JPH064898A - 光ピックアップ - Google Patents

光ピックアップ

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JPH064898A
JPH064898A JP4159654A JP15965492A JPH064898A JP H064898 A JPH064898 A JP H064898A JP 4159654 A JP4159654 A JP 4159654A JP 15965492 A JP15965492 A JP 15965492A JP H064898 A JPH064898 A JP H064898A
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JP
Japan
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light
light emitting
optical pickup
laser diode
laser
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JP4159654A
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English (en)
Inventor
Tetsuo Ikegame
哲夫 池亀
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】マルチビームの半導体レーザ装置の発光点の像
の位置を変えて、光スポットの間隔を変える光ピックア
ップを提供することを目的とする。 【構成】光ピックアップは、所定間隔をおいて配された
複数の発光点A,Bを具備するレーザダイオードと、こ
の複数の発光点A,Bの所定間隔を変えるようにこの複
数の発光点A,Bの像A1,B1を形成する反射面33
a,33bを具備する光学部材とを有する。複数の発光
点A,Bから射出されたレーザ光は、反射面33a,3
3bを介して集光レンズ34に入射し、光スポットA
1′,B1′を光学的記録媒体39に形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、光ディスク装置に用
いられる光ピックアップに関し、特にマルチビーム半導
体レーザを備えた光ピックアップに関する。
【0002】
【従来の技術】光ピックアップに用いられる半導体レー
ザとして、複数のレーザ光を射出するマルチビームレー
ザ装置が知られている。図11は、従来の2ビームアレ
イ半導体レーザ装置を示す側面図である。この図におい
て、符号1はモノリシックな2ビームアレイ半導体レー
ザダイオード(以下、2ビームアレイLD)チップ、符
号2はこの2ビームアレイLDチップ1を直接マウント
したサブマウント、符号3はヒートシンク、符号4は前
記2ビームアレイLDチップ1のモニタ光を受光するた
めに設置されたモニタ用フォトダイオード(以下、モニ
タ用PD)、符号5は前記ヒートシンク3とモニタ用P
D4を設置したステム、符号7はこのキャップ6に取付
けられた窓ガラス、符号8は2ビームアレイLDチップ
1およびモニタ用PD4に接続されたリード端子をそれ
ぞれ示している。
【0003】この従来の2ビームアレイ半導体レーザ装
置は以下のように機能する。2ビームアレイLDチップ
1のステム5側の端面から出射された2つのモニタ光
は、ステム5上に設置された1つのモニタ用PD4によ
り光検出され、電気信号に変換される。この信号は、外
部のAPC(一定出力制御)駆動用回路へ送られ、これ
によって2ビームアレイLDチップ1のもう一方の端面
より出射されるレーザ光の光出力が調節されるようにな
っている。また、特開平2−253688号公報には、
図12に示すようなマルチビームレーザ装置が開示され
ている。
【0004】このマルチビームレーザ装置は、前、後端
面19,20に各々1つの発光点を有する半導体レーザ
チップ12が半導体基板11上にマウントされている。
また半導体レーザチップの前、後部には、互いに逆方向
に出射されるレーザ光をそれぞれ90°方向を変えて同
方向に放射するための2つのビ―ムスプリッタ16,1
7が設けられている。さらに、半導体基板11上には、
前端面、後端面のどちらか一方から出射されたレーザ光
をモニタ用のレーザ光として基板側に90°方向を変え
るビ―ムスプリッタ18、およびこのモニタ用のレーザ
光を受光するフォトダイオード15が形成されている。
この装置によれば、前、後端面に各々1つのレーザ発光
