JPH0643468A - 液晶セルのギャップコントロール方法 - Google Patents
液晶セルのギャップコントロール方法Info
- Publication number
- JPH0643468A JPH0643468A JP21572092A JP21572092A JPH0643468A JP H0643468 A JPH0643468 A JP H0643468A JP 21572092 A JP21572092 A JP 21572092A JP 21572092 A JP21572092 A JP 21572092A JP H0643468 A JPH0643468 A JP H0643468A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- spacer material
- black mask
- glass substrate
- color filter
- pattern space
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13392—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers dispersed on the cell substrate, e.g. spherical particles, microfibres
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】この発明は、液晶セルのギャップコントロール
方法を目的にしている。 【構成】有効表示部以外のパターンスペース部Ｄのみに
ギャップコントロール部を設ける際に、ガラス基板１上
に、カラーフィルター２、ＩＴＯ膜３を形成し、該カラ
ーフィルター２、ＩＴＯ膜３及びパターンスペース部Ｄ
の各部にＳｉＯ２等の保護膜４を形成し、該保護膜４上
にスペーサー材料５入りブラックマスクを所定印刷手段
で塗布後、塗布済ガラス基板を予備焼成し、かつガラス
基板１の背面より紫外線７を照射してカラーフィルター
２以外の部分を感光させ、現像を行って感光部以外のブ
ラックマスク材料を除去し、パターンスぺース部Ｄのみ
にブラックマスクとブラックマスクに固定されたスペー
サー材料５を形成して成る。
方法を目的にしている。 【構成】有効表示部以外のパターンスペース部Ｄのみに
ギャップコントロール部を設ける際に、ガラス基板１上
に、カラーフィルター２、ＩＴＯ膜３を形成し、該カラ
ーフィルター２、ＩＴＯ膜３及びパターンスペース部Ｄ
の各部にＳｉＯ２等の保護膜４を形成し、該保護膜４上
にスペーサー材料５入りブラックマスクを所定印刷手段
で塗布後、塗布済ガラス基板を予備焼成し、かつガラス
基板１の背面より紫外線７を照射してカラーフィルター
２以外の部分を感光させ、現像を行って感光部以外のブ
ラックマスク材料を除去し、パターンスぺース部Ｄのみ
にブラックマスクとブラックマスクに固定されたスペー
サー材料５を形成して成る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、液晶セル全般に利用
される液晶セルのギャップコントロール方法に関するも
のである。
される液晶セルのギャップコントロール方法に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種液晶セルのギャップコント
ロール方法は、図４に図示したように、対向する２枚の
ガラス基板間にスペーサー材料ａを散布法によりガラス
基板面の全面に散布し、必要とされるガラス基板間隔を
均一にコントロールしている。
ロール方法は、図４に図示したように、対向する２枚の
ガラス基板間にスペーサー材料ａを散布法によりガラス
基板面の全面に散布し、必要とされるガラス基板間隔を
均一にコントロールしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記従来の技
術では、Ａ．スペーサー材料をガラス基板面の全面に散
布するため、図４の様に、Ｘ電極とＹ電極の斜線部分の
有効表示部にスペーサー材料が存在し、このため液晶分
子の配向に影響を与え、一般にスペーサー材料による光
抜けからコントラスト比が低下する。特に垂直配向セル
ではスペーサー材料近傍の液晶配向が異常な挙動を示
し、ミクロ的特性異常が生じることから、コントラスト
が低下するという問題点がある。
術では、Ａ．スペーサー材料をガラス基板面の全面に散
布するため、図４の様に、Ｘ電極とＹ電極の斜線部分の
有効表示部にスペーサー材料が存在し、このため液晶分
