水素化が始まり、約１時間後に吸収は次第に減少し、３時間後に水素の吸 収は止んだ。びんを窒素で掃気し、開口し、内容物を回転蒸発器で濃縮して褐色 油状物を得、これを沸騰イソオクタン（約２００ｍ１．これを２回繰り返した） にとり、セライトの詰め物に通して濾過し、濾液を真空で濃縮して６６．６ｇ（ ９３％）の無色透明油状物を得た。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１＊）　３００　ＭＨｚ　７．３０　（ｄ、　Ｊ＝８．７　 Ｈｚ、　２Ｈ）、　６．９１　（ｄ、　Ｊ＝８．７　Ｈｚ、　２Ｈ）、　５．０ ８　（ｓ、　２Ｈ）、　３．８２　（ｓ、　３Ｈ）。
３．６７　（ｓ、　３Ｈ）、　２．９５　（ｄｄｑ、　Ｊ＝５．７．７．５．８ ．７　Ｈｚ、　ＩＨ）。
２．７９　（ｄｄ、　Ｊ＝８．１．１６．５　Ｈｚ、　ＩＨ）、　２．４５　（ ｄｄ、　Ｊ＝５．７．１６゜５　Ｈｚ、ＩＨ）、１．２３　（ｄ、Ｊ＝７．５　 Ｈｚ、３Ｈ）　。
Ｄ、　メチル２（Ｒ）−メチルスクシネートの製造窒素導入口、かきまぜ機、還 流冷却器および定圧滴下ロートを具えた３リツトル３！！ｉ丸底フラスコにメチ ル４（４−メトキシベンジル’）　２　（Ｒ）−メチルスクシネート（４３２， ６ｇ、　１．６５モル）とトルエン（１２００ｍｌ）を入れた。かきまぜ機を始 動させ、溶液を滴下ロートからトリフルオロ酢酸（６００ｍｌ）で０．２５時間 にわたり処理した。溶液は深紫色に変り、内部温度は４５℃に上昇した。２．２ ５時間かきまぜ後、温度は２７°Ｃとなり、溶液はピンク色を帯びていた。溶液 を回転蒸発器で濃縮し、残留物を水（２２００ｍ１）および飽和ＮａＨＣＯ，水 溶液（１０００ｍｌ）て希釈した。酸が中和され終るまて更にＮａＨＣＯ，を追 加した。水相を酢酸エチル（２Ｘ１０００　ｍｌ）で抽出して副生成物を除去し 、水層を濃ＨＣＩでｐｌ＝　１．８まで酸性にした。この溶液を酢酸エチル（４ ×１００１００Ｏで抽出し、塩水で洗浄し、無水ＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、 回転蒸発器で濃縮して無色液体２５１ｇ（＞１００％）を得、これを短絡蒸留装 置を通して真空蒸留した。カットＩ：浴温１２０℃＠＞Ｉ＋ｎｍ、沸点２５−２ ９°Ｃ：カット２：浴温１４０°Ｃ＠　０．５　ｍｍ、沸点９５−１０８℃、１ ５１　ｇ、〔α）　ｏ　＠２５℃＝＋１．３８℃（ｃ＝　１５．４７５．　Ｍｅ Ｏ）１）　、（α）　ｏ　＝＋８゜４８°Ｃに−ト）；カット３：浴温１４０℃ 、沸点１０８’Ｃ，３６ｇ、（ａ〕ｏ　＠２５°Ｃ＝＋１．４９°Ｃ（ｃ＝１５ ．００゜ＭｅＯＨ）　、（（Ｚ）　ｏ　＝＋８．９８℃（ニート）。
カット２と３を合わせて１８９ｇ（７８％）の生成物を得た。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩＳ）　３００　ＭＨｚ　１１．６　（ｂｒｓ、　ＩＨ）、 　３．７２　（Ｓ、　３Ｈ）、２．９２　（ｄｄｑ、Ｊ＝５．７．　６．９．　 ８．０　Ｈｚ、ＩＨ）、２．８１　（ｄｄ。
Ｊ＝８．０．１６．８　Ｈｚ、　ＩＨ）、　２．４７　（ｄｄ、　Ｊ＝５．７． １６．８　Ｈｚ、　ＩＨ）。
１．２６　（ｄ、　Ｊ□６．９　Ｈｚ、　３Ｈ）。
還流冷却器、窒素導入口およびマグネチック攪拌子をンジル）イタコネート（４ ，００ｇ、１６ミリモル）を入・　れた。溶液を室温に１８時間保ち、次に揮発 物質を真空で除去した。残留物を酢酸エチルにとり、飽和重炭酸ナトリウム水溶 液で３回抽出した。合わせた水性抽出液を重硫酸カリウム水溶液でｐｌ＝１まで 酸性にし、次に酢酸エチルで３回抽出した。合わせた酢酸エチル溶液を飽和塩化 ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、真空で濃 縮した。次に残留物を真空沸点８５−８７　＠０．１　ｍｍ、　’ＨＮＭＲ（Ｃ ＤＣＩ＝）　３００　ＭＨｚ　６．３４　（ｓ、　ＩＨ）、　５．７３　（ｓ、 　２Ｈ）、３．７６　（ｓ、　３Ｈ）、　３．３８　（ｓ、　２Ｈ）。”ＣＮＭ Ｒ（ＣＤＣ１２）　１７７．０３．１６６．６５．１２９．２２０．１３２．９ ９、　５２．２７．　３７．４６　。
Ｆ、　メチル２（Ｒ）−メチルスクシネートのＣｕｒｔｉｕｓ転位：メチルＮ− Ｍｏｚ−α−メチルβ−アラニンの製窒素導入口、還流冷却器、かきまぜ機、定 圧滴下ロート、および温度計アダプターを具えた５リツトル４頚丸底フラスコに 、メチル２（Ｒ）−メチルスクシネート（１８４，１ｇ、１．２６モル）、トリ エチルアミン（１６５，６ｇ、２１８ｍＬ　１．６４モル、１．３当量）、およ びトルエン（１０６３ｍｌ）を入れた。溶液を８５℃に加温し、次にアジ化ジフ ェニルホスホリル（３４６，８ｇ、１．２６モル）の溶液で１．２時間にわたり 液加処理した。溶液を上記温度に更に１．０時間保ち、次に混合物を滴下ロート から４−メトキシベンジルアルコール（１７４，１ｇ、１゜２６モル）て０．３ ３時間にわたり処理した。溶液を８８°Ｃて更に２．２５時間かきまぜ、次に室 温まで冷却した。
フラスコ内容物を分液ロートに注入し、飽和ＮａＨＣＯｓ水溶液（２ｘ５００ｍ １）　、０．２Ｎ　ＨＣ］　（２Ｘ５００ｍ１）、塩水（ｌｘ５００ｍｌ）で洗 浄し、無水Ｍｇ５Ｏｎて乾燥し、濾過し、真空で濃縮して３０２．３ｇ（８５％ ）の望む生成物をやや褐色の油状物として得た。
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１ａ）　３００　ＭＨｚ　７．３２　（ｄ、　Ｊ＝８．７　 Ｈｚ、　２Ｈ）、　６．９１　（ｄ、Ｊ＝８．４　Ｈｚ、２Ｈ）、５．２　（ｂ ｒｍ、ＩＨ）、５．０５　（ｓ、２Ｈ）。
３．８３　（ｓ、３Ｈ）、３．７０　（ｓ、３Ｈ）、３．３５　（ｍ、２Ｈ）、 ２．７０　（ｍ。
２１（）、１．２０　（ｄ、Ｊ＝７．２　Ｈｚ、３Ｈ）　。
還流冷却器、窒素導入口、およびかきまぜ機を具えた５リツトル３頚丸底フラス コに、メチルＮ　−Ｍｏｚ−α−メチルβ−アラニン（２１８，６ｇ、０．７８ モル）、氷酢酸（９７５ｍｌ）および１２Ｎ塩酸（１９６０ｍｌ）を入れた。次 に溶液を３時間還流加熱した。溶液が室温に冷えた後（約１時間）、水相を有機 残渣（重合体）からデカンテーションし、水相を回転蒸発器で濃縮した。濃縮残 留物ヘアセトンを加えるとやや黄色の固体を生じた。これをアセトンでスラリー 化し、白色固体をブフナーロート上に濾別した。最後の痕跡量のアセトンを排気 して除去し、９７．７ｇ（９０％）の純粋な生成物、融点１２８．５−１３０、 ５°Ｃ（α）　、　＠２５°Ｃ＝　９．０°Ｃ（ｃ＝２．５３５．　メタノール ）　、　’ＨＮＭＲ（Ｄ、Ｏ）　３００　ＭＨｚ　３．２９　（ｄｄ、　Ｊ＝８ ．６．１３．０Ｈｚ。
ＩＨ）、　３．１６　（ｄｄ、　Ｊ＝５．０．１３．０ｍ　Ｈｚ、　ＩＨ）、　 ２．９４　（ｄｄＱ、　Ｊ＝７．２．５．０．８．６　）１ｚ、ＩＨ）、１．３ ０　（ｄ、Ｊ＝７．２　Ｈｚ、　３Ｈ）；　目ＣＮＭＲ（Ｄ！０）　１８０．８ ４．４４．５６．４０．２７．１７．４９゜Ｈ，Ｎ−Ｂｏｃα−メチルβ−アラ ニンの製造水（１０５０ｍｌ）およびジオキサン（１０５０ｍｌ）中α−メチル β−アラニン塩酸塩（９７，７ｇ、０．７０モル）の溶液を、２．９　Ｎ　Ｎａ ＯＨ溶液てｐＨ８，９に調節した。
次にこのかきまぜた溶液をジー匣−プチルピロカーボネート（１８３，３ｇ、０ ．８４モル、１．２当量）て一時に処理した。２．５　Ｎ　ＮａＯＨ溶液を定期 的に加えることにより溶液のｐＨを８．７から９．０に保った。２．５時間後、 ｐＨか安定化したので反応は完結したと判断された。溶液を回転蒸発器で濃縮し た（温度はく４０°Ｃに維持した）。過剰のジーｔｅｒｔ−ブチルピロカーボネ ートをジクロロメタン抽出により除去し、次に水溶液を冷ＩＮ　ＨＣｌ、て酸性 にし、直ちに酢酸エチル（４Ｘ１０００ｍｌ）で抽出した。
合わせた酢酸エチル抽出液を塩水で洗浄し、無水Ｍｇ５Ｏａで乾燥し、濾過し、 回転蒸発器で濃縮して濃厚油状物１２７．３ｇ（粗製品収率９０％）を得、この ものをｎ−へキサンとかきまぜると純粋な生成物の結晶を生じた。９５．６５ｇ 、６７％、融点７６−７８℃、　〔α〕Ｄ２５℃＝−１１，８℃（ｃ　＝２．４ 　、　ＥｔＯＨ）。
濾液を濃縮し、ヘキサンで希釈することにより第二の生成物１５．４ｇが得られ 、合計収量は１１１．０５ｇ（７８％）となった。
’ＨＮＭＲ（アセトンＤＩ　）　３００　ＭＨ２１１，７（ｂｒｓ、ＩＨ）、　 ６．０５（ｂｒｓ、ＩＨ）、３．３５　（ｍ、ＩＨ）、３．２２　（ｍ、ＩＨ） 、２．５０　（ｍ、ＩＨ）、１．４５　（ｓ、９Ｈ）、１．１９　（ｄ、、Ｉ’ ７．３　Ｈｚ、３Ｈ）；　宜’ＣＮＭＲ（アセトンＤＩ　）　１７７．０１，７ ９．２８，４４．４４．４０．９２．２９．０８゜１５、５０．　元素分析Ｃｓ Ｈ＋ＪＯ４に対する計算値：　Ｃ，５３，１−９゜、Ｈ，８，４２；　Ｎ、　６ ．８９゜実測値：　Ｃ，５３，３６；　Ｈ，８，４６；Ｎ、６．９９゜ ジルオキシカルボニルα−メチルβ−アラニンメチルエステル（２，８１ｇ、１ ０．０ミリモル）の溶液を室温で水酸化リチウム（ｌ、３当量）により２時間処 理した。溶液を真空で濃縮し、残留物を水とエーテルとの混合物にとり、相を分 離し、有機相を捨てた。水相を硫酸水素カリウム水溶液でｐｌ＝　ｔ、　５まで 酸性にし、次にエーテルで３回抽出した。合わせたエーテル相を飽和塩化ナトリ ウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、真空で濃縮して ２．６０ｇ（９７％）のＮ−４−メトキシベンジルオキシカルボニルα−メチル β−アラニン（Ｎ−Ｍｏｚ−ＡＭＢＡ）を得た。これを酢酸エチルとへキサンと の混合物から再結晶することにより精製し２．４４ｇ（９１％）の純粋な生成物 、融点９６〜９７°Ｃ２ＭＨ”＝２６８を得た。
’ＨＮＭＲ（Ｄ、−アセトン／３００　ＭＨｚ）　１．１６　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ ＝７゜２　Ｈｚ）、　２．７０　（ＩＨ，ｍ）、　３．３１　（２Ｈ，ｍ）、　 ３．３１　（３Ｈ，ｓ）。
４．９９　（２Ｈ，ｓ）、６．９２　（２Ｈ，４，Ｊ＝８．７　Ｈｚ）、７．１ ３　（２Ｈ，ｄ。
Ｊ＝８．７　Ｈｚ）　。
Ｊ、３−（４−メトキシベンジルオキシカルボニル）−ル〕−２−メチル（ＩＲ ”　（Ｓ”）、２Ｓ”））−プロパンアミドの製造 Ｎ−Ｍｏｚ　−ＡＭＢＡ　（４６８ｍｇ、　１．７５ミリモル）を５ｍｌのＤＭ Ｆに溶かし、ＨＯＢＴ　（３５５ｍｇ、　２．６ミリモル）を加え、溶液を０℃ に冷却した。この溶液をＥＤＣ（３３６ｍｇ、　１．７５ミリモル）で１５分処 理した。これにＤＭＦ１０ｍｌ中（２Ｒ，３Ｓ−３−アミノ−１−イソアミル− １−（ｔ−ブチルカルボニル）アミノ−４−フェニル−２−ブタノール（６１２ ｍｇ、　１．７５ミリモル）を加え、反応物を室温で１６時間かきまぜた。ＤＭ Ｆを５ｍｌに濃縮し、６０％飽和ＮａＨＣＯｓ水溶液への添加により沈殿させた 。固体を酢酸エチルにとり、ＫＨ３Ｏ，。
ＮａＨＣＯｓ、　ＮａＣ１（飽和）で洗浄し、Ｍｇ５Ｏａで乾燥し、濃縮して６ ８０ｍｇの粗製生成物を得、これをＣＨ２Ｃｌ２．−　Ｅｔ２０゜ヘキサンから 結晶化させａｏｏｍｇの純粋な生成物を得た。
例１７ 下に列挙した手順と例１６で利用した手順とに従い表８の化合物を調製した。
３−１（１，１−ジメチルエチル）ブトキシカルボニルコアミノ−Ｎ−（３−（ （（（１，ｌ−ジメチルエチジメチルホルムアミド５ｍｌ中Ｎ−ｔ−ブチルオキ シカルボニル−２−（Ｒ）−メチル−３−アミノプロピオン酸（３７２ｍｇ、　 １．８３ミリモル）およびＮ−ヒドロキシベンゾトリアゾール（３７１ｍｇ、　 ２．７５　ミリモル）の溶液を０°Ｃに冷却した。これにＥＤＣ（３５１ｍｇ、 　１．８３ミリモル）を加え、溶液を１５分かきまぜた。冷却したこの溶液にジ メチルホルムアミド５ｍｌ中３−ＣＭ（１゜１−ジメチルエチル）アミノコカル ボニル〕　（３−メチルブチル）アミノ）　−２（Ｒ）−ヒドロキシ−１（Ｓ） （フェニルメチル）プロピルアミンの溶液を加え、１５時間かきまぜた。ジメチ ルホルムアミドを除去し、５０■１の酢酸エチルで置換し、有機相を５％硫酸水 素カリウム、飽和重炭酸ナトリウムおよび塩水で抽出した。酢酸エチル層を硫酸 マグネシウムで乾燥し、濾過し、濃縮し、酢酸エチル、ヘキサンからの再結晶後 に生成物６１’３ｍｇ（収率６３％）を得た。Ｍ＋Ｌｉ　５４１゜３−アミノ− Ｎ−（３−（（（（１，ｉ−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕−（３−メ チルブチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピルゴー ２−メチル、（ＩＳ−（ＩＲ”　（Ｓ”）、２Ｓ”）−プロパンアミド塩酸塩の 製造 Ａの部からの生成物（５７７ｍｇ、　１．０８ミリモル）をジオキサン中４Ｎ　 ＨＣｌ　４０ｍ１に溶かし、溶液を２時間かきまぜ、濃縮して塩酸塩を定量的収 量で得た。
虹 ３−（２−メチルプロパノイルアミノ）−Ｎ−（３−［［（（１，１−ジメチル エチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒドロキ シ−１−（フェニルメチル）プロピルゴー２−メチル−９（ＩＳ−（ＩＲ”　（ Ｓ”）、２Ｓ”）−プロパンアミドの製造 Ｂの部からの生成物（２３６ｍｇ、　０．５　ミリモル）を無水テトラヒドロフ ランに溶かし、これにＮ−メチルモルホリン（１６０ｍｇ、　１．５ミリモル） を加えると、その時点で沈殿を生じた。この懸濁系へ塩化イソブチリル（５３、 ５ｖ［１ｇ、　０．５ミリモル）を加え、懸濁系を１５時間かきまぜた。懸濁系 を酢酸エチルで希釈し、５％硫酸水素カリウム、飽和重炭酸ナトリウムおよび塩 水で洗浄した。
有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、゛濃縮して１９５ｍｇの粗製生成 物を得、このものをシリカゲル上５％メタノール−塩化メチレンを用いてクロマ トグラフィーにかけ１２１．５ｍｇ（収率５０％）の純粋な生成物を得た。Ｍ＋ Ｌｉ　５１１゜ 表　８ 表　８　（続き） 表　８　（続き） 例１６記載の手順に一般的に従うことにより表９に示した化合物を調製した。
表　９ 一般に下記の手順を利用して表９に示した化合物を調製した。
＊１０ ”ｔ−ブチルグリシンに代りｌｌｅ 例２０ 本例はＲ４とＲ６とがＸ（Ｎに等しい）と−緒にヘテロシクロアルキル基を形成 する化合物の製造を例示するものである。
（イ）ピロリジンカルバモイルクロリドトルエン４０ｍ１中でトリホスゲ：／　 （２７，７８ｇ１０．１０３モル）をかきまぜた溶液を氷／塩浴中窒素雰囲気下 て一２０°Ｃに冷却し、トルエン２０ｍ１中Ｎ−メチルモルホリン（２７，３ｇ 、０．２７モル）の溶液で１時にわたり滴下処理した。次にこの溶液をトルエン ３０ｍ１中ピロリジン（１９，８ｇ、０．２．７モル）の溶液で３０分にわたり 処理した。溶液を室温まで加温し、濾過し、濾液を真空で濃縮して油状物を得、 これを１２′ビグロー管を通して真空蒸留することにより精製し、純粋な生成物 ２０．７ｇ（５６％）、沸点５８°Ｃ，０，６ｍｍを得た。
（ロ）Ｎ’　−（３−（（（４−フルオロフェニル）メチル）（１−ピロリジニ ルカルボニル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル〕 −２−〔（２−キノリニルカルボニル）アミノ）−（Ｉｓ（ＩＲ”　（Ｒ”）、 ２Ｓ”）］−ブタンジアミド無水ＤＭＦ７ｍｌ中［：ＩＳ−［：ＩＲ”　（Ｒ” ）、２Ｓ”））−Ｎ’　−（３−（（（４−フルオロフェニル）メチル〕アミノ 〕−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル）−２−（（２−キノリ ニルカルボニル）アミノブタンジアミド（１，０８ｇ、　１．９１ミリモル）の かきまぜた溶液をピロリジンカルバモイルクロリド（２６０ｍｇ、　１．９５ミ リモル）、４−ジメチルアミノピリジン（１５ｍｇ）、およびＮ−メチルモルホ リン（３８０ｍｇ。
３、７６　ミリモル）で処理した。溶液を室温で３時間かきまぜ、次に真空で濃 縮して半固体を得、これをメタノール／水（約２＝１）に溶かした。この溶液か ら生成した固体をブフナーロート上に濾別し、水、５％クエン酸水溶液、水で洗 浄し、風乾して１３０ｍｇ（１１％）の純粋な生成物を得た。酢酸エチル中７％ メタノールで溶離するＳｉＯ□上のＴＬＣは１スポツト（Ｒｆ＝０．６４）を示 した。
（ハ）Ｎ’　−（３−［（４−フルオロフェニル）メチル）〕　（〕４−モルホ リニルカルボニルアミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル 〕−２−〔（２−キノリニルカルボニル）アミノ）　−（ｉｓ　（ＩＲ”　（Ｒ ”）、２Ｓ’））−ブタンジアミドクロロホルム５ｍｌ中（ＩＳ　（ＩＲ”　（ Ｒ”）、２Ｓ”））−Ｎ’　−［３−（［（４−フルオロフェニル）メチル〕ア ミノ〕−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル）−２−（（２−キ ノリニルカルボニル）アミノコ−ブタンジアミド（５２０ｍｇ、　０．９２２ミ リモル）、トリエチルアミン（１７２ｍｇ、１．７０ミリモル）、４−ジメチル アミノピリジン（５０ｍｇ）、およびモルホリノカルバモイルクロリド（１５７ ，３ｍｇ、　１．０５ミリモル）のかきまぜた溶液へ□　。最 初不均一な混合物を６時間還流加熱した。次に溶液を更にクロロホルムで希釈し 、分液ロート中に注入し、ＩＮＫＨＳＯ，、飽和ＮａＨＣＯｚ水溶液で洗浄し、 無水Ｍｇ５Ｏａで乾燥し、濾過し、真空で濃縮して白色固体を得、エタノール／ 酢酸エチルで溶離するＳｊＯ□上刃ラムクロマトグラフィーにより精製し、純粋 な生成物３８０ｍｇ（６１％）を得た。
例２１ 本例はＲ４およびＲ６か両方ともＨ以外の基である化合物の調製を例示するもの である。
Ｎ’−（３−（（（ジエチルアミノ）カルボニル〕（３−メチルブチル）アミノ コ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル）−２−（（２−キノリ ニルカルボニル）アミノ）−（Ｉｓ　（ＩＲ”　（Ｒ”）、２Ｓ”クロロホルム ４ｍｌ中（ＩＳ−（ＩＲ”　（Ｒ”　）、２Ｓ”））−Ｎ’−（３−（メチルブ チル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル〕−２−〔 （２−キノリニルカルボニル）アミノ−ブタンジアミド）　（Ｉ　ｌ　９Ｂ、　 ０．２１ミリモル）、トリエチルアミン（５９＋ｏｇ、　０．５８ミリモル）、 ４−ジメチルアミノピリジン（９ｍｇ）、およびジエチルカルバモイルクロリド （１５７，３＋Ｂ、　１．０５ミリモル）のかきまぜた溶液へ□。混合物を室温 に２６時間保っ た。次に溶液を更にクロロホルムで希釈し、分液ロート中に注入し、ＩＮ　ＫＨ ＳＯ４、飽和Ｎａ）ｉｃｅｓ水溶液で洗浄し、無水Ｍｇ５Ｏａ上で乾燥し、濾過 し、真空で濃縮して白色固体を得、これをメタノール／ＣＨ２Ｃ１ｔで溶離する ５ｉｆｔ上のカラムクロマトグラフィーにより精製し純粋な生成物２０ｍｇ（１ ５％）を得た。
例２２ 例２６で述へる手順に従い、表１１に列挙した化合物を調製した。
表１１ −ＣＭ２ＣＨ２０Ｉ（ＣＭ、）２−Ｎ（（Ｈ，）。
−Ｎ（０！、口も）２ 表】１　（続き） Ｎ（ＣＨ，）　（ｔ−Ｂｕ） 例２３ ３−（（（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチ ル）アミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−１（Ｓ）　−（フェニルメチル）プロピル アミン本例は、Ｒ＋が天然に生ずるアミノ酸側鎖のアルキル基以外のアルキル基 である式１１の化合物の調製を例示するものである。
と ３−（（（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチ ル）アミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−１（Ｓ）−（Ｎ−（ベンジルオキシカルボ ニル）（フェニルメチル（）プロピルアミン）（４，７ｇ、９゜７モル）をエタ ノール（３５ｍｌ）中で１ｏ％Ｐｄ／炭素（２００ｍｇ）および濃ＨＣ１（３ａ ＋１）と合わせ、５０ボンド／平方インチの水素で２．５時間水素化した。反応 混合物をケイソウ土に通して濾過し、回転蒸発器で濃縮して黄色の吸湿性固体３ ．７ｇ（１００％）を得た。
し ２−〔（フェニルメチルオキシカルボニル）アミノ〕−Ｎ−（３−（（（（１， １−ジメチルエチル）アミン〕カルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ− ２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル−３，３−ジメチル−［］Ｓ −（ＩＲ”　（Ｒ”）、２５°〕〕−ブタ７２ｍｇ、　０．６５ミリモル）およ びＮ−ヒドロキシベンゾトリアゾール（１００ｍｇ、　０．６５ミリモル）を０ ℃に冷却し、ＥＤＣ（１１５Ｂ、　０．６０ミリモル）を加えた。
