JPH0646359U - プラズマ放出源 - Google Patents
プラズマ放出源Info
- Publication number
- JPH0646359U JPH0646359U JP061890U JP6189093U JPH0646359U JP H0646359 U JPH0646359 U JP H0646359U JP 061890 U JP061890 U JP 061890U JP 6189093 U JP6189093 U JP 6189093U JP H0646359 U JPH0646359 U JP H0646359U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- impedance
- high frequency
- network
- shunt
- variable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/36—Circuit arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/30—Plasma torches using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高周波電力発生器からプラズマ・トーチへ伝
達されるエネルギーを最大にするプラズマ放出源を提供
する。 【鋼性】 高周波電力発生器12、高周波負荷コイル2
8と組み合わせられたプラズマ・トーチ14、および高
周波電力発生器12から高周波負荷コイル28へ伝送さ
れる電力を自動的かつ連続的に最大にする手段が設けら
れている。上記の手段は、直列位相検出器と分路位相検
出器とを備えインピーダンス整合を連続的に監視するた
めの2位相検出回路網42と、インピーダンスを自動的
に整合するための可変インピーダンス回路網44ならび
に制御ユニット46を有している。
達されるエネルギーを最大にするプラズマ放出源を提供
する。 【鋼性】 高周波電力発生器12、高周波負荷コイル2
8と組み合わせられたプラズマ・トーチ14、および高
周波電力発生器12から高周波負荷コイル28へ伝送さ
れる電力を自動的かつ連続的に最大にする手段が設けら
れている。上記の手段は、直列位相検出器と分路位相検
出器とを備えインピーダンス整合を連続的に監視するた
めの2位相検出回路網42と、インピーダンスを自動的
に整合するための可変インピーダンス回路網44ならび
に制御ユニット46を有している。
Description
【0001】
本考案は、一般にプラズマ放出源、たとえば電力伝達率が連続的にかつ自動的 に最大にされるプラズマ放出源に関するものである。
【0002】
プラズマ放出源は、サンプルを原子化かつ励振して、サンプルの原子構造の特 徴を示す波長の光を放出させるのに使用される。放出された光は分析プロセスを 完全にするために分光光度計によって検出、測定される。
【0003】 慣用のプラズマ放出源では、高周波(RF)エネルギーが高周波発生器からプ ラズマ・トーチへ誘導結合される。液状サンプルは溶剤と混合され、霧状にされ 、かつプラズマ・トーチの炎へ供給される。通常、プラズマ・トーチはアルゴン ・プラズマ放電であり、サンプルおよび溶剤はアルゴン流によってプラズマ・ト ーチの中に運ばれる。
【0004】 どの高周波発生装置でも同じであるが、高周波数発生器から負荷(すなわちプ ラズマ・トーチ)へ伝達されるエネルギーの効率は両者間のインピーダンス整合 に依存する。従って、最近のプラズマ放出源は、高周波発生器とプラズマ・トー チの間にインピーダンス整合回路網を含む。
【0005】 たまたま、周知のように、プラズマ・トーチのインピーダンス(詳しく負荷コ イル)は、プラズマ放出源の静的動作パラメータおよび動的動作パラメータの両 方に依存する。プラズマ・トーチのインピーダンスに影響する若干のパラメータ は、サンプルと溶剤の少なくとも一方、プラズマ・トーチの所望の動作温度およ び噴霧器の効率の変化を含む。このような変化を更新するには、オペレータがイ ンピーダンス整合回路網を手動で微細調整することが必要だった。その上、所要 の手動調整を最少にするのを助けるためには、噴霧器の流量調整は極めて重要だ った。それにもかかわらず、変化が通常動的でありかつ実際の測定時間中起るの で、連続的に最大の電力伝達を維持することを極めて難しい。
【0006】 その結果、プラズマ放出源は、現在では、プラズマ・トーチへの比較的貧弱な 電力伝達を補償するのに過剰の高周波電力入力レベルを必要とし、また特に溶剤 が変更されるときにしばしば調整を必要とする問題点があった。
【0007】
したがって本考案の課題は、高周波電力発生器からプラズマ・トーチへ伝達さ れるエネルギーを最大にするプラズマ放出源を提供することである。
【0008】
本考案によればこの課題は以下の構成により解決される。すなわち、 高周波信号を発生するための発信器を有する高周波電力発生器と、前記高周波 信号を増幅する手段と、プラズマを形成するためのガスの入口、および前記プラ ズマ中で原子化されるサンプル混合物の入口を有し、前記高周波電力発生器から 高周波電力を受け取る高周波波負荷コイルが組み合わされたプラズマ・トーチと 、前記高周波電力発生器から前記高周波負荷コイルへ伝送される高周波電力を自 動的にかつ連続的に最大にする手段とが設けられており、該手段は、前記高周波 発生器と前記高周波負荷コイルの間のインピーダンス整合を連続的に監視してイ ンピーダンスの不整合を表わす信号を発生する手段と、該信号に応動して前記高 周波電力発生器のインピーダンスと前記高周波負荷コイルのインピーダンスを自 動的に整合する手段とを有しており、インピーダンス整合を連続的に監視する前 記の手段は2位相検出回路網を有しており、該2位相検出回路網は、直列位相検 出器と分路位相検出器を有しており、前記直列位相検出器は直列不整合信号を発 生し、前記分路位相検出器は分路不整合信号を発生し、インピーダンスを自動的 に整合する前記の手段は、可変インピーダンス回路網と制御ユニットを有してお り、該制御ユニットは、前記の信号に応動して前記可変インピーダンス回路網の インピーダンスを制御し、前記可変インピーダンス回路網は、直列可変インピー ダンス回路網と分路可変インピーダンス回路網を有しており、前記制御ユニット は、前記直列位相検出器の信号に応動する直列可変インピーダンス回路網制御モ ータと、前記分路位相検出器の信号に応動する分路可変インピーダンス回路網制 御モータを有しており、前記直列可変インピーダンス回路網は、固定されたコン デンサと並列に、2つの直列接続された可変コンデンサを有しており、前記分路 可変インピーダンス回路網は、並列接続された2つの可変コンデンサを有してお り、前記直列可変コンデンサおよび前記分路可変コンデンサは空気誘電体形コン デンサである構成を有するプラズマ放出源により解決される。
