JPH0642357B2 - 試料面分析装置 - Google Patents

試料面分析装置

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JPH0642357B2
JPH0642357B2 JP60172780A JP17278085A JPH0642357B2 JP H0642357 B2 JPH0642357 B2 JP H0642357B2 JP 60172780 A JP60172780 A JP 60172780A JP 17278085 A JP17278085 A JP 17278085A JP H0642357 B2 JPH0642357 B2 JP H0642357B2
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JP60172780A
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JPS6235445A (ja
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暉士 平居
武 荒木
秀人 古味
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Shimadzu Corp
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Shimadzu Corp
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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 イ産業上の利用分野 本発明はX線マイクロアナライザ等の、荷電粒子のマイ
クロビームで試料を励起し、試料から放射されるX線等
を検出することにより試料表面の広域の元素分布を測定
する装置に関する。
ロ従来の技術 コンピュータの利用により、試料面の元素の濃度分布等
のカラー表示が行なわれるようになり、X線マイクロア
ナライザ等による、試料表面の広い面積における定性分
析及び特定元素の定量分析が求められるようになつてき
た。
しかしX線マイクロアナライザのような装置は本来、試
料の局所分析(1μm程度)を行う装置であり、広域の
分析としては、X線分光器の波長を特定の元素の特性X
線の波長に合せて設定しておき、試料の方を駆動して広
い面積の走査を行い、特定元素の濃度分布を求めること
が行われてる。しかしこの方法は、分析面積を画素点に
分割して、一画素点毎にX線測定を行わねばならないか
ら非常な時間がかゝる。X線測定の所要時間は一画素点
当り10mS程度で、仮に測定面積を縦横夫々500の
画素に分割すると全部で250000個の画素になり、
正味のX線測定時間は40分余りである。しかし試料を
止めては動かすと云う動作を繰返すので、機構の慣性の
ため高速駆動はできず、スロースタート、スローストツ
プを繰返すことになり、一走査線の終りの折返し点では
機構のバツクラツシユを除くため余分の移動を行わせね
ばならないから、試料の移動のために実測定時間の何倍
もの時間を消費し、所定面積の測定に10時間もかゝる
ことがあつた。
ハ発明が解決しようとする問題点 上述したように荷電粒子のマイクロビームを用いる分析
装置で広い面積における指定元素の定量分布の測定を行
うことが求められているが適当な方法がなかつた。本発
明は荷電粒子マイクロビームを用いる分析装置で数mm
〜数cm平方程度の広面積における指定元素の濃度分布を
精度良くかつ短時間で行い得るようにしようとするもの
である。
ニ問題点解決のための手段 試料を回転させると共に、回転の半径方向に移動させ、
X線分光器は定量をしようとする元素の特性X線の波長
位置に設定して上記試料面上の空間的に固定した一定点
をにらむようにした。即ちX線分光器は試料面を渦巻線
状に走査しながらX線検出出力を、試料上のマイクロビ
ーム照射点の位置のデータに対応させて記録するように
した。
ホ作用 本発明は試料を一方向の回転と一方向の直線運動との組
合わせで動かし、マイクロビームによる試料面の走査を
行うので、試料の運動は一方向の連続運動であるから、
運動方向が反転するジクザク走査の場合のようなバツク
ラツシユ消去の動作が不要であり、余分な試料運動がな
く、一方向運動であるから慣性の問題がなく、そのため
起動停止に要する時間消費がない。試料の運動期間を全
部実分析時間に当てることができるので、分析所要時間
が短縮できるのである。
ヘ実施例 図は本発明の一実施例を示す。1は試料で、電子ビーム
2を試料1の表面に収束させる。5は試料面の電子ビー
ム照射点から放射されるX線で、分光結晶3で分光さ
れ、X線検出器4に入射せしめられる。試料1の電子ビ
ーム照射点と分光結晶3とX線検出器4の前面スリツト
が共通のローランド円R上に位置するように、分光結晶
とX線検出器とは機構的に連結され、波長走査用モータ
Mによつて駆動され指定元素の特性X線の波長位置に設
定される。試料1は試料ホルダ6に保持される。試料ホ
ルダ6はX方向微動台7、Y方向微動台8によつて位置
調節可能である。X方向微動台、Y方向微動台は回転テ
ーブル9の中央に載置固定されている。回転テーブル9
は一方向移動ステージ14に垂直軸によつて回転自在に
保持され、同ステージに固定されたモータ11により歯
車10を介して回転駆動される。一方移動ステージ14
は、基台B上に一方向ガイドにより一方向摺動可能に載
置されており、同ステージに固定されたナツトが基台B
に保持された送りねじ16に螺合しており、送りねじ1
6をモータ17で駆動することにより、一方向、図では
左右方向に移動せしめられる。
上述構造で、回転テーブル9を回転させながら一方向移
動ステージ14を例えば左方向に移動させると、試料1
上の電子ビーム照射点は空間的には不動であるが、試料
面に対しては渦線を画いて移動し、試料面の円形領域が
