JPH064650B2 - オルガノシロキサンの製造法 - Google Patents
オルガノシロキサンの製造法Info
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- JPH064650B2 JPH064650B2 JP2145536A JP14553690A JPH064650B2 JP H064650 B2 JPH064650 B2 JP H064650B2 JP 2145536 A JP2145536 A JP 2145536A JP 14553690 A JP14553690 A JP 14553690A JP H064650 B2 JPH064650 B2 JP H064650B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
- C07F7/0872—Preparation and treatment thereof
- C07F7/0874—Reactions involving a bond of the Si-O-Si linkage
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、一般式： ［式中、Ｒは同一かまたは異なり、水素原子を表わすか
または基１個あたり１〜１８個の炭素原子を有する場合
によっては置換された１価の炭化水素基を表わし、 R1はＲまたは塩素原子を表わし、 ｎは３または４を表わす］で示されるオルガノシロキサ
ン(1)を、一般式： (R3Si)2O ［式中、Ｒは前記のものを表わす］で示されるオルガノ
ジシロキサン(2)を、一般式： R4-nSiCln ［式中、Ｒおよびｎは前記のものを表わす］で示される
クロルシラン(3)と、触媒としての窒化塩化燐(4)の存在
下に反応させることによって製造する方法に関する。
または基１個あたり１〜１８個の炭素原子を有する場合
によっては置換された１価の炭化水素基を表わし、 R1はＲまたは塩素原子を表わし、 ｎは３または４を表わす］で示されるオルガノシロキサ
ン(1)を、一般式： (R3Si)2O ［式中、Ｒは前記のものを表わす］で示されるオルガノ
ジシロキサン(2)を、一般式： R4-nSiCln ［式中、Ｒおよびｎは前記のものを表わす］で示される
クロルシラン(3)と、触媒としての窒化塩化燐(4)の存在
下に反応させることによって製造する方法に関する。
従来の技術 英国特許第１１９５７６１号明細書（公告日：１９７０
年６月２４日、Wacker-Chemie GmbH）の記載により、オ
ルガノハロゲン化珪素化合物を、ハロゲン化珪素化合物
と、Ｓｉ結合ハロゲン原子を有するオルガノシロキサン
とを、窒化塩化燐の存在下に反応させることによって得
ることは、公知である。欧州特許第１１５７７２号明細
書（発行日：１９８９年２月１５日、H.-J.Ktzsch
他、Ｈls Troisdorf AG）には、触媒としてのFeCl3お
よび塩化水素の存在下でクロルシランを用いるオルガノ
ジシロキサンの分解が記載されている。
年６月２４日、Wacker-Chemie GmbH）の記載により、オ
ルガノハロゲン化珪素化合物を、ハロゲン化珪素化合物
と、Ｓｉ結合ハロゲン原子を有するオルガノシロキサン
とを、窒化塩化燐の存在下に反応させることによって得
ることは、公知である。欧州特許第１１５７７２号明細
書（発行日：１９８９年２月１５日、H.-J.Ktzsch
他、Ｈls Troisdorf AG）には、触媒としてのFeCl3お
よび塩化水素の存在下でクロルシランを用いるオルガノ
ジシロキサンの分解が記載されている。
発明が解決しようとする課題 オルガノシロキサンが選択的にこれまでよりも高い収量
で得られる窒化塩化燐の存在下でオルガノジシロキサン
とクロルシランとを反応させることによってオルガノシ
ロキサンを製造する方法を提供するという課題が課され
た。更に、有機基と珪素原子との分解を促進せず、かつ
Ｓｉ結合水素原子またはＳｉ結合有機官能基を有する有
機珪素化合物を使用することもできる、反応のための触
媒系を提供するという課題も課された。これらの課題
は、本発明によって解決される。
で得られる窒化塩化燐の存在下でオルガノジシロキサン
とクロルシランとを反応させることによってオルガノシ
ロキサンを製造する方法を提供するという課題が課され
た。更に、有機基と珪素原子との分解を促進せず、かつ
Ｓｉ結合水素原子またはＳｉ結合有機官能基を有する有
機珪素化合物を使用することもできる、反応のための触
媒系を提供するという課題も課された。これらの課題
は、本発明によって解決される。
課題を解決するための手段 本発明の対象は、窒化塩化燐に対して共触媒(5)を一緒
に使用し、この場合共触媒として、一般式： X-C(O)-R2 ［式中、R2は同一かまたは異なり、水素原子を表わすか
または基１個あたり１〜８個の炭素原子を有する場合に
よっては置換された１価の炭化水素基を表わし、 場合 R2は前記のものを表わし、 R3は基１個あたり５〜７個の炭素原子を有する２価の炭
化水素基を表わす］で示されるアミド、一般式： X-C(O)-X ［式中、Ｘは前記のものを表わす］で示される尿素もし
くは尿素誘導体およびシアヌル酸の群から選択されたも
のを一緒に使用することを特徴とする、 から選択されたものを一緒に使用することを特徴とす
る、一般式： ［式中、Ｒは同一かまたは異なり、水素原子を表わすか
または基１個あたり１〜１８個の炭素原子を有する場合
によっては置換された１価の炭化水素基を表わし、 R1はＲまたは塩素原子を表わし、 ｎは３または４を表わす］で示されるオルガノジシロキ
サン(1)を、一般式： (R3Si)2O ［式中、Ｒは前記のものを表わす］で示されるオルガノ
シロキサン(2)と、一般式： R4-nSiCln ［式中、Ｒおよびｎは前記のものを表わす］で示される
クロルシラン(3)とを、触媒としての窒化塩化燐(4)の存
在下に反応させることによって製造する方法である。
に使用し、この場合共触媒として、一般式： X-C(O)-R2 ［式中、R2は同一かまたは異なり、水素原子を表わすか
