KR100206914B1 - 멀티-프리셋 임피던스 정합장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 건식각장비에서 알.에프. 전원을 공급하는 전원공급부와 그 전원을 공급받아 공정챔버 안으로 들어오는 반응가스를 이온화시켜 플라즈마를 발생시키는 부하부 사이에서, 그 전원공급부에서 공급하는 알.에프. 전원이 부하부에 완전히 공급되도록 하기 위한 임피던스 정합(Impedence Matching)장치에 관한 것으로, 특히 전원공급부에서 부하부로 공급하는 알.에프. 전원이 다양한 크기로 변경될 때, 그 다양한 크기의 알.에프. 전원에 대응하여 부하부의 임피던스를 미리 정합시키는 프리셋 동작이 다양한 상태로 이루어지는 멀티-프리셋(MULTI-PRESET) 임피던스 정합장치에 관한 것으로, 전원공급부와 부하부를 연결함과 아울러 소정의 신호에 따라 그 자신의 임피던스가 조절됨으로써, 상기 부하부가 전원공급부에서 공급받는 전원을 완전히 전달받을 수 있도록 그 부하부의 임피던스를 정합시키는 임피던스정합부와; 소정의 신호에 따라 구동되는 모터를 포함하여 구성된 것으로, 그 모터를 통해 상기 임피던스정합부의 임피던스를 조절하는 임피던스조절부와; 소정의 신호를 인가받아 상기 임피던스조절부의 모터를 구동시킴으로써, 전원이 공급되기 전에 상기 임피던스정합부의 임피던스를 불연속적인 다양한 값으로 조절하여 초기화시키는 멀티-프리셋부와; 소정의 신호를 인가받아 상기 임피던스조절부의 모터를 구동시킴으로써, 전원이 공급되는 상태에서 프리셋된 상기 임피던스 정합부의 임피던스를 자동으로 조절하는 제2모터구동부로 구성된다.

Description

멀티-프리셋 임피던스 정합장치
제1도는 종래 기술에 따른 임피던스 정합장치의 구성블럭도.
제2도는 본 발명에 따른 멀티-프리셋 임피던스 정합장치의 구성블럭도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
100 : 전원공급부 210 : 임피던스정합부
220 : 임피던스조절부 221, 222 : 제1, 2기어
223, 224 : 제1, 2모터 230 : 멀티-프리셋부
231, 232 : 제1, 2가변저항기 233, 234 : 제3, 4모터
235 : 제1모터구동부 240 : 제2모터구동부
300 : 부하부
본 발명은 반도체 제조장비[일례로, 건식각(Dry Etching)장비]에 적용되어, 그 제조장비에 알.에프. 전원을 공급하는 전원공급부와 그 전원을 공급받아 공정챔버 안으로 들어오는 반응가스를 이온화시켜 플라즈마를 발생시키는 부하부 사이에서, 그 전원공급부에서 공급하는 알.에프. 전원이 부하부에 완전히 공급하도록 하기 위한 임피던스 정합(Impedence Matching)장치에 관한 것으로, 특히 전원공급부에서 부하부로 공급하는 알.에프. 전원이 다양한 크기로 변경될 때, 그 다양한 크기의 알.에프. 전원에 대응하여 부하부의 임피던스를 미리 정합시키는 프리셋 동작이 다양한 상태로 이루어지는 멀티-프리셋(MULTI-PRESET) 임피던스 정합장치에 관한 것이다.
반도체 디바이스를 제조하기 위한 일반적인 플라즈마 건식각장비는 알.에프(R.F.; Radio Frequency) 전원을 공급하는 전원공급부와, 그 전원공급부에서 공급하는 알.에프. 전원을 받아 공정챔버 안으로 들어오는 반응가스를 이온화시켜 플라즈마를 발생시키는 부하부와, 상기 전원공급부와 부하부를 접속시킴과 아울러 그 전원부에서 공급되는 알.에프. 전원이 부하부로 완전히 전달되도록 그 전원부와 부하부의 임피던스를 정합시키는 임피던스 정합장치를 포함하여 구성된다.