【0009】 次に、図面を参照して本考案を詳細に説明する。
【0010】
図1に示すように、本考案のプラズマ放出源10は、高周波電力発生器12、 アルゴン・プラズマ・トーチ14、およびこれらの間のインピーダンス整合回路 網16を含む。
【0011】 高周波電力発生器12は水晶制御発信器18を含み、この発信器18は高周波 エネルギーを高周波ドライバ20へ供給する。このドライバ20は、50Ωの出 力インピーダンスをもつことが望ましい高周波電力増幅器22へ高周波電力を供 給する。望ましい実施例では、高周波電力発生器12が200〜2000ワット の高周波電力を供給するように設計される。この実施例では、50Ωの出力イン ピーダンスは同軸線路24へ接続するのに適する。発振器18、ドライバ20お よび電力増幅器22は全て直流電源26(整流した交流で動作する)から駆動さ れる。この直流電源26は、多出力型の単一ユニットでもよいし或は2つの以上 の周知の電源でよい。
【0012】 プラズマ・トーチ14は、そのガラス室30を取り囲む高周波負荷コイル28 を含む。ガラス室30は、この実施例では、アルゴン入口32およびサンプル混 合物入口34を含む。高周波負荷コイル28は、4ターンの3.17mm(1/ 8インチ)O.D.銅またはステンレス鋼製チューブでありかつ低いインピーダ ンスをもつことが望ましい。高周波電力発生器12はインピータンス整合回路網 16を通してプラズマ・トーチ14の高周波負荷コイル28へ高周波電力を供給 する。すなわち、高周波電力発生器12の出力端子36はインピーダンス整合回 路網16の入力端子38へ接続され、インピーダンス整合回路網16の出力端子 40は高周波負荷コイル28へ直接接続されている。
【0013】 インピーダンス整合回路網16は、図2により詳細に示されており、2位相検 出回路網42、可変インピーダンス回路網44および制御ユニット46を含む。 2位相検出回路網42はインピーダンス整合回路網16の入力端子38へ接続さ れかつ可変インピーダンス回路網44と直列に接続される。この可変インピーダ ンス回路網44は高周波負荷コイル28に給電する。
【0014】 2位相検出回路網42は、図3に詳しく示す直列位相検出器48および分路位 相検出器50を含む。直列位相検出器48、分路位相検出器50は、電圧の位相 および電流の位相を検知するそれぞれピックアップ・コイル52,54を含む。 もし位相差がなければ、高周波負荷コイル28は高周波電力発生器12へ正確に 整合され、最大電力が伝達される。しかしながら、例えば動作パラメータの変化 のせいで位相が変ると、信号は直列位相発生器48、分路位相検出器50のそれ ぞれ出力端子56,58に発生される。これらの信号は制御ユニット46への入 力信号として働く。
【0015】 可変インピーダンス回路網44は、直列コンデンサ回路網60、および分路コ ンデンサ回路網62を含む。
【0016】 望ましい実施例では、直列コンデンサ回路網60は2位相検出回路網42と高 周波負荷コイル28の入力端子との間で直列に接続される。直列コンデンサ回路 網60は、固定コンデンサ66を有する第1分枝路64、および直列接続された 2個の可変コンデンサ70を有する第2分枝路68を含む。第1分枝路64と第 2分枝路68は互いに並列に接続されている。
【0017】 分路コンデンサ回路網62の一方の側72は2位相検出回路網42と直列コン デンサ回路網60の間に接続されている。分路コンデンサ回路網62の他方の側 は高周波負荷コイル28の出力端子と一緒にアースされている。分路コンデンサ 回路網62は、互いに並列に接続された方の可変コンデンサ76および第2の可 変コンデンサ78を含む。
【0018】 望ましい実施例では、直列コンデンサ回路網60の可変コンデンサ70は5〜 50ピコフアラッドの定格動作範囲をもつが、分路コンデンサ回路網62の可変 コンデンサ76および78は20〜200ピコフアラッドの定格動作範囲をもつ 。可変コンデンサ70,76および78は、マサチューセッツ州、マルデン所在 のケイウッド(Caywood)社から製造、販売されているような空気誘電体 型のものが望ましい。
【0019】 制御ユニット46は、直列位相検出器48の出力端子56へ接続されたサーボ ・アップ82によって制御される第1モータ80を含む。この第1モータ80は 、直流モータが望ましく、歯車列84を介して可変コンデンサ70を駆動する。 制御ユニット46はまた、分路位相検出器50の出力端子58へ接続されたサー ボ・アンプ88によって制御される第2モータ86も含む。この第2モータ86 は歯車列90を介して可変コンデンサ76および78を駆動する。サーボ・アン プ82,88は第1モータ80、第2モータ86の回転方向がそれぞれ出力端子 56,58での信号の極性に依存するように配設される。従って、第1モータ8 0、第2モータ86はそれぞれ直列位相検出器48、分路位相検出器50に完全 に応答する。従って、可変インピーダンス回路網44のインピーダンス不整合に 対する応答は連続的かつ自動的である。