点を有する半導体レーザチップ1つで2ビームアレイL
D装置を得ることができる。
【0005】さらに、特開平4−14633号公報に
は、光ディスクに対し複数のビームスポットを照射して
情報の記録再生を行う光ピックアップが開示されてい
る。この光ピックアップは、マルチビームレーザ装置か
ら射出された複数のレーザ光を、それぞれ別個の対物レ
ンズに導き、これによって複数のビームスポットを得る
ように構成されている。この光ピックアップによれば、
単体の半導体レーザを複数個利用することなく、簡単な
構成で複数のビームスポットを得ることができる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】図11に示す半導体レ
ーザ装置に用いられている2ビームアレイLDにおいて
は、(1)各レーザの光学的特性が、隣のレーザの熱的
影響を受けて変化しないこと、すなわち、熱的クロスト
―クが小さいこと、(2)各レーザの光出力をPIN素
子等で独立にモニタできること、すなわち、後面出射光
の光学的クロスト―クが小さいこと、が要求される。以
上の条件を満足させるために、各レーザは100μm程
度離して形成される。
【0007】従って、2ビームアレイLDの発光点の間
隔lはあまり小さくできない。この半導体レーザ装置を
光ディスク装置の光ピックアップに用いると、例えば図
13に示すようになる。この場合、1つの対物レンズで
1本の記録トラック28a上に、それぞれのビームを集
光させ、光スポットAで情報の記録、光スポットBでベ
リファイを行う。
【0008】2つの光スポットA,Bの間隔がmの時
に、ディスクの偏心や対物レンズがY方向にずれた場
合、光スポットはA1,B1のようにY方向にΔY移動
する。この際、光スポットA1を記録トラック28a上
に位置させると、光スポットB1は記録トラックに対し
てX方向にΔxずれてしまう。このΔxは、スポット間
隔mが小いほど小さくなるので、光スポット間隔を小さ
くする方が、正確な記録再生が可能となる。また、ディ
スクの傾きによる2つの光スポットの焦点ずれもスポッ
ト間隔mが小さければ小さくなる。
【0009】さらに、2つの光スポットがY方向にずれ
た状態で、2つの光スポットをX方向に移動した場合、
ディスクの内外周で記録トラックの曲率が異なるために
どちらかの光スポットが記録トラックに対してX方向に
ずれてしまう。
【0010】以上のような光スポットのずれは、光スポ
ットが2つより多い場合にも同様にあてはまる。図11
に示すような半導体レーザ装置においては、発光点の間
隔lを前述した理由によりあまり小さくできないため、
記録トラック上の光スポット間隔も小さくできない。
【0011】また、図12に示す半導体レーザ装置の場
合には、それぞれのビームをビームスプリッタ16,1
7で反射させているために、光スポットの間隔はビーム
スプリッタ16,17の間隔lとなる。この場合、LD
チップ12の長さlLDが、0.3mm程度あるために、光
スポット間隔はビームスプリッタ16の寸法分さらに大
きくなり、0.6mm程度以上にもなってしまう。
【0012】逆に、各光スポット間の熱的な干渉を小さ
くしたい、あるいは各々光スポット間の補助磁界発生手
段のレイアウト上、図11に示すような2ビームアレイ
LDを用いて記録トラック上の間隔を広くしたい場合も
ある。この場合、2ビームアレイLD自体の発光点間隔
を変えることが必要となり、2ビームアレイLD自体を
変更する必要がある。これは、対物レンズ等の光学系の
横倍率を変えることによって記録トラック上の光スポッ
トの間隔を変えることができるが、この横倍率はエラー
検出感度等の他の要因により自由に変えることは難し
い。
【0013】これに対して、2ビームアレイLDを用い
ることなく、複数のシングルビームLDを用いて、ビー
ムスプリッタ等により光束を合成すると、光スポットの
間隔を自由に設定することができる。しかし、複数のシ
ングルビームLDを用いるため、その間の取付部材等の
熱膨張やずれ等により、相互の光スポット位置がずれや
すい、また装置が大形化してしまうという欠点がある。
【0014】特開平4−14633号公報に開示されて
いる光ピックアップは、この欠点を解消すべく、マルチ
ビームレーザ装置から射出された複数のレーザ光を、そ
れぞれ別個の対物レンズで集光し、複数のビームスポッ
トを得ている。しかし、ディスク上に照射される光スポ
ットの間隔を変えることについては何等開示されていな
い。
【0015】この発明は、上述した問題点を解決するた
めになされたものであり、マルチビームの半導体レーザ
装置の発光点の像の位置を変えて、光スポットの間隔を