이와 같이 구성되는 건식각장비에서 상기 임피던스 정합장치는 소정의 식각공정 레시피(Recipe)에 따라 그 크기가 결정되는 알.에프. 전원이 부하부로 공급되기 전에, 그 알.에프. 전원의 크기와 관련된 소정의 신호를 인가받아 상기 알.에프. 전원의 크기에 대응하여 변하게 될 부하부의 임피던스 변화량을 미리 보상하는 프리셋 기능과, 프리셋을 수행한 후 전원공급부의 전원이 부하부로 공급되면, 그 부하부의 임피던스가 정합되었는지를 검출하는 소정의 수단을 통해 상기 전원공급부에 공급하는 전원 및 부하부의 임피던스와 관련된 소정의 신호를 인가받아 상기 부하부의 임피던스를 정합시키는 자동정합 기능을 수행한다.
이때 상기 임피던스 정합장치의 프리셋 기능은 소정의 레시피에서 취급되는 다양한 크기의 알.에프. 전원이 그 임피던스가 일정한 값(일례로, 50[Ω])으로 설정되어 있는 부하부로 공급될 때, 그 부하부의 임피던스가 변하게 될 값을 미리 계산하여 임피던스 정합장치의 임피던스를 미리 조절함으로써, 상기 부하부의 임피던스가 일정한 값을 유지하도록 하는 사전정합 동작이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 종래 기술에 따른 임피던스 정합장치에 대해서 설명한다.
제1도는 건식각장비에 적용되는 종래 기술에 따른 임피던스 정합장치의 구성블록도로서, 이에 도시된 바와 같이 전원공급부(10)와 부하부(30)를 연결함과 아울러 그 부하부(30)의 임피던스에 따라 자신의 임피던스를 조절함으로써 상기 부하부(30)의 임피던스를 정합시키는, 이에 따라 전원공급부(10)에서 부하부(30)로 공급되는 알.에프. 전원이 완전히 전달되도록 하는 임피던스 정합장치가, 제1, 2캐패시터(C1,C2)와 제1, 2가변코일(L1,L2)로 구성되는 임피던스 정합부(21)와; 그 위치에 따라 상기 제1, 2가변코일(L1,L2)의 인덕턴스를 조절하는 제1, 2기어(22,23) 및 그 제1, 2기어(22,23)를 구동시키는 제1, 2모터(24,25)로 구성되는 임피던스조절부와; 소정의 신호를 인가받아 상기 제1, 2모터(24,25)를 구동시키는 모터구동부(26)로 구성되었다.
이때 상기 모터구동부(26)는 소정의 식각공정 레시피(Recipe)에서 취급되는 다양한 크기의 알.에프. 전원에 관한 신호를 인가받아, 그 알. 에프. 전원이 전원공급부(10)에서 부하부(30)로 공급하는 되기 전에, 그 알.에프. 전원의 크기에 따라 변하게 되는 부하부(30)의 임피던스 변화량을 미리 보상해주기 위해 상기 제1, 2모터(24,25)를 구동시킴으로써, 그 제1, 2모터(24,25)가 구동시키는 제1, 2기어(22,23)를 통해 상기 제1, 2가변코일(L1,L2)의 인덕턴스를 조절하여 사전에 전원공급부(10)와 부하부(30)의 임피던스를 대략적으로 정합시키는 프리셋 기능과, 상기와 같은 프리셋 상태에서 알.에프. 전원이 전원공급부(10)에서 부하부(30)로 전달된 후 소정의 수단을 통해 상기 알.에프. 전원 및 부하부의 임피던스와 관련된 신호를 인가받아 그 부하부(30)의 임피던스를 정확하게 정합시키는 자동정합 기능을 수행한다. 이와 같은 동작은 부하부(30)의 임피던스가 일정한 값(일례로, 50[Ω])을 갖도록 하여, 그 부하부(30)가 전원공급부(10)에서 공급하는 알.에프. 전원을 반사하지 않고 완전히 소비하도록 하기 위해서이다.