または基１個あたり１〜８個の炭素原子を有する場合に
よっては置換された１価の炭化水素基を表わし、 場合 R2は前記のものを表わし、 R3は基１個あたり５〜７個の炭素原子を有する２価の炭
化水素基を表わす］で示されるアミド、一般式： X-C(O)-X ［式中、Ｘは前記のものを表わす］で示される尿素もし
くは尿素誘導体およびシアヌル酸の群から選択されたも
のを一緒に使用することを特徴とする、 から選択されたものを一緒に使用することを特徴とす
る、一般式： ［式中、Ｒは同一かまたは異なり、水素原子を表わすか
または基１個あたり１〜１８個の炭素原子を有する場合
によっては置換された１価の炭化水素基を表わし、 R1はＲまたは塩素原子を表わし、 ｎは３または４を表わす］で示されるオルガノジシロキ
サン(1)を、一般式： (R3Si)2O ［式中、Ｒは前記のものを表わす］で示されるオルガノ
シロキサン(2)と、一般式： R4-nSiCln ［式中、Ｒおよびｎは前記のものを表わす］で示される
クロルシラン(3)とを、触媒としての窒化塩化燐(4)の存
在下に反応させることによって製造する方法である。
基Ｒの例は、アルキル基、例えばメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、１−ｎ−ブチル基、
２−ｎ−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ｎ−
ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基および第
三ペンチル基、ヘキシル基、例えばｎ−ヘキシル基、ヘ
プチル基、例えばｎ−ヘプチル基、オクチル基、例えば
ｎ−オクチル基およびイソオクチル基、例えば２，２，
４−トリメチルペンチル基、ノニル基、例えばｎ−ノニ
ル基、デシル基、例えばｎ−デシル基、ドデシル基、例
えばｎ−ドデシル基、オクタデシル基、例えばｎ−オク
タデシル基；アルケニル基、例えばビニル基およびアリ
ル基；シクロアルキル基、例えばシクロペンチル基、シ
クロヘキシル基、シクロヘプチル基およびメチルシクロ
ヘキシル基；アリール基、例えばフェニル基、ナフチル
基およびアントリル基およびフェナントリル基；アルカ
リール基、例えばｏ−、ｍ−、ｐ−トリル基、キシリル
基およびエチルフェニル基；アラルキル基、例えばベン
ジル基、α−フェニルエチル基およびβ−フェニルエチ
ル基である。
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、１−ｎ−ブチル基、
２−ｎ−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ｎ−
ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基および第
三ペンチル基、ヘキシル基、例えばｎ−ヘキシル基、ヘ
プチル基、例えばｎ−ヘプチル基、オクチル基、例えば
ｎ−オクチル基およびイソオクチル基、例えば２，２，
４−トリメチルペンチル基、ノニル基、例えばｎ−ノニ
ル基、デシル基、例えばｎ−デシル基、ドデシル基、例
えばｎ−ドデシル基、オクタデシル基、例えばｎ−オク
タデシル基；アルケニル基、例えばビニル基およびアリ
ル基；シクロアルキル基、例えばシクロペンチル基、シ
クロヘキシル基、シクロヘプチル基およびメチルシクロ
ヘキシル基；アリール基、例えばフェニル基、ナフチル
基およびアントリル基およびフェナントリル基；アルカ
リール基、例えばｏ−、ｍ−、ｐ−トリル基、キシリル
基およびエチルフェニル基；アラルキル基、例えばベン
ジル基、α−フェニルエチル基およびβ−フェニルエチ
ル基である。
置換基Ｒの例は、シアンアルキル基、例えばβ−シアン
エチル基；ハロゲン化炭化水素、例えばハロゲン化アル
キル基、例えば３，３，３−トリフルオル−ｎ−プロピ
ル基、２，２，２，２′，２′，２′−ヘキサフルオル
イソプロピル基、ヘプタフルオルイソプロピル基および
ハロゲン化アリール基、例えば３−アセトキシプロピル
基、３−アクリルオキシプロピル基および３−メタクリ
ルオキシプロピル基；アルコキシアルキル基、例えば３
−メトキシプロピル基、３−（２−メトキシエトキシ）
−プロピル基および３−グリシドオキシプロピル基；お
よびメルカプトアルキル基、例えば３−メルカプトプロ
ピル基および３−メチルチオプロピル基である。
エチル基；ハロゲン化炭化水素、例えばハロゲン化アル
キル基、例えば３，３，３−トリフルオル−ｎ−プロピ
ル基、２，２，２，２′，２′，２′−ヘキサフルオル
イソプロピル基、ヘプタフルオルイソプロピル基および
ハロゲン化アリール基、例えば３−アセトキシプロピル
基、３−アクリルオキシプロピル基および３−メタクリ
ルオキシプロピル基；アルコキシアルキル基、例えば３
−メトキシプロピル基、３−（２−メトキシエトキシ）
−プロピル基および３−グリシドオキシプロピル基；お
よびメルカプトアルキル基、例えば３−メルカプトプロ
ピル基および３−メチルチオプロピル基である。
基R2の例は、アルキル基、例えばメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、１−ｎ−ブチル基、
２−ｎ−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ｎ−
ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基および第
三ペンチル基、ヘキシル基、例えばｎ−ヘキシル基、ヘ
プチル基、例えばｎ−ヘプチル基、オクチル基、例えば
ｎ−オクチル基およびイソオクチル基、例えば２，２，
４−トリメチルペンチル基；アルケニル基、例えばビニ
ル基およびアリル基；シクロアルキル基、例えばシクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基およ
びメチルシクロヘキシル基；アリール基、例えばフェニ
ル基；アルカリール基、例えばｏ−、ｍ−、ｐ−トリル
基、キシリル基およびエチルフェニル基；およびアラル
キル基、例えばベンジル基、α−フェニルエチル基およ
びβフェニルエチル基である。
