JPH06502792A - 超高分子量ポリエチレンから製造するスキー皮膜ストリツプの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 超高分子量ポリエチレンから製造する スキー皮膜ストリップの製造法 技術的分野 本発明は、超高分子量のポリエチレンから製造されるスキー皮膜材料のストリッ プの製造法及びこの方法により製造されたスキー皮膜及びその適用に関する。

技術の現状 スキーの走行面皮膜に必須の性質は、摩耗に対する抵抗性及びワックス受理性で ある。摩耗に対する抵抗性は主にポリエチレンの分子量により決定するがワック ス受理性はポリエチレンの密度、従ってこのポリエチレンの結晶の割合に依存す る。

スキー工業からのポリエチレンスキー皮膜の強度に関する要求を満たすために、 高分子量のポリエチレンが加工されてきた。これは必然的に超高分子量のポリエ チレンを伴い、それは限られた数の方法でのみ加工することができる。スキー工 業の好ましい方法は、加圧−焼結（ｐｒｅｓｓ−ｓｉｎｔｅｒｉｎｇ）である。

そのようにして製造されたブロックを剥離することによりさらに加工し、ストリ ップの形のスキー−皮膜とする。

日本公開平３．−２１５．２８０は、これらのスキー−皮膜ストリップをさらに 加工する方法につき記載している。スキーの長さに対応する長さに切断された材 料を断続的な方法で加熱し、浸漬浴中で冷却し、その結果超高分子量ポリエチレ ン中の結晶部分に対する非晶質部分の比率をスキー皮膜がワックスを十分受理す るように設定する。しかしこの方法は急速な冷却のためにスキー皮膜の表面に歪 みが生じるという欠点を招き、従って延伸という形態の後仕上げが必要となる。

本発明の議論 本発明の目的は、わずかな数段階で超高分子量のスキー−皮膜ストリップポリエ チレンを製造することができ、摩耗に対する高い抵抗性のみでなく最適滑走性を 示すように最終スキー−皮膜の結晶の割合を調節することを可能にする簡単な方 法を作り出すことである。

この問題は、スキー−皮膜ストリップをスクリュー押し出し、ラム押し出し又は 加圧焼結により製造し、最初に剥離物を継続的に加熱領域を通って動かすことに より均一に１４０°Ｃ以上の温度に昇温し、その後それを冷却領域を通って継続 的に動かすことにより周囲と等しいか又はそれより低い温度に冷却する本発明の 方法で解決される。

本発明はそれにより、従来の方法で製造されるスキー−皮膜材料の改良を保証し 、それは特別なワックス受理性及び雪の上におけるスキーの滑走挙動に関する、 スキー工業によるさらに高い要求への主題である。

本発明による有利な具体化の場合方法は、スキー−皮膜ストリップの厚さが領　 ５−１．５ｍｍであり、それを加熱領域で赤外線により１〇−２５秒、好ましく は１３−２０秒間加熱することを特徴とする。さらに本発明の方法は、スキー− 皮膜ストリップ材料を冷却領域で１０−２０°Ｃの温度に冷却し、冷却領域は少 なくとも部分的に冷却サイジング方式を含むことを特徴とする。この段階は、ス キー−皮膜ストリップが冷却の讃その平滑な表面を保ち、それにより他の場合に 行う従来の冷却後の表面延伸を省略することができる点で有利である。本発明の 他の特徴として、冷却領域におけるスキー−皮膜ストリップの滞留時間が８−３ ０、好ましくは１０−２５秒であることを特徴とする。

加熱及び冷却の両領域における制御された温度ならびに加熱及び冷却領域中のス キー材料の制御された滞留時間などの本発明の方法を有利に履行すると、初期の スキー−皮膜材料の結晶構造が加熱領域で１４０６Ｃ以上の温度にてゆっくり崩 壊し、その後冷却領域で制御された温度及び時間により再結晶化することができ る。従って本発明の方法により製造するスキー皮膜の結晶の割合を最も正確なや り方で調節することができ、２５−６０％が有利である。

従ってこのスキー皮膜は、例えば焼結により製造された既知のスキー皮膜より向 上したワックス受理性及び改良された雪上の滑走挙動を示す。

さらに、用いられているポリエチレンの分子量のために高い摩耗抵抗性が保証さ れる。

本発明の方法は、斜面及びクロスカントリ−スキーの製造のためのスキー皮膜の 利用にも関連する。

スキー皮膜におけるポリエチレンの結晶の割合の正確な制御に関連して、本発明 の方法により製造されたスキー皮膜は、スキー皮膜の滑走挙動及びそのワックス 受理性にそれぞれ異なる要求が設定されるにもかかわらず、斜面のスキー及びク ロスカントリ−スキーの両方の製造に適している。