【0020】 動作時、直列位相検出器48および分路位相検出器50はそれぞれ高周波電圧 および高周波電流をサンプリングする。これら2つのパラメータはそれらの位相 関係に応じて加算され、そして整流したときにインピーダンス整合回路網16を 通過する入射電力および反射電力によりインピーダンス不整合を示す直流電圧を 発生する。プラズマ・トーチ14が高周波は電力発生器12と完全に整合される ときに、入射電力は最大でありそしてプラズマ・トーチ14からの反射電力は零 である。もし動作パラメータの変化または噴霧器の動作出力の変化のせいでプラ ズマ・トーチ14に不整合が起るならば、高周波負荷コイル28の両端間のイン ピーダンスは変化する。これが起るときに、分路位相検出器50、直列位相検出 器48は反射電力によりそれぞれ第2モータ86、第1モータ80を作動させ、 これは分路コンデンサ回路網62および直列コンデンサ回路網60のインピーダ ンス値を変化させて反射電力を零まで低減させる。位相検出器からの信号の極性 は、インピーダンスを整合するために各モータがどちらの方向に回転されるかを 示す。
【0021】
上述したインピーダンス整合回路網16の結果として、高周波電力発生器12 からプラズマ・トーチ14への最大電力の伝達維持は充分に自動化されかつこれ によりオペレータによる手動機器の調節の必要性をなしにする。プラズマ・トー チ14へ伝達される電力の最大化は、全ての状態での反射電力を除去し、従って プラズマ・トーチからの最大エネルギー強度を確保し、これにより分光光度計へ の分析信号をより高度で有用なものにする。インピーダンス整合回路網16は、 空気誘電体型コンデンサを使用することにより真空コンデンサを使用した場合よ りも更に速く調節できる別な利点を呈する。従って、応答時間の最大化は動的動 作状態のせいでのエラーを少なくする。更に、プラズマ・トーチが最大電力伝達 で常に動作しているので、動作状態が変るとき例えば水溶剤の使用を有機溶剤の 使用に変えたとき、インピーダンス整合回路網の複雑な手動再調節の必要がない 。
【0022】 本考案をその一実施例について説明したが、本考案は実用新案登録請求の範囲 の記載および解釈のみによって制限されるべきである。
【図1】本考案の原理を具体化したプラズマ放出源のブ
ロック図である。
ロック図である。
【図2】図1中のインピーダンス整合回路網の詳しい回
路図である。
路図である。
【図3】図2中の2位相検出回路網の詳しい回路図であ
る。
る。
10 プラズマ放出源 12 高周波電力発振器 14 プラズマ・トーチ 16 インピーダンス整合回路網 18 発振器 22 電力増幅器 28 高周波負荷コイル 30 ガラス室 32 アルゴンの入口 34 サンプル混合物の入口 42 2位相検出回路網 44 可変インピーダンス回路網 46 制御ユニット 48 直列位相検出器 50 分路位相検出器 60 直列コンデンサ回路網 62 分路コンデンサ回路網 66 固定コンデンサ 70,76,78 可変コンデンサ 80 第1モータ 86 第2モータ
Claims (1)
- 【請求項1】 プラズマ放出源において、 高周波信号を発生するための発振器を有する高周波電力
発生器と、 前記高周波信号を増幅する手段と、 プラズマを形成するためのガスの入口、および前記プラ
ズマ中で原子化されるサンプル混合物の入口を有し、前
記高周波電力発生器から高周波電力を受け取る高周波負
荷コイルが組み合わされたプラズマ・トーチと、 前記高周波電力発生器から前記高周波負荷コイルへ伝送
される高周波電力を自動的にかつ連続的に最大にする手
段とが設けられており、 該手段は、前記高周波発生器と前記高周波負荷コイルの
間のインピーダンス整合を連続的に監視してインピーダ
ンスの不整合を表わす信号を発生する手段と、該信号に
応動して前記高周波電力発生器のインピーダンと前記高
周波負荷コイルのインピーダンスを自動的に整合する手
段とを有しており、 インピーダンス整合を連続的に監視する前記の手段は2
位相検出回路網を有しており、該2位検出回路網は、直
列位相検出器と分路位相器を有しており、前記直列位相
検出器は直列不整合信号を発生し、前記分路位相検出器
は分路不整合信号を発生し、 インピーダンスを自動的に整合する前記の手段は、可変
インピーダンス回路網と制御ユニットを有しており、該
制御ユニットは、前記の信号に応動して前記可変インピ
ーダンス回路網のインピーダンスを制御し、 前記可変インピーダンス回路網は、直列可変インピーダ
ンス回路網と分路可変インピーダンス回路網を有してお
り、 前記制御ユニットは、前記直列位相検出器の信号に応動
する直列可変インピーダンス回路網制御モータと、前記
分路位相検出器の信号に応動する分路可変インピーダン
ス回路網制御モータを有しており、 前記直列可変インピーダンス回路網は、固定されたコン
デンサと並列に、2つの直列接続された可変コンデンサ
を有しており、前記分路可変インピーダンス回路網は、
並列接続された2つの可変コンデンサを有しており、 前記直列可変コンデンサおよび前記分路可変コンデンサ
は空気誘電体形コンデンサであるプラズマ放出源。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/585,807 US4629940A (en) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | Plasma emission source |
US585807 | 1984-03-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0646359U true JPH0646359U (ja) | 1994-06-24 |
JPH0734363Y2 JPH0734363Y2 (ja) | 1995-08-02 |
Family
ID=24343047
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60037815A Pending JPS60205241A (ja) | 1984-03-02 | 1985-02-28 | プラズマ放出源 |
JP1993061890U Expired - Lifetime JPH0734363Y2 (ja) | 1984-03-02 | 1993-11-17 | プラズマ放出源 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60037815A Pending JPS60205241A (ja) | 1984-03-02 | 1985-02-28 | プラズマ放出源 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4629940A (ja) |