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、１−ｎ−ブチル基、
２−ｎ−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ｎ−
ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基および第
三ペンチル基、ヘキシル基、例えばｎ−ヘキシル基、ヘ
プチル基、例えばｎ−ヘプチル基、オクチル基、例えば
ｎ−オクチル基およびイソオクチル基、例えば２，２，
４−トリメチルペンチル基；アルケニル基、例えばビニ
ル基およびアリル基；シクロアルキル基、例えばシクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基およ
びメチルシクロヘキシル基；アリール基、例えばフェニ
ル基；アルカリール基、例えばｏ−、ｍ−、ｐ−トリル
基、キシリル基およびエチルフェニル基；およびアラル
キル基、例えばベンジル基、α−フェニルエチル基およ
びβフェニルエチル基である。
基R2は、ハロゲン化炭化水素、例えば２−クロルエチル
基および３−クロルプロピル基；ヒドロキシアルキル
基、例えば２−ヒドロキシエチル基および３−ヒドロキ
シプロピル基；アルコキシアルキル基、例えば２−メト
キシエチル基；およびアミノアルキル基、例えば２−
（ジメチルアミノ）エチル基である。
基および３−クロルプロピル基；ヒドロキシアルキル
基、例えば２−ヒドロキシエチル基および３−ヒドロキ
シプロピル基；アルコキシアルキル基、例えば２−メト
キシエチル基；およびアミノアルキル基、例えば２−
（ジメチルアミノ）エチル基である。
基R3の例は、シクロヘキシレン基である。
オルガノジシロキサン(2)の特に好ましい例は、抗生物
質の合成の際に廃棄物として生じるヘキサメチルジシロ
キサンである。オルガノジシロキサンの他の好ましい例
は、１，３−ジビニル−１，１，３，３，−テトラメチ
ルジシロキサンおよび１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサンである。また、汚染されたオルガノジシロキ
サン、例えばトルオールまたはクロロホルムのような溶
剤を含有するオルガノジシロキサンを使用することもで
きる。アミン含有オルガノジシロキサンは、使用前に中
和すべきである。
質の合成の際に廃棄物として生じるヘキサメチルジシロ
キサンである。オルガノジシロキサンの他の好ましい例
は、１，３−ジビニル−１，１，３，３，−テトラメチ
ルジシロキサンおよび１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサンである。また、汚染されたオルガノジシロキ
サン、例えばトルオールまたはクロロホルムのような溶
剤を含有するオルガノジシロキサンを使用することもで
きる。アミン含有オルガノジシロキサンは、使用前に中
和すべきである。
式(3)のクロルシランの特に好ましい１つの例は、テト
ラクロルシランである。Ｓｉ結合した有機官能基を有す
るクロルシランの１つの例は、３−メタクリルオキシプ
ロピルトリクロルシランである。
ラクロルシランである。Ｓｉ結合した有機官能基を有す
るクロルシランの１つの例は、３−メタクリルオキシプ
ロピルトリクロルシランである。
反応は、次の反応式により行なわれる： オルガノシロキサン(I)の製造と同時に、反応式(I)、(I
I)および(III)に示されているように、トリオルガノク
ロルシランが得られる。
I)および(III)に示されているように、トリオルガノク
ロルシランが得られる。
本発明方法によれば、反応の際に特に、クロルシラン
(3)の場合にＳｉ結合塩素原子１グラム原子あたりオル
ガノジシロキサン少なくとも１モルが使用される。
(3)の場合にＳｉ結合塩素原子１グラム原子あたりオル
ガノジシロキサン少なくとも１モルが使用される。
本発明方法により得られたオルガノシロキサン(1)の例
は、３−クロロ−３−トリメチルシロキシヘキサメチル
トリシロキサン、１，１，５，５−テトラメチル−３−
クロロ−３−ジメチルシロキシトリシロキサン、１，５
−ジビニル−１，１，５，５−テトラメチル−３−クロ
ロ−３−ビニルジメチルシロキシトリシロキサン、３−
メタクリルオキシプロピル−３−トリメチルシロキシヘ
キサメチルトリシロキサン、３，３−ビス（トリメチル
シロキシ）ヘキサメチルトリシロキサン、１，１，５，
５−テトラメチル−３，３−ビス（ジメチルシロキシ）
トリシロキサンおよび１，５−ジビニル−１，１，５，
５−テトラメチル−３，３−ビス（ビニルジメチルシロ
キシ）トリシロキサンである。
は、３−クロロ−３−トリメチルシロキシヘキサメチル
トリシロキサン、１，１，５，５−テトラメチル−３−
クロロ−３−ジメチルシロキシトリシロキサン、１，５
−ジビニル−１，１，５，５−テトラメチル−３−クロ
ロ−３−ビニルジメチルシロキシトリシロキサン、３−
メタクリルオキシプロピル−３−トリメチルシロキシヘ
キサメチルトリシロキサン、３，３−ビス（トリメチル
シロキシ）ヘキサメチルトリシロキサン、１，１，５，
５−テトラメチル−３，３−ビス（ジメチルシロキシ）
トリシロキサンおよび１，５−ジビニル−１，１，５，
５−テトラメチル−３，３−ビス（ビニルジメチルシロ
キシ）トリシロキサンである。
オルガノジシロキサン(2)とクロルシラン(3)との反応を
促進する窒化塩化燐(4)は、例えば五塩化燐４００重量
部を塩化アンモニウム１３０重量部と反応させることに
よって得られたものであることができる（例えば、“Be
rich te der Deutschen Chemischen Gesellschaft"、
１９２４年５７版、第１３４５頁参照）か、または五塩
化燐 ２モルと、塩化アンモニウム１モルとの反応によ
って得ることができるものである（例えば、米国特許第
３８３９３８８号明細書、発行日：１９７４年１０月１
日、S.Nitzsche他、Wacker-Chemie GmbH参照）。勿論、
少なくとも２つ異なる種類の窒化塩化燐からの混合物を
使用することもできる。