小さく、または大きく変えることができる光ピックアッ
プを提供することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段、作用】前記課題を解決す
るために、本発明の光ピックアップは、複数のレーザビ
ームを射出するレーザダイオードを有する光ピックアッ
プにおいて、前記レーザダイオードから射出された複数
の出射光を各々傾きの異なる反射面で反射させて同一の
集光手段に入射させることを特徴としている。
【0017】さらに、本発明の光ピックアップは、複数
のレーザビームを射出するレーザダイオードを有する光
ピックアップにおいて、前記レーザダイオードから射出
された複数の出射光を各々傾きの異なる透過面で透過さ
せて同一の集光手段に入射させることを特徴としてい
る。
【0018】
【実施例】以下、本発明に係る光ピックアップの実施例
を添付図面に沿って具体的に説明する。 (第1実施例)
【0019】図1は、本発明に係る光ピックアップに用
いられる半導体レーザ装置の要部を示す図、図2は、こ
の半導体レーザ装置を有する光ピックアップの光路を示
す図である。
【0020】リードフレーム35上には、金をプレス成
形したブロック33がマウントされている。このブロッ
ク33には、上方に向けて開口した凹部が形成されてお
り、その底部33aに、前端面、後端面にそれぞれ1つ
のレーザ発光点A,Bを備えたレーザダイオード31が
固定されている。前記凹部の前後部には、それぞれの発
光点から射出されたレーザ光を反射する反射面33b,
33cが形成されている。これらの反射面33b,33
cのブロック面上に対する傾斜角度θは45°よりも小
さい角度に設定されている。また、リードフレーム3
5,ブロック33及びレーザダイオード31を囲むよう
に、透明なプラスチックのパッケージ38が成形されて
いる。
【0021】レーザダイオード31の発光点AからX
(−)方向に出射された光は、反射面33bに、発光点
BからX(+)方向に出射された光は、反射面33cに
入射する。図2を参照して、この半導体レーザ装置30
を有する光ピックアップの光路について説明する。
【0022】半導体レーザ装置30から出射された光
は、対物レンズ34で集光され、記録媒体39上に結像
し光スポットを形成する。前述したように、反射面33
b,33cの傾斜角度θは、45°よりも小さい角度に
設定されているが、まず、これらの傾斜角度を33
b′,33c′で示すように45°として考える。
【0023】この時、発光点Aの像の位置は、45°傾
斜した点線の軸に対して対称な位置のA2であり、記録
媒体39上の光スポットの位置はA2′となる。発光点
Bについても同様に、像の位置はB2であり、記録媒体
39上の光スポットはB2′となる。
【0024】ところが、実際の反射面33bの角度θ
は、45°よりも小さく設定されているので、発光点A
の像A1の位置はA2に比べ光軸36に近くなる。従っ
て、記録媒体39上の光スポットの位置もA1′とな
り、A2′よりも光軸36に近くなる。発光点Bについ
ても同様に、反射面33cにより、記録媒体39上の光
スポットの位置はB2となる。
【0025】図2から明らかなように、反射面33b,
33cの傾斜角度を45°よりも小さく設定することに
よって、発光点の像の間隔をl′からlに小さくするこ
とができ、これに伴い2つの光スポットの間隔もm′か
らmに小さくすることができる。以上の構成により、以
下の効果が得られる。
【0026】レーザダイオードの前後の出射光を用いて
も、形成される光スポットの間隔を小さくできる(光ス
ポットA1′,B1′)。反射面33b,33cは、金
のブロックをプレス成形して形成しているので量産性が
良く、また反射面の角度等は自由に設定できる。
【0027】また、反射面33b,33cの角度を45
°より大きくすることにより、発光点間隔を広くでき
る。このように反射面33b,33cの角度を自由に選
ぶことによって、光スポットの間隔を変更できる。ある
いは、反射面33b,33cをX軸回りに傾けることに
より、光スポットをY方向に移動させることもできる。
【0028】上述した実施例の構成において、ブロック
33上に記録媒体39からの反射光を受光するフォトダ
イオードをマウントしても良い。また、ブロック33の
材質は、他のアルミニウム,銀等であっても良い。さら
に、リードフレーム35の表面をプレス成形し、金をコ
ーティングすることにより、反射面33b,33cを形
成し、これにレーザダイオードを直接マウントしても良
い。さらにまた、反射面33b,33cは、ガラス、プ