子の配向に影響を与え、一般にスペーサー材料による光
抜けからコントラスト比が低下する。特に垂直配向セル
ではスペーサー材料近傍の液晶配向が異常な挙動を示
し、ミクロ的特性異常が生じることから、コントラスト
が低下するという問題点がある。
【０００４】Ｂ．湿式散布の際、溶剤中に含まれたゴミ
により、液晶セル内にゴミが混入する。又溶剤中のイオ
ン成分等により表面が汚染されるという問題点がある。
により、液晶セル内にゴミが混入する。又溶剤中のイオ
ン成分等により表面が汚染されるという問題点がある。
【０００５】Ｃ．湿式散布を用いた場合は、ガラス基板
上での分散が不充分になりやすく、配向の異常領域が拡
大する。この状態は容易に発見できるため、ディスプレ
イとしての品位を低下させるという問題点がある。
上での分散が不充分になりやすく、配向の異常領域が拡
大する。この状態は容易に発見できるため、ディスプレ
イとしての品位を低下させるという問題点がある。
【０００６】そこで、本発明は上記従来の技術の問題点
に鑑み案出されたもので、スペーサー材料によるコント
ラストの低下を防止する液晶セルのギャップコントロー
ル方法の提供を目的としている。
に鑑み案出されたもので、スペーサー材料によるコント
ラストの低下を防止する液晶セルのギャップコントロー
ル方法の提供を目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明における液晶セルのギャップコントロール方
法においては、有効表示部以外のパターンスペース部の
みにギャップコントロール部を設ける際に、ガラス基板
上に、カラーフィルター、ＩＴＯ膜を形成し、該カラー
フィルター、ＩＴＯ膜及びパターンスペース部の各部に
ＳｉＯ２等の保護膜を形成し、該保護膜上にスペーサー
材料入りブラックマスクを所定印刷手段で塗布後、塗布
済ガラス基板を予備焼成し、かつガラス基板の背面より
紫外線を照射してカラーフィルター以外の部分を感光さ
せ、現像を行って感光部以外のブラックマスク材料を除
去し、パターンスぺース部のみにブラックマスクとブラ
ックマスクに固定されたスペーサー材料を形成して成る
ものである。
に、本発明における液晶セルのギャップコントロール方
法においては、有効表示部以外のパターンスペース部の
みにギャップコントロール部を設ける際に、ガラス基板
上に、カラーフィルター、ＩＴＯ膜を形成し、該カラー
フィルター、ＩＴＯ膜及びパターンスペース部の各部に
ＳｉＯ２等の保護膜を形成し、該保護膜上にスペーサー
材料入りブラックマスクを所定印刷手段で塗布後、塗布
済ガラス基板を予備焼成し、かつガラス基板の背面より
紫外線を照射してカラーフィルター以外の部分を感光さ
せ、現像を行って感光部以外のブラックマスク材料を除
去し、パターンスぺース部のみにブラックマスクとブラ
ックマスクに固定されたスペーサー材料を形成して成る
ものである。
【０００８】
【作用】イ．ＳｉＯ２膜を形成したガラス基板を用意
し、該ガラス基板に光透過性のスペーサー材料で、表面
に樹脂コーティングしたタイプのスペーサー材料を０．
７５％含んだ紫外線硬化型のブラックマスクをスクリー
ン印刷により塗布する。
し、該ガラス基板に光透過性のスペーサー材料で、表面
に樹脂コーティングしたタイプのスペーサー材料を０．
７５％含んだ紫外線硬化型のブラックマスクをスクリー
ン印刷により塗布する。
【０００９】ロ．この塗布済ガラス基板を９０℃で２０
分予備焼成を行い、ガラス基板背面より主波長３６０ｎ
ｍの紫外線を照射してセルソルブ系の溶剤にて現像を行
う。
分予備焼成を行い、ガラス基板背面より主波長３６０ｎ
ｍの紫外線を照射してセルソルブ系の溶剤にて現像を行
う。
【００１０】ハ．２３０℃で２時間の本焼成によりブラ
ックマスク材料を完全硬化させる。
ックマスク材料を完全硬化させる。
【００１１】以上の工程によって有効表示部外のパター
ンスペース部のみにギャップコントロール部を形成され
る。
ンスペース部のみにギャップコントロール部を形成され
る。
【００１２】
【実施例】実施例について図１から図３を参照して説明
すると、この発明は有効表示部以外のパターンスペース
部Ｄのみにギャップコントロール（以下ＧＣ）部を設け
る場合、可視光領域に遮光特性をもった感光性樹脂材料
６で、主に紫外部に分光感度を有するネガ型ブラックマ
スク材料中にスペーサー材料５を混入したものを使用
し、ブラックマスクのフォトリソグラフには、Ｒ・Ｇ・
Ｂカラーフィルター２を遮光膜としたセルフアライメン
ト型フォトリソグラフィー工程により、有効表示部外の
みにＧＣ部を設けることを特徴としている。