促進する窒化塩化燐(4)は、例えば五塩化燐４００重量
部を塩化アンモニウム１３０重量部と反応させることに
よって得られたものであることができる（例えば、“Be
rich te der Deutschen Chemischen Gesellschaft"、
１９２４年５７版、第１３４５頁参照）か、または五塩
化燐 ２モルと、塩化アンモニウム１モルとの反応によ
って得ることができるものである（例えば、米国特許第
３８３９３８８号明細書、発行日：１９７４年１０月１
日、S.Nitzsche他、Wacker-Chemie GmbH参照）。勿論、
少なくとも２つ異なる種類の窒化塩化燐からの混合物を
使用することもできる。
窒化塩化燐(4)は、有利に有機珪素化合物(2)および(3)
のそれぞれ使用した量の全体量に対してそれぞれ０．１
〜５０重量0/00の量で使用される。分布を改善しかつ配
量を簡易化するために、窒化塩化燐は、不活性溶剤中の
溶液の形で使用される。適当な溶剤の例は、炭化水素、
例えばヘキサンもしくはシクロヘキサンおよびハロゲン
化炭化水素、例えば塩化メチレンもしくは１，２，３−
トリクロルプロパンである。特に、この溶液は、窒化塩
化燐および溶剤の全重量に対して窒化塩化燐２０〜６０
重量％を含有する。
のそれぞれ使用した量の全体量に対してそれぞれ０．１
〜５０重量0/00の量で使用される。分布を改善しかつ配
量を簡易化するために、窒化塩化燐は、不活性溶剤中の
溶液の形で使用される。適当な溶剤の例は、炭化水素、
例えばヘキサンもしくはシクロヘキサンおよびハロゲン
化炭化水素、例えば塩化メチレンもしくは１，２，３−
トリクロルプロパンである。特に、この溶液は、窒化塩
化燐および溶剤の全重量に対して窒化塩化燐２０〜６０
重量％を含有する。
共触媒（５］の例は、式： HC(O)N(CH3)2、 HC(O)NH2、 H3CC(O)N(CH3)2、 H3CC(O)NH2、 H3NC(O)NH2、 (H3C)2NC(O)N(CH3)2、 (n-Bu)NHC(O)NH(n-Bu)、 共触媒(5)の好ましい例は、テトラメチル尿素および
Ｎ′，Ｎ′−ビス（２−ヒドロキシエチル）尿素であ
る。
Ｎ′，Ｎ′−ビス（２−ヒドロキシエチル）尿素であ
る。
共触媒(5)は、特にそれぞれ使用した有機珪素化合物(2)
および(3)の全体量に対してそれぞれ０．１重量ppm〜１
重量％、有利に０．１〜１０００重量ppmの量で使用さ
れる。分布を改善しかつ配量を簡易化するために、共触
媒(5)は、不活性溶剤中、例えば炭化水素、例えばヘキ
サンもしくはハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレン
中の溶液の形で使用することもできる。
および(3)の全体量に対してそれぞれ０．１重量ppm〜１
重量％、有利に０．１〜１０００重量ppmの量で使用さ
れる。分布を改善しかつ配量を簡易化するために、共触
媒(5)は、不活性溶剤中、例えば炭化水素、例えばヘキ
サンもしくはハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレン
中の溶液の形で使用することもできる。
本発明による方法は、特に０℃〜９０℃、有利に２０〜
５５℃で使用される。本発明による方法で使用される圧
力は、通常周囲大気の圧力である。
５５℃で使用される。本発明による方法で使用される圧
力は、通常周囲大気の圧力である。
本発明による方法は、オルガノジシロキサン(2)および
クロルシラン(3)と、窒化塩化燐(4)および共触媒(5)と
の混合後に反応を、特に攪拌下および温度制御下で、反
応混合物が反応して生じるまで制御するようにして簡単
な方法で実施される。反応時間は、特に４〜１００時
間、有利に２０〜７０時間である。
クロルシラン(3)と、窒化塩化燐(4)および共触媒(5)と
の混合後に反応を、特に攪拌下および温度制御下で、反
応混合物が反応して生じるまで制御するようにして簡単
な方法で実施される。反応時間は、特に４〜１００時
間、有利に２０〜７０時間である。
特に、触媒は、反応の進行後に不活性になる。このこと
は、例えば反応生成物を触媒と、減圧下に蒸留により分
離するか、触媒をモレキュラーシーブに吸着するか、ま
たは塩基、例えばアミンまたは金属酸化物で中和するこ
とによって行なうことができる。特に、触媒の失活は、
第三アミンまたは金属酸化物を用いて行なわれる。第三
アミンの例は、トリエチルアミンおよびトリ−ｎ−ブチ
ルアミンである。金属酸化物の例は、酸化マグネシウム
である。有利には、窒化塩化燐の場合に燐１グラム原子
あたりアミンまたは金属酸化物約１〜５モルが使用され
る。分布を改善しかつ配量を簡易化するために、例えば
アミンは、不活性溶剤中の溶液の形で使用することがで
きる。有利には、この溶液は、アミおよび溶剤の全重量
に対してアミン２０〜６０重量％を含有する。オルガノ
ジシロキサン(2)と、クロルシラン(3)との反応の際に本
発明方法に対して記載された温度条件および圧力条件
は、アミンおよび金属酸化物を用いての触媒の中和にも
当てはまる。本発明により得られたオルガノシロキサン
(1)は、特に分別蒸留によって得られる。
は、例えば反応生成物を触媒と、減圧下に蒸留により分
離するか、触媒をモレキュラーシーブに吸着するか、ま
たは塩基、例えばアミンまたは金属酸化物で中和するこ
とによって行なうことができる。特に、触媒の失活は、
第三アミンまたは金属酸化物を用いて行なわれる。第三
アミンの例は、トリエチルアミンおよびトリ−ｎ−ブチ
ルアミンである。金属酸化物の例は、酸化マグネシウム
である。有利には、窒化塩化燐の場合に燐１グラム原子
あたりアミンまたは金属酸化物約１〜５モルが使用され
る。分布を改善しかつ配量を簡易化するために、例えば
アミンは、不活性溶剤中の溶液の形で使用することがで
きる。有利には、この溶液は、アミおよび溶剤の全重量
に対してアミン２０〜６０重量％を含有する。オルガノ
ジシロキサン(2)と、クロルシラン(3)との反応の際に本
発明方法に対して記載された温度条件および圧力条件
は、アミンおよび金属酸化物を用いての触媒の中和にも
当てはまる。本発明により得られたオルガノシロキサン