ラスチックの成形品に反射コーティングをしたものでも
良い。 (第2実施例)図3は、光ピックアップの上面図、図4
は、その側面図、そして、図5は、図4の光ピックアッ
プをX(+)側から見た場合の光線図である。
【0029】レーザダイオード31は、モノリシック2
ビームレーザである。ブロック43には、凸部が3つ形
成されており、1つはレーザダイオード31をマウント
する43a、1つはレーザダイオード31のX(−)方
向にある41、残りはレーザダイオード31のX(+)
方向にある43dである。この凸部43dには、2つの
反射面(平面)43b,43cが形成されている。これ
らの反射面43b,43cの法線は、XY平面に対して
Y軸回りに約45°、X軸回りにφ傾いており反射面4
3b,43cは互いに向き合わない方に傾いている。
【0030】凸部41には、XY平面に垂直でYZ平面
と交差する反射面41a,41bが形成されている。ま
た、凸部41のY方向両側には、フォトディテクタ40
a,40bがブロック43上にマウントされている。
【0031】レーザダイオード31の2つの発光点A,
BからX(+)側に出射された光の内、発光点Aからの
光は反射面43bで反射され、発光点Bからの光は反射
面43cで反射されて、ほぼZ(+)方向へ向かう。反
射面43b,43cと発光点A,Bとの距離nは、発光
点Aからの光の中央部が反射面43cに入射しない程度
に大きく設定されている。発光点A,Bからの射出光の
広がり角は、Z方向(接合面に垂直な方向)に比べ、Y
方向(接合面に平行な方向)の方が小さいため、nを大
にできる。また、発光点A,Bの間隔l′は100μm
に,前記nは270μmに設定されている。
【0032】図5に示すように、X(+)側から見た場
合、反射面43b,43cによる発光点A,Bの像はA
1,B1のようになる。この図において、点A1′,B
1′は反射面43b,43cの法線がXZ面に対して平
行な場合(この場合の反射面を43b′,43c′とす
る)であり、A1′とB1′の間隔はl′で発光点A,
Bの間隔と等しくなっている。本実施例では、反射面4
3b,43cはX軸回りに傾いており(法線がXZ面と
平行ではない)、反射面43b,43cがX(+)方向
から見て等価的にφ傾いているので、点A1′,B1′
は互いに近づく方向にn・sin(2φ)移動し、それ
ぞれA1,B1の点となる。
【0033】今φ=2.7°とすると、n・sin(2
φ)=25μmとなるから、A1,B1の間隔lは50
μmとなる。従って、本来の発光点間隔100μmに対
してその間隔は1/2になっている。
【0034】また、レーザダイオードの発光点C,Dか
らX(−)方向に出射した光は、それぞれ反射面41
a,41bで反射されてY方向に向かい、それぞれの光
の下部がフォトディテクタ40a,40bに入射する。
このフォトディテクタ40a,40bの各々の出力によ
り後方モニタ信号が得られる。
【0035】この場合、発光点C,Dから射出された光
が、それぞれ反射面41b,41aに入射しないように
反射面41a,41bを発光点C(+)に近づけている
ので後面出射光の光学的クロストークが小さい。 (第3実施例)図6は、磁気記録/再生方式を用いる光
ピックアップの概略を示す側面図、図7は、ガラスプレ
ートを省略して光路を示す斜視図である。
【0036】ブロック53の平坦部53a上には、レー
ザダイオード31が固定されておりこのレーザダイオー
ド31の発光点A,Bから射出された光は、ブロック5
3の凸部53bに形成された反射面54a,54bに入
射する。反射面54a,54bは、前記第2実施例の反
射面43b,43cと同様に傾いており、発光点A,B
の像の間隔は小さくなっている。さらに反射面54a,
54bは、それぞれの反射光をY方向に広げてビーム整
形するように円筒面状に形成されている。
【0037】反射面54a,54bのZ(+)方向に
は、ガラスプレート60が配置されており、その上面6
0aの一部には、ホログラム63が、その格子方向をほ
ぼY方向に平行にして形成されている。また、他の一部
はミラー面65となるようにコーティングされている。
そして、ガラスプレート60の下面60bの一部は、偏
光ビームスプリッタ64となるようにコーティングさ
れ、他は透過面となっている。
【0038】反射面54a,54bが形成された凸部5
3bのX(+)方向には、反射面54c,54dが形成
されており、これらはXY平面に対して、X軸回りに互
いに離れるように傾いている。また、凸部53bのY方
向両側には、受光面をX方向に2分割されたフォトディ