이와 같이 구성된 종래 임피던스 정합장치의 동작과 문제점에 대해서 설명하면 다음과 같다.
소정의 레시피에 따라 그 크기가 결정되는 알.에프.(일례로, 13.6MHz)전원이 전원공급부(10)에서 부하부(30)로 공급되도록 하는 소정의 신호는 임피던스 정합장치의 모터구동부(26)로 인가된 후에 상기 전원공급부(10)에 인가된다. 이에 따라 상기 모터구동부(10)는 그 인가받은 신호에 따라 제1, 2모터(24,25)를 구동시켜 그 제1, 2모터(24,25)가 제1, 2기어(22,23)를 이동시키도록 함으로써, 홈(Home)에 있는 임피던스정합부(21)의 제1, 2가변코일(L1,L2)을 기설정된 소정의 프리셋 지점으로 이동시켜 그 임피던스정합부(21)의 임피던스를 조절하는 프리셋 동작을 수행한다. 이어서 전원공급부(10)가 인가받는 신호에 따라 소정의 알.에프. 전원을 출력함으로써, 그 알.에프. 전원이 프리셋된 상기 임피던스 정합장치를 통해 부하부(30)로 전달된다. 이와 같이 알.에프. 전원을 공급받는 부하부(30)는 공정챔버 안으로 유입되는 공정가스를 이온화시켜 플라즈마를 발생시킨다.
이후 상기 동작을 감시하는 소정의 수단을 통해 상기 알.에프. 전원 및 부하부(30)의 임피던스와 관련된 신호가 그 감시수단에서 모터구동부(26)로 인가된다. 이에 따라 모터구동부(26)는 그 인가받는 신호에 따라 프리셋 상태에 있는 상기 제1, 2가변코일(L1,L2)의 인덕턴스를 조절하여 부하부(30)의 임피던스가 완전히 정합되도록 상기 제1, 2모터(24,25)를 구동시키는 자동정합 동작을 수행한다.
이와 같은 과정을 통해 부하부(30)의 임피던스가 완전히 정합되면, 상기 전원공급부(10)와 임피던스 정합장치를 통해 알.에프. 전원을 공급받는 부하부(30)가 그 알.에프. 전원을 반사없이 완전히 소비하게 됨으로써, 공정챔버가 안정된 상태에서 건식각공정을 수행하게 한다.
그러나 상기와 같은 종래 임피던스 정합장치는 프리셋 지점이 하나밖에 없기 때문에, 다양한 반도체 디바이스를 취급하는 건식각장비가 레벨의 범위가 넓은 알.에프. 전원을 사용하는 경우에는 그 임피던스 정합장치의 정합동작이 빠르게 되지 않음으로써, 알.에프. 전원이 흔들리는 경우에는 공정이 불안하게 될 뿐만 아니라 임피던스 정합장치가 손상을 받게 되는 문제점이 있었다. 그 뿐만 아니라 한 레시피상에서 알.에프. 전원을 다양한 레벨로 사용할 때에는 정합이 제대로 되지 않는 경우가 발생하여 공정 파라미터를 조절하기가 어럽게 하는 문제점이 있었다.