EP (1) | EP0155496B1 (ja) |
JP (2) | JPS60205241A (ja) |
AU (1) | AU3943185A (ja) |
CA (1) | CA1245729A (ja) |
DE (1) | DE3580991D1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007205898A (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Shimadzu Corp | Icp分析装置 |
WO2013046495A1 (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-04 | パナソニック株式会社 | 大気圧プラズマ発生装置及び大気圧プラズマ発生方法 |
Families Citing this family (66)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT388814B (de) * | 1985-11-15 | 1989-09-11 | Paar Anton Kg | Verfahren und vorrichtung zum erzeugen eines hf-induzierten edelgasplasmas |
US4833322A (en) * | 1986-05-02 | 1989-05-23 | Shell Oil Company | Method and apparatus for analysis of material |
US4795880A (en) * | 1986-09-11 | 1989-01-03 | Hayes James A | Low pressure chemical vapor deposition furnace plasma clean apparatus |
JPS63135799U (ja) * | 1987-02-27 | 1988-09-06 | ||
US4766287A (en) * | 1987-03-06 | 1988-08-23 | The Perkin-Elmer Corporation | Inductively coupled plasma torch with adjustable sample injector |
US4748634A (en) * | 1987-03-20 | 1988-05-31 | Hughes Aircraft Company | Pumping system for RF excited gas devices |
US4956582A (en) * | 1988-04-19 | 1990-09-11 | The Boeing Company | Low temperature plasma generator with minimal RF emissions |
US5155547A (en) * | 1990-02-26 | 1992-10-13 | Leco Corporation | Power control circuit for inductively coupled plasma atomic emission spectroscopy |
GB9226335D0 (en) * | 1992-12-17 | 1993-02-10 | Fisons Plc | Inductively coupled plasma spectrometers and radio-frequency power supply therefor |
US5383019A (en) * | 1990-03-23 | 1995-01-17 | Fisons Plc | Inductively coupled plasma spectrometers and radio-frequency power supply therefor |
NL9000809A (nl) * | 1990-04-06 | 1991-11-01 | Philips Nv | Plasmagenerator. |
DE4019729A1 (de) * | 1990-06-21 | 1992-01-02 | Leybold Ag | Ionenquelle |
US5082517A (en) * | 1990-08-23 | 1992-01-21 | Texas Instruments Incorporated | Plasma density controller for semiconductor device processing equipment |
GB2249893B (en) * | 1990-11-03 | 1994-09-14 | Grau Ltd | Automotive electronic control systems |
US5477089A (en) * | 1990-11-03 | 1995-12-19 | Grau Limited | Automotive electronic control systems |
US5195045A (en) * | 1991-02-27 | 1993-03-16 | Astec America, Inc. | Automatic impedance matching apparatus and method |
US5288971A (en) * | 1991-08-09 | 1994-02-22 | Advanced Energy Industries, Inc. | System for igniting a plasma for thin film processing |
US5144206A (en) * | 1991-09-10 | 1992-09-01 | Gte Products Corporation | Electrodeless HID lamp coupling structure with integral matching network |
US5187457A (en) * | 1991-09-12 | 1993-02-16 | Eni Div. Of Astec America, Inc. | Harmonic and subharmonic filter |