すると、この発明は有効表示部以外のパターンスペース
部Ｄのみにギャップコントロール（以下ＧＣ）部を設け
る場合、可視光領域に遮光特性をもった感光性樹脂材料
６で、主に紫外部に分光感度を有するネガ型ブラックマ
スク材料中にスペーサー材料５を混入したものを使用
し、ブラックマスクのフォトリソグラフには、Ｒ・Ｇ・
Ｂカラーフィルター２を遮光膜としたセルフアライメン
ト型フォトリソグラフィー工程により、有効表示部外の
みにＧＣ部を設けることを特徴としている。
【００１３】先ず、図１に示すように、ガラス基板１上
に、カラーフィルター２、ＩＴＯ膜３を配置し、該カラ
ーフィルター２、ＩＴＯ膜３及びパターンスペース部Ｄ
の各部にＳｉＯ２等の保護膜４を形成し、該保護膜４上
にスペーサー材料５入りブラックマスクをスクリーン印
刷、ロールコート、スピンコート、オフセット印刷等所
定印刷手段により塗布している。
に、カラーフィルター２、ＩＴＯ膜３を配置し、該カラ
ーフィルター２、ＩＴＯ膜３及びパターンスペース部Ｄ
の各部にＳｉＯ２等の保護膜４を形成し、該保護膜４上
にスペーサー材料５入りブラックマスクをスクリーン印
刷、ロールコート、スピンコート、オフセット印刷等所
定印刷手段により塗布している。
【００１４】パターンスペース部ＤのＧＣ部には、感光
性樹脂６中にガラスファイバー等の剛体微粒子のスペー
サー材料５を混入したものを使用している。
性樹脂６中にガラスファイバー等の剛体微粒子のスペー
サー材料５を混入したものを使用している。
【００１５】該感光性樹脂材料６には、黒色になるよう
な顔料及び染料を分散した可視光領域に遮光特性をもつ
タイプで、主に紫外部に分光感度を有するネガ型ブラッ
クマスク材料を使用している。
な顔料及び染料を分散した可視光領域に遮光特性をもつ
タイプで、主に紫外部に分光感度を有するネガ型ブラッ
クマスク材料を使用している。
【００１６】また、前記スペーサー材料５は、光透過性
のものを使用し、図２の様に、ガラス基板１の背面から
紫外光７を露出する際、スペーサー材料５内で紫外光が
散乱してスペーサー材料５の廻りのブラックマスクも硬
化させ、スペーサー材料５を覆うように形成される（図
３のＡ部参照）。これによりスペーサー材料５は安定に
保持されている。
のものを使用し、図２の様に、ガラス基板１の背面から
紫外光７を露出する際、スペーサー材料５内で紫外光が
散乱してスペーサー材料５の廻りのブラックマスクも硬
化させ、スペーサー材料５を覆うように形成される（図
３のＡ部参照）。これによりスペーサー材料５は安定に
保持されている。
【００１７】さらに、スペーサー材料５の廻りに形成さ
れたブラックマスクとスペーサー材料５は接着が弱いた
め剥離するので、接着性改善のため、スペーサー材料５
の表面にアクリル等の樹脂をコーティングしたものを使
用し、ブラックマスクの樹脂とスペーサー材料５表面の
樹脂との、樹脂同士の密着性を利用し接着性を強化して
いる。
れたブラックマスクとスペーサー材料５は接着が弱いた
め剥離するので、接着性改善のため、スペーサー材料５
の表面にアクリル等の樹脂をコーティングしたものを使
用し、ブラックマスクの樹脂とスペーサー材料５表面の
樹脂との、樹脂同士の密着性を利用し接着性を強化して
いる。
【００１８】また、カラーフィルター２上のＩＴＯ膜３
保護のためのＳｉＯ２等の保護膜４（図３のＢ部）は、
パターンスペース部ＤのみにＧＣ部を設ける場合、フォ
トリソグラフィー工程内のブラシ洗浄等において、スペ
ーサー材料５がガラス基板１表面から剥離し、剥離した
スペーサー材料５が、有効表示部のＩＴＯ膜３とカラー
フィルター２を損傷させ、断線による不灯を生じるの
で、該傷発生防止のため、有効表示部とパターンスペー
ス部ＤにＳｉＯ２等の保護膜４を設けている。
保護のためのＳｉＯ２等の保護膜４（図３のＢ部）は、
パターンスペース部ＤのみにＧＣ部を設ける場合、フォ
トリソグラフィー工程内のブラシ洗浄等において、スペ
ーサー材料５がガラス基板１表面から剥離し、剥離した
スペーサー材料５が、有効表示部のＩＴＯ膜３とカラー
フィルター２を損傷させ、断線による不灯を生じるの
で、該傷発生防止のため、有効表示部とパターンスペー
ス部ＤにＳｉＯ２等の保護膜４を設けている。
【００１９】さらに、安定なギャップコントロールのた
めのスペーサー材料５のブラックマスクへの混入ｗｔ％
は０．５％以上にしている。すなわち、スペーサー材料
５のブラックマスクの混入を減らすと（例：０．３ｗｔ
％以下）対向するもう一方のガラス基板１と重ね合わせ
た際、スペーサー材料５の１個当たりに加わる力によ
り、スペーサー材料５が破損してしまい、均一なＧＣ精