이에 본 발명은 상기와 같은 종래 문제점을 해결하기 위한 것으로, 전원공급부에서 출력되는 알.에프. 전원을 부하부로 전달하는 임피던스 정합장치가 멀티-프리셋(MULTI-PRESET) 조절 기능을 갖도록 함으로써, 그 임피던스 정합장치의 임피던스 정합이 정확하고도 빠르게 이루어지도록 한 멀티-프리셋 임피던스 정합장치를 제공함에 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명 멀티-프리셋 임피던스 정합장치는 전원공급부와 부하부를 연결함과 아울러 소정의 신호에 따라 그 자신의 임피던스가 조절됨으로써, 상기 부하부가 전원공급부에서 공급받는 전원을 완전히 전달받을 수 있도록 그 부하부의 임피던스를 정합시키는 임피던스정합부와; 소정의 신호에 따라 구동되는 모터를 포함하여 구성된 것으로, 그 모터를 통해 상기 임피던스정합부의 임피던스를 조절하는 임피던스조절부와; 소정의 신호를 인가받아 상기 임피던스조절부의 모터를 구동시킴으로써, 전원이 공급되기 전에 상기 임피던스정합부의 임피던스를 불연속인 다양한 값으로 조절하여 초기화시키는 멀티-프리셋부와; 소정의 신호를 인가받아 상기 임피던스조절부의 모터를 구동시킴으로써, 전원이 공급되는 상태에서 프리셋된 상기 임피던스정합부의 임피던스를 자동으로 조절하는 제2모터구동부로 구성되는 것을 특징으로 한다.
이와 같이 구성되는 멀티-프리셋 임피던스 정합장치는 소정의 레시피에 따라 그 크기가 결정되는 알.에프. 전원이 전원공급부에서 부하부로 공급되기 전에, 그 알.에프. 전원에 관련된 신호를 인가받는 멀티-프리셋부가 그 신호에 따라 임피던스조절부의 모터를 구동시킴으로써, 그 임피던스조절부가 임피던스정합부의 임피던스를 조절하여 프리셋시킨 후, 전원공급부가 알.에프. 전원을 상기 임피던스정합부를 통해 부하부로 공급하면, 그 알.에프. 전원을 공급받는 부하부는 공정챔버 안으로 유입되는 공정가스를 이온화시켜 플라즈마를 발생시킨다. 이와 함께 상기 동작을 감시하는 소정의 수단을 통해 상기 알.에프. 전원 및 부하부 임피던스와 관련된 신호가 그 감시수단에서 제2모터구동부로 인가되면, 그 제2모터구동부는 프리셋 상태에 있는 상기 인덕턴스정합부의 임피던스를 조절하여 부하부의 임피던스가 완전히 정합되도록 상기 임피던스조절부의 모터를 구동시킨다. 이와 같은 과정을 통해 부하부의 임피던스가 완전히 정합되면, 상기 전원공급부와 임피던스정합부를 통해 알. 에프. 전원을 인가받는 부하부는 그 알.에프. 전원을 반사없이 완전히 소비하게 됨으로써, 공정챔버가 안정된 상태에서 건식각공정을 수행하게 된다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 대해서 상세히 설명한다.
제2도는 건식각장비에 적용되는 본 발명에 따른 멀티-프리셋 임피던스 정합장치의 구성블록도로서, 이에 도시된 바와 같이 전원공급부(100)와 (공정챔버)부하부(300)를 연결함과 아울러 소정의 신호(힘)에 따라 그 자신의 임피던스가 조절됨으로써, 상기 부하부(300)가 전원공급부(100)에서 공급받는 전원을 완전히 전달받을 수 있도록 그 부하부(300)의 임피던스를 정합시키는 임피던스정합부(210)와; 소정의 신호에 따라 구동되는 모터(223,224)를 포함하여 구성된 것으로, 그 모터(223,224)를 통해 상기 임피던스정합부(210)의 임피던스를 조절하는 임피던스조절부(220)와; 이후에 전원공급부(100)에서 부하부(300)로 공급될 알.에프. 전원과 관련된 소정의 신호를 인가받아, 임피던스조절부(220)의 모터(223,224)를 구동시켜 임피던스정합부(210)의 임피던스를 불연속적인 다양한 값으로 조절함으로써, 그 임피던스정합부(210)를 멀티-프리셋시키는 멀티-프리셋부(230)와; 전원공급부(100)에서 부하부(300)로 알.에프. 전원이 공급되는 상태에서 그 알.에프. 전원 및 부하부(300)의 현재 임피던스와 관련된 소정의 신호를 인가받아, 상기 임피던스조절부(220)의 모터(223,224)를 구동시켜 상기 임피던스정합부(210)의 임피던스를 조절함으로써, 부하부(300)의 임피던스를 자동으로 정합시키는 제2모터구동부(240)로 구성된다.