(1)は、特に分別蒸留によって得られる。
本発明により得られたオルガノシロキサン(1)は、この
種のオルガノシロキサンを従来法で使用するような全て
の目的に使用することができる。これには、例えばオル
ガノシロキサン(1)それ自体としての使用または成形体
および皮膜を製造するための中間生成物としての使用が
属し；さらに、シリコーン樹脂およびシリコーンゴムの
架橋剤としての使用、シロキサン連鎖反応停止剤として
の使用、単量体のシリル化剤としての使用ならびに保護
基としての使用が属する。
種のオルガノシロキサンを従来法で使用するような全て
の目的に使用することができる。これには、例えばオル
ガノシロキサン(1)それ自体としての使用または成形体
および皮膜を製造するための中間生成物としての使用が
属し；さらに、シリコーン樹脂およびシリコーンゴムの
架橋剤としての使用、シロキサン連鎖反応停止剤として
の使用、単量体のシリル化剤としての使用ならびに保護
基としての使用が属する。
次の例中で使用される窒化塩化燐は、、次のようにして
製造された： 五塩化燐４１７ｇ（２モル）およびテトラクロルエタン
１０００ｍ中の塩化アンモニウム５３．３ｇ（１モ
ル）からなる混合物を還流下に１２時間沸騰加熱する。
こうして得られた明黄色の溶液から、１６０℃で圧力を
約１．３３hPa（絶対）を減少させながら揮発成分を除
去する。残留物として残存する黄色の結晶は、本質的に
式： Cl3PNPCl2NPCl3・PCl6 で示される化合物からなる。
製造された： 五塩化燐４１７ｇ（２モル）およびテトラクロルエタン
１０００ｍ中の塩化アンモニウム５３．３ｇ（１モ
ル）からなる混合物を還流下に１２時間沸騰加熱する。
こうして得られた明黄色の溶液から、１６０℃で圧力を
約１．３３hPa（絶対）を減少させながら揮発成分を除
去する。残留物として残存する黄色の結晶は、本質的に
式： Cl3PNPCl2NPCl3・PCl6 で示される化合物からなる。
実施例 例１： 内部温度計、攪拌機および還流冷却器を備えた４の多
数口フラスコ中で、ヘキサメチルジシロキサン１７０７
ｇ（１０．５モル）およびテトラクロルシラン５９５ｇ
（３．５モル）からなる混合物に、攪拌下にテトラメチ
ル尿素４．６ｇ（０．２重量％）および塩化メチレン中
の窒化塩化燐の２５％の溶液１８３．４ｇを加える。冷
却することによって、反応温度を４５℃に保持する。２
１時間後、反応混合物の揮発成分を２００ミリバールお
よび１００℃で留去する。粗製留出液は、３−クロル−
３−トリメチルシロキシヘキサメチルトリシロキサン５
６％、３，３−ジクロロヘキサメチルトリシロキサン２
９％および３，３−ビス（トリメチルシロキシ）ヘキサ
メチルトリシロキサン１６％を含有する。この粗製留出
液を分別蒸留し、そこから２０ミリバールおよび８３〜
８７℃で３−クロル−３−トリメチルシロキシヘキサメ
チルトリシロキサン３１３ｇ（理論値の２７％）を９７
％のガスクロマトグィーにより測定した純度で得る。
数口フラスコ中で、ヘキサメチルジシロキサン１７０７
ｇ（１０．５モル）およびテトラクロルシラン５９５ｇ
（３．５モル）からなる混合物に、攪拌下にテトラメチ
ル尿素４．６ｇ（０．２重量％）および塩化メチレン中
の窒化塩化燐の２５％の溶液１８３．４ｇを加える。冷
却することによって、反応温度を４５℃に保持する。２
１時間後、反応混合物の揮発成分を２００ミリバールお
よび１００℃で留去する。粗製留出液は、３−クロル−
３−トリメチルシロキシヘキサメチルトリシロキサン５
６％、３，３−ジクロロヘキサメチルトリシロキサン２
９％および３，３−ビス（トリメチルシロキシ）ヘキサ
メチルトリシロキサン１６％を含有する。この粗製留出
液を分別蒸留し、そこから２０ミリバールおよび８３〜
８７℃で３−クロル−３−トリメチルシロキシヘキサメ
チルトリシロキサン３１３ｇ（理論値の２７％）を９７
％のガスクロマトグィーにより測定した純度で得る。
比較試験１： ヘキサメチルジシロキサン４８６ｇ（３．０モル）およ
びテトラクロルシラン１７０ｇ（１．０モル）からなる
混合物に攪拌下に室温で塩化メチレン中の窒化塩化理論
値の２５％の溶液１．９ｍを添加する。室温で８時間
の攪拌の後、触媒をトリ−ｎ−ブチルアミン２．２ｍ
の添加によって不活性にする。反応混合物を蒸留するこ
とにより、１８〜３４℃および２ミリバールで３，３−
ジクロロヘキサメチルトリシロキサン５５ｇを生じる
が、しかし３−クロル−３−トリメチルシロキシヘキサ
メチルトリシロキサンは、全く生じない。また、蒸留残
渣（１２ｇ）中および冷却勾配（トリメチルクロルシラ
ンおよび１，１，１−トリクロル−３，３，３−トリメ
チルジシロキサンからなる混合物５８３ｇ）中には、望
ましい３−クロル−３−トリメチルシロキシヘキサメチ
ルトリシロキサンは存在していない。
びテトラクロルシラン１７０ｇ（１．０モル）からなる
混合物に攪拌下に室温で塩化メチレン中の窒化塩化理論
値の２５％の溶液１．９ｍを添加する。室温で８時間
の攪拌の後、触媒をトリ−ｎ−ブチルアミン２．２ｍ
の添加によって不活性にする。反応混合物を蒸留するこ
とにより、１８〜３４℃および２ミリバールで３，３−
ジクロロヘキサメチルトリシロキサン５５ｇを生じる
が、しかし３−クロル−３−トリメチルシロキシヘキサ
メチルトリシロキサンは、全く生じない。また、蒸留残
渣（１２ｇ）中および冷却勾配（トリメチルクロルシラ
ンおよび１，１，１−トリクロル−３，３，３−トリメ
チルジシロキサンからなる混合物５８３ｇ）中には、望
ましい３−クロル−３−トリメチルシロキシヘキサメチ
ルトリシロキサンは存在していない。
例２： １，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサン１８３４ｇ（９．８６モル）、塩化メチレン中
のテトラメチル尿素の２．５％の溶液２．４ｇおよびテ
トラクロルシラン５５９ｇ（３．２９モル）からなる混
合物に攪拌下に室温で塩化メチレン中の窒化塩化燐の２
５％の溶液２４ｇを添加する。４６時間後、反応混合物
を酸化マグネシウムで中和し、この混合物を濾過する。