度が得られなくなる。
めのスペーサー材料５のブラックマスクへの混入ｗｔ％
は０．５％以上にしている。すなわち、スペーサー材料
５のブラックマスクの混入を減らすと（例：０．３ｗｔ
％以下）対向するもう一方のガラス基板１と重ね合わせ
た際、スペーサー材料５の１個当たりに加わる力によ
り、スペーサー材料５が破損してしまい、均一なＧＣ精
度が得られなくなる。
【００２０】・混入スペーサー材料５ｗｔ％の実施例 混入ｗｔ％ ギャップコントロール 判定 ０．１％ 全面にスペーサー材料５破損 × ０．３％ 一部にスペーサー材料５破損 △ ０．５％ 全面にスペーサー材料５安定 ○ ０．７５％ ↑ ○ １％ ↑ ○ ２％ ↑ ○ スペーサー材料５：粒径８．６μｍアルミナボール
【００２１】次に、スペーサー材料５入りブラックマス
クの塗布後の仮硬化を行うため９０℃で１０分以上の仮
焼成工程を行う。仮焼成を行わない場合や、仮焼成時間
を短くした場合、ブラックマスクの塗布後の仮硬化が不
充分になり、スペーサー材料５の保持が不安定になり、
スペーサー材料５が剥離し、均一なＧＣ精度が得られな
くなるからである。
クの塗布後の仮硬化を行うため９０℃で１０分以上の仮
焼成工程を行う。仮焼成を行わない場合や、仮焼成時間
を短くした場合、ブラックマスクの塗布後の仮硬化が不
充分になり、スペーサー材料５の保持が不安定になり、
スペーサー材料５が剥離し、均一なＧＣ精度が得られな
くなるからである。
【００２２】そして、塗布済ガラス基板１を予備焼成
後、図２のようにガラス基板１の背面より紫外線７を照
射し、カラーフィルター２以外の部分を感光させてい
る。
後、図２のようにガラス基板１の背面より紫外線７を照
射し、カラーフィルター２以外の部分を感光させてい
る。
【００２３】また、図２の様に、ブラックマスク材料の
フォトリソグラフには、Ｒ、Ｇ、Ｂカラーフィルター２
を遮光膜として使用したアライメント型フォトリソグラ
フィー工程により有効表示部外のみにＧＣ部を設けてい
る。
フォトリソグラフには、Ｒ、Ｇ、Ｂカラーフィルター２
を遮光膜として使用したアライメント型フォトリソグラ
フィー工程により有効表示部外のみにＧＣ部を設けてい
る。
【００２４】最後に、現像を行って感光部以外のブラッ
クマスク材料を除去すると、図３のように、パターンス
ぺース部Ｄのみにブラックマスクとブラックマスクに固
定されたスペーサー材料５が形成される。
クマスク材料を除去すると、図３のように、パターンス
ぺース部Ｄのみにブラックマスクとブラックマスクに固
定されたスペーサー材料５が形成される。
【００２５】
【発明の効果】本発明は上述の通り構成されているの
で、次に記載する効果を奏する。 Ａ．有効表示部にスペーサー材料が存在しないため、液
晶分子の異常配向が表示ドット上に発生しない。従っ
て、散布方法で発生していたスペーサー材料によるコン
トラストの低下を解消することができる。
で、次に記載する効果を奏する。 Ａ．有効表示部にスペーサー材料が存在しないため、液
晶分子の異常配向が表示ドット上に発生しない。従っ
て、散布方法で発生していたスペーサー材料によるコン
トラストの低下を解消することができる。
【００２６】Ｂ．湿式散布方法で発生した液晶セル内の
ゴミによる不良を低減することにより、歩留りを上げる
ことができる。
ゴミによる不良を低減することにより、歩留りを上げる
ことができる。
【図１】塗布工程図である。
【図２】紫外線照射工程図である。
【図３】現像後のパターンスペース部の断面図である。
【図４】従来のギャップコントロール方法である。
１ ガラス基板 ２ カラーフィルター ３ ＩＴＯ膜 ４ 保護膜 ５ スペーサー材料 ６ 感光性樹脂材料 ７ 紫外線照射 Ｄ パターンスペース部
Claims (1)
- 【請求項１】有効表示部以外のパターンスペース部のみ
にギャップコントロール部を設ける際に、ガラス基板上
に、カラーフィルター、ＩＴＯ膜を形成し、該カラーフ
ィルター、ＩＴＯ膜及びパターンスペース部の各部にＳ
ｉＯ２等の保護膜を形成し、該保護膜上にスペーサー材
料入りブラックマスクを所定印刷手段で塗布後、塗布済
ガラス基板を予備焼成し、かつガラス基板の背面より紫
外線を照射してカラーフィルター以外の部分を感光さ
せ、現像を行って感光部以外のブラックマスク材料を除
去し、パターンスぺース部のみにブラックマスクとブラ
ックマスクに固定されたスペーサー材料を形成して成る
液晶セルのギャップコントロール方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21572092A JPH0643468A (ja) | 1992-07-22 | 1992-07-22 | 液晶セルのギャップコントロール方法 |