４５分後、Ａの部から得たアミン（１９３ｍｇ、　０．５０−ミリモル）とＮ− メチルモルホリン（６０μ１．０．５５ミリモル）を加えた。反応物を室温で１ ８時間かきまぜ、５０％飽和ＮａＨＣＯｓの溶液（２５ｍｌ）中に注いだ。固体 を吸引濾過により集め、水洗し、真空で乾燥した。この固体をＣＨ，Ｃ１，中２ ％ＭｅＯＨを用いてＳｉｎ、上でクロマトグラフィーにかけた。適当なフラクシ ョンを集め、濃縮して白色固体２２０ｍｇＳＭＨ”　５９７．　ＴＬＣ（ＳｉＬ 、２％ＭｅＯＨ／ＣＨ２Ｃｌり　Ｒｆ　＝０．、２を得た。ＣＨＮ計算値：Ｃ２ ６８，４２，Ｈ，８，７８，Ｎ、　９．３９゜実測値：Ｃ，６８゜０３、　Ｈ， ８，８３，Ｎ、　９．３３゜岨 １：ＩＳ−（ＩＲ’　（Ｒ”　’）、２Ｓ”　）−２−アミノ−Ｎ−（３−（（ （（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）ア ミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル−３，３−ジメチル −ブタンアミド エタノール（３０ｍｌ）中Ｂの部からの生成物（５７０ｍｇ、　０．９５ミリモ ル）および４％Ｐｄ／炭素（１５０ｍｇ）を５ボンド／平方インチで２．７５時 間水素化した。
反応混合物をケイソウ土に通して濾過し、回転蒸発器で濃縮して油状物４３８ｍ ｇ（１００％）を得た。
し Ｎ　Ｓ−ＮＲ９（Ｒ３）、２Ｓ”　）−２−（アセチルアミノ）−Ｎ−（３−（ （（（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル） アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル）−３，３−ジメ チル−ブタンアミドＣの部から得た生成物（２０６ｍｇ、　０．４１ミリモル） およびＮ−メチルモルホリン（４５μｍ、０．４１ミリモル）をＣＨ２Ｃｌ、　 （２，５ｍｌ）に溶かし、０°Ｃに冷却した。次に無水酢酸（３９μｍ、０．４ １ミリモル）を加え、反応物を０℃で３０分かきまぜてから室温まで温め、３０ 分かきまぜた。溶媒を回転蒸発器で除去し、残留物をエタノール（２ｍ１．）に 溶かした。このエタノール溶液を５０％飽和ＮａＨＣＯｓ　（２０ｍｌ）中にゆ っくり注ぎ込み、激しくかきまぜた。固体を吸引濾過により集め、水、５％クエ ン酸、そして再び水で洗浄した。１５７ｍｇ、７５％、ＣＨＮ／１．５　Ｈ！０ 計算値：　Ｃ，６３，２４、Ｈ，９，６７、Ｎ、　１０゜５４：実測値：　Ｃ， ６３，４０、Ｈ，９，４１，Ｎ、　１０．３９゜（ＩＳ−（ＩＲ”　（Ｒ”）、 ２Ｓ”）−２−アミノ−Ｎ−（３−［（（（１，１−ジメチルエチル）アミノコ カルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニ ルメチル）プロピル−３，３−ジメチル−ブタンアミドも表１２に示したアシル 基でキャップした。
表１２ ベンジルオキシカルボニル ２−キノイルカルボニル フェノキシアセチル ベンゾイル メチルオキサロイル ピバロイル トリフルオロアセチル プロモアセチル ヒドロキシアセチル モルホリニルアセチル Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノアセチル Ｎ−ベンジルアミノアセチル Ｎ−フェニルアミノアセチル Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミノアセチルＮ−メチルカルバモイル ３−メチルブチリル Ｎ−イソブチルカルバモイル スクシノイル（３−カルボキシプロピオニル）カルバモイル 例２４Ａ 下記の手順は式ＩＩＩの化合物の調製を例示するものである。（ＩＳ−（ＩＲ’ 　（Ｒ”　）、２Ｓ”　））−Ｎ−（３−（（［（１，１−ジメチルエチル）ア ミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（ フェニルメチル）プロピルツー２−メチル−３−（２−フェニルエチルスルホニ ル）−プロパンアミドおよびそのジアステレオマー 酊 メタノール１００ｍ１中メタクリル酸メチル（７，２５ｇ、７２．５ミリモル） およびフェネチルメルカプタン（１０６０ｇ、７２．５ミリモル）の溶液を水浴 で冷却し、ナトリウムメトキシド（１００ｍｇ、　１．８５ミリモル）で処理し た。溶液を窒素下で３時間かきまぜてから真空で濃縮して油状物を得、これをエ ーテルにとり、ＩＮ硫酸水素カリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液て洗浄 し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、濃縮して１６゜８３ｇ（９７， ５％）のメチル２−　（Ｒ，Ｓ）−メチル−４−チア−６−フェニルヘキサノエ ートを油状物として得た。ヘキサン：酢酸エチル２０・１（Ｖ：Ｖ）で溶離する ５１０２上のＴＬＣ：　Ｒｆ＝０．４１゜し ジクロロメタンｌｏＯｍｌ中メチル２−　（Ｒ，Ｓ）−メチル−４−チア−６− フェニルヘキサノエート（４，００クロロペルオキシ安息香酸（７，３８ｇ１３ ９．２ミリモル）で約４０分間にわたり少しずつ処理した。溶液を室温で１６時 間かきまぜてから、濾過し、濾液を飽和重炭酸ナトリウム水溶液、ＩＮ水酸化ナ トリウム、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥 し、濾過し、濃縮してめるスルホン４゜５０ｇ（９９％）を得た。この未精製ス ルホンをテトラヒドロフラン１００ｍ１に溶かし、水４０ｍ１中水酸化リチウム （１，０４ｇ、２４．５ミリモル）の溶液で処理した。溶液を室温で２分かきま ぜ、次に真空で濃縮した。次に残留物をｌＮ硫酸水素カリウム水溶液でｐｌ＝　 １まで酸性にし、次に酢酸エチルで３回抽出した。合わせた酢酸エチル溶液を飽 和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、 濃縮して白色固体を得た。この固体を沸騰している酢酸エチル／ヘキサンにとり 、静置すると白色針状晶を生じた。これを濾別し、風乾することにより３．３８ ｇ（７９％）の２−　（Ｒ，Ｓ）−メチル−３（β−フェネチルスルホニル）− プロピオン酸、融点９１〜９３°Ｃを得た。
虹 無水ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）４ｍｌ中２−’（Ｒ。
キシベンゾトリアゾール（ＨＯＢＴ）（１４６，９ｍｇ、０゜９７ミリモル）お よび１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（ ＥＤＣ）（１４５、８ｍｇ、　０．７５ミリモル）の溶液をｏ　”ｃに冷却し、 窒素下で０．５時間かきまぜた。次にこの溶液を３−〔〔（ジメチルエチル）ア ミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−１ （Ｓ）−（フェニルメチル）プロピルアミン（２０１，９ｍｇ、　０．５９ミリ モル）で処理し、室温で１６時間かきまぜた。この溶液を６０％飽和重炭酸ナト リウム水溶液３０ｍ１中に注いだ。次に水溶液を有機残留物からデカンテーショ ンした。有機残留物をジクロロメタンにとり、１０％クエン酸水溶液、塩水で洗 浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、濃縮してｌ　］０．Ｏｍｇ（ ３２％）　（７）　（２Ｒ，３３）−３−（Ｎ−２−（Ｒ）−メチル−３−（β −フェネチルスルホニル）プロピオニルコアミド−１−イソアミル−１−（ｔｅ ｒｔ−ブチルカルバモイル）アミノ４　”）エニールー２−ブタノールおよび（ ２Ｒ，３Ｓ）−３−（Ｎ−２−（Ｓ）−メチル−３−（β−フェネチルスルホニ ル）プロピオニルコアミド−１−イソアミル１−（ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイ ル）アミノ−４−フェニル−２−ブタノール、ＦＡＢ質量スペクトル（ＭＨ”　 ）＝５８８、を得た。ヘキサン：酢酸エチル（１：　１）で溶離するシリカゲル 上のこの混合物のフラッシュクロマトグラフィーは分離されたジアステレオマ（ ｌ　Ｓ−（ＩＲ”　（Ｒ”　”）、２Ｓ”　））−Ｎ−（３−（（（（１，ｌ− ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２− ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル〕−２−メチル−３−（メチルス ルホニル）−プロパンアミドおよびそのシアメタノール１００ｍ１中２−（ブロ モメチル）−アクリＬＪｆｌｌｆｈ　（２６，４ｇ、　０．１４８モル）の溶液 をメタンスルフィン酸ナトリウム（１５，１ｇ、０．１４８モル）で１０分間に わたり少しずつ室温で処理した。次にこの溶液を室温で１．２５時間がきまぜ、 溶液を真空で濃縮した。
次に残留物を水にとり、酢酸エチルで４回抽出した。合わせた酢酸エチル溶液を 飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、 濃縮して白色固体２０．７ｇを得た。これを沸騰しているアセトン／メチルｔｅ ｒｔ−ブチルエーテルにとり、放置すると純粋なメチル２−（メチルスルホニル メチル）アクリレ−）１８．０ｇ（６８％）の結晶、融点６５〜６８°Ｃを生じ た。
テトラヒドロフラン１５ｍＩ中メチル２−（メチルスルホニルメチル）アクリレ ート（９７０ｍｇ、　５．４４ミリモル）の溶液を水７ｍｌ中水酸化リチウム（ ２７０ｍｇ、　６．４ミリモル）の溶液で処理した。この溶液を室温で５分がき まぜ、次にｌＮ硫酸水素カリウム水溶液でｐｌ＝　１まで酸性にし、酢酸エチル で３回抽出した。合わせた酢酸エチル溶液を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、 濾過し、濃縮して７９３ｍｇ（８９％）の２−（メチルスルボニルメチル）アク リル酸、融点１４７〜１４９°Ｃを得た。
虹 メタノール２００＋１中２−（メチルスルホニルメチル）アクリル酸（７００ｍ ｇ、　４．２６ミリモル）の溶液を、窒素雰囲気下で１０％パラジウム／炭素触 媒と共＋：Ｆｉｓｈｅｒ−Ｐｏｒｔｅｒびんに入れた。反応容器を封じ、窒素で ５回次に水素で５回フラッシュした。圧力を５ｏボンド／平方インチゲージ圧に １６時間保持し、次に水素を窒素で置換し、溶液をセライトの詰め物に通して濾 過することにより触媒を除去し、濾液を真空で濃縮して６８２ｍｇ（９６％）の ２−　（Ｒ，Ｓ）−メチル−３−メチルスルホニルプロピオン酸を得た。
し 無水ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）４ｍｌ中２−（Ｒ。
Ｓ）−メチル−３（メチルスルホニル）プロピオン酸（２６３，５ｍｇ、１．５ ８５ミリモル）、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢＴ）　（３２２， ２ｍｇ、　２．１３　ミリモル）、および１−（３−ジメチルアミノプロピルン −３−エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）（３３９゜１ｍｇ、１．７４ミリ モル）の溶液を０℃に冷却し、窒素下で０．５時間かきまぜた。次にこの溶液を ３−（（（１゜ｌ−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチ ル）アミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−１（Ｓ）　−（フェニルメチル）プロピル アミン（５４３，５ｍｇ、　１．５８ミリモル）で処理し、室温で１６時間かき まぜた。この溶液を６０％飽和重炭酸ナトリウム水溶液６０ｍ１中に注いだ。次 に水溶液を有機残留物からデカンテーションした。この有機残留物をジクロロメ タンにとり、１０％クエン酸水溶液、塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で 乾燥し、濾過し、濃縮して４７１．８ｍｇ（６０％）の（ＩＳ−ＣＩＲ”　（Ｒ ”　）、２Ｓ”　））−Ｎ−（３−（（（（１，１−ジメチルエチル）了ミノ〕 カルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニ ルメチル）プロピルクー２−メチル−３−（メチルスルホニル）−プロパンアミ ドおよびそのジアステレオマーを得た。
例２５ Ｌ−（＋）−３−了セチルーβ−メルカプトイソ酪酸からスルホン阻害物質の製 造 酊 （ＩＳ−（ＩＲ’　（Ｒ”）、２Ｓ”））−Ｎ−［３−（（（（１，１−ジメチ ルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）了ミノ〕−２−ヒドロ キシ−１−（フェニルメチル）プロピルツー２−メチル−３−８−アセチル）− プロパンアミド 丸底フラスコに（２Ｒ，３Ｒ）−３−アミノ−！−イソアミルー１−　（ｔｅｒ ｔ−ブチルカルバモイル）アミノ−４−フェニル−２−ブタノール（９０１，５ ｍｇ、　２．５７５ミリモル’）　、Ｌ−（＋）−Ｓ−アセチル−ｂ−メルカプ トイソ酪酸（１６４，５ｍｇ、　２．５７５ミリモル）、１−（３−ジメチルア ミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）（３３９，１ｍｇ 、１．７４ミリモル）、およびＣＨＩＣｌ、１０　［１１１を入れ、室温で１６ 時間かきまぜた。溶液を真空で濃縮し、残留物を酢酸エチルにとり、Ｉ　Ｎ　Ｋ ＨＳＯ４、飽和ＮａＨＣＯｓ水溶液、塩水で洗浄し、無水Ｍｇ５Ｏｓ上で乾燥し 、濾過し、濃縮して油状物を得、これを酢酸エチルで溶離するＳｉｎ、上のラジ アルクロマトグラフィーによって精製し純粋な生成物、８００ｍｇ（６３％）を 得た。
（Ｉ　Ｓ−（ＩＲ”　（Ｒ”　’）、２Ｓ”　））−Ｎ−［３−ｆ：（（Ｎ、１ −ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２ −ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピルツー２−メチル−３−メルカプ ト）−プロパンアミド メタノールｌ０ｍｇ中（ＩＳ−（ＩＲ”　（Ｒ’″）、２Ｓ”〕）−Ｎ−（３− （（（（１，ｌ−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル ）アミンシー２−ヒドロキシ−！−（フェニルメチル）プロピル〕−２−メチル ー３−３−アセチル）−プロパンアミド（４２０ｍｇ、　０．８５　ミリモル） の溶液を無水アンモニアで０°Ｃにおいて約１分処理した。この温度で溶液を１ ６時間かきまぜてから真空で濃縮し３８０ｍｇ（９９％）のめる生成物を得た。
このものはそれ以上精製することなく次の工程に直接用いた。
虹 （ＩＳ−（ＩＲ”　（Ｒ”　’）、２Ｓ”　））−Ｎ−（３−（［：（（１，１ −ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２ −ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピルツー２−メチル−３−８−メチ ル−プロパンアミド 乾燥トルエン１０ｍ１中（ＩＳ−（ＩＲ”　（Ｒ”）、２Ｓ”））−Ｎ−（３− （（（（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル ）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピルツー２−メチル −３−メルカプト）−プロパンアミド（３８０ｍｇ、　０．８４１ミリモル）の 溶液を窒素下で１゜８−ジアザビシクロ（５，４，０）−７−ウンデセン（ＤＢ Ｕ）、（１２８，ｌｌｌ１ｇ、　０．８４１ミリモル）およびヨードメタン（１ １９，０ｍｇ、　０．８４１ミリモル）て矢継ぎぼやに処理した。室温で０．５ 時間後、反応は完全であることが分かった。溶液を酢酸エチルで希釈し、ｌＮＫ ＨＳＯ４、飽和ＮａＨＣＯｓ水溶液、塩水で洗浄した。溶液を無水Ｍｇ５Ｏｓ上 で乾燥し、濾過し、真空で濃縮後、望む生成物を白色フオーム（３７０ｍｇ、９ ４．５％）として得、これを次の工程にそのまま用いた。
（ＩＳ−（ＩＲ”　（Ｒ”）、２Ｓ”ｌ）’−Ｎ−（３−（（（（１，１−ジメ チルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒド ロキシ−１−（フェニルメチル）プロピルクー２−メチル−３−（メチルスルホ ニル）−プロパンアミド氷酢酸３０ｍ１中（ＩＳ−［ＩＲ”　（Ｒ”　）、２Ｓ ”　））−Ｎ−（３−（（Ｃ（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕 　（３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プ ロピル〕−２−メチルー３−３−メチル）−プロパンアミド（３４０ｍｇ。
０．７３ミリモル）および過ホウ酸ナトリウム（５００ｍｇ。
３、２５　ミリモル）の溶液を５５°Ｃｉ：１６時間加温した。
溶液を真空で濃縮し、次に残留物を酢酸エチルにとり、飽和ＮａＨＣＯｚ水溶液 、塩水で洗浄し、無水Ｍｇ５Ｏａ上で乾燥し、濾過し、濃縮して望む生成物を白 色固体、３５０ｍｇ（９６％）、として得た。
例２６ 例２４と例２５て述べた手順に一般的に従って表１２に示す化合物を調製した。
表１２Ａ ０も− 口ｈα２− ＣＨ，ＣＨ２ＣＨ２− ＰｈＣＨ２Ｏ！２− ｈｏｉ２− ｈ− （（Ｈ，）２ＣＨ− ＨＯ（Ｈ２ＣＨ２− σ ＣＨ２＝Ｏ（−ＣＨ２− 表１３ メタノール２０ｍ１中Ｄ−（−）−３−ベンゾイル−ｂ−メルカブチオイソ酪酸 ｔ−ブチルエステル１０ｇの溶液へ０°Ｃでアンモニアガスを通じた。次に反応 物を室温まで温め、−晩かきまぜ、減圧下で濃縮した。生した固体（ベンズアミ ド）と液体との混合物を濾過して淡い色の油状物５．２１ｇを得た。このものは 後に固化した。この物質は２（Ｓ）−メチル−３−メルカプトプロピオン、酸ｔ −ブチルエステルとして同定された。
トルエン７５ｍ１中２（Ｓ）−メチル−３−メルカプトプロピオン酸ｔ−ブチル エステル５．２１ｇの溶液へ、ｌ。
８−ジアザビシクロ（５，４０）−７−ウンデセン４．５０ｇとヨウ化メチル１ ．９４　ｍｌとを０℃で加えた。室温で２゜５時−かきまぜた後、揮発性物質を 除去し、酢酸エチルを加え、希塩酸、水、塩水で洗浄し、乾燥し、濃縮して淡色 の油状物２．８２　ｇを得た。このものは２（Ｓ）−メチル−３−（チオメチル ）プロピオン酸ｔ−ブチルエステルとして同定された。
酢酸５０ｍ１中２（Ｓ）−メチル−３−（チオメチル）プロピオン酸ｔ−ブチル エステル２．８２　ｇの溶液へ過ホウ酸ナトリウム５．５８　ｇを加え、混合物 を５５℃に１７時間加熱した。反応物を水に注ぎ、塩化メチレンで抽出し、重炭 酸ナトリウム水溶液で洗浄し、乾燥し、濃縮することにより２．６８　ｇの２（ Ｓ）−メチル−３−（メチルスルホニル）プロピオン酸ｔ−ブチルエステルを白 色固体として得た。
２（Ｓ）−メチル−３−（メチルスルホニル）プロピオン酸ｔ−ブチルエステル ２．６８　ｇへ４Ｎ塩酸／ジオキサン２０ｍ１を加え、混合物を室温で１９時間 かきまぜた。
減圧下に溶媒を除いて２．１８　ｇの粗製生成物を得、これを酢酸エチル／ヘキ サンから再結晶することにより１．４４ｇの２（Ｓ）−メチル−３−（メチルス ルホニル）プロピオン酸を白色結晶として得た。
本例はｔが１である式■ｖの混合物の製造を例示するも４−Ｎ−ベンジルイタコ ンアミド 滴下ロート、かきまぜ機、窒素導入口および還流冷却器を具えた５００ｍ１３頚 丸底フラスコにイタコン酸無水物（３３，６ｇ、０．３モル）とトルエン１５０ ｍ１を入れた。
この溶液にベンジルアミン（３２，１ｇ、０．３モル）のトルエン５０ｍ１中の 溶液を室温で３０分にわたり演加した。
溶液をこの温度で更に３時間かきまぜ、次に固体生成物をブフナーロート上に濾 別した。粗製生成物６４．６ｇ（９８％）を３００ｍ１のイソプロピルアルコー ルから再結晶して２種類の生成物の後で純粋な生成物、融点１４９〜１５０℃、 ５２．１ｇ（７９％）を得た。
２（Ｒ）−メチル　４−Ｎ−ベンジルスクシンアミド大型Ｆｉｓｈｅｒ　−Ｐｏ ｒｔｅｒびんに上記反応で得た酸（１０，９５ｇ、０．０５モル）、ロジウム（ Ｒ，Ｒ）−Ｄ　ｉ　ＰＡＭＰ（２２０ｍｇ、　０．２９１ミリモル）およびガス 抜きしたメタノール１２５ｍ１を入れた。次にこの溶液を室温において４０ボン ド／平方インチゲージ圧で１６時間水素イヒした。水素の吸収が止まってから容 器を開き、溶液を真空で濃縮して黄色固体１１．０５ｇ（１００％）を得た。次 にこの生成物を無水エタノールにとり、放置するとめる生成物の結晶を生じた。
７．９８ｇ、７２％、融点１２７−１２９℃〔α〕Ｄ２５°Ｃ＝＋１４．９°（ ｃ＝１．３３２．　ＥｔＯＨ）、’Ｈｎｍｒ　（ＣＤＣ１ａ）３００ＭＨｚ　７ ．３０　（ｍ、　５８）、　６．８０　（ｂｒｓ、ＩＩ）、　４．４１　（ｄ、 　Ｊ＝　５゜８　Ｈｚ、　２Ｈ）、　２．９４　（０１，ＩＨ）、　２．６２　 （ｄｄ、　Ｊ＝８．１．−１４．９Ｈｚ、ＩＨ）、　２．３３　（ｄｄ、　Ｊ＝ ５．５．１４．９Ｈｚ、　ＩＨ）、　１．２３　（ｄ、　Ｊ＝７．２Ｈｚ。