濾液の揮発性成分を回転蒸発器中で３０℃および約４ミ
リバールで蒸発させ、引続き分別蒸留する。９３〜１０
０℃および６ミリバールで、１，５−ジビニル−１，
１，５，５−テトラメチル−３−クロロ−３−ビニルジ
メチルシロキシトリシロキサン３３４ｇ（理論値の３０
％）を９４％のガスクロマトグラフィーにより測定した
純度で得る。
ロキサン１８３４ｇ（９．８６モル）、塩化メチレン中
のテトラメチル尿素の２．５％の溶液２．４ｇおよびテ
トラクロルシラン５５９ｇ（３．２９モル）からなる混
合物に攪拌下に室温で塩化メチレン中の窒化塩化燐の２
５％の溶液２４ｇを添加する。４６時間後、反応混合物
を酸化マグネシウムで中和し、この混合物を濾過する。
濾液の揮発性成分を回転蒸発器中で３０℃および約４ミ
リバールで蒸発させ、引続き分別蒸留する。９３〜１０
０℃および６ミリバールで、１，５−ジビニル−１，
１，５，５−テトラメチル−３−クロロ−３−ビニルジ
メチルシロキシトリシロキサン３３４ｇ（理論値の３０
％）を９４％のガスクロマトグラフィーにより測定した
純度で得る。
比較試験２： １，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサン２７８ｇ（１．５モル）およびテトラクロルシ
ラン８５ｇ（０．５モル）からなる混合物に塩化メチレ
ン中の窒化塩化燐の２５％の溶液１ｍを添加する。室
温で１１６時間の攪拌の後、トリ−ｎ−ブチルアミン
１．１ｍを添加し、次いで３０分間さらに攪拌し、引
続き反応混合物を分別蒸留する。４５〜５２℃および３
ミリバールで、１，５−ジビニル−１，１，５，５−テ
トラメチル−３，３−ジクロロトリシロキサン８５ｇを
得るが、しかし１，５−ジビニル−１，１，５，５−テ
トラメチル−３−クロロ−３−ビニルジメチルシロキシ
トリシロキサンは全く得られない。
ロキサン２７８ｇ（１．５モル）およびテトラクロルシ
ラン８５ｇ（０．５モル）からなる混合物に塩化メチレ
ン中の窒化塩化燐の２５％の溶液１ｍを添加する。室
温で１１６時間の攪拌の後、トリ−ｎ−ブチルアミン
１．１ｍを添加し、次いで３０分間さらに攪拌し、引
続き反応混合物を分別蒸留する。４５〜５２℃および３
ミリバールで、１，５−ジビニル−１，１，５，５−テ
トラメチル−３，３−ジクロロトリシロキサン８５ｇを
得るが、しかし１，５−ジビニル−１，１，５，５−テ
トラメチル−３−クロロ−３−ビニルジメチルシロキシ
トリシロキサンは全く得られない。
例３： ヘキサメチルジシロキサン９７２ｇ（６．０モル）、３
−メタクリルオキシプロピルトリクロルシラン２６１ｇ
（１，０モル）、塩化メチレン中の窒化塩化燐の２５％
の溶液９．８６ｇ、テトラメチル尿素０．２４ｇおよび
２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール０．３
ｇからなる混合物を室温で７０時間攪拌する。次いで、
トリクロルシランおよび過剰のヘキサメチルジシロキサ
ンを蒸発させ、残留物を水で中性になるまで洗浄し、硫
酸ナトリウムで乾燥し、濾別し、濾液を蒸留塔により分
別蒸留する。主要留分として、１１０〜１１５℃および
５ミリバールで３−メタクリルオキシプロピル−３−ト
リメチルシロキシヘキサメチルトリシロキサン２１５ｇ
（理論値の５１％）を９９．７％のガスクロマトグラフ
ィーにより測定した純度で得る。
−メタクリルオキシプロピルトリクロルシラン２６１ｇ
（１，０モル）、塩化メチレン中の窒化塩化燐の２５％
の溶液９．８６ｇ、テトラメチル尿素０．２４ｇおよび
２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール０．３
ｇからなる混合物を室温で７０時間攪拌する。次いで、
トリクロルシランおよび過剰のヘキサメチルジシロキサ
ンを蒸発させ、残留物を水で中性になるまで洗浄し、硫
酸ナトリウムで乾燥し、濾別し、濾液を蒸留塔により分
別蒸留する。主要留分として、１１０〜１１５℃および
５ミリバールで３−メタクリルオキシプロピル−３−ト
リメチルシロキシヘキサメチルトリシロキサン２１５ｇ
（理論値の５１％）を９９．７％のガスクロマトグラフ
ィーにより測定した純度で得る。
比較試験３： ヘキサメチルジシロキサン２４３ｇ（１．５モル）、３
−メタクリルオキシプロピルトリクロルシラン６５．４
ｇ（０．２５モル）、窒化塩化燐９００ppmおよび２，
６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール５００ppm
からなる混合物を室温で１１６時間攪拌する。トリ−ｎ
−ブチルアミン０．９６ｍを添加することによって、
窒化塩化燐を不活性にし、引続き反応混合物を分別蒸留
する。１０７〜１１３℃および３ミリバールで３−メタ
クリルオキシプロピル−３−トリメチルシロキシヘキサ
メチルトリシロキサン２５ｇ（理論値の２３％）を得
る。
−メタクリルオキシプロピルトリクロルシラン６５．４
ｇ（０．２５モル）、窒化塩化燐９００ppmおよび２，
６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール５００ppm
からなる混合物を室温で１１６時間攪拌する。トリ−ｎ
−ブチルアミン０．９６ｍを添加することによって、
窒化塩化燐を不活性にし、引続き反応混合物を分別蒸留
する。１０７〜１１３℃および３ミリバールで３−メタ
クリルオキシプロピル−３−トリメチルシロキシヘキサ
メチルトリシロキサン２５ｇ（理論値の２３％）を得
る。
例４： ヘキサメチルジシロキサン２４３ｇ（１．５モル）、テ
トラクロルシラン４２．５ｇ（０．２５モル）および
Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ヒドロキシエチル）尿素０．３５
ｇからなる混合物に、室温で攪拌下に１，２，３−トリ
クロルプロパン中の窒化塩化燐の２５％の溶液２２．８
ｍを添加する。２１時間後、過剰のヘキサメチルジシ
ロキサンならびにトリメチルクロルウシランを３０℃お
よび２０ミリバールで留去する。残留物に水５０ｍを
