JPH0642334B2 - 複合多芯超電導線 - Google Patents

複合多芯超電導線

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JPH0642334B2
JPH0642334B2 JP60251193A JP25119385A JPH0642334B2 JP H0642334 B2 JPH0642334 B2 JP H0642334B2 JP 60251193 A JP60251193 A JP 60251193A JP 25119385 A JP25119385 A JP 25119385A JP H0642334 B2 JPH0642334 B2 JP H0642334B2
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superconducting
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一也 大松
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    • Y02E40/60Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment

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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、複合多芯超電導線に関するもので、特に、
常電導金属中に複数の超電導金属フィラメントが埋め込
まれた複合多芯超電導線に関するものである。
[従来の技術] ニオブ・チタン(NbTi)合金を材料とする合金系の
超電導線は、NbTi合金のような超電導金属に銅など
の安定化材を被覆した複数の素線を大型銅管の中に多数
本挿入し、押出加工によって縮径し、その後、熱処理と
伸線加工とを繰返し行なうことによって、製造される。
上述した熱処理は、超電導金属フィラメントの内部に転
位セルや析出相等のピン止め点を生成するものであり、
これによって、臨界電流密度Jcが高められる。
他方、NbSnを代表とする化合物系の超電導線で
は、結晶粒界がピン止め点の主役となり、最終線径にお
いて超電導化合物層を形成し、微細結晶粒を作ることに
より、高い臨界電流密度Jcを得ている。
[発明が解決しようとする問題点] 上述したように、たとえばNbTi超電導線において
は、熱処理の温度と時間を最適化したり、熱処理を複数
回行なうことによって、臨界電流密度Jcがある程度高
められている。
またNbSn超電導線においては、Ti等の第3元素
の添加により結晶粒を微細化し、それによって臨界電流
密度Jcのある程度の向上が確認されている。
しかしながら、以上のような努力にもかかわらず、臨界
電流密度Jcの値が或るレベルより飛躍的に向上するこ
とはなかった。
そこで、この発明は、従来の値より格段に高い臨界電流
密度Jcを持つ超電導線を提供しようとするものであ
る。
[問題点を解決するための手段] 本発明者は、上記の問題点を解決すべく鋭意研究した結
果、従来のものより高い臨界電流密度Jcを示す超電導
線を得た。
すなわち、この発明は、常電導金属中に複数の超電導金
属フィラメントが埋め込まれた複合多芯超電導線におい
て、超電導金属フィラメントの内部に径0.008μm
以上0.04μm以下の常電導金属フィラメントが埋め
込まれていることを特徴とするものである。
このことを、この発明にかかる複合多芯超電導線の原理
的な横断面を示す第1図に基づき説明すると、常電導金
属マトリクス1中には、複数の超電導金属フィラメント
2が埋め込まれている。この超電導金属フィラメント2
の拡大断面が、第1図の右側に示されているが、この超
電導金属フィラメント2の内部には、さらに、径0.0
08μm以上0.04μm以下の常電導金属フィラメン
ト3が埋め込まれている。
好ましい実施例では、第1図の右側に拡大して示された
ように、常電導金属フィラメント3は、横断面内で三角
格子を形成している。
[作用] この発明による複合多芯超電導線において、臨界電流密
度Jcの向上は、次のように解釈することができる。
一般に、第II種不均質超電導体では、下部臨界磁場Hc
を越えると、磁場が磁束量子の形で侵入を開始する。
そして、この磁束量子には、外部電流を流し始めると、
ローレンツ力Fが働く。しかし、磁束量子の動きを阻
止するピン止め力Fp=Jc・Bにより、F=Fpの
条件で決まる臨界電流Icまで完全電導性が保たれる。
このピン止め力の起因となるピン止め点が、第1図に示
すような径0.008μm以上0.04μm以下の常電
導金属フィラメント3によって実現されるものと推測さ
れる。なお、「径0.008μm以上0.04μm以
下」の範囲は後述する実験例から見出されたものであ
る。
また、仮にこのピン止め力の起因となるピン止め点が、
三角格子を形成する渦系と呼ばれる磁束量子線に重なっ
ていれば、臨界電流Icはさらに飛躍的に向上すると考
えられる。
[発明の効果] この発明によれば、径0.008μm以上0.04μm
以下の常電導金属フィラメントによる磁束ピン止め点と
しての作用により、高い臨界電流密度Jcを示す超電導
線を得ることができる。また、常電導金属フィラメント
の直径と間隔を設計時点で制御できるので、臨界電流密
度Jcを飛躍的に高めることができる。したがって、従
来のものに比べて、高性能の超電導線を得ることができ
る。
また、従来、合金系の超電導線において、ピン止め点と
して機能する析出相や転位セルを増加させるために行な
われていた熱処理や、化合物系の超電導線における第3
元素の添加のような作業が不要となる。したがって、製
造コストの低減を図ることができる。
上述した合金系のたとえばNbTi超電導線において、
熱処理が不要となったことに関連して、次のような効果
も期待できる。すなわち、NbTi超電導線の臨界電流
密度Jcを高めるために熱処理が施されるが、これによ
り、α−Tiが析出し、加工性が悪くなる。したがっ
て、伸線工程においてNbTiフィラメントの断線が発
生し、この断線に起因して、臨界電流密度が劣化する。
また、熱処理は、NbTi合金と常電導金属との拡散反