４−Ｎ（４−メトキシベンジル）イタコンアミド滴下ロート、かきまぜ機、窒素 導入口、および還流冷却器を具えた５００ｍ１３頚丸底フラスコにイタコン酸無 水物（４４，８ｇ、０．４モル）とトルエン１５０ｍ１を入れた。
この溶液にトルエン５０ｍ１中４−メトキシベンジルアミン（５４，８ｇ、０． ４モル）の溶液を室温で３０分にゎたり液加した。溶液をこの温度で更に２時間 かきまぜてから固体生成物をブフナーロート上に濾別した。粗製生成物を酢酸エ チル／エタノールから再結晶し２種類の生成物の後で６４．８ｇ（６５％）の純 粋な生成物を得た。
融点１３２−１３４℃、’Ｈｎｍｒ　（ＣＤＣｈ）　３００　ＭＨｚ　７．０９ 　（ｄ、　Ｊ＝９．１Ｈｚ、　２Ｈ）、　６．９０　（ｂｒｔ、Ｊ＝５．９Ｈｚ 、　１８）、　６．７４（ｄ、　Ｊ＝９．ＩＨ２，２Ｈ）、　６．２２　（Ｓ、 ＩＨ）、　５．６９　（Ｓ、　ＩＨ）、　４．２４（ｄ、　Ｊ＝５．９Ｈｚ、　 ２Ｈ）、　３．６９　（ｓ、　３Ｈ）、　３．１５　（ｓ、　２Ｈ）。
”Ｃｎｍｒ　（ＣＤＣ１ｘ）　１７０．５２．１６９．２９．１５９．２４．１ ３５．６１．１３１．０８．１２９．３７．１２８．９７．１１４．３６．５５ ．７２．４３．３７．４０．５８゜２（Ｒ）−メチル　４−Ｎ（４−メトキシベ ンジル）スクシンアミド。
大型Ｆｉｓｈｅｒ　−Ｐｏｒｔｅｒびんに上記反応から得られた酸（５゜００ｇ 、０．０２％ル）、ロジウム（Ｒ，Ｒ）　−Ｄ　ｉ　ＰＡＭＰ　（１１０ｍｇ、 　０．１４６ミリモル）およびガス抜きしたメタノール５０ｍ１を入れた。出発 物の酸は最初のうちは完全に溶けなかったか、反応か進むにつれて溶液は均一に なった。次に溶液を室温において４０ボンド／平方インチゲージ圧て１６時間水 素化した。水素の吸収か止まってから、容器を開き、溶液を真空で濃縮して黄色 固体を得た。次に粗製生成物を酢酸エチルにとり、飽和ＮａＨＣＯ，水溶液で３ 回洗浄した。合わせた水性抽出液を３Ｎ　ＨＣＩでｐＨ＝　１まで酸性にし、次 に酢酸エチルで３回抽出した。合わせた酢酸エチル抽出液を塩水で洗浄し、無水 Ｍｇ５Ｏａ上で乾燥し、濃縮して期待の生成物を白色固体４．８１ｇ（９５％） として得た。この物質をメチルエチルケトン／ヘキサンの混合物から再結晶する ことにより３．８０ｇ（７５％）の純粋な生成物を得た。
（ｃｒ）Ｄ２５°Ｃ＝＋１１．６°（ｃ＝１．５７２．　ＭｅＯＨ）　、　’Ｈ ｎｍｒ　（ＣＤＣＩｇ）　３００ＭＨｚ　１１．９　（ｂｒｓ、　ＩＨ）、　７ ．１８　（ｄ、　Ｊ＝　９．２Ｈｚ、　２Ｈ）、　６．８２　（ｄ、　Ｊ＝９． ２Ｈｚ、　２Ｈ）、　６．６８　（ｂｒｔ、　Ｊ：５．６Ｈｚ。
１Ｍ）、　４．３３　（ｄ、　Ｊ＝５．　６Ｈｚ、　２Ｈ）、　３．７７　（ｓ 、　３Ｈ）、　２．９２（ｄｄｑ、　Ｊ＝７．９．５．４．７．３Ｈｚ、　ＩＨ ）、　２．６０　（ｄｄ、　Ｊ＝５．４．１５゜０Ｈｚ、　１８）、　２．３０ 　（ｄｄ、　Ｊ＝７．９．１５．０Ｈｚ、　１１（）、　１．２２　（ｄ、　Ｊ ＝７．３Ｈｚ、　３８）。
（ＩＳ−（ＩＲ”　（２Ｒ”）、２Ｓ”）　）　−Ｎ’　−［：３−（（（（１ ，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ −２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル）−Ｎ−４−メトキシフェ ニルメチル−２−メチル−ブタンジアミド５０ｍ１丸底フラスコに２（Ｒ）−メ チル　４−Ｎ−（４−メトキシベンジル）スクシンアミド（５８８ｍｇ、　２． ３５ミリモル）、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール（５１１ｍｇ、３．３４ミ リモル）およびＤＭＦ６ｎ＋１を入れた。
溶液を０°Ｃに冷却し、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカル ボジイミド塩酸塩（５０２ｍｇ、　２゜６２ミリモル）で２０分処理した。ＤＭ Ｆ２ｍｌ中（２Ｒ１３Ｓ）−３−アミノ−１−（３−メチルブチル）−１−（（ １，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル）−４−フェニル−２−ブタノー ル（７８２ｍｇ、　２．２４ミリモル）を加え、溶液を室温で２４時間かきまぜ た。溶液を真空で濃縮し、５０ｍ１の５０％飽和ＮａＨＣＯ，水溶液中に注ぎ、 水相をＣＨ２Ｃｌ２て抽出した。有機相を５％クエン酸、ＮａＨＣＯ＝、塩水で 洗浄し、無水Ｍｇ５Ｌ上て乾燥し、濾過し、濃縮して油状物を得、これをヘキサ ン／酢酸エチルで溶離する５１０２上のラジアルクロマトグラフィーにより精製 して７９０ｍｇ（５９％）の純粋な生成物を白色フオームとして得た。
（ＩＳ−（ＩＲ“　（２Ｒ’　）、２Ｓ”　：ｌ　）−Ｎ’　−（３−ｃｃｃｃ ｉ、ｉＬ−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）アミ ノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル）−Ｎ−フェニルメチ ル−２−メチル−ブタンジアミド ５０ｍ１丸底フラスコに２（Ｒ）−メチル　４−Ｎ−（ベンジル）スクシンアミ ド（２４３ｍｇ、１．１ミリモル）、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール（２１ ３ｍｇ、１．３９ミリモル）およびＤＭＦ３ｍｌを入れた。溶液を０°Ｃに冷却 し、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（ ２２８ｍｇ、　１．１７ミリモル）で２０分間処理した。ＤＭＦ２ｍｌ中（２Ｒ ，３Ｓ）−３−アミノ−１−（３−メチルブチル）−１−（（１，１−ジメチル エチル）アミノ〕カルボニル〕−４−フェニル−２−ブタノール（３２７ｍｇ、 　０．９５ミリモル）の溶液を加え、溶液を室温で２４時間かきまぜた。溶液を 真空で濃縮し、５０ｍ１の５０％飽和ＮａＨＣ０２水溶液中に注ぎ、水相をＣＨ ，Ｃ１，で抽出した。有機相を５％クエン酸、ＮａＨＣＯｓ、塩水て洗浄し、無 水ＭｇＳＯ４上で乾燥し、無水Ｍｇ５Ｌ上で乾燥し、濾過し、濃縮して油状物を 得、これをヘキサン／酢酸エチルで溶離するＳｉｎ、上のフラッシュクロマトグ ラフィーにより精製して純粋な生成物３７０ｍｇ　（７０％）を白色フオームと して得た。
例２９ 例２８で一般的に述べた手順に従い表１４に示す化合物を調製した。
表　１４ ＨＨＨＨＮ　ｉｔ　Ｈ ＨＨＨＨＯＨ ＨＨＨＭ　Ｏｃ１１３− ＲＨ馬　１４　Ｎ　Ｈ１４ Ｈ′１４　％　Ｍ　ＯＨ 表　１４（続き） ｅｌｌ、　ＩＩ　Ｃ１１３ＨＮ　ＨＨ ｃｘ、　ＨＣ１１３ＨＮ　ＨＣｋｑ （ＩＥ、　Ｍ　ｃ８３ＨＮ　ｃＩＬ３　口もへ　Ｒロら　ＨＯＨ ”ｓ　Ｈ”ｓ　ＨＮ　式−ｅｌｌ、Ｃ６Ｈ，ＯＣＲ。
Ｏｌｌ　ＨＮ　ＩＩ　Ｎ　ＩＩ　Ｒ ＯＨＨＩＩ　ＨＯＩＩ ＨＨＯｆ（ＨＮ　ＨＨ ＣＭ２ＨＩＩ　４Ｉ　Ｎ　１１　Ｈ α２Ｐｈ　ＨＩＩ　ＰＩ　Ｎ　ＨＨ Ｃ）１３ＩＩ　Ｍ　ＨＮ　１４ ０１、　ＨｋＩ　ＨＨＨ ｏｌ、　ＨＨＨＮ　Ｈ ｏｌ、、ＨＨＩＩ　Ｎ　Ｈ α３ＨＨＭ　Ｎ　１ 口、ｉｌ　ＩＩ　ＨＮ　！！ 例３０ 例２８て一般的に述へた手順に従い、表１５に示す化合物を調製した。
表　１５ 表　１５（続き） Ｎ−３（Ｓ）−（ベンジルオキシカルボニル）アミノＮ−（３−メチルブチル） の製造。イソプロピルアルコール１４０ｍ１中Ｎ−ベンジルオキシカルボニル− ３（Ｓ）−アミノ−１，２−（Ｓ）−エポキシ−４−フェニルブタン２０ｇ（ロ アミリモル）の溶液をイソアミルアミン８３ｇ（９５２ミリモル）で処理し、１ 時間還流した。溶液を冷却し、濃縮し、ヘキサンを加え、生じた固体を濾過して 望む生成物２２．４ｇを得た。
Ｂ： Ｎ−３（Ｓ）−（ベンジルオキシカルボニル）アミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ− ４−フェニルブチルアミン、Ｎ−（３−メチルブチル）−Ｎ−（ｔ−ブチルオキ シカルボニル）の製造。テトラヒドロフラン２００ｍ１中上記Ａの部から得た生 成物２２．４ｇ（５８，３ミリモル）、トリエチルアミン６．４８ｇ（６４，１ ミリモル）およびＮ。
Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン１５０ｍｇの溶液へ０℃でＴＨＦ１０ｍｌ中 ジーｔ−ブチルピロカルボネート１２．７ｇ（５８，３ミリモル）を加えた。室 温で３．５時間後、揮発性物質を除去し、酢酸エチルを加え、５％クエン酸、飽 和Ｎａ）Ｉｃｅｓで洗浄し、乾燥し、濃縮して３０ｇの粗製生成物を得た。２０ ％酢酸エチル／ヘキサンを用いるシリカゲル上のクロマトグラフィーにより望む 生成物２２．５ｇ（７９％）を得た。
Ｃ： Ｎ−３（Ｓ）−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−アスパラギニルコアミノ −２（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニルブチルアミン、Ｎ−（３−メチルブチル ）−Ｎ−（ｔ−ブチルオキシカルボニル）の製造。エタノール２００ｍ１中上記 Ｂの部から得た生成物２２．５ｇの溶液を１０％パラジウム／炭素５．９ｇ上５ ０ボンド／平方インチゲージ圧の水素下で１時間水素化した。触媒を濾過し、溶 媒を減圧下で除去して１５．７　ｇの遊離アミンを得た。これをＤＭＦ　（１３ ０ｍ１）およびＮ−メチルモルホリン４．５４ｇ（４４，９ミリモル）に溶かし 、ＤＭＦ　１２０ｍ１中Ｎ−ベンジルオキシ−カルボニル−し−アスパラギン１ ３．３ｇ（４９，９ミリモル）、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール１１．５ｇ （７４，９ミリモル）およびＨＤＣｌｌｏ、５ｇ（５４，９ミリモル）からなる 混合物（添加の前１時間前以て活性化したもの）へ０℃で加えた。混合物を０° Ｃで２時間かきまぜ、次に室温で１２時間かきまぜた。反応物を飽和重炭酸ナト リウム水溶液１リツトル中に注ぎ、固体を集め、酢酸エチルに溶かし、水、飽和 重炭酸ナトリウム、５％クエン酸および塩水で洗浄し、乾燥し、濃縮して望む生 成物１６．７　ｇを得た。
Ｄ＝ Ｎ−３（Ｓ）−ＣＮ−（２−キノリニルカルボニル）−Ｌ−アスパラギニルコア ミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニルブチルアミン、Ｎ−（３−メチルブ チル）−Ｎ−（ｔ−ブチルオキシカルボニル）の製造。メタノール２５０ｍ１中 上記Ｃの部から得た生成物１６．７　ｇ（２８，０ミリモル）の溶液を１０％パ ラジウム／炭素６゜Ｏｇ上５０ボンド／平方インチゲージ圧の水素下で１時間水 素化した。触媒を濾過し、溶液を濃縮して１０．０ｇの遊離アミンを得た。これ を塩化メチレン１００ｍ１に溶かし、４．３５ｇ（４３ミリモル）のＮ−メチル モルホリンを加え、続いてキノリン−２−カルボン酸Ｎ−ヒドロキシスクシンイ ミドエステル５．５３ｇ（２０，５ミリモル）を加えた。これを室温で一晩かき まぜ、溶媒を除去し、酢酸エチルを加え、５％クエン酸、飽和重炭酸ナトリウム 、塩水で洗浄し、乾燥し、濃縮することにより１４ｇの粗製生成物を得た。酢酸 エチルおよびヘキサンからの再結晶により］、０．５ｇ（８３％）の望む生成物 を得た。
Ｅ： Ｎ−３（Ｓ）−（Ｎ−（２−キノリニルカルボニル）−Ｌ−アスパラギニルコア ミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニルブチルアミン、Ｎ−（３−メチルブ チル）の製造。ジオキサン中４Ｎ塩酸８０ｍ１へ上記りの部から得た生成物９． １７ｇ（１４，８ミリモル）を加えた。
１時間後、生成物はガム状となった。溶媒を除去し、ジエチルエーテルを加え、 そして除去し、残留物をメタノール２０ｍ１に溶かした。この溶液を飽和重炭酸 ナトリウム水溶液４００ｍ１へ加え、固体を集め、アセトンおよびヘキサンで洗 浄し、Ｐ２Ｏ５上真空で乾燥して４．７５　ｇの望む生成物を得た。
（Ｓ）−乳酸メチル、２−メトキシ−２−プロピルエーテルの製造。ＣＨｚＣ１ ２（１５０ｍｌ）中メチル（Ｓ）−（−）−ラフチー）　（１３，２ｇ、１００ ミリモル）および２−メトキシプロペン（２１，６ｇ、３００ミリモル）の混合 物へ室温でＰＯＣｌ３　（７滴）を加え、生じた混合物をこの温度で１６時間か きまぜた。Ｅｔ、Ｎ　（１０演）の添加後、溶媒を真空で除去して２０．０ｇ（ ９８％）の望む生成物を得た。
Ｂ　： ２（Ｓ）−ヒドロキシプロパナール、２−メトキシ−２−プロピルエーテルの製 造。ＣＨｔＣｌｔ　（１００ｍｌ）中への部から得た化合物（２０，０ｇ）の溶 液へ、Ｄ　Ｉ　ＢＡＬ（トルエン中１．５Ｍ溶液６５ｍ１．９７．５ミリモル） を−７８°Ｃで４５分間滴加し、次にかきまぜをこの温度で更に４５分続けた。
この冷溶液へＭｅＯＨ（２０■ｌ）、飽和ＮａＣ１溶液（１０ｍｌ）を加え、反 応混合物を室温まで」二昇させ、エーテル（２００ｍｌ）で希釈し、Ｍｇ５Ｏａ 　（１５０ｇ）を加え、更に２時間かきまぜた。混合物を濾過し、固体をゴーチ ルで２回洗浄した。合わせた濾液を回転蒸発させることにより１１．２ｇ（７８ ％）の望むアルデヒ２（Ｓ）−ヒドロキシ−ｃｉｓ−２−ブテン、２−メトキシ −２−プロピルエーテルの製造。ＴＨＦ（１２５ｍｌ）中具化エチルトリフェニ ルホスホニウム（２８ｇ、７５゜５ミリモル）の懸濁液へＫＮ（ＴＭＳ）！　（ １５，７ｇ、９５％、７５ミリモル）を０°Ｃで少しずつ加え、この温度で１時 間かきまぜた。この赤色反応混合物を一７８°Ｃに冷却し、これにＴＨＦ（２５ ｍｌ）中Ｂの部から得たアルデヒド（１１ｇ、７５ミリモル）の溶液を加えた。
この添加の終了後、生じた反応混合物を室温まで加温し、１６時間かきまぜた。
この混合物へ飽和ＮＨ４Ｃｌ　（７，５ｍｌ）を加え、一番上にシリカゲルの薄 い層をつけたセライトの詰め物に通して濾過した。固体をエーテルで２回洗浄し た。合わせた濾液を真空で濃縮して１１．５　ｇの粗製生成物を得た。粗製生成 物をフラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、１０：１ヘキサン／ＥｔＯＡ ｃ）により精製し８．２ｇ（６９％）の純粋なアルケンを得た。
Ｄ： ２（Ｓ）−ヒドロキシ−ｃｉｓ−３−ブテンの製造。Ｃの部から得たアルケン（ ８，２ｇ）と３０％酢酸水溶液（２５ｍｌ）との混合物を室温で１時間かきまぜ た。この混合物へｐＨ〜７までＮａＨＣｏ　３をゆっくり加え、次にエーテル（ １０ｍｌＸ５）で抽出した。合わせたエーテル溶液を乾燥しくＮａ２５Ｏａ）　 、濾過した。濾液を蒸留してエーテルを除去し２．８５ｇ（６４％）の純粋なア ルコール、ｍｌｅ　＝　８７　（Ｍ十Ｈ）を得た。
Ｅ： ２．２．３　（）−）ジメチル−４−ヘキセン（ｔｒａｎｓ）酸の製造。ＣＨｚ Ｃｌｘ　（６０ｍｌ）中りの部から得たアルコール（２，５ｇ、２９ミリモル） とピリジン（２，５ｍ１）との混合物へ塩化イソブチリル（３，１ｇ、２９ミリ モル）を０°Ｃで徐々に加えた。生じた混合物を室温で２時間かきまぜ、次にＨ ｚＯ（３０ｍｌｘ２）および飽和ＮａＣ１（２５１ｏｌ）で洗浄した。合わせた 有機相を乾燥しくＮａ２５Ｏａ）　、濃縮して４．２ｇ（９３％）のエステル２ （Ｓ）−ヒドロキシ−ｃｉｓ　−３−ブテニルイソブチレートを得た。このエス テルをＴＨＦ　（１０ｍ１）に溶がし、１．０Ｍ　ＬＤＡ溶液ＣＴＨＦ中２．０ Ｍ　ＬＤＡ溶液１３゜５ｍｌとＴＨＦ　１３．５ｍ１）　ヘ−７８°Ｃで徐々に 加えた。生じた混合物を室温まで温め、２時間かきまぜ、５％ＮａＯＨ（４０ｍ ｌ）で希釈した。有機相を分離し、水相をＥｔｉＯ（１００１１）で洗浄した。
水溶液を集め、６ＮＨＣＩでｐＨ〜３まて酸性にした。混合物をエーテル（３０ ｍｌＸ３）で抽出した。合わせたエーテル層を飽和ＮａＣ１（２５ｍｌ）で洗浄 し、乾燥し　（Ｎａ２ＳＯ４）　、濃縮して２．５ｇ（６０％）の望む酸、ｍｌ ｅ　＝　１５７　（Ｍ＋Ｈ）　、を得た。
Ｆ： ベンジル２，２．３　（Ｓ）−トリメチル−ｔｒａｎｓ　−４−ヘキセノエート の製造。アセトン（２０ｍｌ）中Ｅの部から得た酸（２，５ｇ、１６ミリモル） 　、ＢｎＢｒ　（２，７ｇ。
１５．８　ミリモル）　、ＫｚＣＯ＊　（２，２ｇ、１６ミリモル）、・　Ｎａ Ｉ　（２，４ｇ）からなる混合物を７５℃で１６時間加熱した（油浴）。アセト ンをストリッピングし去り、残留物をＨｘＯ（２５ｍｌ）およびエーテル（３５ ｍｌ）に溶かした。エーテル層を分離し、乾燥しくＮａｔＳＯｔ）　、濃縮して ３．７ｇ（９５％）のベンジルエステル、ｍｌｅ　＝　２４７（Ｍ十Ｈ）　、を 得た。
Ｇ： ベンジル２，２．３　（Ｒ）−）リメチルスクシネートの製造。にＭｎ０４（５ ，４ｇ、　３４．２ミリモル）、Ｈ２Ｏ（３４ｍｌ）　、ＣＨｘＣｌｔ　（６ｍ ｌ）および塩化ベンジルトリエチルアンモニウム（２００ｍｇ）からなるよくか きまぜた混合物へｃＨ，Ｃ１，（２８ｍｌ）中Ｆの部から得たエステル（２，１ ｇ、８．５４ミリモル）および酢酸（６ｍｌ）の溶液を０℃で徐々に加えた。生 じた混合物をこの温度で２時間、次に室温で１６時間かきまぜた。混合物を氷− 水浴中で冷却し、これに６　Ｎ　ＨＣＩ　（３ｍｌ）を加え、赤色が消えるまで 固体ＮａＨ３Ｏ５を少しずつ加えた。透明溶液をＣＨ，Ｃ１よ（３０ｍｌＸ３） で抽出した。合わせた抽出液を飽和ＮａＣ１溶液で洗浄し、乾燥しくＮａ２ＳＯ ２）　、濃縮して油状物を得た。この油状物をＥｔｚＯ（５０ｍｌ）に溶かし、 これに飽和ＮａＨＣＯ，（５０ｍｌ）を加えた。水層を分離し、６ＮＨＣＩでｐ Ｈ〜３まで酸性にし、次にＥｔｔＯ（３０ｍｌＸ　３　）で抽出した。合わせた 抽出液を飽和ＮａＣ１溶液（１５ｍｌ）で洗浄し、乾燥しくＮａ２ＳＯ２）　、 濃縮して７２５ｍｇ（３４％）の望む酸、ベンジル２，２．３　（Ｒ）−）リメ チルスクシネート、ｍ／　ｅ　＝　２５１　（Ｍ十Ｈ）　、を得た。
トリメチル−ブタンジアミドの製造 ＤＭＦ　（１，０ｍ１）中酸ベンジル２．２．３　（Ｒ）−トリメチルスクシネ ート（２２５ｍｇ、０．９ミリモル）のよくかきまぜた溶液へＨＯＢ　ｔ　（２ ３０ｍｇ、１．５ミリモル）を加えた。次にこの透明な反応混合物を０°Ｃに冷 却し、これにＥＤＣ（２１０ｍｇ、１．１ミリモル）を加え、この温度で１時間 かきまぜた。この冷混合物へ粉末（３５０ｍｇ、１．０ミリモル）およびＤＭＦ 　（０，５ｍ１）を加えた。生じた反応混合物を０°Ｃで２時間また室温で１６ 時間かきまぜた。ＤＭＦの除去後（５４０℃）、６０％飽和ＮａＨＣ０１の溶液 （１０ｍｌ）を加えた。この混合物をＥｔＯＡｃ　（１０ｍｌＸ　２　）で抽出 した。抽出液を合わせ、飽和ＮａＨＣＯｚ　（１０ｍｌＸ　２　）　、５％クエ ン酸（１０ｍｌｘ２）、Ｈ＊Ｏ（１０ｍ１）　、飽和ＮａＣ１（１０ｍｌ）で洗 浄し、乾燥しくＮａ＊５Ｏａ）　、次に濃縮して５１２ｍｇ（９８％）の望む生 成物ブタン酸、４−　（（３−（（（（１，Ｉ−ジメチルエチル）アミノコカル ボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメ チル）プロピルコアミノ）−２，２，３−トリメチル−４−オキソ、（ＩＳ−（ ＩＲ”　（３Ｓ”）、２Ｓ”））−ベンジルエステルを白色固体、ｍ／　ｅ　＝ 　５８２　（Ｍ十Ｈ）　、として０、８２５ミリモル）、ｌＯ％Ｐａ／Ｃ（４５ ０ｍｇ）の混合物を室温で１／２時間水素化した（Ｈ，，５０ボンド／平方イン チゲージ圧）。混合物を濾過し、固体をＭｅＯＨ（１０ｍｌ）で洗浄した。集め た濾液を濃縮して粗製の酸を白色固体として得た。粗製の酸をＥｔ２０−ＥｔＯ Ａｃ　（１０：１．２５ｍ１）に溶かし、溶液を飽和ＮａＨＣＯｓ　（２５ｍｌ ）で、次に５％ＮａＯＨ（Ｉ　Ｏｍｌ）で洗浄した。合わせた水層を０℃に冷却 し、濃ＨＣＩ（ＣＯりでｐＨ−１まで酸性にし、次にＥｔｔＯ−ＥｔＯＡｃ　（ １０：　１．２５ｍ１Ｘ３）で抽出した。合わせた抽出液を飽和ＮａＣ１（１５ ｍｌ）で洗浄し、乾燥しくＮａｚＳＯ４）　、濃縮して３０７ｎｇ（７５，７％ ）の純粋な酸、（ＩＳ−（］、Ｒ”　（３Ｓ”　）、２Ｓ”　））−４−（（３ −（（（（１，１−ジメチルエチル）アミノ）カルボニル〕　（３−メチルブチ ル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル〕アミノ）− ２，２゜３−トリメチル−４−オキソ−ブタン酸を白色固体、ｍ／ｅ＝４９１　 （Ｍ＋Ｈ）　、として得た。
Ｃ： （ＩＳ−（ＩＲ”　（３Ｓ”）、２Ｓ“））−４−〔〔３−〔〔〔（ｌ、１−ジ メチルエチル）了ミノ〕カルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒ ドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピルコアミノ〕−２，２，３−トリメチ ル−４−オキソ−ブタン酸、ｍ／ｅ＝４９１　（Ｍ＋Ｈ）　、白色固体。