| EP19930111620 EP0580132B1 (en) | 1992-07-22 | 1993-07-21 | Gap controlling method for liquid crystal cells |
| DE1993608946 DE69308946T2 (de) | 1992-07-22 | 1993-07-21 | Verfahren zur Abstandseinstellung für Flüssigkristallzellen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21572092A JPH0643468A (ja) | 1992-07-22 | 1992-07-22 | 液晶セルのギャップコントロール方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0643468A true JPH0643468A (ja) | 1994-02-18 |
Family
ID=16677067
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21572092A Pending JPH0643468A (ja) | 1992-07-22 | 1992-07-22 | 液晶セルのギャップコントロール方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0580132B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0643468A (ja) |
| DE (1) | DE69308946T2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6064461A (en) * | 1994-08-12 | 2000-05-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device and method for producing the same |
| JP2002323702A (ja) * | 2001-04-24 | 2002-11-08 | Nippon Shokubai Co Ltd | 転写材料およびこれを用いた画像形成方法 |
| JP2007178652A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Nec Lcd Technologies Ltd | 液晶パネル及びその製造方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09127524A (ja) * | 1995-11-06 | 1997-05-16 | Sharp Corp | 液晶表示素子 |
| GB2315900B (en) * | 1996-07-26 | 2000-10-04 | Sharp Kk | Liquid crystal device |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02196284A (ja) * | 1989-01-25 | 1990-08-02 | Seiko Instr Inc | 多色表示装置の製造方法 |
| JPH02308223A (ja) * | 1989-05-24 | 1990-12-21 | Seiko Epson Corp | 液晶電気光学素子の製造方法 |
| JPH0394218A (ja) * | 1989-09-07 | 1991-04-19 | Sharp Corp | 液晶パネルの製造方法 |
-
1992
- 1992-07-22 JP JP21572092A patent/JPH0643468A/ja active Pending
-
1993
- 1993-07-21 EP EP19930111620 patent/EP0580132B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-07-21 DE DE1993608946 patent/DE69308946T2/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6064461A (en) * | 1994-08-12 | 2000-05-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device and method for producing the same |