応も生じさせる。この拡散反応は、NbTi合金の超電
導性を阻害する方向に働く。これらのことから、或る場
面では、臨界電流密度Jcを高めるために行なわれてい
た熱処理が、かえって、この臨界電流密度Jcを低下さ
せる原因となっていたが、この発明では、熱処理が不要
であるので、そのような懸念は全くなくなる。
また、熱処理が、前述のように、NbTi超電導線の加
工性を悪くしていたが、このような熱処理がなければ、
超電導線の加工性は良好に保たれる。したがって、超電
導金属フィラメントをより細く加工することができ、そ
れによって、ヒステリシスロスに代表されるACロスが
小さくなる。そのため、商用周波数で使用される交流機
器への応用も期待できる。なお、従来から超電導線が用
いられている分野、たとえば核磁気共鳴断層撮影装置の
マグネットあるいは高エネルギ加速器などに用いられる
超電導線としても利用できるのはもちろんである。
また、この発明によれば、臨界電流密度Jcが高いた
め、所望の臨界電流を得るのに必要な超電導金属が少量
で済むので、その点においても、コストの低下を期待す
ることができる。
[実施例] 本発明者は、この発明にかかる超電導線を試作し、良好
な臨界電流密度Jcを持つ線材を得た。以下に、実施例
に従って説明する。
第2図の左側に示すように、CuNiパイプ4内におい
て、NbTiセグメント5とCuNiセグメント6とを
集合・複合化した超電導金属フィラメント7を、右側に
示すように、CuNiパイプ8内で127本束ねて多芯
線として、線材9を作製した。このとき、各超電導金属
フィラメントの中には、常電導金属フィラメントが38
本挿入されている。
線材9は、直径73mmより縮径・伸線加工が施され、最
終線径で0.91mmの線材となった。このとき、NbT
iフィラメントの直径は約23μmで、その内部のCu
Niフィラメントの直径は約0.006μmすなわち約
60Åとなっていた。
上述した縮径・伸線加工の途中、線径のいくつか異なる
サンプルを採取して、熱処理を行なわずに、臨界電流密
度Jcを、2Teslaの外部磁場中で測定し、その結果を
第3図に示した。
第3図において、常電導金属のフィラメント径が80Å
以上400Å以下、すなわち0.008μm以上0.0
4μm以下のとき、従来実績値より高い臨界電流密度J
cを示している。この傾向は、他の材料からなる超電導
金属フィラメントおよび常電導金属フィラメントを用い
た場合でも同様に現われる。
第3図に示すように、常電導金属のフィラメント径が1
80Åのときに、2Teslaでの臨界電流密度Jcが最大
になる。この値は、従来、熱処理等によって得られてい
る従来実績値の2倍もの値であり、この発明にかかる構
成を持つ超電導線が優れた性能を有することが示され
た。
また、この実施例では、常電導金属のフィラメント径が
180Åのとき、当該フィラメントの間隔は600Åで
あったが、これら2つのパラメータを最適化することに
より、今後、飛躍的に臨界電流密度Jcが向上すること
が考えられる。
さらに、上述の実施例では、常電導金属セグメントと超
電導金属セグメントとを集合する方法で超電導フィラメ
ントを作製したが、代わりに、常電導金属棒に超電導金
属パイプを被覆し、それを集合する方法なども考えられ
る。なお、コストの面からは、前述した実施例の方法が
最も実際の製造に適するものである。
この発明において用いられる超電導金属は、Nb、Nb
Ti、Taなどの合金系超電導体が好ましい。ピン止め
点となる常電導金属は数10Åまで縮径される必要があ
り、複合化された超電導金属も加工性の良好なものの方
が好ましいからである。
しかしながら、化合物系超電導体にも、この発明を適用
することができる。化合物の形成は、最終線径を得たと
きに実行し、その場合、熱処理温度と時間とを最適化す
ることにより、内部に含まれる常電導金属フィラメント
の大きさや間隔を制御することが可能である。
さらに、この発明にかかる超電導線に含まれる常電導金
属フィラメントは、その長さ方向に連続的に断線なく存
在する必要はない。なお、常電導金属としては、前述し
た銅、銅合金のほか、アルミニウムなども用いることが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明による複合多芯超電導線の横断面を
拡大して示した図である。第2図は、この発明の一実施
例で製造された複合多芯超電導線の横断面を図解的に示
したものである。第3図は、超電導金属のフィラメント
径と臨界電流密度Jcとの関係とを示すグラフである。 図において、1は常電導金属マトリクス、2,7は超電
導金属フィラメント、3は常電導金属フィラメント、5
はNbTiセグメント、6はCuNiセグメントであ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭48−3294(JP,A) 特開 昭48−81497(JP,A) 特開 昭49−23592(JP,A) 特開 昭49−23593(JP,A) 特開 昭50−1699(JP,A) 特開 昭51−76584(JP,A) 特開 昭61−47018(JP,A) 特開 昭61−232510(JP,A) 特公 昭46−20954(JP,B1)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】常電導金属中に複数の超電導金属フィラメ
    ントが埋め込まれた複合多芯超電導線において、 超電導金属フィラメントの内部に径0.008μm以上
    0.04μm以下の常電導金属フィラメントが埋め込ま
    れていることを特徴とする、複合多芯超電導線。
  2. 【請求項2】超電導金属フィラメントが横断面で三角格
    子を形成している、特許請求の範囲第1項記載の複合多
    芯超電導線。
JP60251193A 1985-11-08 1985-11-08 複合多芯超電導線 Expired - Lifetime JPH0642334B2 (ja)

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JPS62110208A JPS62110208A (ja) 1987-05-21
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