ＤＭＦ　（０，５ｍ１）中酸１１（２４５ｍｇ、０．５ミリモル）のよくかきま ぜた溶液へ０°ＣてＨＯＢｔ（１５３ｍｇ、１．０ミリモル）およびＥＤＣ（１ ４３Ｂ、０．７５ミリモル）を加えた。０°Ｃで２時間かきまぜた後、ＮＨ，Ｏ Ｈ（２８％ＮＨ４０１（０，６３ｍｌ、５ミリモル）を加え、０°Ｃで２時間、 室温で１６時間かきまぜた。ＤＭＦを除去すると（５４０°Ｃ）白色固体か得ら れた。この粗製生成物をフラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、５％Ｍｅ ＯＨ／Ｃ１ｂＣ１ｔ）により精製し１７２ｍｇ（７０％）の純粋なアミド１２を 白色固体、ｍ／　ｅ　＝　４９１　（Ｍ＋Ｈ）　、としてメチル２，２−ジメチ ル−３−オキソブタノエートの製造。磁気攪拌捧とＮ２導入口を具えた２５０ｍ １丸底フラスコに１００ｍ１の乾燥ＴＨＦと４．５７ｇ（１８０ミリモル）の９ ５％ＮａＨを入れた。このスラリーを一２０℃に冷却し、１０ｇ（８７ミリモル ）のアセト酢酸メチルを液加し、続いて１１．３ｍ１（１８１ミリモル）のＣＨ Ｊ　Ｉを加えた。反応物を０°Ｃで２時間かきまぜ、−晩室温に冷却しておいた 。反応物を濾過してＮａ（を除き、１２５ｍ１のＥｔ２０で希釈した。有機相を ５％塩水（ＩＸｌｏｏｌ）で洗浄し、乾燥し、真空で濃縮して黒ずんだ黄金色の 油状物を得、これをヘキサンを用いてシリカゲルの３０ｇの詰め物に通して濾過 した。真空で濃縮し１０．０５ｇの望むメチルエステル、ｍ　／　ｅ　＝　？、 を淡黄色油状物として得た。このものはそれ以上精製しなくとも使用に適しメチ ル２．２−ジメチル−３−０−（）リフルオロメタンスルホネート）−３−ブテ ノエートの製造。磁気攪拌子およびＮ、導入口を具えた２５０ｍ１丸底フラスコ に８０４’の乾燥ＴＨＦを入れ、５．２５ｍ１（３７゜５ミリモル）のジイソプ ロピルアミンを加えた。溶液を一２５°Ｃに冷却しくドライアイス／エチレング リコール）、ヘキサン中２．５Ｍ　ｎｂｕＬｉ　１５ミリ　（３７，５ミリモル ）を加えた。１０分後乾燥ＴＨＦＢｍｌ中５ｇ（３５ミリモル）の１の溶液を加 えた。深黄色溶液を一２０℃で１０分かきまぜ、次に１２．４ｇ（３５ミリモル ）のＮ−フェニルビス（トリフルオロメタンスルホンイミド）を加えた。反応物 を一１０°Ｃて２時間かきまぜ、真空で濃縮し、ＥＡと飽和重炭酸塩との間に分 配した。合わせた有機相を重炭酸塩溶液、塩水で洗浄し、濃縮してこはく色の油 状物を得、これを５％ＥＡ／Ｈ３Ｏ０１を用いて６０ｇのシリカゲル詰め物に通 して濾過した。真空で濃縮して９．０ｇの淡黄色油状物を得、これを６５ｍ１の ＥＡで希釈し、５％に２ＣＯ＊水溶液（２Ｘ５０ｍｌ）、塩水（ＩＸｌｏｌ）で 洗浄し、Ｎａ、ＳＯ，上で乾燥し、真空で濃縮して７．５ｇ（８７％）のビニル トリフレート、ｍ／ｅ＝２７７（Ｍ十Ｈ）、を得た。この物質はそれ以上精製し なくとも使用に適していた。
Ｃ： メチル２，２−ジメチル−３−カルボキシル−３−ブ７．５ｇ（２７ミリモル） 、乾燥ＤＭＦ５０ｍｌ、トリフェニルホスフィン３６０ｍｇ（１，３７ミリモル ）およびＰｄ”（ＯＡｃ）２１５５　ｍｇ　（０，６９ミリモル）を入れた。反 応混合物をＮ２で２回掃気し、次に３０ボンド／平方インチのＣＯを入れた。こ の間に乾燥Ｄ　Ｍ　Ｆ　２０　ｍｌとＮＥｔｓ７．５６ｍ１（５４ミリモル）と の溶液を０°Ｃに冷却し、これに２．０ｇ（４３ミリモル）の９９％ギ酸を加え た。混合物を渦巻かせ、通気したＦｉｓｈｅｒ−Ｐｏｒｔｅｒ管に加えた。
反応容器に再び４０ボンド／平方インチのＣＯを入れ、室温で６時間かきまぜた 。反応混合物を真空で濃縮し、ＥＡ　１００１？１５％に、ＣＯ８水溶液７５ｍ １の間に分配した。
水相を更に］、　Ｘ　４０　Ｉ！のＥＡて洗浄し、濃ＨＣＩ／氷で酸性にした。
水相を２Ｘ７０ｆのＥＡて抽出し、有機相を乾燥し、濃縮して３．５ｇ（７５％ ）の白色結晶、融点７２〜７５°Ｃを得た。このものは望む生成物であることが 同定された、ｍ／　ｅ　＝　１７３　（Ｍ十Ｈ）。
Ｄ： メチル２．２−ジメチル−３−メチルスクシネート、異性体＃１の製造。鋼製の 水素化容器にガス抜きしたＭｅＯＨ１０ｍｌｌテアクリル酸３．５１０ｍｇ　（ ３，０ミリモル）と６ｍｇのＲｕ（ａｃａｃ）ｚ（Ｒ−Ｂ［ＮＡＰ）を入れた。
反応物を５０ボンド／平方インチ、室温で１２時間水素化した。次に反応物をセ ライトに通して濾過し、濃縮して５００ｍｇの透明な油状物を得た。このものは ５０Ｍβ−シクロデキストリンカラムを用いるＧＣ分析により測定したところ異 性体＃１と＃２のそれぞれ９３ニアの混合物であることか示されたく１５０℃− １５分、次に傾斜２℃／分：異性体＃ｌ、！７．８５分、異性体＃２．１８−２ ０メチル２，２−ジメチル−３−メチルスクシネート、異性体＃２の製造。鋼製 水素化容器に１０ｍ１のガス抜きＭｅＯＨ中アクリアクリル酸５００ｍｇ　（２ ，９ミリモル）およびＲｕ（ＯＡｃ）（ａｃａｃ）（Ｓ−ＢＩＮＡＰ）　６　ｍ ｇを入れた。反応物を５０ボンド／平方インチ、室温で１０時間水素化した。反 応物をセライトに通して濾過し、真空で濃縮して４９０ｍｇの生成物を異性体＃ ｌと＃２とのそれぞれｌ：９９の混合物（上記キラルＧＣにより測定）として得 た。
メタノール８０７ｍ１とテトラヒドロフラン８０７ｍ１との混合物中７５．０　 ｇ　（０，２２６モル）のＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−フェニルアラニ ンクロロメチルケトンの溶液へ一２℃で１３．１７ｇ（０，３４８モル、１．５ ４当量）の固体水素化ホウ素ナトリウムを１００分間にわたり加えた。溶媒を４ ０°Ｃて減圧下に除去し、残留物を酢酸エチル（約Ｉｆ）に溶かした。この溶液 を１Ｍ硫酸水素カリウム、飽和重炭酸ナトリウム、次に飽和塩化ナトリウム溶液 で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥し濾過した後、溶媒を減圧下で 除去した。生じた油状物ヘヘキサン（約Ｉｆ）を加え、混合物を渦巻かせなから ６０°Ｃに加温した。室温まで冷却後、固体を集め、ヘキサン２１で洗浄した。
生じた固体を熱酢酸エチルとへキサンから再結晶して３２．３ｇ（収率４３％） のＮ−ベンジルオキシカルボニル−３（Ｓ）−アミノ−１−クロロ−４−フェニ ル−２（Ｓ）−ブタノール、融点１５０〜１５１℃、Ｍ＋Ｌｉ”＝３４０、を得 た。
Ｂ： 無水エタノール９６８ｍ１中水酸化カリウム６、５２　ｇ（０，１１６モル、１ ．２当量）の溶液へ室温で３２．３　ｇ（０，０９７モル）のＮ−ＣＢＺ−３（ Ｓ）−アミノ−１−クロロ−４−フェニル−２（Ｓ）−ブタノールを加えた。１ ５分かきまぜた後、溶媒を減圧下で除去し１、固体を塩化メチレンに溶かした。
水洗し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、ストリッピングの後、２７．９ ｇの白色固体を得た。熱酢酸エチルとヘキサンから再結晶することにより２２． ３ｇ（収率７７％）のＮ−ベンジルオキシカルボニル−３（Ｓ）−アミノ−１， ２（Ｓ）−エポキシ−４−フェニルブタン、融点１０２〜１０３℃、ＭＨ”２９ ８、を得た。
イソプロピルアルコール１５０ｍ１中Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３（Ｓ） −アミノ−１，２−（Ｓ）−エポキシ−４−フェニルブタン（３０゜１ｇ、０ｏ １０モル）およびイソアミルアミン１６５ｍ１の溶液を２．５時間還流加熱した 。溶液を室温まで冷却し、真空で濃縮し、次に再結晶した。生成物を濾別しく酢 酸エチル／ヘキサンから）３１．７ｇ（８１％）のＮ　（３（Ｓ）−ベンジルオ キシカルボニルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニルブチル〕Ｎ−イソ アミルアミンを得た。
Ｄ＝ テトラヒドロフラン１０ｍ１中Ｎ　（３（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミ ノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−４−フェニルブチル〕、Ｎ−イソアミルアミンの溶 液を室温においてｔｅｒｔ−ブチルイソシアネート（２６７ｍｇ、２．７０ミリ モル）で５分処理した。溶媒を真空で除去し、酢酸エチルで置換した。酢酸エチ ル溶液を５％クエン酸、水、および塩水で洗浄し、無水ＭｇＳＯ４上で乾燥し、 濾過し、真空で濃縮して１．１９ｇ（９７％）のＮ−ベンジルオキシカルボニル −３−（（（（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチル ブチル）アミノ）−２（Ｒ）−ヒドロキシ−１（Ｓ）　−（フェニルメチル）プ ロピルアミン、ＭＨ“　ｍ／ｚ＝４７０、を得た。
メタノール１００ｍ１中りの部から得られた生成物（３７，３ｇ、７７ミリモル ）の溶液をｌＯ％パラジウム／炭塩化メチレン２ｍｌ中±　１０２ｍｇ（０，２ ９ミリモル）およびピリジン７０ｍｇ　（０，８９ミリモル）の溶液へ無水コハ ク酸２９ｍｇ（０，２９ミリモル）を加えた。２時間後、酢酸エチルを加え、次 に飽和ＮａＨＣＯで抽出した。水層を酸性にし、再び酢酸エチルで抽出し、飽和 塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、真空で濃縮することによ り、７８ｍｇ（６０％）の（ＩＳ−（ＩＲ’、２Ｓ”１−４−　（（３−（Ｍ（ １，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノ コ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル〕−アミノー４−オキソ ブタン酸を得た。
Ｂ： これをＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド中でＥＤＣおよびＮ−ヒドロキシベンゾト リアゾールにより活性化し、次にアンモニアと反応させて望む最終化合物をつく った。
例３６ テトラヒドロフラン／水５０：５０　（ｖ：ｖ）１００ｍｌ中ｔ　ｒａｎｓ−ジ エチル１，２−シクロプロパンジカルボキシレート４．６０　ｇ　（２４，７ミ リモル）の溶液へ水酸化リチウム１．２４　ｇ　（２９，６ミリモル）を加えた 。１７時間後、テトラヒドロフランを真空で除き、水層を酢酸エチルで洗浄し、 ＩＮ塩酸で酸性にし、再び酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥し、ストリッピ ングして２．１ｇの粗製生成物を得た。ジエチルエーテル／ヘキサンから、次に 塩化メチレン／ヘキサンからの再結晶の後で１．１ｇ（２８％）のｔｒａｎｓ− モノエチル１，２−シクロプロパンジカルボキシレート、ｍ／　ｅ　＝　１．５ ９　（Ｍ十Ｈ）　、を無水Ｎ、Ｎ−ジエチルホルムアミド（Ｄ　Ｍ　Ｆ　）　３ 　ｍｌ中ｔｒａｎｓ−モノエチル１，２−シクロプロパンジカルボキシレート２ ９７ｍｇ（１，８７ミリモル）およびＮ−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯ ＢＴ）４２９ｍｇ（２，８ミリミル）の溶液へ、０℃で３９４ｍｇ（２，０ミリ モル）の１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸 塩（ＥＤＣ）を加えた。３０分後、ＤＭＦ２ｍｌ中±　５９１ｍｇ（１，７ミリ モル）の溶液およびＮ−メチルモルホリン（ＮＭＭ）　１７１　ｍｇ　（１，６ ９ミリモル）を加えた。０°Ｃで２時間後、反応物を室温で一晩かきまぜ、水に 注ぎ、酢酸エチルで抽出し、水、５％クエン酸水溶液、飽和ＮａＨＣＯｓ、飽和 塩水で洗浄し、乾燥し、ストリッピングすると７７１ｍｇの粗製生成物が得られ た。
これを５〜２０％のメタノール／塩化メチレンを用いるシリカゲル上のクロマト グラフィーにかけ６７０ｍｇ（８０％）の２−（［：（３−（（１：（１，１− ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２− ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル〕アミノ〕カルボニル〕−シクロ プロパンカルボン酸エチルエステル、ｍ／ｅ＝４９０　（Ｍ＋Ｈ）　、を得た。
Ｃ： ５０　：　５０ＴＨＦ／水５ｍｌ中Ｂの部から得られた生成物６５８ｍｇ（１， ３２ミリモル）の溶液へ水酸化リチウム６６ｍｇ　（１，５８ミリモル）を加え た。１９時間後、ＴＨＥを真空で除去し、水相を酢酸エチルで洗浄し、酸性にし 、再び酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥し、ストリッピングして３２８ｍｇ （５４％）の相当する酸、ｍ／ｅ＝４６２　（Ｍ＋Ｈ）　、を得た。
Ｄ： ＤＭＦ２．２ｍｉ中Ｃの部から得られた生成物３０４ｍｇ（０，６６ミリモル） 、ＨｏＢＴ１５１ｍｇ（０，９９ミリモル）の溶液へ０°ＣてＥＤＣＩ　１３９ ｍｇ（０，７３ミリモル）を加えた。０℃て３０分後、１．１ｍｌの濃アンモニ ア水溶液を加えた。０°Ｃで２時間、室温で２０時間かきまぜた後、反応物を飽 和塩水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。飽和ＮａＨＣＯ＊、飽和塩水で洗浄し 、乾燥し、ストリッピングの後、１４１ｍｇの粗製生成物を得た。これを１〜５ ％メタノール／塩化メチレンを用いてシリカゲル上でクロマトグラフィーにかけ ４０ｍｇ（１３％）の望む最終生成物、ｍ／ｅ＝５６１　（Ｍ＋Ｈ）　、を得た 。
ＤＭＦ１ｍｌ中フマル酸モノエチルエステル１３７ｍｇ（０，９５ミリモル）の 溶液へ０℃で１８３ｍｇ（０，９５ミリモル）のＥＤＣ１を加えた。１５分後、 ＤＭＦ１ｍ！中１　３３３ｍｇ（０，９５ミリモル）の溶液を加え、反応物を室 温で１４時間かきまぜた。酢酸エチルを加え、飽和塩水、０．２Ｎ　ＨＣｌ、飽 和ＮａＨＣＯ−で抽出し、乾燥し、ストリッピングすることにより０．３２　ｇ の粗製生成物を得た。０〜５０％酢酸エチル／ヘキサンを用いるシリカゲル上の クロマトグラフィーにより０．２６ｇ（５８％）の（ＩＳ−（ＩＲ”、２Ｓ”　 ））−４−（（３−（（（（１゜１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　 （３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロ ピル〕アミノ〕−４−オキソ−２−ブテン酸エチルエステル、ｍ／　ｅ　＝　４ ７６　（Ｍ＋Ｈ）　、を得た。
Ｂ。
５０　：　５０ＴＨＦ／水３ｍｌ中Ａ（７）部から得られた生成物２６．６ｍｇ 　（０，５６ミリモル）の溶液へ水酸化リチウム３４ｍｇ（０，８２ミリモル） を加え、反応物を室温で１時間かきまぜた。ＴＨＦを真空で除き、水層をＩＮＩ （ＣＩで酸性にし、酢酸エチルで抽出した。有機層を塩水で洗浄し、乾燥し、ス トリッピングして２３３ｍｇ（９３％）の（Ｉｓ−ＩＲ′″、　２Ｓ’）　−４ −（（３−（（Ｃ（１゜１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メ チルブチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル〕ア ミノ〕−４−オギソー２−　ｔｒａｎｓ−２−ブテン酸、ｍ／ｅ＝４４８　（Ｍ ＋Ｈ）　、を得た。
旦二 ＤＭＦｌ［１１１中Ｂの部から得た生成物２２５ｍｇ（０，５０ミリモル）の溶 液へ９５ｍｇ　（０，５０ミリモル）のＥＤＣｌを加えた。室温で１５分後、０ ．５０　ｍｌの濃アンモニア水溶液を加え、反応物を１５時間かきまぜた。酢酸 エチルを加え、０．２Ｎ　ＨＣＩ、塩水で洗浄し、乾燥し、ストリッピングする ことにより１７０ｏ＋Ｈの粗製生成物を得た。
０〜４０％メタノール／塩化メチレンを用いるシリカゲル上のクロマトグラフィ ーの後、５０ｍｇ（２２％）の（ＩＳ−（ＩＲ”、２Ｓ”）−Ｎ−（３−（（（ （１゜ｌ−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）アミ ノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル）　−ｔｒａｎｓ　− ３−ブテンジアミド、ｍ／ｅ＝４４７　（Ｍ＋Ｈ）　、を得た。
例３８ （ＩＳ−（ＩＲ”　（２Ｓ”　）、２Ｓ”　）−Ｎ−（３−（（（（１，１−ジ メチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒ ドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル〕−２−メチルーブタ無水トルエン １００ｍ１中イタコン酸無水物２４．７ｇ（０，２２モル）の懸濁液へ、窒素下 で還流させなから２３．９ｇ（０，２２モル）のベンジルアルコールを３０分に わたり液加した。不溶物質は溶けて均一な溶液を与えた。
これを１．５時間還流し、溶液を室温まで冷却し、次に氷浴で冷却した。生じた 白色沈殿を濾葉し４−ベンジルイタコネート２４．８ｇ（５１％）を得た。
塩化メチレン１２ｍ１中Ａの部から得た生成物２．１３　ｇ（９，５ミリモル） の溶液へ０°Ｃでバラ−メトキシベンジルアルコール４．０２ｇ（２９，１ミリ モル）、Ｎ、Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン６０５ｍｇ（４，９５ミリモル ）、Ｎ、Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン塩酸塩１２８ｍｇ１次にジシクロへ キシルカルボジイミド（ＤＣＣ）　２．０２ｇ　（４，７ミリモル）を加えた。
０°Ｃで１時間、次に室温で２時間かきまぜた後、沈殿を集めて捨てた。
濾液を０．５　Ｎ　ＨＣＩ、飽和ＮａＨＣＯｓで洗浄し、乾燥し、ストリッピン グして４．７６　ｇの粗製生成物を得た。このものを０〜５０％酢酸エチル／ヘ キサンを用いてシリカゲル上でクロマトグラフィーにかけ１．２４　ｇの純粋な ４′−メトキシベンジル−４−ベンジルイタコネート、ＭＨ”ｍ／ｚ＝　、を得 た。
Ｃ： メタノール３０ｍ１中Ｂの部からの生成物１．２４ｇ（３゜６５ミリモル）およ び（（Ｒ，Ｒ）−Ｄｉｐａｍｐ）シクロオクタジェニルロジウムコテトラフルオ ロボレート２０ｍｇの溶液を十分にガス抜きし、窒素で掃気し、次に水素で掃気 し、次に５０ボンド／平方インチゲージ圧の水素下で１５時間かきまぜた。溶液 を濾過し、ストリッピングし、塩化メチレンに溶かし、飽和ＮａＨＣＯｓで洗浄 し、乾燥し、ストリッピングして０．９９　ｇの褐色油状物を得た。
次にこのものを４０ｍ１の塩化メチレンに溶かし、トリフルオロ酢酸３ｍｌを加 え、溶液を室温で３．５時間かきまぜた。水を加え、分離し、有機層を飽和Ｎａ ＨＣＯ，で抽出した。
水層を酸性にし、再び酢酸エチルで抽出し、分離し、有機層を塩水で洗浄し、乾 燥し、ストリッピングすることにより３２０ｍｇ（５０％）の２（Ｒ）−メチル −４−ベンジルコハク酸を得た。
Ｄ： ＤＭＦ中Ｃの部から得られた生成物３２０ｍｇ（１，４４ミリモル）およびＨｏ ＢＴ３１４Ｂ（２，０５ミリモル）の溶液へ０℃でＥＤＣＩ　３０３ｍｇ（１， ５８ミリモル）７ｍｇ　（１，３４ミリモル）の溶液を加えた。０℃で１時間、 室温で１４時間かきまぜた後、酢酸エチルを加え、飽和ＮａＨＣＯｓ、５％クエ ン酸水溶液で洗浄し、乾燥し、ストリッピングして０．９７　ｇの粗製生成物を 得た。このものを０〜ｌＯ％酢酸エチル／ヘキサンを用いてシリカゲル上でクロ マトグラフィーにかけ、４２０ｍｇの純粋な（Ｉｓ−（ＩＲ”　（３３”　）、 ２Ｓ”　）−４−（（３−（Ｍ（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル 〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル） プロピル〕アミノ〕−３−メチル−４−オキソブタン酸ベンジルエステルを得た 。
旦二 メタノール１５ｍ１中りの部から得た生成物１５０ｍｇ（０，２７ミリモル）の 溶液を１０％パラジウム／炭素上５０ボンド／平方インチゲージ圧の水素下で１ ７時間水素化した。反応物を濾過し、ストリッピングして１２５ｍｇ（１００％ ）　（７）　（Ｉｓ　−（ＩＲ”　（３Ｓ”　）、２Ｓ”　）−４−（（３−Ｃ （（（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル） アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル〕アミノ〕−３− メチル−４−オキツブタン酸を得た。
ＤＭＦ５ｍｌ中Ｅの部から得た生成物１２５ｍｇ（０，２７ミリモル）およびＨ ｏ　ＢＴ　６５ｍｇ　（０，４２ミリモル）の溶液へ０°Ｃで５９ｍｇ　（０， ３１ミリモル）のＥＤＣ１を加えた。０°Ｃで３０分後、１ａ＋１の濃アンモニ ア水溶液を加えた。０°Ｃで２時間そして室温で１５時間かきまぜた後、酢酸エ チルを加え、飽和ＮａＨＣＯｓ、５％クエン酸水溶液で洗浄し、乾燥し、ストリ ッピングして９０ｍｇの粗製生成物を得た。これを酢酸エチル／ヘキサンから再 結晶することにより４０ｍｇ（３２％）の純粋な（ＩＳ−（ＩＲ”（２Ｓ”）、 ２Ｓ”）−Ｎ−（３−（（（（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕 　（３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プ ロピル〕アミノ〕−２−メチルブタンジアミドをメタノール２０ｍ１中４′−メ トキシベンジル４−ベンジルイタコネート１．４１　ｇ　（４，１ミリモル）お よび（（Ｓ、Ｓ−Ｄｉｐａｍｐ）シクロオクタジェニルロジウムコテトラフルオ ロポレート２５ｍｇの溶液を十分よくガス抜きし、窒素で、次に水素で掃気し、 次に４０ボンド／平方インチゲージ圧の水素下で７２時間かきまぜた。溶液を濾 過し、濃縮して１．３４　ｇの褐色油状物を得た。これを塩化メチレン４０ｍ１ に溶かし、３＋ｎｌのトリフルオロ酢酸を加えた。４時間かきまぜた後、水を加 え、分離し、存機層を飽和ＮａＨＣＯ，で抽出し、水層を分離し、再び酸性にし 、酢酸エチルで抽出した。これを分離し、塩水で洗浄し、乾燥し、ストリッピン グすることにより４４０ｍｇの２（Ｓ）−メチル−４−ベンジルコハク酸を得た 。