이때 상기 임피던스정합부(210)는 전원공급부(100)와 부하부(300) 사이에서 직렬로 연결된 제1, 2캐패시터(C1,C2) 및 제1, 2가변코일(L1,L2)로 구성되고, 임피던스조절부(220)는 상기 임피던스정합부(210)의 제1, 2가변코일(L1,L2)를 조절하여 그 제1, 2가변코일(L1,L2)의 인덕턴스를 조절하는 제1, 2기어(221) 및 그 제1, 2기어(222)를 구동시키는 제1, 2모터(223,224)로 구성된다.
그리고 멀티-프리셋부(230)는 소정의 신호(힘)에 의해 변하는 그의 저항값에 따라 상기 임피던스조절부(220)의 제1, 2모터(223,224)를 구동시킴으로써, 그 제1, 2모터(223,224)의 초기위치를 결정하는 제1, 2가변저항기(231,232)와, 소정의 신호에 따라 구동되어 상기 제1,2 가변저항기(231,232)의 저항값을 변화시키는 제3,4 모터(233,234)와, 전원공급부(100)에서 부하부(300)로 공급될 알.에프. 전원의 크기와 관련된 소정의 신호를 상기 전원공급부(100) 보다 먼저 인가받아, 그 신호에 따라 상기 제3,4 모터(233,234)를 구동시킴으로써 그 제3,4모터(233,234)의 구동에 따라 차례대로 구동되는 제1,2 가변저항기(231,232)와 제1,2 모터(223,224) 및 제1,2 기어(221,222)를 통해 상기 제1,2 가변코일(L1, L2)의 인덕턴스를 미리 정합시키는 제1모터구동부(230)로 구성된다.
이때 상기 제1,2 가변저항기(231,232)는 제3,4모터(233,234)에 의해 그 저항값이 다양한 값(일례로, 1Ω,2Ω,3Ω, …)으로 변함으로써, 그 저항값에 따라 구동되는 제1,2모터(223,224)가 초기위치를 결정하게 한다. 이에 따라 제1,2기어(221,222)가 상기 제1,2모터(223,224)의 초기위치에 따라 구동됨으로써, 그 제1,2기어(221,222)에 의해 프리셋되는 임피던스정합부(210)의 제1,2가변코일(L1, L2)이 상기 제1,2모터(223,224)의 다양한 초기위치에 따라 멀티-프리셋된다.
이상과 같이 구성된 본 발명에 따른 멀티-프리셋 임피던스 정합장치의 동작과 효과에 대해서 설명하면 다음과 같다.