電子ビームによつて走査されることになる。
回転テーブル9の周縁には磁気テープが貼設してあり、
一方向移動ステージ14に固定された磁気ヘツド13が
この磁気テープに対向させてある。上記磁気テープには
回転テーブル9の回転角を示すための情報が記録してあ
る。この情報は例えば、回転テーブル9の回転角表示の
基点を表わす符号と円周を1024等分する一定ピツチ
のパルス状符号とで、CPU18は磁気ヘツド13によ
りこれらの符号を読取り、回転角の起点からのパルス符
号の数を計数して回転テーブル9の回転位置を検出して
いる。送りねじ16を駆動するモータ17はパルスモー
タで、CPU18は回転テーブル9の回転中心が電子ビ
ーム2の光軸と一致する位置にあるときの移動ステージ
14の位置を起点にして、パルスモータ17の駆動パル
スを計数して回転テーブル9の中心の図で左右方向の位
置を検出している。移動ステージ14の起点位置は移動
ステージ14がリミツトスイツチSに当接することによ
つて検出される。以上の構成により試料1上の任意の位
置は回転テーブル9の回転角と移動ステージの起点から
の距離を座標データとして表わすことができる。19は
メモリであつて、上記試料上の各点の座標に対応させた
アドレスを有し、CPUは上述した試料運動によつてマ
イクロビームで試料面の走査を行いながらX線検出器4
の出力を試料1上の各点でサンプリングし、サンプリン
グしたデータを試料1のX線強度サンプリング点の座標
に対応するメモリ19のアドレスに格納する。このよう
にして試料表面の所定面積における指定元素の濃度分布
のデータが得られ、これに基いて試料面の目的元素の濃
度分布のカラー表示等ができる。マイクロビームの光学
系の周囲に複数台のX線分光器が配置されている場合に
は上述方法で同時に複数元素の濃度分布を測定すること
ができる。
ト効果 本発明によれば、試料面をマイクロビームで走査するの
に試料の一方向の回転と一方向の移動との組合せを用い
てるので、X方向、Y方向のジクザク走査に比し走査機
構が簡単になり、往復運動が少いから高速走査が可能と
なつて、大面積の分析が能率的に行われる。X線分析で
は測定精度を上げるためには一つの点について或る程度
時間をかける必要があるが、試料面を画素に区分し、画
素毎に分析を行つて行く方法では、試料を一画素分ずつ
送つては停止すると云う動作を繰返し、起動、停止の度
に慣性吸収のためにスロースタート、スローストツプを
行うので、実測定時間よりこの移動時間の方が多くな
り、実測定時間が2〜3時間である場合でも全所要時間
は10時間もかゝると云うのが実情であるが、本発明に
よれば、略実測定時間で分析を完了することができる。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例の要部側面図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】試料面を荷電粒子ビームで照射し、試料面
    から放射される放射線を検出する構成で、試料を回転さ
    せる台と、この台を一方向に往復移動させる手段を有
    し、上記台を一方向に移動させながら試料をこの移動速
    度に比し高速に回転させて試料面を渦線状走査線に沿つ
    て上記荷電粒子ビームで走査するようにし、試料面の各
    位置から放射される放射線の検出信号を試料面上を移動
    する荷電粒子ビーム照射点の各位置と対応させたメモリ
    上の各アドレスに格納するようにした試料面分析装置。
JP60172780A 1985-08-05 1985-08-05 試料面分析装置 Expired - Lifetime JPH0642357B2 (ja)

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JP60172780A JPH0642357B2 (ja) 1985-08-05 1985-08-05 試料面分析装置

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JP60172780A JPH0642357B2 (ja) 1985-08-05 1985-08-05 試料面分析装置

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Publication Number Publication Date
JPS6235445A JPS6235445A (ja) 1987-02-16
JPH0642357B2 true JPH0642357B2 (ja) 1994-06-01

Family

ID=15948212

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JP60172780A Expired - Lifetime JPH0642357B2 (ja) 1985-08-05 1985-08-05 試料面分析装置

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2830876B2 (ja) * 1987-06-19 1998-12-02 株式会社島津製作所 Epmaの測定データ表示方法
JP2802494B2 (ja) * 1987-10-15 1998-09-24 株式会社日立製作所 分析機能付き電子顕微鏡
JPH07119718B2 (ja) * 1990-05-18 1995-12-20 基弘 岩見 試料表面層の深さ方向への分析方法
JP7303944B2 (ja) * 2020-05-27 2023-07-05 株式会社日立ハイテク 核酸分析装置

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JPS6235445A (ja) 1987-02-16

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