Ｂ： ＤＭＦ９ｍｌ中Ａの部からの生成物４４０ｍｇ（１，９８ミリモル）およびＨｏ ＢＴ４３７Ｂ（２，８６ミリモル）の溶液へ０°Ｃで４２７ｍｇ（２，２３ミリ モル）のＥＤＣ１を加えた。０°Ｃで３０分後、ＤＭＦ３ｍｌ中１　６５３ｍｇ （１，８７ミリモル）の溶液を加えた。０°Ｃで１時間また室温で１５時間後に 酢酸エチルを加え、飽和ＮａＨＣＯｓ、　５％クエン酸水溶液で抽出し、乾燥し 、濃縮して０．９８　ｇの粗製生成物を得た。０〜１０％酢酸エチルを用いるシ リカゲル上のクロマトグラフィーにより６１０ｍｇ（５９％）の純粋な（ＩＳ− （ＩＲ”　（３Ｒ”　）、２Ｓ”　）−４−（（３−（（（（１，ｌ−ジメチル エチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒドロキ シ−１−（フェニルメチル）プロピル〕アミノ〕−３−メチル−４−オキソブタ ン酸ベンジルエステルを得た。
Ｃ・ メタノール２０ｍ１中Ｂの部から得られた生成物３ＩＯｍｇ（０，５６ミリモル ）の溶液を１０％パラジウム／炭素２０ｍｇ上５０ボンド／平方インチゲージ圧 の水素下で１９時間水素化した。溶液を濾過し、濃縮して２２０ｍｇ（８５％） の（ＩＳ−（ＩＲ”　（３Ｒ”　）、　２Ｓ”　）　−４−Ｍ３−　（（〔（１ ，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ −２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル〕アミン〕−３−メチル− ４−オキソブタン酸を得た。
Ｄ＝ ＤＭＦ５ｍｌ中Ｃの部から得られた生成物１９０ｍｇ（０゜４１ミリモル）およ びＨｏ　ＢＴ　９０ｍｇ　（０，５８ミリモル）の溶液へ０°Ｃで８８ｍｇ　（ ０，４６ミリモル）のＥＤＣｌを加えた。０℃で３０分後、２ｍｌの濃アンモニ ア水溶液を加えた。０℃で１時間、室温で１５時間後、酢酸エチルを加え、飽和 ＮａＨＣＯｓ、５％クエン酸水溶液で洗浄し、乾燥し、濃縮して粗製生成物を得 た。酢酸エチル／ヘキサンから再結晶することにより２０ｍｇ（１１％）の〔ｌ Ｓ−（ＩＲ”　（２Ｒ”　）、２Ｓ”）−Ｎ−（３−ＣＭ（１，１−ジメチルエ チル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒドロキシ −１−（フェニルメチル）プロピル〕−２−メチルブタン（ＩＲ”　（３Ｓ”） 、２Ｓ”　〕　−Ｎ−（３−（（（（１゜上で用いた手順と同様にしてｐ−メト キシベンジルアルコールを還流トルエン中でイタコン酸無水物と反応させ４−（ ｐ−メトキシベンジル）イタコネートを得た。
Ｂ： トルエン１７ｍ１中Ａの部から得られた生成物３．３０　ｇ（１３，２ミリモル ）の溶液へ２．０８ｇ（１３，７ミリモル）の１．８−ジアザビシクロ（５，４ ０）−７−ウンデセンを、次に２゜３５ｇＧ１３．７ミリモル）の臭化ベンジル を加えた。２時間後溶液を濾過し、濾液を飽和ＮａＨＣＯｓ。
３ＮＨＣ１，塩水で洗浄し、乾燥し、濃縮して３．１２ｇの油状物を得た。０− ５％酢酸エチル／ヘキサンを用いるシリカゲル上のクロマトグラフィーの後２． １９ｇ（４９％）の４−（４−メトキシベンジル）イタコン酸ペンメタノール１ ５ｍ１中Ｂの部から得られた生成物１．２２ｇ（３，６ミリモル）およびＣ（（ Ｒ，Ｒ−Ｄｉｐａｍｐ）　）シクロオクタジェニルロジウムコテトラフルオロボ レート１５０ｍｇの溶液を十分にガス抜きし、窒素で次に水素で掃気し、５０ボ ンド／平方インチゲージ圧下で１６時間水素下した。溶液を濾過し、濃縮して１ ．２ｇの褐色油状物を得た。これを塩化メチレン５ｍｌおよびトルエン５ｍｌに 溶かし、トリフルオロ酢酸３ｍｌを加えた。４時間後溶媒を真空で除き、残留物 を塩化メチレンに溶かし、次にこれを飽和ＮａＨＣＯｓで抽出した。分離後、水 層を酸性にし、再び塩化メチレンで抽出し、次にこれを乾燥し、濃縮することに より４７０ｍｇ（６０％）の３（Ｒ）−メチル−４−ベンジルコハク酸を得た。
Ｄ： ＤＭＦ５ｍｌ中Ｃの部から得られた生成物４７０ｍｇ　（２゜１１ミリモル）お よびＨｏＢＴ４６３ｍｇ（３，０３ミリモル）の溶液へ０℃で４５１ｍｇ（２， ３５ミリモル）のＥＤＣｌを加えた。０°Ｃで３０分後、ＤＭＦ３ｍｌ中１７２ ８ｍｇ（２，０８ミリモル）の溶液を加えた。０°Ｃで１時間また室温で１５時 間かきまぜた後、酢酸エチルを加え、飽和ＮａＨＣＯｓ、５％クエン酸水溶液、 塩水で抽出し、乾燥し、濃縮して９３０ｍｇの粗製生成物を得た。０〜１０％酢 酸エチル／ヘキサンを用いるシリカゲル上のクロマトグラフィーにより、５７０ ｍｇ（５０％）の（ｉｓ−（ＩＲ”　（２Ｓ”）、２Ｓ”）−４−（（３−（Ｃ （（１゜１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチルブチル）ア ミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル〕アミノ〕−２−メ チル−４−オキソブタン酸ベンジルエステルを得た。
この生成物をメタノール中１０％パラジウム／炭素を用いて４０ボンド／平方イ ンチゲージ圧の水素下で水素化することにより（Ｉ　Ｓ−（ＩＲ”　（２Ｓ”　 ）、２Ｓ”　）−４−（（３−ＣＭ（１，１−ジメチルエチル）アミン〕カルボ ニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチ ル）プロピル〕アミノ〕−２−メチル−４−オキツブタン酸を得た。
Ｆ： ＤＭＦ３ｍｌ中Ｅの部から得られた生成物４２７ｍｇ　（０゜９２ミリモル）お よび２１０ｍｇ（１，３７ミリモル）のＨｏＢＴの溶液へＯ″ＣでＥＤＣ１１９ ６ｍｇ（１，０２ミリモル）を加えた。０℃で３０分後、２ｍｌの濃アンモニア 水溶液を加えた。０°Ｃで１時間また室温で１５時間後酢酸エチルを加え、次に 飽和ＮａＨＣＯｔ、塩水で抽出し、乾燥し、濃縮して粗製生成物を得た。酢酸エ チル／ヘキサンから再結晶することにより５０ｍｇ（１２％）の〔ｌ５−（ＩＲ ”　（３Ｓ”　）、２Ｓ”　）−Ｎ−（３−（［（（１゜１−ジメチルエチル） アミノコカルボニル）　（３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１− （フェニルメチル）プロピルツー３−メチルブタンジアミドを得た。
この化合物は前の例と同一の方法で、ただし不斉水素化段階を（（（Ｓ、Ｓ−Ｄ ｉｐａｍｐ）シクロオクタジェニル）ロジウム〕−テトラフルオロボレートの存 在下で行（ＩＳ−（ＩＲ”　（２Ｓ”、３Ｒ”）、２Ｓ”））およりＭＦ７ｍｌ 中メソ−２，３−ジメチルコハク酸８６３ｍｇ（５，９１ミリモル）の溶液へ室 温で１．１３ｇ（５，９１ミリモル）のＥＤＣ１を加えた。１５分後、無水塩化 メチレン７ｍｌ中１　２．０７ｇ（５，９１ミリモル）およびピリジン１．４　 ｍｌの溶液を加えた。１１時間後酢酸エチルを加え、０．２Ｎ　ＭＣＩ、塩水で 洗浄し、乾燥し、濃縮して２．７３ｇ（９７％）のジアステレオマー酸の１：１ 混合物を得た。
Ｂニ ーＤＭＦ　Ｉ　Ｏｍｌｍｌ中部から得た１：ｌ混合物１．４５　ｇ（３，０４ミ リモル）およびＨｏＢＴ６１３ｍｇ（４，５１ミリモル）の溶液へ０°Ｃで６３ ５Ｂ（３，３１ミリモル）のＥＤＣＩを加えた。０°Ｃで３０分後、５ｍｌの濃 アンモニア水溶液を加えた。０°Ｃで１時間また室温で１４時間の後酢酸エチル を加え、０．２ＮＨＣ１、飽和ＮａＨＣＯｓ、塩水で洗浄し、乾燥し、濃縮して ０．６４ｇ（４４％）のアミドのｌ：１混合物を得た。
これらを８％〜１４％イソプロパツール／塩化メチレンを用いてＷｈａｔｍａｎ 　１０ミクロンバーチシルカラムで分離した。溶離される最初の異性体は（ＩＳ −（ＩＲ”（２Ｒ”、３Ｓ”）、２Ｓ”）−Ｎ−（３−（（Ｃ（１゜１−ジメチ ルエチル）アミノコカルボニル〕　（３−メチ・　ルブチル）アミノコ−２−ヒ ドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピルツーブタンジアミド、ｍ／ｅ＝４７ ７（Ｍ＋Ｈ）　、として同定された。
溶離される二番目の異性体は（ＩＳ−（ＩＲ”　（２Ｓ”　。
３Ｒ”）、２Ｓ”）−Ｎ−（３−（Ｍ（１，１−ジメチルエチル）アミノコカル ボニル〕　（３−メチルブチル）アミノコ−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメ チル）プロピルツーブタンジアミド、ｍ／ｅ＝４７７（Ｍ＋Ｈ）、として同定さ れた。
塩化メチレン２ｍｌ中±　２３２ｍｇ（０，６６ミリモル）およびピリジン９８ ｍｇ　（１，２ミリモル）の溶液へ９５ｍｇ（０，６６ミリモル）の３，３−ジ メチルグルタル酸無水物を室温で加えた。１５時間後酢酸エチルを加え、ｌＮＨ Ｃｌ　、塩水で洗浄し、乾燥し、濃縮して粗製生成物２６１ｍｇを得た。５〜２ ０％メタノール／塩化メチレンを用いるシリカゲル上でのクロマトグラフィーに より１０８ｍｇの酸、ｍ／　ｅ　＝　４９２　（Ｍ＋Ｈ）　、を得た。
ＤＭＦｏ、５ｍｌｍｌ中部からの生成物９２ｍｇ　（０，１９ミリモル）および Ｈｏ　ＢＴ　３８ｍｇ　（０，２８ミリモル）の溶液へ０°Ｃで３６ｍｇ　（０ ，１９ミリモル）のＥＤＣ１を加えた。０°Ｃで３０分後、０．２５　ｍｌの濃 アンモニア水溶液を加えた。０°Ｃて１時間また室温で１６時間の後、酢酸エチ ルを加え、０．２ＮＨＣ１、飽和ＮａＨＣＯｚ、塩水で洗浄し、乾燥し、濃縮し て７２ｍｇの粗製生成物を得た。このものをｌＯ％メタノール／塩化メチレンを 用いて塩基性アルミナの１インチカラムに通過させ５３ｍｇの望む生成物、ｍ／ 　ｅ　＝　４９１　（Ｍ＋Ｈ）を得た。
および およびピリジン１．４　ｍｌの溶液へ室温で２．２−ジメチルコハク酸無水物５ ３８ｍｇ（４，２０ミリモル）を加えた。
１５時間後酢酸エチルを加え、０．２Ｎ）ＩｃＩ、塩水で洗浄し、乾燥し、濃縮 して１．８７　ｇの粗製生成物（約３＝ｌの異性体混合物）を得た。
ＤＭＦＩＯｍｌ中Ａの部から得た粗製生成物ｌ、８５ｇ（３，９ミリモル）およ びＨｏ　ＢＴ　８８７ｍｇ　（５，８ミリモル）の溶液へ０℃で８０９ｍｇ　（ ４，２ミリモル）のＥＤＣｌを加えた。０℃で３０分後、６ｍｌの濃アンモニア 水溶液を加えた。０°Ｃで１時間そして室温で１５時間の後、酢酸エチルを加え 、０．２ＮＨＣＩ、飽和ＮａＨＣＯ＊、塩水で洗浄し、乾燥し、濃縮して９２３ ｍｇの粗製生成物を得た。
８〜１４％イソプロパツール／塩化メチレンを使用してＷｈａｔｍａｎ　Ｐａｒ ｔｉｓｉｌ　５カラムで二つの異性体を分離した。
主要な異性体は異性体＃１、ｍ／　ｅ　＝　４７７　（Ｍ＋Ｈ）として同定され た。
少量の異性体は異性体＃２、ｍ／ｅ＝４７７　（Ｍ＋Ｈ）として同定された。
例４５ 本例はヒドロキシル基についての立体化学が（Ｓ）である化合物をつくるために 用いる手順を例示するものでイソプロピルアルコール１０ｍｌ中３　（Ｓ）　− （１，１−ジメチルエトキシカルボニル）アミノ−１，２−（Ｒ）−エポキシ４ −７　エニルブタ：ｚ（１，００ｇ、３゜８０ミリモル）およびイソブチルアミ ン（５，５５ｇ、フロミリモル、２０当量）の溶液を６０″Ｃに１時間加温した 。溶液を室温まで冷却し、真空で濃縮し、残留物をヘキサン／塩化メチレンから 再結晶して０．９３ｇ（７３％）の（２（Ｓ）　、　３　（Ｓ）　−Ｎ−Ｃ（（ ３−（（１゜１−ジメチルエチル）カルバモイルコアミノ））−２−ヒドロキシ −４−フェニルブチル）Ｎ−Ｃ（３−メチルブチル）〕アミン、融点９１．３〜 ９３．０　’Ｃ１を得た。
Ａの部から得た生成物（４６，３ｍｇ、　０．１４ミリモル）をテトラヒドロフ ラン５ｍｌと塩化メチレン２ｍｌとの混合物に溶かし、注射器からｔｅｒｔ−ブ チルイソシアネート（１３６，４ｍｇ、　１．３７６ミリモル）で処理した。溶 液を室温で０．５時間かきまぜ、次に溶媒を真空で除いた。この生成物は５ｉｎ ２、ヘキサン：酢酸エチル１：ｌ、のＴＬＣでＲｆ＝０．７４を示し、それ以上 精製せずに次の工程に直接用いた。
見よ りの部から得た粗製生成物をジオキサン中４Ｎ塩酸１０ｍ１にとり、室温で０． ２５時間かきまぜた。溶媒および過剰の塩酸を真空で除去すると生成物が結晶化 した。固体を濾別し、アセトンで洗浄し、真空で乾燥して３−［（（１，１−ジ メチルエチル）アミノコカルボニル〕（２−メチルプロピル）アミノ−２（Ｓ） −ヒドロキシ−１（Ｓ）−（フェニルメチル〕プロピルアミン塩酸塩（１８２， ９ｍｇ、　１．２１ミリモル）の溶液をジメチルホルムアミド２ｍｌに溶かし、 ０°Ｃに冷却し、次にＥＤＣ（１７０、２ｍｇ、０．８９８ミリモル）で１ｅ分 間処理した。次にこの混合物を３−（Ｃ（１，１−ジメチルエチル）アミノコカ ルボニル〕　（２−メチルプロピル）アミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−１（Ｓ） 　−（フェニルメチル〕プロピルアミン塩酸塩（３００，０ｍｇ、　０．８０７ ミリモル）で続いて注射器からＮ−メチルモルホリン（９０，０ｍｇ。
０、８８８　ミリモル）で処理した。溶液を室温で１６時間かきませ、次に迅速 にかきまぜた６０％飽和重炭酸ナト、　リウム水溶液２０ｍ１中に注ぐと白色沈 殿か生じた。固体を濾別し、飽和重炭酸ナトリウム水溶液、水、５％クエン酸水 溶液、水で洗浄し、次に真空で乾燥して３１９ｍｇ（６８％）のＮ’　−（３− （（（（１，１−ジメチルエチル）アミノコカルボニル〕　（２−メチルプロピ ル）アミノ）　−２（Ｓ）−ヒドロキシ−１（Ｓ）　−（フェニルメチル）プロ ピル）　−２（Ｓ）　−（（ベンジルオキシカルボニル）アミノ〕〜ブタンジア ミド、融点１３９〜１４ビＣＳＭＨ”　ｍ／ｚ＝５８４、を得た。
例４６ 上記一般手順に従って、しかしイソシアネートまたは同様な出発原料の代りに酸 塩化物または無水物を用いることにより、表１６に示した化合物を調製した。
表１６ Ｌ　−ＣＭ、Ｃ（ＣＨ３）、　Ｃｂｚ−Ａｓｎ２、　−ＣＭ、Ｃ（（Ｈ，）、　 Ｑ−Ｍｎコ、　−（Ｈ，Ｃ（ＣＨ，）　３　Ｃｂｚ−ｔＢｕｇｌｙ例４７ 上記一般手順に従うか、イソシアネートまたは同様な出発原料の代りにクロロホ ルメートまたはピロカーボネートを用いることにより表１７に示した化合物を調 製した。
１、　−０”Ｂｕ　Ｃｂｚ−ｊＬｓｎ ２　＋　−０”Ｂｕ　Ｃｂｚ コ＋　−０”Ｂｕ　ｇ−八ｓｎ ４、　−〇ｔＢｕ　Ｃｂｚ−ｔＢｕｇｌｙ本発明化合物は効果的なＨＩＶプロテ アーゼ阻害物質である。後述の酵素検定法を利用するとここに開示された実施例 で述べられた化合物はＨＩＶ酵素を阻害した。
本発明に係る特に適当な化合物およびそれらの計算ＩＣ１ｏ（５０％阻害濃度、 即ち阻害物質化合物が酵素活性を５０％だけ減少させる濃度）値を表１８に示す 。酵素法を下に説明する。基質は２−アミノベンゾイル−１１ｅ　−Ｎ　ｌｅ　 −Ｐ　ｈｅ（ｐ−Ｎｏｗ）　−Ｇ　ｉｎ　−Ａ　ｒｇＮＨｔである。正の対照は ＭＶＴ−１０１である（　Ｍｉｌｌｅｒ、　Ｍ、等、５ｃｉｅｎｃｅ、　２４６ ．１１４９　（１９８９））、検定条件は次の通りである： 検定用緩衝液：２００１Ｍリン酸ナトリウム、ｐＨ６，４２０％グリセリン １　ｄ　Ｅ　Ｄ　Ｔ　Ａ ｍＭＤＴＴ Ｏ，１％　ＣＨＡＰＳ 上記基質をＤＭＳＯに溶かし、次に検定用緩衝液で１０倍に希釈した。この検定 法における最終基質濃度は８０μＭである。
ＨＩＶプロテアーゼを検定用緩衝液で１２．３ナノモルの最終酵素濃度に希釈し た（分子量１０．７８０に基づく）。
ＤＭＳＯの最終濃度は１４％であり、グリセリンの最終濃度は１８％である。試 験化合物をＤＭＳＯに溶かし、１０×試験濃度までＤＭＳＯで希釈する。酵素調 製液１０μ】を加え、材料を混合し、次に混合物を室温で１５分インキュベージ コンした。基質４０μｌの添加により酵素反応を開始させた。蛍光の増加を室温 において四つの時間点（０，８，１６および２４分）でモニターする。
各検定を二重のウェルで行なう。
表１８ 化合物　ＩＣ，。（ナノモル） 、　１．［ＩＳ−［ＩＲ’　（２Ｒ”　）、２Ｓ”　］１−Ｎ’−［３−［［［ （２，２−ジメチル）プロピル１カルボニル］（３−メチルブチル） アミノ］−２−ヒドロキシ−１（フェ ニルメチル）プロピル］−２−［（２−キノリニルカルボニル）アミノ１ 一ブタンジアミド　２１　ｎＭ ２、［ＩＳ−［ＩＲ”　（２Ｒ”　）、２Ｓ’　］］−Ｎ’−［３−［［ブチル カルボニル］（シク ロヘキシルメチル）アミノ１−２− ヒドロキシ−１−（フェニルメチル） プロピル］−２−［（フェニルメチル オキシ）カルボニル）アミノ１ 一ブタンジアミド　６９６　ｎＭ ３、　［２Ｒ−［２Ｒ”　、　３Ｓ”　（Ｓ”　）］］−［３−［［４−アミノ −１，４−ジオキソ−２−［（フェニルメチルオキシ）カル ボニル１アミノ１ブチル］アミ ノ１−２−ヒドロキシー４−フェニル ブチル］（フェニルメチル）−カル バミン酸ブチルエステル　１．６ｍＭ 例４９ 表１９に掲げた化合物の有効性は上記酵素検定法で、またＯＥＭ細胞検定法で測 定したものである。
急性感染細胞のＨＩＶ阻害検定法は、ｐａｕｗｌｅｓ等、Ｊ。
Ｖｉｒｏｌ、　Ｍｅｔｈｏｄｓ　２０．３０９−３２１　（１９８８）により本 質的に報告された自動化テトラゾリウム基本比色検定法である。検定は９６−ウ ェル組織培養プレートで実施した。ＣＥＭ細胞（ＣＤ４ゝ細胞系）をｌθ％ウシ 胎児血清で補なったＲＰＭＩ−１６４０培地（Ｇｉｂｃｏ）で培養し、次にポリ ブレン（２μｇ／ｍｌ）で処理した。１ＸＩＯ’個の細胞を含む８０μｍ体積の 培地を組織培養プレートの各ウェルに分与した。各ウェルへ組織培養培地に望む 最終濃度が得られるように試験化合物を溶かした培地（あるいは対照として試験 化合物を含まない培地）１００μｍ体積を加え、細胞を３７゛Ｃで１時間インキ ュベーションした。ＨＩＶ−１の凍結培養を５Ｘ１０’ＴＣＩ　Ｄｓｏ／　ｍｌ 　（ＴＣＩ　Ｄｓｏ”組織培養中の細胞の５０％を感染させるウィルス量）の濃 度に培地で希釈し、２０μｍ体積のウィルス試料（ｌ　Ｏ００ＴＣＩＤ５ｏのウ ィルスを含む）を試験化合物を含むウェルへまた培地（感染した対照細胞）だけ を含むウェルへ加えた。幾つかのウェルにはウィルスを含まない培地（未感染対 照細胞）を加えた。同様に、ウィルスを含まない培地を試験化合物を含む幾つか のウェルへ加えることによって試験化合物の開存毒性を測定した。要約すると組 織培養プレートは下記の実験を含む： 細　胞　薬　剤　ウィルス ４、　＋　＋　＋ 実験２と４において、試験化合物の最終濃度は１、ｌ０１１００および弓ＯＱＪ 、ｔｇ／ｍｌであった。アジドチミジン（ＡＺＴ）かジデオキシイノシン（ｄｄ Ｉ）のいずれかを正の薬剤対照として含めた。試験化合物をＤＭＳＯに溶かし、 最終ＤＭＳＯ濃度がどの場合にも１．５％を越えないように組織培養培地中に希 釈した。すべての対照ウェルにＤＭＳＯを適当な濃度で加えた。
ウィルス添加後、湿度を与えた５％ＣＯ２雰囲気中３７°Ｃて７日間細胞をイン キュベーションした。試験化合物は、必要に応じ、０．２および５日目に加える ことができる。感染後７日目に、各ウェルの細胞を再浮遊させ、各細胞浮遊液の １００μｌ試料を検定のため採取した。
３−（４，５−ジメチルチアゾール−２−イル）−２゜５−ジフェニルテトラゾ リウムプロミド（Ｍ　Ｔ　Ｔ　）の５ｍｇ／ｍｌ溶液２０μｌ容を各１００μｌ 細胞浮遊液に加え、細胞を５％ＣＯ７環境中２７°Ｃで４時間インキュベーショ ンした。このインキュベーション中にＭＴＴは生存細胞により代謝的に還元され 、細胞内に着色フォルマザン生成物の産生を起こした。各試料へ０．０１ＮＨＣ １中ｌＯ％ドデシル硫酸ナトリウムの１００μｍを加えて細胞を分解し、試料を 一晩インキユベーションした。
Ｍｏ１ｅｃｕｌａｒ　Ｄｅｖｉｃｅｓ　フィクロブレー）−＋Ｊ−ダーヲ用いて 各試料に対し５９０ｎｍにおける吸光度を測定した。ウェルの各組に対する吸光 度値を比較してウィルス対照感染、非感染対照細胞応答ならびに試験化合物によ る細胞毒性および抗ウイルス効果を評価する。
化合物　阻害 １、　［ＩＳ−［ＩＲ”　（２Ｒ”　）、２Ｓ”　］］−Ｎ’−［３−［［［（ ２，２−ジメチル）プロピル１カルボニル１（３−メチルブチル） アミノ］−２−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）プロピル］−２−［（２− キノリニルカルボニル）アミノ１ 一ブタンジアミド　１００％ 前述した手順に従い、下記の化合物もつくった。