添加し、引続き水相を再び分離し、有機相を硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、引続き分別蒸留する。３５〜４７℃およ
び３ミリバールで３，３−ビス（トリメチルシロキシ）
ヘキサメチルトリシロキサン７５ｇ（理論値の７８％）
を得る。
トラクロルシラン４２．５ｇ（０．２５モル）および
Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ヒドロキシエチル）尿素０．３５
ｇからなる混合物に、室温で攪拌下に１，２，３−トリ
クロルプロパン中の窒化塩化燐の２５％の溶液２２．８
ｍを添加する。２１時間後、過剰のヘキサメチルジシ
ロキサンならびにトリメチルクロルウシランを３０℃お
よび２０ミリバールで留去する。残留物に水５０ｍを
添加し、引続き水相を再び分離し、有機相を硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、引続き分別蒸留する。３５〜４７℃およ
び３ミリバールで３，３−ビス（トリメチルシロキシ）
ヘキサメチルトリシロキサン７５ｇ（理論値の７８％）
を得る。
例５： １，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサン５５８ｇ（３．０モル）、テトラメチル尿素
０．３２ｇおよび塩化メチレン中の窒化塩化燐の２５％
の溶液１２．９ｇからなる混合物に６時間で２５℃でテ
トラクロルシラン８５ｇ（０．５モル）および１，３−
ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン
１８６ｇ（１．０モル）からなる混合物を滴加する。更
に、２０時間の反応時間の後、反応混合物の揮発性成分
を３０℃および２０ミリバールで留去する。残留物をシ
リカゲル５０ｇにより濾別し、次いで濾液を分別蒸留す
る。８５〜１０５℃および２ミリバールで、１，５−ジ
ビニル−１，１，５，５−テトラメチル−３，３−ビス
（ビニルジメチルシロキシ）トリシロキサン８５ｇ（理
論値の４４％）を得る。
ロキサン５５８ｇ（３．０モル）、テトラメチル尿素
０．３２ｇおよび塩化メチレン中の窒化塩化燐の２５％
の溶液１２．９ｇからなる混合物に６時間で２５℃でテ
トラクロルシラン８５ｇ（０．５モル）および１，３−
ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン
１８６ｇ（１．０モル）からなる混合物を滴加する。更
に、２０時間の反応時間の後、反応混合物の揮発性成分
を３０℃および２０ミリバールで留去する。残留物をシ
リカゲル５０ｇにより濾別し、次いで濾液を分別蒸留す
る。８５〜１０５℃および２ミリバールで、１，５−ジ
ビニル−１，１，５，５−テトラメチル−３，３−ビス
（ビニルジメチルシロキシ）トリシロキサン８５ｇ（理
論値の４４％）を得る。
比較試験５： １，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシ
ロキサン５９５ｇ（３．２モル）、テトラクロルシラン
１３６ｇ（０．８モル）および塩化メチレン中の窒化塩
化燐の２５％の溶液２ｍからなる混合物を室温で８時
間攪拌する。次に、窒化塩化燐を不活性にするためにト
リ−ｎ−ブチルアミン２，３ｍを添加する。引続き、
３０分の攪拌の後に判の混合物を分別蒸留する。２０〜
２２℃および２ミリバールで１，１，１−トリクロロ−
３−ビニル−３．３−ジメチルシロキサン２１６ｇを
得、２３〜４２℃および２ミリバールで１，５−ジビニ
ル−１，１，５，５−テトラメチル−３，３−ジクロロ
トリシロキサン５３ｇを得、かつ４２〜７２℃および２
ミリバールで１，５−ジビニル−１，１，５，５−テト
ラメチル−３，３−ジクロロトリシロキサンと１，５−
ジビニル−１，１，５，５−テトラメチル−３−クロロ
−３−トリメチルシロキシトリシロキサンとからなる
１：１の混合物を得る。冷却勾配中でビニルジメチルク
ロルシラン３７２ｇが補集される。望ましい１，５−ジ
ビニル−１，１，５，５−テトラメチル−３，３−ビス
（ビニルジメチルシロキシ）トリシロキサンは得られな
い。
ロキサン５９５ｇ（３．２モル）、テトラクロルシラン
１３６ｇ（０．８モル）および塩化メチレン中の窒化塩
化燐の２５％の溶液２ｍからなる混合物を室温で８時
間攪拌する。次に、窒化塩化燐を不活性にするためにト
リ−ｎ−ブチルアミン２，３ｍを添加する。引続き、
３０分の攪拌の後に判の混合物を分別蒸留する。２０〜
２２℃および２ミリバールで１，１，１−トリクロロ−
３−ビニル−３．３−ジメチルシロキサン２１６ｇを
得、２３〜４２℃および２ミリバールで１，５−ジビニ
ル−１，１，５，５−テトラメチル−３，３−ジクロロ
トリシロキサン５３ｇを得、かつ４２〜７２℃および２
ミリバールで１，５−ジビニル−１，１，５，５−テト
ラメチル−３，３−ジクロロトリシロキサンと１，５−
ジビニル−１，１，５，５−テトラメチル−３−クロロ
−３−トリメチルシロキシトリシロキサンとからなる
１：１の混合物を得る。冷却勾配中でビニルジメチルク
ロルシラン３７２ｇが補集される。望ましい１，５−ジ
ビニル−１，１，５，５−テトラメチル−３，３−ビス
（ビニルジメチルシロキシ）トリシロキサンは得られな
い。
例６： テトラメチルジシロキサン８０４ｇ（６．０モル）、テ
トラクロルシラン１７４０ｇ（１．０モル）、テトラメ
チル尿素０．２ｇおよび塩化メチレン中の窒化塩化燐の
２５％の溶液７．８ｇからなる混合物を室温で２８時間
攪拌する。次に、易揮発性成分を２０℃および２０ミリ
バールで蒸発させ、残留物を水で中性になるまで洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、かつビグルー塔により
分別蒸留する。４７〜６０℃および２ミリバールで、
１，１，５，５−テトラメチル−３，３−ビス（ジメチ
ルシロキシ）トリシロキサン１３５．２ｇ（理論値の４
１％）を得る。
トラクロルシラン１７４０ｇ（１．０モル）、テトラメ
チル尿素０．２ｇおよび塩化メチレン中の窒化塩化燐の
２５％の溶液７．８ｇからなる混合物を室温で２８時間
攪拌する。次に、易揮発性成分を２０℃および２０ミリ