US5175472A (en) * | 1991-12-30 | 1992-12-29 | Comdel, Inc. | Power monitor of RF plasma |
US5216330A (en) * | 1992-01-14 | 1993-06-01 | Honeywell Inc. | Ion beam gun |
US5280154A (en) * | 1992-01-30 | 1994-01-18 | International Business Machines Corporation | Radio frequency induction plasma processing system utilizing a uniform field coil |
US5523955A (en) * | 1992-03-19 | 1996-06-04 | Advanced Energy Industries, Inc. | System for characterizing AC properties of a processing plasma |
DE69304522T2 (de) * | 1992-04-16 | 1997-01-23 | Advanced Energy Ind Inc | Stabilisator fuer schalt-mode geleistet radio-frequenz plasma einrichtung |
JP3167221B2 (ja) * | 1992-05-07 | 2001-05-21 | ザ・パーキン・エルマー・コーポレイション | 誘導結合プラズマ発生器 |
CA2116821C (en) * | 1993-03-05 | 2003-12-23 | Stephen Esler Anderson | Improvements in plasma mass spectrometry |
US5815047A (en) * | 1993-10-29 | 1998-09-29 | Applied Materials, Inc. | Fast transition RF impedance matching network for plasma reactor ignition |
JPH07191764A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-28 | Fujitsu Ltd | 高周波電源装置及びプラズマ発生装置 |
JPH07282771A (ja) * | 1995-02-08 | 1995-10-27 | Yokogawa Electric Corp | 高周波誘導結合プラズマ分析計のプラズマ点火方法 |
US5712592A (en) * | 1995-03-06 | 1998-01-27 | Applied Materials, Inc. | RF plasma power supply combining technique for increased stability |
US5977715A (en) * | 1995-12-14 | 1999-11-02 | The Boeing Company | Handheld atmospheric pressure glow discharge plasma source |
US5689215A (en) * | 1996-05-23 | 1997-11-18 | Lam Research Corporation | Method of and apparatus for controlling reactive impedances of a matching network connected between an RF source and an RF plasma processor |
US5770922A (en) | 1996-07-22 | 1998-06-23 | Eni Technologies, Inc. | Baseband V-I probe |
US6329757B1 (en) | 1996-12-31 | 2001-12-11 | The Perkin-Elmer Corporation | High frequency transistor oscillator system |
GB9708268D0 (en) | 1997-04-24 | 1997-06-18 | Gyrus Medical Ltd | An electrosurgical instrument |
DE19737244A1 (de) * | 1997-08-27 | 1999-03-04 | Harald Tobies | Vorrichtung und Verfahren zur Regelung der Phasenlage von Hochfrequenzelektroden bei Plasmaprozessen |
US6633017B1 (en) | 1997-10-14 | 2003-10-14 | Advanced Energy Industries, Inc. | System for plasma ignition by fast voltage rise |
US6449568B1 (en) | 1998-02-27 | 2002-09-10 | Eni Technology, Inc. | Voltage-current sensor with high matching directivity |
US6958063B1 (en) | 1999-04-22 | 2005-10-25 | Soring Gmbh Medizintechnik | Plasma generator for radio frequency surgery |
WO2001005020A1 (en) | 1999-07-13 | 2001-01-18 | Tokyo Electron Limited | Radio frequency power source for generating an inductively coupled plasma |