Ｃ２Ｒ−（２Ｒ”、３Ｓ”　（Ｓ”）））−（３−Ｍ（４−アミノ−１，４−ジ オキソ−２−（（２−キノリニルカルボニル）アミノ〕ブチル〕アミノ〕−２− ヒドロキシ−４−フェニルブチル〕　〔（４−フルオロフェニル）メチル〕−力 ルバミン酸１．１−ジメチルエチルエステル、 （２Ｒ−（２Ｒ”、３Ｓ”　（Ｓ’）））−（３−（（（４−アミノ−１，４− ジオキソ−２−（（２−キノリニルカルボニル）アミノ〕ブチル〕アミノ〕−２ −ヒドロキシ−４−フェニルブチル〕　〔（３−メチルブチル）〕−〕カルバミ ン酸１．１−ジメチルエチルエステル（２Ｒ−（２Ｒ”、３Ｓ”　（Ｓ”））） −（３−（（（４−アミノ−１，４−ジオキソ−２−（（２−キノリニルカルボ ニル）アミノ〕ブチル〕アミノ〕−２−ヒドロキシ−４−フェニルブチル〕　〔 （２−メチルプロピル）〕〕−カルバミン酸１．１−ジメチルエチルエステル（ ２Ｒ−（２Ｒ”、３Ｓ”　（Ｓ”）））−（３−（（（４−アミノ−１，４−ジ オキソ−２−（（２−キノリニルカルボニル）アミノ〕ブチル〕アミノ〕−２− ヒドロキシ−４−フェニルブチル〕　〔（４−ピリジルメチル）〕−カルバミン 酸１．ｌ−ジメチルエチルエステル。
本発明化合物は効果的な抗ウイルス性化合物てあり、とりわけ上で示したように 有効なレトロウィルス抑制物質である。従って、この主題である化合物は効果的 なＨＩＶプロテアーゼ阻害物質である。本主題化合物はまた他のウィルス、例え ばＨＩＶ、ヒトＴ−細胞白血病ウィルス、呼吸器シンシチアルウイルス、ヘパド ナウィルス、サイトメガロウィルスおよびピコルナウィルスも抑制することか企 図されている。
本発明化合物は無機酸または有機酸から誘導される塩の形で使用できる。これら の塩には下記のものか包含されるがこれらに制限されるものではない：酢酸塩、 アジピン酸塩、アルギン酸塩、クエン酸塩、アスパラギン酸塩、安息香酸塩、ベ ンゼンスルホン酸塩、重硫酸塩、酪酸塩、ショウノウ酸塩、ショウノウスルホン 酸塩、ジグルコン酸塩、シクロペンタンプロピオン酸塩、ドデシル硫酸塩、エタ ンスルホン酸塩、グルコヘプタン酸塩、グリセロリン酸塩、ヘミ硫酸塩、ヘプタ ン酸塩、ヘキサン酸塩、フマル酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、 ２−ヒドロキシ−エタンスルホン酸塩、乳酸塩、マレイン酸塩、メタンスルホン 酸塩、ニコチン酸塩、２−ナフタレンスルホン酸塩、シュウ酸塩、ノ（ルモエー ト、ペクチネート、過硫酸塩、３−フェニルプロピオン酸塩、ピクリン酸塩、ピ バリン酸塩、プロピオン酸塩、コハク酸塩、酒石酸塩、チオシアン酸塩、ｐ−） ルエンスルホン酸塩、メタンスルホン酸塩およびウンデカン酸塩。またその塩基 性含窒素基を次の薬剤、例えば低級アルキルハロゲン化物、例えばメチル、エチ ル、プロピルおよびブチル塩化物、臭化物およびヨウ化物ニジアルキルサルフェ ート、例えばジメチル、ジエチル、ジブチルおよびシアミルサルフェート、長鎖 ハロゲン化物、例えばデシル、ラウリル、ミリスチルおよびステアリル塩化物、 臭化物およびヨウ化物、アルアルキルハロゲン化物、例えば臭化ベンジルおよび 臭化フェネチルなどで第４級化することもできる。これにより水溶性または油溶 性または分散性の生成物が得られる。
製薬上容認しつる酸付加塩の形成に使用できる酸の例として、例えば塩酸、硫酸 およびリン酸といった無機酸やシュウ酸、マレイン酸、コハク酸およびクエン酸 といった有機酸があげられる。他の例にはアルカリ金属またはアルカリ土類金属 、例えばナトリウム、カリウム、カルシウムまたはマグネシウムとの塩あるいは 有機塩基との塩が含まれる。
患者に対して１回分量または分割量として１日に投与される全量は、例えば１日 に体重１ｋｇ当り０．００１から１０ｍｇ、より一般的には０．ＯｌからＩｍｇ の量でよい。投薬単位組成物は１日分量を満すだけの多回分生用量を含み得る。
担体材料と合わせて単−射影をつくることのできる活性成分の量は治療される患 者および特定の投与様式によって変わるであろう。
しかし、個々の患者に対する特定の用量レベルは種々な因子、例えば用いた特定 の化合物の活性、年令、体重、全身的健康状態、性別、食餌、投与回数、投与経 路、排泄の速さ、薬物コンビネーション、および治療を受ける特定の病気の軽重 、によって左右されるであろう。
本発明化合物は、必要に応じ、通常の製薬上容認しつる無毒性担体、補助剤、お よびビヒクルを含む投薬単位製剤として、経口、非経口、投入スプレー、直腸、 あるいは局所的に投与できる。局所投与は経皮投与、例えば経皮パッチあるいは イオン導入法の使用も包含する。本明細書中で用いた非経口という用語は皮下注 射、静脈内、筋肉内、膓骨内注射、あるいは点滴技術を包含する。
注射用製剤、例えば無菌の注射用水性または油性懸濁系は公知の技術に従って適 当な分散剤または湿潤剤および懸濁剤を使用することにより処方できる。注射用 無菌製剤はまた非経口的に容認しうる無毒性希釈剤または溶媒中の溶液または懸 濁系、例えば１．３−ブタンジオール溶液、のこともある。使用でき容認された ビヒクルおよび溶媒には水、リンゲル液、および等張塩化ナトリウム溶液である 。更に、無菌固定油も溶媒あるいは懸濁用媒質として普通に使用されている。こ の目的に対しては、合成モノ−またはジグリセリドを含めてどの低刺激性固定油 も使用できる。更にまたオレイン酸のような脂肪酸も注射剤の調製に使用できる ことが分かっている。
薬物の直腸投与に向けられる上薬は薬物を適当な無刺激性付形薬、例えばカカオ 脂およびポリエチレングリコール（これは常温では固体であるが、直腸温度では 液体となるので、直腸内で融けて薬剤を放出する）と混合することにより製造で きる。
経口投与に向けられる固体射影にはカプセル、錠剤、丸薬、散剤、および顆粒剤 が包含される。このような固形剤形においては、活性化合物を少なくとも１種の 不活性希釈剤、例えばショ糖、乳糖またはデンプンと混合することかできる。こ のような射影はまた、通常の習慣として、不活性希釈剤の外の追加物質、例えば ステアリン酸マグネシウムといった滑沢剤も含みつる。カプセル、錠剤および火 剤の場合には、これら射影は緩衝剤も含むことができる。錠剤および火剤は更に 腸溶性被覆を施して調製できる。
経口投与用の液体射影は製薬上容認しうる乳濁系、溶液、懸濁系、シロップ、お よびエリキシルを包含し、これらはこの分野で常用される水のような不活性希釈 剤を含有する。このような組成物はまた補助剤、例えば湿潤剤、乳化剤および懸 濁剤、ならびに甘味剤、フレーバ剤および香味剤も含有しつる。
本発明化合物は単独の活性医薬剤として投与できるが、これらは１種以上の免疫 調節剤、抗ウィルス剤または他の感染防止剤とのコンビネーションとしても使用 できる。
コンビネーションとして投与する場合、治療剤を別個の組成物として処方し、こ れらを同時に、あるいは異なる時間に与えてもよいし、あるいは治療剤を単一組 成物として与えることもできる。
上記の説明は単に本発明の例示に過ぎないのであって、本発明をここに開示した 化合物に制限しようとするものではない。当業者にとって明白な変法や変更は本 発明の請求の範囲に定義されている範囲および性格の中に包含されるものとする 。
上記実施例は、これらの例に使用されているものの代りに、一般的にあるいは特 定的に記載された本発明の反応体および（または）操作条件を用いることにより 、同様に順調に繰り返すことができる。
上記説明から当業者は本発明の本質的な特徴を容易に確かめることができ、また 本発明の主旨と範囲から離れることなく本発明に種々な変更および修飾を行なっ て種種な用法および条件に適合させることも可能である。
国際調査報告 国際調査報告 −■汽ゴＡｓＭＸＯ＋細餌−ｎイー１−ｔｉｌトＰＨ１２８Ｃｋｔ＋国際調査報 告 ＵＳ　９１０８５９６ Ｓ＾　５４８８３ フロントページの続き （５１）　！ｎｔ、ｃ１．５　識別記号　庁内整理番号Ａ６１Ｋ　３１／３４　 ９３６０−４Ｃ３１／４０　ＡＤＹ　９３６０−４Ｃ ３１／４１５　９３６０−４Ｃ ３１／４４５　９３６０−４Ｃ ３１／４７　ＡＢＤ　９３６０−４Ｃ Ｃ０７Ｃ２７５１０４７１８８−４Ｈ ２７５／２４　７１８８−４Ｈ ３１１／３１　７４１９−４Ｈ ３１３１０６７４１９−４Ｈ ３１７／２６　７４１９−４Ｈ ３２１／１４　７４１９−４Ｈ ３２５１０２７１０６−４Ｈ ３３３１０２７１０６−４Ｈ ３３５１０６７１０６−４Ｈ ３３５／１４　７１０６−４Ｈ ３３５／１６　７１０６−４Ｈ Ｃ０７Ｄ　２０７／１６　８３１４−４Ｃ２１１／１６　９１６５−４Ｃ ２１３／４０　６７０１−４Ｃ ２１５／４８　７０１９−４Ｃ ２３５１０８７２５２−４Ｃ ２３９／３８　８６１５−４Ｃ Ｉ ２４１／４２　８６１５−４Ｃ ２４１／４４　８６１５−４Ｃ ２９５／１２　Ｚ　６７０１−４Ｃ ３０７／７９　７２５２−４Ｃ ４０１／１２　２０７　８８２９−４Ｃ２１１８８２９−４Ｃ （８１）指定国　ＥＰ（ＡＴ、ＢＥ、ＣＨ，ＤＥ。
ＤＫ、ＥＳ、ＦＲ，ＧＢ、ＧＲ，ＩＴ、ＬＵ、ＮＬ、ＳＥ）、０Ａ（ＢＦ、ＢＪ 、ＣＦ、ＣＧ、ＣＩ、ＣＭ、ＧＡ、ＧＮ、ＭＬ、ＭＲ，ＳＮ、ＴＤ、ＴＧ）、Ａ Ｕ、ＣＡ、Ｃ３，ＦＩ、ＨＵ、ＪＰ、ＫＲ，Ｎｏ、ＰＬ、ＳＵ

Claims (169)

    【特許請求の範囲】
  1. １．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、 Ａは式： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ａ１）▲数式、化学式、表等があります▼ （Ａ２）▲数式、化学式、表等があります▼（Ａ３）〔式中、 Ｒは水素、およびアルコキシカルボニル、アルアルコキシカルボニル、アルキル カルボニル、シクロアルキルカルボニル、シクロアルキルアルコキシカルボニル 、シクロアルキルアルカノイル、アルカノイル、アルアルカノイル、アロイル、 アリールオキシカルボニル、アリールオキシアルカノイル、ヘテロシクリルカル ボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、ヘテロシクリルアルカノイル、ヘテ ロシクリルアルコキシカルボニル、ヘテロアルアルコキシカルボニル、ヘテロア リールオキシカルボニル、ヘテロアロイル、アルキル、アリール、アルアルキル 、アリールオキシアルキル、ヘテロアリールオキシアルキル、ヒドロキシアルキ ル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルアルキルアミ ノアルキルカルボニル、アミノアルカノイル基、アルキルアミノアルキルカルボ ニル、および一−および二置換アミノアルカノイル基（この置換基はアルキル、 アリール、アルアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロア リール、ヘテロアルアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル 基から選ばれる）を表わし；Ｒ′は水素およびＲ３に対して定義された残基を表 わし、あるいは ＲとＲ′はそれらが付いている窒素と一緒にヘテロシクロアルキルまたはヘテロ アリール基を形成し；ｔは０か１を表わし； Ｒ１は−ＣＨ２ＳＯ２ＮＨ２、水素、アルキル、およびシクロアルキル基および アミノ酸側鎖（アスパラギン、Ｓ−メチルシステインおよびその対応するスルホ キシドおよびスルホン誘導体、グリシン、アロ−イソロイシン、ロイシン、ｔｅ ｒｔ−ロイシン、フェニルアラニン、オルニチン、アラニン、トレオニン、アロ −トレオニン、イソロイシン、ヒスチジン、ノルロイシン、バリン、グルタミン 、セリン、アスパラギン酸、およびβ−シアノアラニン側鎖から選ばれる）を表 わし；Ｒ１′およびＲ１′′はそれぞれ水素およびＲ１に対して定義された基を 表わし； Ｒ２はアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキルおよびア ルアルキル基を表わし、そして前記基は−ＯＲ９、−ＳＲ９（Ｒ９は水素および アルキル基を表わす）、およびハロゲン基から選ばれる基で任意に置換され； Ｒ３はアルキル、アルケニル、ヒドロキシアルキル、シクロアルキル、シクロア ルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリ ール、アルアルキル、およびヘテロアルアルキル基を表わし； ＸはＯおよびＣ（Ｒ１７）を表わし、そしてＲ１７は水素およびアルキル基を表 わし； Ｘ′はＮ，ＯおよびＣ（Ｒ１７）を表わすが、ただしＸおよび（または）Ｘ′が ＯであるときはＲ５および（または）Ｒ３４は存在しないことを条件とし；Ｙ， Ｙ′、およびＹ′′はそれぞれＯおよびＳを表わし；Ｒ４およびＲ５はそれぞれ 水素およびＲ３により定義された基を表わすか、あるいはＲ４とＲ５はそれらが 結合している炭素原子と一緒にシクロアルキルおよびアリール、ヘテロアリール 、およびヘテロシクロアルキル基を表わし； Ｒ６は水素およびＲ３に対して定義された基を表わし；Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ３０ 、Ｒ３１およびＲ３２はＲ１に対して定義された基を表わし、あるいはＲ１とＲ ３０の一つはＲ３１およびＲ３２の一つおよびそれらが付いている炭素原子と一 緒にシクロアルキル基を形成し；あるいはＲ３０とＲ３２はそれらが付いている 炭素原子と一緒に３から６員シクロアルキル基を形成し；そして Ｒ３３およびＲ３４はそれぞれ水素およびＲ３に対して定義された基を表わすか 、あるいはＲ３３およびＲ３４はＸ′と一緒にシクロアルキル、アリール、ヘテ ロシクリルおよびヘテロアリール基を表わす〕により表わされる基を表わす、 により表わされる化合物、あるいはその製薬上容認しうる塩、プロドラッグまた はエステル。
  2. ２． 式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、ヒドロキシ基に関する立体化学は（Ｒ）であり；Ｒはアルコキシカルボニ ル、アルアルコキシカルボニル、アルキルカルボニル、シクロアルキルカルボニ ル、シクロアルキルアルコキシカルボニル、シクロアルキルァルカノイル、アル カノイル、シクロアルカノイル、シクロアルキルアルカノイル、アルアルカノイ ル、アロイル、アリールオキシカルボニル、アリールオキシアルカノイル、ヘテ ロシクロカルボニル、ヘテロシクリルオキシカルボニル、ヘテロシクリル、アル カノイル、ヘテロシクリルアルコキシカルボニル、ヘテロアルアルコキシカルボ ニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、ヘテロアロイル、アルキル、アリール 、アルアルキル、アリールオキシアルキル、ヘテロアリールオキシアルキル、ヒ ドロキシアルキル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、ア ルアルキルアミノアルキルカルボニル、およびアミノアルカノイル基；アルキル アミノアルキルカルボニル、および一−および二置換アミノアルカノイル基（こ の置換基はアルキル、アリール、アルアルキル、シクロアルキル、シクロアルキ ルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアルアルキル、ヘテロアルキル、ヘテロシ クロアルキルアルキル基から選ばれる）を表わし；Ｒ′は水素およびＲ３に対し て定義された基を表わし、あるいはＲとＲ′はそれらが付いている窒素と一緒に ヘテロシクロアルキルおよびヘテロアリール基を形成し； Ｒ１は−ＣＨ２ＳＯＮＨ２、水素、アルキル、およびシクロアルキル基、および アミノ酸側鎖（アスパラギン、Ｓ−メチルシステインおよびそのスルホキシド（ ＳＯ）およびスルホン（ＳＯ２）誘導体、ヒスチジン、ノルロイシン、グルタミ ン、グリシン、アロ−イソロイシン、アラニン、トレオニン、イソロイシン、ロ イシン、ｔｅｒｔ−ロイシン、フェニルアラニン、オルニチン、アロ−トレオニ ン、セリン、アスパラギン酸、β−シアノアラニンおよびバリン測鎖の群から選 ばれる）を表わし；Ｒ１′とＲ１′′はそれぞれ水素およびＲ１に対して定義さ れた基を表わし； Ｒ２はアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、および アルアルキル基を表わし、そして前記基はハロゲン基、およびＯＲ９およびＳＲ ９（式中、Ｒ９は水素およびアルキル基を表わす）から選ばれる基で任意に置換 され； Ｒ３はアルキル、アルケニル、ヒドロキシアルキル、シクロアルキル、シクロア ルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリ ール、アルアルキル、ヘテロアリールおよびヘテロアルアルキル基を表わし； Ｒ４およびＲ５はそれぞれ水素およびＲ３により定義された基を表わすか、ある いはそれらが結合している炭素原子と一緒にシクロアルキル、アリール、ヘテロ アリールおよび３から約８炭素原子を有するヘテロシクロアルキル基、および６ から約１０炭素原子を有するアリール基を表わし； ＸはＯおよびＣ（Ｒ１７）を表わし、そしてＲ１７は水素およびアルキル基を表 わすが、ただしＸがＯであるときＲ５は存在しないことを条件とし；ｔは０か１ を表わし；ＹおよびＹ′はＯおよびＳを表わす、 により表わされる請求項１記載の化合物あるいはその製薬上容認しうる塩、プロ ドラッグまたはエステル。
  3. ３．Ｒはアルアルコキシカルボニルおよびヘテロアロイルを表わす、請求項２記 載の化合物。
  4. ４．Ｒはカルボベンズオキシ、２−ベンゾフランカルボニル、および２−キノリ ニルカルボニルを表わす、請求項２記載の化合物。
  5. ５．Ｒはカルボベンズオキシを表わす、請求項２記載の化合物。
  6. ６．Ｒは２−キノリニルカルボニルまたは２−ベンゾフランカルボニルを表わす 、請求項２記載の化合物。
  7. ７．Ｒ１はアルキル基を、またアスパラギン、バリン、トレオニン、アロ−トレ オニン、イソロイシン、Ｓ−メチルシステインおよびそのスルホンおよびスルホ キシド誘導体、アラニンおよびアロ−イソロイシンからなる群から選ばれるアミ ノ酸側鎖を表わす、請求項２記載の化合物。
  8. ８．Ｒ１はメチル、ｔ−ブチル、イソプロピルおよびｓｅｃ−ブチル基を、また アスパラギン、バリン、Ｓ−メチルシステイン、アロ−イソ−ロイシン、イソ− ロイシン、トレオニンおよびアロ−トレオニン側鎖からなる群から選ばれるアミ ノ酸側鎖を表わす、請求項２記載の化合物。
  9. ９．Ｒ１はメチルおよびｔ−ブチル基を表わす、請求項２記載の化合物。
  10. １０．Ｒ１はｔが０のときｔ−ブチル基を表わす、請求項２記載の化合物。
  11. １１．Ｒ１はアスパラギン、バリン、アラニンおよびイソロイシン側鎖から選ば れるアミノ酸側鎖を表わす、請求項４記載の化合物。
  12. １２．Ｒ１はアスパラギン、イソロイシンおよびバリン側鎖から選ばれるアミノ 酸側鎖を表わす、請求項２記載の化合物。
  13. １３．Ｒ１はアスパラギン側鎖を表わす、請求項２記載の化合物。
  14. １４．Ｒ１はｔ−ブチル基およびアスパラギン側鎖を表わす、請求項２記載の化 合物。
  15. １５．Ｒ１はｔが１のときメチル基を表わす、請求項２記載の化合物。
  16. １６．ｔは０である、請求項２記載の化合物。
  17. １７．ｔは１である、請求項２記載の化合物。
  18. １８．Ｒ２はアルキル、シクロアルキルアルキルおよびアルアルキル基を表わし 、そしてこれら基はハロゲン基および式−ＯＲ８および−ＳＲ９（式中、Ｒ９は アルキル基を表わす）により表わされる基で任意に置換される、請求項２記載の 化合物。
  19. １９．Ｒ２はアルキル、シクロアルキルアルキルおよびアルアルキル基を表わす 、請求項２記載の化合物。
  20. ２０．Ｒ２はアルアルキル基を表わす、請求項２記載の化合物。
  21. ２１．Ｒ２はＣＨ３ＳＣＨ２ＣＨ２−、イソ−ブチル、ｎ−ブチル、ベンジル、 ４−フルオロベンジル、２−ナフチルメチルおよびシクロヘキシルメチル基を表 わす、請求項２記載の化合物。
  22. ２２．Ｒ２はｎ−ブチルおよびイソ−ブチル基を表わす、請求項２記載の化合物 。
  23. ２３．Ｒ２はベンジル、４−フルオロベンジルおよび２−ナフチルメチル基を表 わす、請求項２記載の化合物。
  24. ２４．Ｒ２はシクロヘキシルメチル基を表わす、請求項２記載の化合物。
  25. ２５．ＸはＣ（Ｒ１７）であり、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれアルキル、ア ルケニル、ヒドロキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘ テロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリール、アルアルキル およびヘテロアルアルキル基を表わす、請求項２記載の化合物。
  26. ２６．Ｒ５はＸがＣであるとき水素を表わし、またＸがＯのときは存在しない、 請求項２５記載の化合物。
  27. ２７．Ｒ３およびＲ４はそれぞれアルキルおよびアルケニル基を表わす、請求項 ２５記載の化合物。
  28. ２８．Ｒ３およびＲ４はそれぞれアルキルおよびヒドロキシアルキル基を表わす 、請求項２６記載の化合物。
  29. ２９．Ｒ３およびＲ４はそれぞれアルキル、シクロアルキルシクロアルキルアル キル基を表わす、請求項２６記載の化合物。
  30. ３０．Ｒ３およびＲ４はそれぞれアルキル、ヘテロシクロアルキルおよびヘテロ シクロアルキルアルキル基を表わす、請求項２６記載の化合物。