| JP2002323702A (ja) * | 2001-04-24 | 2002-11-08 | Nippon Shokubai Co Ltd | 転写材料およびこれを用いた画像形成方法 |
| JP2007178652A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Nec Lcd Technologies Ltd | 液晶パネル及びその製造方法 |
| US8264657B2 (en) | 2005-12-27 | 2012-09-11 | Nlt Technologies, Ltd. | Liquid crystal display panel and method of manufacturing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69308946D1 (de) | 1997-04-24 |
| EP0580132B1 (en) | 1997-03-19 |
| DE69308946T2 (de) | 1997-06-26 |
| EP0580132A1 (en) | 1994-01-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100262376B1 (ko) | 액정표시장치및그제조방법 | |
| JPH04318816A (ja) | 液晶表示装置およびカラーフィルター | |
| US5482803A (en) | Process for preparing filter | |
| JPH11109373A (ja) | 液晶表示素子 | |
| JPH0643468A (ja) | 液晶セルのギャップコントロール方法 | |
| KR100798308B1 (ko) | 액정 표시소자의 스페이서 형성방법 | |
| JPH0572528A (ja) | カラーフイルターの修正方法 | |
| JP2000199967A (ja) | 樹脂製ブラックマトリクスの製造方法、該ブラックマトリクスを用いたカラ―フィルタの製造方法、及び該製造方法で製造されたカラ―フィルタを用いた液晶素子 | |
| JPH04369604A (ja) | カラーフィルタの欠陥部修正方法 | |
| JPH0836173A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| JP3098562B2 (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JPH0829615A (ja) | パターンの修正方法 | |
| JP2002072187A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JP2000171786A (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルタ | |
| KR100309894B1 (ko) | 기능성도막을형성하는방법 | |
| JP2002221714A (ja) | 平面表示素子及び平面表示素子の製造方法 | |
| JPH01293306A (ja) | カラーフィルタ製造方法 | |
| JPH10133012A (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
| JP2973974B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| JP3048458B2 (ja) | カラーフィルターとその製造方法 | |
| JP2002214796A (ja) | 遮光パターン形成方法及び液晶表示装置の製造方法 | |
| JPH11242227A (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
| JPH07301793A (ja) | カラーフィルターおよび液晶表示装置の製造方法 | |
| JP2003004935A (ja) | カラーフィルタ及びその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子 | |
| JPH11109330A (ja) | カラーフィルタ基板、液晶表示素子、及びカラーフィルタ基板の製造方法 |