US6507155B1 (en) | 2000-04-06 | 2003-01-14 | Applied Materials Inc. | Inductively coupled plasma source with controllable power deposition |
US6472822B1 (en) * | 2000-04-28 | 2002-10-29 | Applied Materials, Inc. | Pulsed RF power delivery for plasma processing |
US7106438B2 (en) * | 2002-12-12 | 2006-09-12 | Perkinelmer Las, Inc. | ICP-OES and ICP-MS induction current |
US7511246B2 (en) | 2002-12-12 | 2009-03-31 | Perkinelmer Las Inc. | Induction device for generating a plasma |
US6995545B2 (en) * | 2003-08-18 | 2006-02-07 | Mks Instruments, Inc. | Control system for a sputtering system |
US7042311B1 (en) * | 2003-10-10 | 2006-05-09 | Novellus Systems, Inc. | RF delivery configuration in a plasma processing system |
DE102004015090A1 (de) | 2004-03-25 | 2005-11-03 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Bogenentladungserkennungseinrichtung |
AU2006223254B2 (en) * | 2005-03-11 | 2012-04-26 | Perkinelmer U.S. Llc | Plasmas and methods of using them |
US7742167B2 (en) * | 2005-06-17 | 2010-06-22 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Optical emission device with boost device |
US8622735B2 (en) * | 2005-06-17 | 2014-01-07 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Boost devices and methods of using them |
US7459899B2 (en) | 2005-11-21 | 2008-12-02 | Thermo Fisher Scientific Inc. | Inductively-coupled RF power source |
DE502006005363D1 (de) * | 2006-11-23 | 2009-12-24 | Huettinger Elektronik Gmbh | Verfahren zum Erkennen einer Bogenentladung in einem Plasmaprozess und Bogenentladungserkennungsvorrichtung |
US7795817B2 (en) * | 2006-11-24 | 2010-09-14 | Huettinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Controlled plasma power supply |
EP1928009B1 (de) * | 2006-11-28 | 2013-04-10 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Bogenentladungs-Erkennungseinrichtung, Plasma-Leistungsversorgung und Verfahren zum Erkennen von Bogenentladungen |
DE502006009308D1 (de) * | 2006-12-14 | 2011-05-26 | Huettinger Elektronik Gmbh | Bogenentladungs-Erkennungseinrichtung, Plasma-Leistungsversorgung und Verfahren zum Erkennen von Bogenentladungen |
EP2297377B1 (en) | 2008-05-30 | 2017-12-27 | Colorado State University Research Foundation | Plasma-based chemical source device and method of use thereof |
US8575843B2 (en) | 2008-05-30 | 2013-11-05 | Colorado State University Research Foundation | System, method and apparatus for generating plasma |
US8994270B2 (en) | 2008-05-30 | 2015-03-31 | Colorado State University Research Foundation | System and methods for plasma application |
US8659335B2 (en) * | 2009-06-25 | 2014-02-25 | Mks Instruments, Inc. | Method and system for controlling radio frequency power |
US8222822B2 (en) | 2009-10-27 | 2012-07-17 | Tyco Healthcare Group Lp | Inductively-coupled plasma device |