  31. ３１．Ｒ３およびＲ４はそれぞれアルキル、アリールおよびアルアルキル基を表 わす、請求項２６記載の化合物。
  32. ３２．Ｒ４はｔ−ブチル、エチル、イソプロピルおよび１，１−ジメチルプロピ ル基を表わす、請求項２６記載の化合物。
  33. ３３．Ｒ３は約２〜約５炭素原子を有するアルキル基を表わす、請求項２記載の 化合物。
  34. ３４．Ｒ３はｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−プロピル、ｉ−ブチル、ネオ− ペンチル、ｉ−アミル、およびｎ−ブチル基を表わす、請求項２記載の化合物。
  35. ３５．ＸはＣ（Ｒ１７）であり、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ約２から約５ 炭素原子を有するアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アルアルキル基、ヘ テロシクロアルキルアルキル基およびヘテロアルアルキル基を表わす、請求項２ 記載の化合物。
  36. ３６．Ｒ３はベンジル、パラ−フルオロベンジル、パラーメトキシベンジル、パ ラ−メチルベンジル、および２−ナフチルメチル基を表わし、Ｒ４はｔ−ブチル を表わし、Ｒ５は水素である、請求項２記載の化合物。
  37. ３７．Ｒ３はシクロヘキシルメチルであり、Ｒ４はｔ−ブチルである、請求項２ 記載の化合物。
  38. ３８．Ｒ３はｉ−アミルであり、Ｒ４はｔ−ブチルである、請求項２記載の化合 物。
  39. ３９．Ｒ３はｉ−ブチルであり、Ｒ４はｔ−ブチルである、請求項２記載の化合 物。
  40. ４０．Ｒ３はｎ−ブチルであり、Ｒ４はｔ−ブチルである、請求項２記載の化合 物。
  41. ４１．Ｒ３はネオ−ペンチルであり、Ｒ４はｔ−ブチルである、請求項２記載の 化合物。
  42. ４２．Ｒ４はアルキルおよびシクロアルキル基を表わす、請求項２記載の化合物 。
  43. ４３．ＸはＣ（Ｒ１７）であり、Ｒ５は水素およびアルキルおよびシクロアルキ ル基を表わす、請求項２記載の化合物。
  44. ４４．Ｒ４およびＲ５はそれらが結合している炭素原子と共にシクロプロピル、 シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ベンジルおよびナフチル基を 表わす、請求項２記載の化合物。
  45. ４５．Ｒ３はヘテロアルアルキル基を表わし、Ｒ４はｔ−ブチルである、請求項 ２記載の化合物。
  46. ４６．Ｒ３はｐ−フルオロベンジル基であり、Ｒ４はｔ−ブチル基である、請求 項２記載の化合物。
  47. ４７．Ｒ３は４−ピリジルメチル基またはそのＮ−オキシドであり、Ｒ４はｔ− ブチル基である、請求項２記載の化合物。
  48. ４８．Ｒ４およびＲ５はそれらが付く炭素原子と共に５員または６員シクリル基 を表わす、請求項２記載の化合物。
  49. ４９．Ｒ４およびＲ５はそれらが付く炭素原子と共に、１から約３炭素原子を有 するアルキル基で置換された５員または６員シクリル基を表わす、請求項２記載 の化合物。
  50. ５０．Ｒ１およびＲ１′は両方とも水素であり、Ｒ１′′は１から約４炭素原子 を有するアルキル基を表わす、請求項２記載の化合物。
  51. ５１．Ｒ１およびＲ１′は両方とも水素であり、Ｒ１′′は−ＣＨ２ＳＯ２ＮＨ ２、アルキルおよびシクロアルキル基およびアミノ酸側鎖（アスパラギン、Ｓ− メチルシステインおよびそのスルホンおよびスルホキシド誘導体、ヒスチジン、 ノルロイシン、グルタミン、グリシン、アロ−イソロイシン、アラニン、トレオ ニン、イソロイシン、ロイシン、ｔｅｒｔ−ロイシン、フェニルアラニン、オル ニチン、アロ−トレオニンおよびバリン側鎖から選ばれる）を表わす、請求項２ 記載の化合物。
  52. ５２．ｔは０であり、Ｒ１はアスパラギンのアミノ酸側鎖を表わす、請求項２記 載の化合物。
  53. ５３．Ｒはヘテロアロイル基を表わす、請求項５２記載の化合物。
  54. ５４．Ｒは２−キノリニルまたは２−ベンゾフラノイル基を表わす、請求項５２ 記載の化合物。
  55. ５５．ｔは０であり、Ｒ１はｔ−ブチル基あるいはバリンかイソロイシンのアミ ノ酸側鎖を表わす、請求項２記載の化合物。
  56. ５６．Ｒはアリールアルカノイル、アリールオキシカルボニル、アルカノイル、 一置換アミノアルカノイル、または二置換アミノアルカノイル、あるいはモノ− またはジアルキルアミノカルボニル基を表わす、請求項５５記載の化合物。
  57. ５７．Ｒはアリールアルカノイル、アリールオキシカルボニルまたはアルカノイ ル基を表わす、請求項５５記載の化合物。
  58. ５８．Ｒは一置換アミノアルカノイルまたは二置換アミノアルカノイル基を表わ す、請求項５５記載の化合物。
  59. ５９．Ｒはアセチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノアセチルまたはＮ−ベンジル−Ｎ −メチルアミノアセチルを表わす、請求項５５記載の化合物。
  60. ６０．ｔは１であり、Ｒ１はメチル基である、請求項２記載の化合物。
  61. ６１．Ｒはアルカノイル、アリールアルカノイル、アリールオキシアルカノイル 、またはアリールアルキルオキシカルボニル基である、請求項６０記載の化合物 。
  62. ６２．Ｒはフェノキシアセチル、２−ナフチルオキシアセチル、ベンジルオキシ カルボニルまたはｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基を表わす、請求項６ ０記載の化合物。
  63. ６３．Ｒはアセチル基を表わす、請求項６０記載の化合物。
  64. ６４．Ｒはアルキルアミノカルボニル基を表わす、請求項６０記載の化合物。
  65. ６５．ＲはＮ−メチルアミノカルボニル基を表わす、請求項６０記載の化合物。
  66. ６６．請求項１記載の化合物と製薬上容認しうる担体とからなる医薬品組成物。
  67. ６７．請求項２記載の化合物と製薬上容認しうる担体とからなる医薬品組成物。
  68. ６８．プロテアーゼ阻害量の請求項６６記載の組成物を投与することからなる、 レトロウイルスプロテアーゼの阻害法。
  69. ６９．レトロウイルスプロテアーゼはＨＩＶプロテアーゼである、請求項６８記 載の方法。
  70. ７０．有効量の請求項６６記載の組成物を投与することからなるレトロウイルス 感染症の治療法。
  71. ７１．レトロウイルス感染症はＨＩＶ感染症である、請求項７０記載の方法。
  72. ７２．有効量の請求項６６記載の組成物を投与することからなる、エイズの治療 法。
  73. ７３．プロテアーゼ阻害量の請求項６７記載の組成物を投与することからなる、 レトロウイルスプロテアーゼの阻害法。
  74. ７４．レトロウイルスプロテアーゼはＨＩＶプロテアーゼである、請求項７３記 載の方法。
  75. ７５．有効量の請求項６７記載の組成物を投与することからなる、レトロウイル ス感染症の治療法。
  76. ７６．レトロウイルス感染症はＨＩＶ感染症である、請求項７５記載の方法。
  77. ７７．有効量の請求項６７記載の組成物を投与することからなる、エイズの治療 法。
  78. ７８．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、 Ｒ′はＲ３に対して定義された基を表わし；Ｒ１はＣＨ２ＳＯ２ＮＨ２、アルキ ルおよびシクロアルキル基、およびアミノ酸側鎖（アスパラギン、Ｓ−メチルシ ステインおよびその対応するスルホキシドおよびスルホン誘導体、グリシン、ア ロ−イソロイシン、アラニン、ロイシン、ｔｅｒｔ−ロイシン、フェニルアラニ ン、オルニチン、トレオニン、アロ−トレオニン、イソロイシン、ヒスチジン、 ノルロイシン、バリン、グルタミン、セリン、アスパラギン酸およびβ−シアノ アラニン側鎖から選ばれる）を表わし； Ｒ２はアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキルおよびア ルアルキル基を表わし、そしてこれら基は−ＯＲ９、−ＳＲ９、（式中、Ｒ９は 水素およびアルキル基を表わす）およびハロゲン基で任意に置換され； Ｒ３はアルキル、アルケニル、ヒドロキシアルキル、シクロアルキル、シクロア ルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリ ール、ヘテロアリール、アルアルキルおよびヘテロアルアルキル基を表わし； Ｒ４およびＲ５はそれぞれ水素およびＲ３により定義された基を表わし；あるい はＲ４とＲ５はそれらが結合している炭素原子と共にシクロアルキル、アリール 、ヘテロアリールおよびヘテロシクロアルキル基を表わし； Ｒ２０およびＲ２１はＲ１に対して定義された基を表わし；ＸはＯおよびＣ（Ｒ １７）（式中、Ｒ１７は水素およびアルキル基を表わす）を表わすが、ただしＸ がＯであるとき、Ｒ５は存在しないことを条件とし； ＹおよびＹ′はそれぞれＯおよびＳを表わす、により表わされる化合物。
  79. ７９．ｔは０である、請求項７８記載の化合物。
  80. ８０．Ｒ１は水素およびアルキル基を表わす、請求項７８記載の化合物。
  81. ８１．Ｒ１は１から約４炭素原子を有するアルキル基を表わす、請求項７８記載 の化合物。
  82. ８２．Ｒ１はメチル、エチル、イソプロピルおよびｔ−ブチル基を表わす、請求 項７８記載の化合物。
  83. ８３．Ｒ２０およびＲ２１はそれぞれ水素およびアルキル基を表わす、請求項７ ８記載の化合物。
  84. ８４．Ｒ２０およびＲ２１はそれぞれ水素およびメチル基を表わす、請求項７８ 記載の化合物。
  85. ８５．Ｒ２０は水素であり、Ｒ２１はアルキル基である、請求項７８記載の化合 物。
  86. ８６．Ｒ１はアルキル、アリール、およびアルアルキル基を表わす、請求項７８ 記載の化合物。
  87. ８７．Ｒ１はメチルおよびフェネチル基から選ばれる、請求項７８記載の化合物 。
  88. ８８．Ｒ２はアルキル、シクロアルキルアルキルおよびアルアルキル基を表わし 、そしてこれら基はハロゲン基および式−ＯＲ９および−ＳＲ９（式中、Ｒ９は アルキル基を表わす）により表わされる基で任意に置換される、請求項７８記載 の化合物。
  89. ８９．Ｒ２はアルキル、シクロアルキルアルキルおよびアルアルキル基を表わす 、請求項７８記載の化合物。
  90. ９０．Ｒ２はアルアルキル基を表わす、請求項７８記載の化合物。
  91. ９１．Ｒ２はＣＨ３ＳＣＨ２ＣＨ２−、イソ−ブチル、ｎ−ブチル、ベンジル、 ４−フルオロベンジル、２−ナフチルメチルおよびシクロヘキシルメチル基を表 わす、請求項７８記載の化合物。
  92. ９２．Ｒ３はｎ−ブチルおよびイソ−ブチル基を表わす、請求項７８記載の化合 物。
  93. ９３．Ｒ２はベンジル、４−フルオロベンジル、および２−ナフチルメチル基を 表わす、請求項７８記載の化合物。
  94. ９４．Ｒ２はシクロヘキシルメチル基を表わす、請求項７８記載の化合物。
  95. ９５．Ｘは炭素であり、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれアルキル、アルケニル 、ヒドロキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシク ロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリール、アルアルキル、および ヘテロアルアルキル基を表わす、請求項７８記載の化合物。
  96. ９６．Ｒ５はＸがＣのとき水素であり、ＸがＯのときはＲ５は存在しない、請求 項９５記載の化合物。
  97. ９７．Ｒ３およびＲ４はそれぞれアルキルおよびアルケニル基を表わす、請求項 ９５記載の化合物。
  98. ９８．Ｒ３およびＲ４はそれぞれアルキルおよびヒドロキシアルキル基を表わす 、請求項９６記載の化合物。
  99. ９９．Ｒ３およびＲ４はそれぞれアルキル、シクロアルキルおよびシクロアルキ ルアルキル基を表わす、請求項９６記載の化合物。
  100. １００．Ｒ３およびＲ４はそれぞれアルキル、ヘテロシクロアルキルおよびヘテ ロシクロアルキルアルキル基を表わす、請求項９６記載の化合物。
  101. １０１．Ｒ３およびＲ４はそれぞれアルキル、アリールおよびアルアルキル基を 表わす、請求項９６記載の化合物。
  102. １０２．Ｒ３およびＲ４はそれぞれアルキル、シクロアルキル、シクロアルキル アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリール、 アルアルキルおよびヘテロアルアルキル基を表わす、請求項９６記載の化合物。
  103. １０３．Ｒ３は約２から約５炭素原子を有するアルキル基を表わす、請求項７８ 記載の化合物。
  104. １０４．Ｒ３およびＲ４はそれぞれｉ−プロピル、ｉ−ブチル、ネオ−ペンチル 、ｉ−アミル、ｔ−ブチルおよびｎ−ブチル基を表わす、請求項７８記載の化合 物。
  105. １０５．Ｘは炭素であり、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ約２から約５炭素原 子を有するアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アルアルキル基、ヘテロシ クロアルキルアルキル基およびヘテロアルアルキル基を表わす、請求項７８記載 の化合物。
  106. １０６．Ｒ３はベンジル、バラーフルオロベンジル、バラーメトキシベンジル、 バラーメチルベンジル、および２−ナフチルメチル基を表わしそしてＲ４はｔ− ブチルを表わす、請求項７８記載の化合物。
  107. １０７．Ｒ３はシクロヘキシルメチルであり、Ｒ４はｔ−ブチルである、請求項 ７８記載の化合物。
  108. １０８．Ｒ３はｉ−アミルであり、Ｒ４はｔ−ブチルである、請求項７８記載の 化合物。
  109. １０９．Ｒ３はｉ−ブチルであり、Ｒ４はｔ−ブチルである、請求項７８記載の 化合物。
  110. １１０．Ｒ３はｎ−ブチルであり、Ｒ４はｔ−ブチルである、請求項７８記載の 化合物。
  111. １１１．Ｒ３はネオ−ペンチルであり、Ｒ４はｔ−ブチルである、請求項７８記 載の化合物。
  112. １１２．Ｒ４はアルキルおよびシクロアルキル基を表わす、請求項７８記載の化 合物。
  113. １１３．Ｘは炭素であり、Ｒ５は水素およびアルキルおよびシクロアルキル基を 表わす、請求項７８記載の化合物。
  114. １１４．Ｘは炭素であり、Ｒ４およびＲ５はそれらが結合している炭素原子と共 にシクロアルキルおよびアリール基を表わす、請求項７８記載の化合物。
  115. １１５．Ｒ３はヘテロアルアルキル基を表わし、Ｒ４はｔ−ブチルである、請求 項７８記載の化合物。
  116. １１６．Ｒ３はｐ−フルオロベンジル基であり、Ｒ４はｔ−ブチル基である、請 求項７８記載の化合物。
  117. １１７．請求項７８記載の化合物および製薬上容認しうる担体からなる医薬品組 成物。
  118. １１８．プロテアーゼ阻害量の請求項１１７記載の組成物を投与することからな る、レトロウイルスプロテアーゼの阻害法。
  119. １１９．レトロウイルスプロテアーゼはＨＩＶプロテアーゼである、請求項１１ ８記載の方法。
  120. １２０．有効量の請求項１１７記載の組成物を投与することからなる、レトロウ イルス感染症の治療法。
  121. １２１．レトロウイルス感染症はＨＩＶ感染症である、請求項１２０記載の方法 。
  122. １２２．有効量の請求項１１７記載の組成物を投与することからなる、エイズの 治療法。
  123. １２３．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、 Ｒ１は−ＣＨ２ＳＯ２ＮＨ２、アルキルおよびシクロアルキル基、およびアミノ 酸側鎖（アスパラギン、Ｓ−メチルシステインおよびその対応するスルホキシド およびスルホン誘導体、グリシン、アロ−イソロイシン、アラニン、ロイシン、 ｔｅｒｔ−ロイシン、フェニルアラニン、オルニチン、トレオニン、アロ−トレ オニン、イソロイシン、ヒスチジン、ノルロイシン、バリン、グルタミン、セリ ン、アスパラギン酸およびβ−シアノアラニン側鎖からなる群から選ばれる）を 表わし；Ｒ２はアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル およびアルアルキル基を表わし、そしてこれら基は−ＯＲ９、−ＳＲ８（Ｒ９は 水素およびアルキル基を表わす）、およびハロゲン基で任意に置換され； Ｒ３はアルキル、アルケニル、ヒドロキシアルキル、シクロアルキル、シクロア ルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリ ール、ヘテロアリール、アルアルキル、およびヘテロアルアルキル基を表わし； Ｒ４およびＲ５はそれぞれ水素およびＲ３により定義された基を表わし、あるい はＲ４とＲ５はそれらが結合している炭素原子と共にシクロアルキル、アリール 、ヘテロアリールおよびヘテロシクロアルキル基を表わすが、ただしＸがＯのと きＲ５は存在しないことを条件とし； Ｒ３０、Ｒ３１およびＲ３２はＲ１に対して定義された基を表わし、あるいはＲ １とＲ３０の一つはＲ３１とＲ３２の一つおよびこれらが付いている炭素原子と 共にシクロアルキル基を形成し；あるいはＲ３０およびＲ３２はそれらが付いて いる炭素原子と共に３員から６員シクロアルキル基を形成し； Ｒ３３およびＲ３４はそれぞれ水素およびＲ３に対して定義された基を表わし、 あるいはＲ３３とＲ３４はＸ′と共にシクロアルキル、アリール、ヘテロシクリ ルおよびへテロアリール基を表わすが、ただしＸ′がＯのとき、Ｒ３４は存在し ないことを条件とし； ＸはＯおよびＣ（Ｒ１７）を表わし、そしてＲ１７は水素およびアルキル基を表 わし； Ｘ′はＣ（Ｒ１７）、ＮまたはＯを表わし；Ｙ，Ｙ′およびＹ′′はそれぞれＯ およびＳを表わす、により表わされる化合物。
  124. １２４．Ｙ′Ｙ′およびＹ′′はＯである、請求項１２３記載の化合物。
  125. １２５．ｔは０である、請求項１２３記載の化合物。
  126. １２６．Ｘ′はＮを表わす、請求項１２３記載の化合物。
  127. １２７．Ｒ１は水素および１から約４炭素原子を有するアルキル基、アルアルキ ル基、ヒドロキシル基、および式−ＣＨ２Ｃ（Ｏ）Ｒ′′（式中、Ｒ′′はＲ３ ８、−ＮＲ３８Ｒ３９およびＲ３８−ＯＲを表わし、前記Ｒ３８およびＲ３９は それぞれ水素および１から約４炭素原子を有するアルキル基を表わす）により表 わされる基を表わす、請求項１２６記載の化合物。
  128. １２８．Ｒ１は水素、メチル、エチル、ベンジル、フェニルプロピル、ヒドロキ シルおよび式−ＣＨ２Ｃ（Ｏ）Ｒ′′（式中、Ｒ′′は−ＣＨ３，ＮＨ２および −ＯＨを表わす）により表わされる基を表わす、請求項１２３記載の化合物。
  129. １２９．Ｒ１とＲ３１は両方とも水素であり、Ｒ３０とＲ３２は両方ともメチル である、請求項１２５記載の化合物。
  130. １３０．Ｒ３０は水素であり、Ｒ１、Ｒ３１およびＲ３２はすべてメチルである 、請求項１２５記載の化合物。
  131. １３１．Ｒ３０、Ｒ３１およびＲ３２は水素であり、Ｒ１はメチルである、請求 項１２５記載の化合物。
  132. １３２．Ｒ１とＲ３１は両方とも水素であり、Ｒ３０とＲ３２はそれらが付いて いる炭素原子と共に３員から６員シクロアルキル基を形成する、請求項１２５記 載の化合物。
  133. １３３．Ｘ′はＯであり、Ｒ３３は水素かアルキル基である、請求項１２５記載 の化合物。
  134. １３４．Ｘ′はＯであり、Ｒ３４は存在せず、そしてＲ３２はアルアルキル基を 表わす、請求項１２５記載の化合物。
  135. １３５．Ｒ２はアルキル、シクロアルキルアルキルおよびアルアルキル基を表わ し、そしてこれら基はハロゲン基および式−ＯＲ９および−ＳＲ９（式中、Ｒ９ はアルキル基を表わす）により表わされる基で任意に置換される、請求項１２５ 記載の化合物。
  136. １３６．Ｒ２はアルキル、シクロアルキルアルキルおよびアルアルキル基を表わ す、請求項１２５記載の化合物。
  137. １３７．Ｒ２はアルアルキル基を表わす、請求項１２５記載の化合物。
  138. １３８．Ｒ２はＣＨ３ＳＣＨ２ＣＨ２−、イソ−ブチル、ｎ−ブチル、ベンジル 、２−ナフチルメチルおよびシクロヘキシルメチル基を表わす、請求項１２５記 載の化合物。
  139. １３９．Ｒ２はｎ−ブチルおよびイソ−ブチル基を表わす、請求項１２５記載の 化合物。
  140. １４０．Ｒ２はベンジル、４−フルオロベンジル、および２−ナフチルメチル基 を表わす、請求項１２５記載の化合物。
  141. １４１．Ｒ２はシクロヘキシルメチル基を表わす、請求項１２５記載の化合物。