テクタ56,57及びY方向に3分割されたフォトディ
テクタ58,59がブロック53上にマウントされてい
る。次に、上述した構成において、レーザダイオード3
1の発光点A,Bから射出されたレーザ光の光路をそれ
ぞれ説明する。
【0039】レーザダイオードの発光点Aから射出され
た光は、反射面54aに入射し、Y方向の光束が小し拡
大するように反射され、ガラスプレート60に入射し、
ホログラム63を0次光で透過して、対物レンズ74に
入射する。ここで集光された光は、光磁気記録媒体75
上の記録トラック75aに光スポットA′を結ぶ。この
部分での記録トラックはY方向にほぼ平行となってお
り、ここで反射された光は再び対物レンズ74に入りホ
ログラム63に入射する。ここでの1次回折光は光路を
X方向に変え、凸部53b上の反射面54cに焦点を結
ぶ。ここでY方に傾くように反射された光は偏光ビーム
スプリッタ64に斜めに入射し、偏光分離される。ここ
で反射された光はフォトディテクタ56に入射する。ま
た、偏光ビームスプリッタ64を透過した光はミラー面
65で反射され、フォトディテクタ58に入射する。
【0040】レーザダイオードの発光点Bから射出され
た光は、前記同様、記録トラック75aのとなりの記録
トラック75bに光スポットB′を結ぶ。ここで反射さ
れた光は、前記同様、反射面54dを介して偏光ビーム
スプリッタ64に入射し、反射光がフォトディテクタ5
7に、透過光がフォトディテクタ59に入射する。上記
構成において、トッラッキングエラー信号、フォーカス
エラー信号、光磁気信号の検出方法について説明する。
【0041】光スポットA′に関して、トラッキングエ
ラー信号(TE)はフォトディテクタ56の各出力によ
り、プッシュプル法によって、TE=56aー56bで
得られる。フォーカスエラー信号(FE)はフォトディ
テクタ58の出力により、ビームサイズ法によって、F
E=〔58a−58b+58c〕で得られる。そして、
光磁気信号(RF)は、RF=〔56a+56b〕−
〔58a+58b+58c〕で得られる。また、光スポ
ットB′に関しても、上記各信号は、フォトディテクタ
57,59の各出力により得られる。
【0042】本実施例の構成により、以下の効果が得ら
れる。反射面54a,54bを略円筒面にすることによ
り、ビーム整形もすることができ、他のビーム整形手段
が不要になる。あるいは、片方の反射面のみを略円筒面
とすることにより、一方の光のみビーム整形することも
できる。記録トラック75a,75bからの戻り光を傾
きの異なる反射面54c,54dにほぼ焦点位置で入射
させることにより、2つの光束を容易に分離することが
でき、2つの戻り光を独立に検出できる。行きの反射面
54a,54bと戻りの反射面54c,54dがブロッ
ク53に同時に形成されているので相互の位置精度が良
い。1枚のガラスプレート60上にホログラム63,偏
光ビームスプリッタ64,ミラー面65を同時に形成し
てあるので、デバイス自体を小形にできる。また、反射
面54c,54dからの反射光が偏光ビームスプリッタ
64に斜めに入射するので偏光分離が容易にできる。
【0043】上述した第2,3実施例において、レーザ
ダイオードから射出されたレーザ光を反射させる反射面
の部分を、例えば図8に示すように変形することも可能
である。
【0044】図8(a)に示すように、反射面を85
a,85b,85c、と3面形成すれば、3ビームレー
ザにも適用できる。さらに反射面を増やせば、より複数
のマルチビーレーザにも適用できる。また、図8(b)
に示すように、反射面86a,86bの内、反射面86
bにのみ、グレーティング87を形成し、この部分で反
射する光のみ3ビームに分割することもできる。このよ
うに反射面の形状を変えて一方の光のみ変えることも容
易にできる。さらに、図8(c)に示すように、反射面
88a,88bの両面を互いに近づくように傾けること
によって、レーザダイオードの発光点の像の間隔を広く
することもできる。あるいは、以下のように構成するこ
とによって、レーザダイオードの発光点の像の間隔を大
きくしたり、小さくすることができる。
【0045】図9は、レーザダイオード31の発光部分
の上面図である。レーザダイオード31の前方に、ガラ
ス又はプラスチックで成形したV字状のプレート90を
設置する。このプレート90は、面90aと90bが平
行、面90cと90dが平行に構成された平行平板をV
字状に組み合わせたものであり、面90aと90cは互
いに離れる方向に傾いている。レーザダイオード31の
発光点Aからの光は、面90aに入射して面90bを透
過する。この際、光は面90a及び90bで屈折される