CA2794902A1 (en) | 2010-03-31 | 2011-10-06 | Colorado State University Research Foundation | Liquid-gas interface plasma device |
AU2010349784B2 (en) | 2010-03-31 | 2015-01-15 | Colorado State University Research Foundation | Liquid-gas interface plasma device |
DE102011076404B4 (de) * | 2011-05-24 | 2014-06-26 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Verfahren zur Impedanzanpassung der Ausgangsimpedanz einer Hochfrequenzleistungsversorgungsanordnung an die Impedanz einer Plasmalast und Hochfrequenzleistungsversorgungsanordnung |
CA2879076C (en) | 2012-07-13 | 2020-11-10 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Torches and methods of using them |
US9532826B2 (en) | 2013-03-06 | 2017-01-03 | Covidien Lp | System and method for sinus surgery |
US9555145B2 (en) | 2013-03-13 | 2017-01-31 | Covidien Lp | System and method for biofilm remediation |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2745067A (en) * | 1951-06-28 | 1956-05-08 | True Virgil | Automatic impedance matching apparatus |
US2742618A (en) * | 1951-12-29 | 1956-04-17 | Collins Radio Co | Phasing and magnitude adjusting circuit |
FR1207566A (fr) * | 1958-06-26 | 1960-02-17 | Trt Telecom Radio Electr | Perfectionnements aux dispositifs d'accord automatique sur une charge largement variable |
US3132313A (en) * | 1959-08-13 | 1964-05-05 | Alford Andrew | Impedance matching filter |
US3366883A (en) * | 1965-12-20 | 1968-01-30 | Avco Corp | Automatic broad band vswr power control |
US3958883A (en) * | 1974-07-10 | 1976-05-25 | Baird-Atomic, Inc. | Radio frequency induced plasma excitation of optical emission spectroscopic samples |
US4207137A (en) * | 1979-04-13 | 1980-06-10 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Method of controlling a plasma etching process by monitoring the impedance changes of the RF power |
US4373581A (en) * | 1981-01-19 | 1983-02-15 | Halliburton Company | Apparatus and method for radio frequency heating of hydrocarbonaceous earth formations including an impedance matching technique |
US4356458A (en) * | 1981-08-31 | 1982-10-26 | Harry H. Leveen | Automatic impedance matching apparatus |
JPS58135600A (ja) * | 1982-02-08 | 1983-08-12 | 株式会社日立国際電気 | プラズマ励起用高周波電力供給装置 |
JPS58169051A (ja) * | 1982-03-31 | 1983-10-05 | Shimadzu Corp | 誘導結合プラズマ光源用電源装置 |
US4482246A (en) * | 1982-09-20 | 1984-11-13 | Meyer Gerhard A | Inductively coupled plasma discharge in flowing non-argon gas at atmospheric pressure for spectrochemical analysis |
-
1984
- 1984-03-02 US US06/585,807 patent/US4629940A/en not_active Expired - Lifetime
-
1985
- 1985-01-23 CA CA000472670A patent/CA1245729A/en not_active Expired