バールで蒸発させ、残留物を水で中性になるまで洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、かつビグルー塔により
分別蒸留する。４７〜６０℃および２ミリバールで、
１，１，５，５−テトラメチル−３，３−ビス（ジメチ
ルシロキシ）トリシロキサン１３５．２ｇ（理論値の４
１％）を得る。
比較試験６： テトラメチルジシロキサン５３６ｇ（４．０モル）、テ
トラクロルシラン１７０ｇ（１．０モル）および塩化メ
チレン中の窒化塩化燐の２５％の溶液２ｍからなる混
合物を室温で１１６時間攪拌する。次に、窒化塩化燐が
不活性になるまでトリ−ｎ−ブチルアミン１，１ｍを
添加する。引続き、３０分の攪拌の後、反応混合物を分
別蒸留する。３０〜４３℃および１０ミリバールで、
１，１，５，５−テトラメチル−３，３−ジクロロトリ
シロキサン１７ｇを得、ならびに４４〜４７℃および１
０ミリバールで１，１，５，５−テトラメチル−３−ク
ロロ−３−ジメチルシロキシトリシロキサン９８ｇを得
るが、しかし望ましい１，１，５，５−テトラメチル−
３，３−ビス（ジメチルシロキシ）トリシロキサンは得
られない。
トラクロルシラン１７０ｇ（１．０モル）および塩化メ
チレン中の窒化塩化燐の２５％の溶液２ｍからなる混
合物を室温で１１６時間攪拌する。次に、窒化塩化燐が
不活性になるまでトリ−ｎ−ブチルアミン１，１ｍを
添加する。引続き、３０分の攪拌の後、反応混合物を分
別蒸留する。３０〜４３℃および１０ミリバールで、
１，１，５，５−テトラメチル−３，３−ジクロロトリ
シロキサン１７ｇを得、ならびに４４〜４７℃および１
０ミリバールで１，１，５，５−テトラメチル−３−ク
ロロ−３−ジメチルシロキシトリシロキサン９８ｇを得
るが、しかし望ましい１，１，５，５−テトラメチル−
３，３−ビス（ジメチルシロキシ）トリシロキサンは得
られない。
比較試験７： テトラメチルジシロキサン２６８ｇ（２．０モル）とテ
トラクロルシラン８５ｇ（０．５モル）とからなる混合
物に攪拌下にＦｅＣｌ３０．０４ｇを添加し、引続き２
分間ＨＣｌを導入する。この場合、この混合物の温度は
４０℃に上昇する。なお４時間さらに攪拌し、次いで反
応混合物をビグルー塔により分別蒸留する。２０〜４６
℃および１ミリバールで１，１，５，５−テトラメチル
−３，３−ジクロロトリシロキサンとテトラメチルジシ
ロキサンとからなる混合物４１ｇを得、ならびに４６〜
４８℃および１ミリバールで１，１，５，５−テトラメ
チル−３−クロロ−３−ジメチルシロキシトリシロキサ
ン１３．５ｇを得る。望ましい１，１，５，５−テトラ
メチル−３、３−ビス（ジメチルシロキシ）トリシロキ
サンは、得られない。
トラクロルシラン８５ｇ（０．５モル）とからなる混合
物に攪拌下にＦｅＣｌ３０．０４ｇを添加し、引続き２
分間ＨＣｌを導入する。この場合、この混合物の温度は
４０℃に上昇する。なお４時間さらに攪拌し、次いで反
応混合物をビグルー塔により分別蒸留する。２０〜４６
℃および１ミリバールで１，１，５，５−テトラメチル
−３，３−ジクロロトリシロキサンとテトラメチルジシ
ロキサンとからなる混合物４１ｇを得、ならびに４６〜
４８℃および１ミリバールで１，１，５，５−テトラメ
チル−３−クロロ−３−ジメチルシロキシトリシロキサ
ン１３．５ｇを得る。望ましい１，１，５，５−テトラ
メチル−３、３−ビス（ジメチルシロキシ）トリシロキ
サンは、得られない。
Claims (1)
- 【請求項１】一般式： ［式中、Ｒは同一かまたは異なり、水素原子を表わすか
または基１個あたり１〜１８個の炭素原子を有する場合
によっては置換された１価の炭化水素基を表わし、 R1はＲまたは塩素原子を表わし、 ｎは３または４を表わす］で示されるオルガノシロキサ
ン(1)を、一般式： (R3Si)2O ［式中、Ｒは前記のものを表わす］で示されるオルガノ
ジシロキサン(2)と、一般式： R4-nSiCln ［式中、Ｒおよびｎは前記のものを表わす］ で示されるクロルシラン(3)とを、触媒としての窒化塩
化燐(4)の存在下に反応させることによって製造する方
法において、窒化塩化燐に対して共触媒(5)を一緒に使
用し、この場合共触媒(5)として、一般式： X-C(O)-R2 ［式中、R2は同一かまたは異なり、水素原子を表わすか
または基１個あたり１〜８個の炭素原子を有する場合に
よっては置換された１価の炭化水素基を表わし、 の場合 R2は前記のものを表わし、 R3は基１個あたり５〜７個の炭素原子を有する２価の炭
化水素基を表わす］で示されるアミド、一般式： X-C(O)-X ［式中、Ｘは前記のものを表わす］で示される尿素もし
くは尿素誘導体およびシアヌル酸の群から選択されたも
のを一緒に使用することを特徴とする、オルガノシロキ
サンの製造法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3918337.8 | 1989-06-05 | ||
| DE3918337A DE3918337A1 (de) | 1989-06-05 | 1989-06-05 | Verfahren zur herstellung von organosiloxanen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0320284A JPH0320284A (ja) | 1991-01-29 |
| JPH064650B2 true JPH064650B2 (ja) | 1994-01-19 |
Family
ID=6382118
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2145536A Expired - Lifetime JPH064650B2 (ja) | 1989-06-05 | 1990-06-05 | オルガノシロキサンの製造法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
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