図の説明 本＆明を、図及び履行例と関連して下記に説明する。

図嘴、本発明の方法を行う装置の側面図であり、加熱領域１及びサインングプレ ート２．２′を含む冷却領域を含む。

本発明の方法を以下の一般的操作法１ごて詳細に議論する・スクリュー押し出し 機、ラム押し出し７機又は加圧−焼結を用いて既知の方法で製造されたスキー− 皮膜材料４が供給ロール３から出発して屈とうローラー（ｄｅｆｌｅｃｔｉｎｇ 　ｒｏｌｌｅｒ）５上を動き、Ｖ（ｍ／分）の速度で例えば赤外線加熱素子を備 えた加熱領域１に供給される。加熱領域の長さは１　（Ｈ）であり、そこで超高 分子量のポリエチレンが１４０℃以上の温度で融解する。スキー−皮膜材料の滞 留時間は長さｌ　（Ｈ）に比例し、どの程度の結晶構造が崩壊するかを決定する 。

その後溶融スキー−皮膜材料は２個のサイジングプレート２．２′を含む冷却領 域に動く。これらのプレート２．２′は一方で溶融スキー−皮膜材料を形作る作 用をし、他方でそれを冷却する作用をする。超高分子量のポリエチレンはこの冷 却の間に再結晶化する。この手順もスキー−皮膜材料の滞留時間に依存し、冷却 領域の長さＩ　（Ｋ）に比例する。その後冷却されたスキー−皮膜材料は１対の 排気ローラー（ｅｖａｃｕａｔｉｏｎ　ｒｏｌｌｅｒ）６の間を動き、引き取り ロール７に巻かれる。

高分子量のポリエチレンの結晶の割合は密度と直線的に比例していない。従って 密度を加熱前、すなわちρ１及び冷却後、すなわちρ２に測定した。下記の表は ３回の履行例の工程パラメーターを示す。

ρ１＝結晶化前の密度；ρ２＝結晶化後の密度；ｄ＝ニスキー皮膜の厚さ；　１ 　（Ｈ）　＝加熱領域の長さ；　ｌ　（Ｋ）　＝冷却領域の長さ：Ｔ＝冷却温度 である。

式ｔ　＝　ｓ　／　ｖにより特定の滞留時間が秒で決定される：ｔ　（Ｈ）　ｔ 　（Ｋ） ここでｔ　（Ｈ）は加熱領域の滞留時間であり、ｔ　（Ｋ）は冷却領域の滞留時 間である。

以下のグラフは密度と結晶化の程度の関係を示す。

重量％結晶化度 ０．８８ｇ／ｃｍ３の密度は非晶質ポリエチレンであり、１．０ｇ／ｃｍ”は結 晶ポリエチレンであると仮定した。

例えば約４５％の結晶化はρｘ＝０．９２５ｇ／ｃｍ”と対応する。従って既知 の方法で製造されたスキー−皮膜材料の超高分子量ポリエチレンの結晶化度を、 本発明の方法を用いて制御し、摩耗に対する最適抵抗性及び最適ワックス受理性 ならびに雪上における最適滑走挙動を有するスキー皮膜を得ることができる。

商業的有用性 本発明の方法により製造したスキー皮膜は、斜面スキー及びクロスカントリ−ス キーの両方の製造に用いられる。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. １．必要な場合例えばスクリュー押し出し機、ラム押し出し機又は加圧焼結によ り既知の方法で製造し、その後０．５−１．５ｍｍの厚さに剥離されたスキー− 皮膜ストリップ材料を最初に加熱領域に継続的に動かして１４０℃以上の温度に 均一に加熱し、その後冷却領域に動かして周囲と同等か又はそれ以下の温度に均 一に冷却することを特徴とする、超高分子量のポリエチレンを含むスキー−皮膜 材料のストリップの製造法。
2. ２．スキー−皮膜ストリップ材料を加熱領域で赤外線により加熱することを特徴 とする、請求の範囲１に記載の方法。
3. ３．スキー−皮膜ストリップ材料を１０−２５、好ましくは１３−２０秒間加熱 することを特徴とする、請求の範囲１及び２のいずれかに記載の方法。
4. ４．ストリップ一様スキー−皮膜材料を、少なくとも一部が冷却サイジング装置 により形成されている冷却領域で１０−２０℃の温度に冷却することを特徴とす る、請求の範囲１−３のひとつに記載の方法。
5. ５．スキー−皮膜ストリップ材料の滞留時間が８−３０、好ましくは１０−２５ 秒であることを特徴とする、請求の範囲１−４に記載の方法。
6. ６．結晶の割合が２５−６０％であることを特徴とする、請求の範囲１−５のひ とつに記載の方法により製造されたスキー皮膜。
7. ７．請求の範囲６に記載のスキー皮膜の、斜面スキーの製造への適用。
8. ８．請求の範囲６に記載のスキー皮膜の、クロスカントリースキーの製造への適 用。