- 1985-02-11 DE DE8585101457T patent/DE3580991D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1985-02-11 EP EP85101457A patent/EP0155496B1/en not_active Expired
- 1985-02-28 JP JP60037815A patent/JPS60205241A/ja active Pending
- 1985-03-01 AU AU39431/85A patent/AU3943185A/en not_active Abandoned
-
1993
- 1993-11-17 JP JP1993061890U patent/JPH0734363Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007205898A (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Shimadzu Corp | Icp分析装置 |
JP4586737B2 (ja) * | 2006-02-02 | 2010-11-24 | 株式会社島津製作所 | Icp分析装置 |
WO2013046495A1 (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-04 | パナソニック株式会社 | 大気圧プラズマ発生装置及び大気圧プラズマ発生方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4629940A (en) | 1986-12-16 |
JPH0734363Y2 (ja) | 1995-08-02 |
EP0155496A3 (en) | 1987-09-09 |
DE3580991D1 (de) | 1991-02-07 |
CA1245729A (en) | 1988-11-29 |
EP0155496B1 (en) | 1991-01-02 |
EP0155496A2 (en) | 1985-09-25 |
AU3943185A (en) | 1985-09-05 |
JPS60205241A (ja) | 1985-10-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0734363Y2 (ja) | プラズマ放出源 | |
US4877999A (en) | Method and apparatus for producing an hf-induced noble-gas plasma | |
US5936481A (en) | System for impedance matching and power control for apparatus for high frequency plasma treatment | |
US7049751B2 (en) | Termination of secondary frequencies in RF power delivery | |
US4557819A (en) | System for igniting and controlling a wafer processing plasma | |
US5654679A (en) | Apparatus for matching a variable load impedance with an RF power generator impedance | |
US5793162A (en) | Apparatus for controlling matching network of a vacuum plasma processor and memory for same | |
US7096819B2 (en) | Inductive plasma processor having coil with plural windings and method of controlling plasma density | |
EP2287885A2 (en) | Vacuum plasma processor including control in response to DC bias voltage | |
CA2629567A1 (en) | Inductively-coupled rf power source | |
US20020185227A1 (en) | Plasma processor method and apparatus | |
JPH0620793A (ja) | 誘導結合プラズマ発生器 | |
JP2003516691A (ja) | 可変負荷切換可能インピーダンス・マッチング・システム | |
JP2000106299A (ja) | 高周波加速方法及び装置 | |
JPH06243992A (ja) | プラズマ処理装置 | |
US20170071053A1 (en) | Device for feeding high-frequency power and substrate processing apparatus having the same | |
JP4178775B2 (ja) | プラズマリアクター | |
CN110379699A (zh) | 等离子体处理装置 | |
JP2003037101A (ja) | プラズマ生成用の螺旋共振装置 | |
Montaser et al. | Versatile impedance matching network for inductively coupled plasma spectrometry | |
KR100206914B1 (ko) | 멀티-프리셋 임피던스 정합장치 | |
JP2000138540A (ja) | 高周波装置 | |
JP2007266006A (ja) | プラズマリアクター | |
KR930002992B1 (ko) | 매칭회로망 자동제어가 가능한 고주파 발생장치 | |
Allen et al. | An economical, low-power, inductively-coupled plasma discharge system for research and instructional applications |