ため、面90bよりもX(+)側から見た発光点Aの像
は図で示すようにA′となる。また、同様に発光点Bの
像はB′となる。従って、ABの間隔よりもA′B′の
間隔を小さくすることができる。
【0046】また、図10に示すように、レーザダイオ
ード31の前方に、プリズム96を設置し、図に示すよ
うに、このプリズムの各面96a,96b,96c,9
6dを設定すれば、発光点A,Bの像はA′,B′とな
り、A,Bの間隔に比べてA′,B′の間隔を小さくで
きる。
【0047】なお、図9及び図10に示された構成にお
いて、プリズム95及びプリズム96の各面の傾きを逆
にすれば、発光点A,Bの像A′,B′の間隔を大きく
できることは言うまでもない。さらに、プリズムの代わ
りに同様な光学的機能を有するホログラム素子を用いて
も良い。
【0048】
【発明の効果】レーザダイオードからの複数の出射光を
傾きの異なる反射面又は透過面に入射させることによ
り、発光点の像の位置を変えることができる。従って、
この光ピックアップによれば、記録トラック上の光スポ
ットの間隔を小さくし、又は大きくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る光ピックアップの第1の実施例を
示す図であり、半導体レーザ装置の要部を示す図であ
る。
【図2】図1に示した光ピックアップの光路図である。
【図3】本発明に係る光ピックアップの第2の実施例を
示す上面図である。
【図4】図3に示した光ピックアップの側面図である。
【図5】図4に示した光ピックアップをX(+)側から
見た場合の光線図である。
【図6】本発明の第3の実施例を示す図であり、磁気記
録/再生方式の光ピックアップの概略を示す側面図であ
る。
【図7】図6に示した光ピックアップのレーザ光の光路
を示す斜視図である。
【図8】(a)〜(c)を含み、それぞれレーザダイオ
ードから射出されたレーザ光を反射する反射面の変形例
を示す図である。
【図9】レーザダイオードの発光部分の変形例を示す上
面図である。
【図10】レーザダイオードの発光部分の別の変形例を
示す上面図である。
【図11】従来の2ビームアレイ半導体レーザ装置を示
す側面図である。
【図12】従来の半導体レーザ装置の別の構成を示す側
面図である。
【図13】半導体レーザ装置を光ピックアップに用いた
場合において、記録媒体の記録トラック上の光スポット
の状態を示す図である。
【符号の説明】
30…半導体レーザ装置、31…レーザダイオード、3
3b,33c…反射面、34…対物レンズ、43b,4
3c…反射面、54a,54b…反射面、74…対物レ
ンズ、90a,90c,96a,96c…透過面。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年4月14日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図3
【補正方法】変更
【補正内容】
【図3】

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のレーザビームを射出するレーザダ
    イオードを有する光ピックアップにおいて、 前記レーザダイオードから射出された複数の出射光を各
    々傾きの異なる反射面で反射させて同一の集光手段に入
    射させることを特徴とする光ピックアップ。
  2. 【請求項2】 複数のレーザビームを射出するレーザダ
    イオードを有する光ピックアップにおいて、 前記レーザダイオードから射出された複数の出射光を各
    々傾きの異なる透過面で透過させて同一の集光手段に入
    射させることを特徴とする光ピックアップ。
JP4159654A 1992-06-18 1992-06-18 光ピックアップ Pending JPH064898A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004207638A (ja) * 2002-12-26 2004-07-22 Sony Corp 半導体集積装置及びその製造方法
JP2008192780A (ja) * 2007-02-05 2008-08-21 Ricoh Co Ltd 面発光レーザモジュール、光走査装置、画像形成装置、光伝送モジュール及び光伝送システム
CN114667652A (zh) * 2019-11-28 2022-06-24 三菱电机株式会社 半导体激光装置

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