  142. １４２．ＸはＣであり、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれアルキル、アルケニル 、ヒドロキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシク ロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリール、アルアルキルおよびヘ テロアルアルキル基を表わす、請求項１２５記載の化合物
  143. １４３．ＸはＣであり、Ｒ５は水素を表わす、請求項１２５記載の化合物。
  144. １４４．Ｒ３およびＲ４はそれぞれアルキルおよびアルケニル基を表わす、請求 項１４２記載の化合物。
  145. １４５．Ｒ３およびＲ４はそれぞれアルキルおよびヒドロキシアルキル基を表わ す、請求項１４３記載の化合物。
  146. １４６．Ｒ３およびＲ４はそれぞれアルキル、シクロアルキルおよびシクロアル キルアルキル基を表わす、請求項１４４記載の化合物。
  147. １４７．Ｒ３およびＲ４はそれぞれアルキル、ヘテロシクロアルキルおよびヘテ ロシクロアルキルアルキル基を表わす、請求項１４４記載の化合物。
  148. １４８．Ｒ３およびＲ４はそれぞれアルキル、アリールおよびアルアルキル基を 表わす、請求項１４４記載の化合物。
  149. １４９．Ｒ３およびＲ４はそれぞれアルキル、シクロアルキル、シクロアルキル アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリール、 アルアルキル、およびヘテロアルアルキル基を表わす、請求項１４４記載の化合 物。
  150. １５０．Ｒ３は約２から約５炭素原子を有するアルキル基を表わす、請求項１２ ５記載の化合物。
  151. １５１．Ｒ３は独立的にｎ−プロピル、ｉ−ブチル、ネオーペンチル、ｎ−ペン チル、ｎ−ヘキシル、ｉ−アミル、およびｎ−ブチル基を表わす、請求項１２５ 記載の化合物。
  152. １５２．ＸはＣであり、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ約２から約５炭素原子 を有するアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アルアルキル基、ヘテロシク ロアルキルアルキル基およびヘテロアルアルキル基を表わす、請求項１２５記載 の化合物。
  153. １５３．Ｒ３はベンジル、ｐ−フルオロベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ｐ− メチルベンジル、および２−ナフチルメチル基を表わし、Ｒ４はｔ−ブチルを表 わす、請求項１２５記載の化合物。
  154. １５４．Ｒ３はシクロヘキシルメチルであり、Ｒ４はｔ−ブチルである、請求項 １２５記載の化合物。
  155. １５５．Ｒ３はｉ−アミルまたはｎ−ブチルであり、Ｒ４はｔ−ブチルである、 請求項１２５記載の化合物。
  156. １５６．Ｒ３はｉ−ブチルであり、Ｒ４はｔ−ブチルである、請求項１２５記載 の化合物。
  157. １５７．Ｒ３はベンジルまたはｐ−フルオロベンジルであり、Ｒ４はｔ−ブチル である、請求項１２５記載の化合物。
  158. １５８．Ｒ３はネオ−ペンチルであり、Ｒ４はｔ−ブチルである、請求項１２５ 記載の化合物。
  159. １５９．Ｒ４はアルキルおよびシクロアルキル基を表わす、請求項１２５記載の 化合物。
  160. １６０．Ｒ５は水素およびアルキルおよびシクロアルキル基を表わす、請求項１ ２５記載の化合物。
  161. １６１．ＸはＣであり、Ｒ４とＲ５はそれらが結合している炭素原子と共にシク ロアルキルおよびアリール基を表わす、請求項１２５記載の化合物。
  162. １６２．Ｒ３はヘテロアルアルキル基を表わし、Ｒ４はｔ−ブチルである、請求 項１２５記載の化合物。
  163. １６３．Ｒ３はｐ−フルオロベンジル基であり、Ｒ４はｔ−ブチル基である、請 求項１２５記載の化合物。
  164. １６４．請求項１２３記載の化合物と製薬上容認しうる担体とからなる、医薬品 組成物。
  165. １６５．プロテアーゼ阻害量の請求項１６４記載の組成物を投与することからな る、レトロウイルスプロテアーゼの阻害法。
  166. １６６．レトロウイルスプロテアーゼはＨＩＶプロテアーゼである、請求項１９ ５記載の方法。
  167. １６７．有効量の請求項１６４記載の組成物を投与することからなる、レトロウ イルス感染症の治療法。
  168. １６８．レトロウイルス感染症はＨＩＶ感染症である、請求項１６７記載の方法 。
  169. １６９．有効量の請求項１６４記載の組成物を投与することからなる、エイズの 治療法。
JP4502309A 1990-11-19 1991-11-18 レトロウィルスプロテアーゼ阻害物質 Pending JPH06502866A (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US61521090A 1990-11-19 1990-11-19
US615,210 1990-11-19
US78964391A 1991-11-14 1991-11-14
US789,643 1991-11-14
PCT/US1991/008596 WO1992008700A1 (en) 1990-11-19 1991-11-18 Retroviral protease inhibitors

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06502866A true JPH06502866A (ja) 1994-03-31

Family

ID=27087447

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4502309A Pending JPH06502866A (ja) 1990-11-19 1991-11-18 レトロウィルスプロテアーゼ阻害物質

Country Status (13)

Country Link
EP (3) EP0558657B1 (ja)
JP (1) JPH06502866A (ja)
AT (3) ATE196759T1 (ja)
AU (1) AU662309B2 (ja)
CA (1) CA2096528C (ja)
DE (3) DE69132439T2 (ja)
DK (3) DK0558657T3 (ja)
ES (3) ES2151618T3 (ja)
GR (3) GR3023051T3 (ja)
HU (1) HU9301445D0 (ja)
IE (2) IE914019A1 (ja)
MX (1) MX9102138A (ja)
WO (1) WO1992008700A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011518188A (ja) * 2008-04-18 2011-06-23 ユニバーシティ オブ コネチカット リソソーム調節のための化合物および使用方法

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040122000A1 (en) 1981-01-07 2004-06-24 Vertex Pharmaceuticals Incorporated. Inhibitors of aspartyl protease
US6878728B1 (en) 1999-06-11 2005-04-12 Vertex Pharmaceutical Incorporated Inhibitors of aspartyl protease
RU2126794C1 (ru) * 1992-03-11 1999-02-27 Нархекс Лимитед Аминопроизводные оксо- или гидроксизамещенных гидразинов, способ их получения и фармацевтические композиции для ингибирования ретровирусной протеазы
MXPA93002392A (es) 1992-03-11 2005-02-04 Narhex Ltd Derivados amino de hidrocarburos-oxo e hidroxi-substituidos.
US5888992A (en) * 1992-03-11 1999-03-30 Narhex Limited Polar substituted hydrocarbons
US6071895A (en) * 1992-03-11 2000-06-06 Narhex Limited Polar-substituted hydrocarbons
US5559256A (en) * 1992-07-20 1996-09-24 E. R. Squibb & Sons, Inc. Aminediol protease inhibitors
US5783701A (en) * 1992-09-08 1998-07-21 Vertex Pharmaceuticals, Incorporated Sulfonamide inhibitors of aspartyl protease
IS2334B (is) 1992-09-08 2008-02-15 Vertex Pharmaceuticals Inc., (A Massachusetts Corporation) Aspartyl próteasi hemjari af nýjum flokki súlfonamíða
US5723490A (en) * 1992-09-08 1998-03-03 Vertex Pharmaceuticals Incorporated THF-containing sulfonamide inhibitors of aspartyl protease
US5830888A (en) * 1993-04-16 1998-11-03 Monsanto Company Macrocyclic retroviral protease inhibitors
IL110898A0 (en) * 1993-09-10 1994-11-28 Narhex Australia Pty Ltd Polar-substituted hydrocarbons
ATE184594T1 (de) * 1994-03-07 1999-10-15 Vertex Pharma Sulfonamidderivate als aspartylprotease- inhibitoren
IL114808A (en) * 1994-08-11 1999-10-28 Merck & Co Inc Combinations of protease inhibitors for the treatment of hiv infection and aids
GB2292146A (en) * 1994-08-11 1996-02-14 Merck & Co Inc HIV protease inhibitors useful for the treatment of AIDS
US5691372A (en) * 1995-04-19 1997-11-25 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Oxygenated-Heterocycle containing sulfonamide inhibitors of aspartyl protease
US6004957A (en) * 1995-06-07 1999-12-21 Vertex Pharmaceuticals, Incorporated Sulfonamide inhibitors of aspartyl protease
WO1998033795A1 (en) * 1997-02-04 1998-08-06 The Regents Of The University Of California Nanomolar, non-peptide inhibitors of cathepsin d
US6436989B1 (en) 1997-12-24 2002-08-20 Vertex Pharmaceuticals, Incorporated Prodrugs of aspartyl protease inhibitors
CA2335477C (en) 1998-06-19 2010-11-30 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Sulfonamide inhibitors of aspartyl protease
KR100708221B1 (ko) * 1999-08-31 2007-04-17 아지노모토 가부시키가이샤 에폭사이드 결정의 제조방법
PE20020276A1 (es) * 2000-06-30 2002-04-06 Elan Pharm Inc COMPUESTOS DE AMINA SUSTITUIDA COMO INHIBIDORES DE ß-SECRETASA PARA EL TRATAMIENTO DE ALZHEIMER
FR2820136A1 (fr) * 2001-01-26 2002-08-02 Aventis Pharma Sa Nouveaux derives de l'uree, leur procede de preparation, leur application a titre de medicaments, compositions pharmaceutiques et nouvelle utilisation
FR2885129B1 (fr) 2005-04-29 2007-06-15 Proskelia Sas Nouveaux derives de l'ureee substituee parun thiazole ou benzothiazole, leur procede de preparation, leur application a titre de medicaments, les compositions pharmaceutiques les renfermant et utilisation.
CA2630860A1 (en) 2005-11-25 2007-05-31 Galapagos Sas Urea derivatives useful as calcium receptor modulators
CN103992412B (zh) * 2014-05-30 2016-08-17 江苏卧尔康家居用品有限公司 改性淮薯淀粉预聚物及用该预聚物制备的可降解聚氨酯发泡材料
CN114569726B (zh) * 2022-05-06 2022-10-28 太阳雨林(北京)生物医药有限公司 预防、阻止或治疗微生物感染的复合物及制备方法和用途

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4645759A (en) * 1984-06-22 1987-02-24 Abbott Laboratories Renin inhibiting compounds
US4599198A (en) 1985-08-02 1986-07-08 Pfizer Inc. Intermediates in polypeptide synthesis
CA1282549C (en) * 1985-11-12 1991-04-02 Eric M. Gordon Aminocarbonyl renin inhibitors
CA1297631C (en) 1985-12-23 1992-03-17 Sesha I. Natarajan Ureido renin inhibitors
DE3635907A1 (de) * 1986-10-22 1988-04-28 Merck Patent Gmbh Hydroxy-aminosaeurederivate
NL8800100A (nl) 1987-01-21 1988-08-16 Sandoz Ag Nieuwe peptidederivaten en werkwijzen voor het bereiden en toepassen van deze derivaten.
DE3830825A1 (de) * 1987-09-15 1989-03-23 Sandoz Ag Hydrophile reninhemmer, ihre herstellung und verwendung
IL90218A0 (en) 1988-05-13 1989-12-15 Abbott Lab Retroviral protease inhibitors
CA1340588C (en) 1988-06-13 1999-06-08 Balraj Krishan Handa Amino acid derivatives
CA2012306A1 (en) * 1989-03-28 1990-09-28 Werner Neidhart Amino acid derivatives
RU2001114518A (ru) 1999-09-29 2003-04-20 Орто-Макнейл Фармасьютикал, Инк. (Us) Изонипекотамиды для лечения опосредованных интегринами нарушений

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011518188A (ja) * 2008-04-18 2011-06-23 ユニバーシティ オブ コネチカット リソソーム調節のための化合物および使用方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE69124110T2 (de) 1997-06-05
EP0558657B1 (en) 1997-01-08
EP0735019A3 (en) 1997-05-14
EP0731088B1 (en) 2000-10-04
IE914019A1 (en) 1992-05-20
DK0558657T3 (da) 1997-07-07
ATE196466T1 (de) 2000-10-15
MX9102138A (es) 1994-05-31
DE69132439D1 (de) 2000-11-09
EP0735019A2 (en) 1996-10-02
ES2151618T3 (es) 2001-01-01
CA2096528A1 (en) 1992-05-20
EP0558657A1 (en) 1993-09-08
GR3034894T3 (en) 2001-02-28
GR3023051T3 (en) 1997-07-30
ATE147378T1 (de) 1997-01-15
DK0731088T3 (da) 2000-10-16
WO1992008700A1 (en) 1992-05-29
IE914018A1 (en) 1992-05-20
GR3035176T3 (en) 2001-04-30
ES2059294T1 (es) 1994-11-16
ATE196759T1 (de) 2000-10-15
DE69132423D1 (de) 2000-10-26
EP0735019B1 (en) 2000-09-20
EP0731088A3 (en) 1997-05-14
CA2096528C (en) 2005-12-06
AU9133291A (en) 1992-06-11
DK0735019T3 (da) 2000-10-23
DE69124110D1 (de) 1997-02-20
ES2059294T3 (es) 1997-04-01
AU662309B2 (en) 1995-08-31
DE69132439T2 (de) 2001-05-03
DE69132423T2 (de) 2001-04-26
EP0731088A2 (en) 1996-09-11
HU9301445D0 (en) 1993-11-29
ES2151975T3 (es) 2001-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH06502866A (ja) レトロウィルスプロテアーゼ阻害物質
DE69133463T2 (de) Retrovirusprotease Inhibitoren
US5948790A (en) Retroviral protease inhibitors
JPH06503092A (ja) レトロウイルスプロテアーゼ阻害剤
CA2096408C (en) Retroviral protease inhibitors
JPH08501288A (ja) レトロウイルスプロテアーゼ阻害剤として有用なα−およびβ−アミノ酸ヒドロキシエチルアミノスルホンアミド
CA2142997A1 (en) Hydroxyethylamino sulfamic acid derivatives useful as retroviral protease inhibitors
US5475027A (en) Retroviral protease inhibitors
PT99555A (pt) Inibidores de protease retroviral