건식각장비가 수행하게 되는 소정의 공정레시피는 다양한 알.에프 전원을 취급하게 되는데, 그 각각의 알.에프.전원이 전원공급부(100)에서 부하부(300)로 공급되기 전에 그 선택된 알.에프.전원의 크기와 관련된 소정의 신호가 멀티-프리셋부(230)의 제1모터구동부(235)로 인가된다. 이에 따라 그 제1모터구동부(235)는 제3,4모터(233,234)를 구동시켜 제1,2 가변저항기(231,232)의 저항값을 조절함으로써, 그 제1,2가변저항기(231,232)의 저항값에 따라 구동되는 제1,2모터(223,224)가 상기 제1,2가변저항기(231,232)의 저항값에 대응하는 위치로 회전하여 그의 초기위를 결정하게 된다. 이와 함께 상기 제1,2모터(223,224)의 구동에 따라 그 위치가 결정되는 제1,2기어(221,222)가 제1,2가변코일(L1, L2)의 위치를 조절함으로서, 그 제1,2가변코일(L1,L2)의 위치가 초기화되는 프리셋 동작이 완료된다. 일례로, 알.에프.전원의 크기가 각각 X,Y,Z, …이고, 그 전원에 대응하는 제1,2가변저항기(231,232)의 저항값이 각각 (1Ω,1Ω),(2Ω,2Ω),(3Ω,3Ω), …이며, 그 각각의 저항값에 대응하는 제1,2 가변코일(L1, L2)의 위치가 각각 (A,A'),(B,B'),(C,C'), …으로 설정된 경우에, 이후에 공급될 알.에프. 전원의 크기가 X이면 그 X에 대응하는 신호가 제1모터구동부(235)로 인가됨으로써 그 제1모터구동부(235)가 제3,4모터(233,234)를 구동시켜 상기 제1,2가변저항기(231,232)의 저항값을 각각 (1Ω,1Ω)으로 설정한다. 이에 따라 그 제1,2가변저항기(231,232)의 설정된 저항값에 따라 구동되는 제1모터(223,224) 및 그 제1,2모터(223,224)를 통해 홈(Home)에 있는 제1,2가변코일(L1, L2)이 각각 (A,A')으로 이동하여 프리셋된다.
이어서 선택된 알.에프. 전원이 전원공급부(100)에서 부하부(300)로 공급되어, 그 부하부(300)가 공정챔버 안으로 유입되는 공정가스를 플라즈마로 만들고, 이와 함께 상기 동작을 감시하는 소정의 수단을 통해 상기 알.에프.전원 및 부하부 임피던스와 관련된 신호가 그 감시수단에서 제2모터구동부(235)로 인가되면, 그 제2모터구동부(235)가 상기와 같이 프리셋된 제1,2모터(223,224)를 구동시킴으로써, 그 제1,2모터(223,224)가 초기위치에서 상기 감시수단을 통해 입력된 신호에 대응하는 각 만큼 회전한다. 이에 따라 프리셋 위치에 있는 임피던스정합부(210)의 제1,2가변코일(L1, L2)이 그 프리셋 위치에서 상기 제1,2모터(223,224)가 회전한 각에 대응하는 값 만큼 이동하여 완전한 임피던스 정합을 달성한다.
이후 상기 전원이 변하게 되면 상기와 같은 과정을 반복하게 되는데, 이에 대해서 예를 들어 설명하면 다음과 같다.
상기와 같이 X의 크기로 공급되던 알.에프.전원의 크기가 소정의 공정레시피에 따라 Y로 바뀌게 되면, 제1,2 가변코일(L1, L2)이 홈으로 이동함과 동시에 제1모터구동부(235)가 제3,4모터(233,234)를 통해 제1,2가변저항기(231,232)의 저항값을 각각(2Ω,2Ω)으로 설정하고, 이어서 상기 제1,2가변저항기(231,232)의 저항값에 따라 구동되는 제1,2모터(223,224) 및 제1,2 기어(221,222)를 통해 제1,2가변코일(L1, L2)의 위치를 (B,B')으로 이동시켜 그를 프리셋시킨다. 이후의 동작은 상기에서 설명한 바와 같으므로 그에 대한 설명은 생략한다.
이와 같은 과정을 통해 부하부(300)의 임피던스가 완전히 정합되면, 상기 전원공급부(100)와 임피던스정합부(210)를 통해 알.에프 전원을 인가받는 부하부(300)는 그 알.에프.전원을 반사없이 완전히 소비하게 됨으로써, 공정챔버가 안정된 상태에서 건식각공정을 수행하게 된다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 고안에 따른 멀티-프리셋 임피던스 정합장치는 ,임피던스정합부의 제1,2가변코일이 다양한 위치로 프리셋되는 기능이 구비됨으로써, 다양한 전원의 크기에 대응하는 멀티-프리셋이 이루어진 후에 자동정합이 되기 때문에, 빠르게 임피던스가 정합된다. 따라서 순간적인 반사가 발생하지 않을 뿐만 아니라 공정챔버가 안정된 상태에서 플라즈마를 형성하게 되어 최적의 조건에서 건식각공정이 수행되는 효과가 발생한다.

Claims (6)

  1. 전원공급부와 부하부를 연결함과 아울러 소정의 신호에 따라 그 자신의 임피던스가 조절됨으로써, 상기 부하부가 전원공급부에서 공급받는 전원을 완전히 전달받을 수 있도록 그 부하부의 임피던스를 정합시키는 임피던스정합부와; 소정의 신호에 따라 구동되는 모터를 포함하여 구성된 것으로, 그 모터를 통해 상기 임피던스정합부의 임피던스를 조절하는 임피던스조절부와; 소정의 신호를 인가받아 상기 임피던스조절부의 모터를 구동시킴으로써, 전원이 공급되기 전에 상기 임피던스정합부의 임피던스를 불연속적인 다양한 값으로 조절하여 초기화시키는 멀티-프리셋부와; 소정의 신호를 인가받아 상기 임피던스조절부의 모터를 구동시킴으로써, 전원이 공급되는 상태에서 프리셋된 상기 임피던스정합부의 임피던스를 자동으로 조절하는 제2모터구동부로 구성되는 것을 특징으로 하는 멀티-프리셋 임피던스 정합장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 임피던스정합부는 전원공급부와 부하부 사이에서 직렬로 연결된 제1,2캐패시터(C1,C2) 및 제1,2가변코일(L1, L2)로 구성되는 것을 특징으로 하는 멀티-프리셋 임피던스 정합장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 임피던스조절부는 임피던스정합부의 임피던스를 조절하는 제1,2 기어 및 그 제1,2기어를 구동시키는 제1,2모터로 구성되는 것을 특징으로 하는 멀티-프리셋 임피던스 정합장치.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 임피던스정합부의 제1,2 가변코일(L1, L2)은 임피던스조절부의 제1,2기어의 위치에 따라 그 인덕턴스가 변하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 멀티-프리셋 임피던스 정합장치.
  5. 제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 멀티-프리셋부는 소정의 신호(힘)에 의해 변하는 그의 저항값에 따라 상기 임피던스조절부의 제1,2모터를 구동시킴으로써, 그 제1,2모터의 초기위치를 결정하는 제1,2가변저항기와, 소정의 신호에 따라 구동되어 상기 제1,2가변저항기의 저항값을 변화시키는 제3,4모터와, 전원공급부에서 부하부로 공급될 알.에프.전원의 크기와 관련된 소정의 신호를 상기 전원공급부 보다 먼저 인가받아, 그 신호에 따라 상기 제3,4모터를 구동시키는 제1모터구동부로 구성되는 것을 특징으로 하는 멀티-프리셋 임피던스 정합장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 제1,2가변저항기는 제1모터구동부에 의해 구동되는 제3,4모터를 통해 그 저항값이 각각 다양한 값으로 변환되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 멀티-프리셋 임피던스 정합장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101233200B1 (ko) 2006-04-14 2013-02-15 엘지전자 주식회사 냉장고용 수납박스 출납구조
US20220172927A1 (en) * 2020-11-27 2022-06-02 Semes Co., Ltd. Device for multi-level pulsing, substrate processing apparatus including the same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100589051B1 (ko) * 2000-07-25 2006-06-13 삼성전자주식회사 플라즈마를 사용하는 반도체 제조 장치
KR101233200B1 (ko) 2006-04-14 2013-02-15 엘지전자 주식회사 냉장고용 수납박스 출납구조
US8814285B2 (en) 2006-04-14 2014-08-26 Lg Electronics Inc. Refrigerator
US20220172927A1 (en) * 2020-11-27 2022-06-02 Semes Co., Ltd. Device for multi-level pulsing, substrate processing apparatus including the same

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