JPH0642078B2 - 黒色マトリツクス層をつくる方法 - Google Patents
黒色マトリツクス層をつくる方法Info
- Publication number
- JPH0642078B2 JPH0642078B2 JP61227098A JP22709886A JPH0642078B2 JP H0642078 B2 JPH0642078 B2 JP H0642078B2 JP 61227098 A JP61227098 A JP 61227098A JP 22709886 A JP22709886 A JP 22709886A JP H0642078 B2 JPH0642078 B2 JP H0642078B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoresist
- photoresist coating
- black matrix
- matrix layer
- water
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
- H01J9/2278—Application of light absorbing material, e.g. between the luminescent areas
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 発明の分野 本発明は特許請求の範囲第(1)項の前文中に述べるよう
な黒色マトリツクス層をつくる方法、およびその方法を
実施するための装置に関する。
な黒色マトリツクス層をつくる方法、およびその方法を
実施するための装置に関する。
発明の背景 そのような方法の１つは西独公開特許出願（ＤＥ−Ｏ
Ｓ）３１ ４２ ２６１中に開示されている。この公知
の方法ではホトレジスト塗膜を現像するために多数のノ
ズルを使つて面板 (faceplate)の内側表面上に水を噴射させる。しかし、
もしもホトレジスト塗膜がこのような方法で現像される
とすれば、反応は不均一になることが明らかになつた。
これらの不均一な反応は水滴がホトレジスト塗膜上に同
時に衝突しないために生じる。
Ｓ）３１ ４２ ２６１中に開示されている。この公知
の方法ではホトレジスト塗膜を現像するために多数のノ
ズルを使つて面板 (faceplate)の内側表面上に水を噴射させる。しかし、
もしもホトレジスト塗膜がこのような方法で現像される
とすれば、反応は不均一になることが明らかになつた。
これらの不均一な反応は水滴がホトレジスト塗膜上に同
時に衝突しないために生じる。
黒色マトリツクス層をつくる方法を提供しそれによつて
ホトレジスト塗膜の現像中に均一な反応を達成すること
が本発明の目的である。この方法を実施するための装置
を提供することが本発明のそれ以上の目的である。
ホトレジスト塗膜の現像中に均一な反応を達成すること
が本発明の目的である。この方法を実施するための装置
を提供することが本発明のそれ以上の目的である。
第１の目的は特許請求の範囲第(1)項および第(6)項中に
述べる段階によつて達成される。
述べる段階によつて達成される。
本発明のそれ以上の有利な特色は従属特許請求の範囲第
(2)項〜第(5)項中に記載される。
(2)項〜第(5)項中に記載される。
本発明はここで具体例の助けを借りて記載する。図面の
形状は黒色マトリツクス層を作り出す装置の断面図を表
わす。
形状は黒色マトリツクス層を作り出す装置の断面図を表
わす。
弗化水素酸によるカラー画管の面板の通常の洗浄に続い
て、水溶性ポリマー物質（ポリビニルアルコール）およ
び重クロム酸ナトリウムで増感した成分で構成するホト
レジストによつてその内部表面を塗布する。塗布は面板
の表面上にホトレジストの均一塗膜を生じさせるために
通常面板を回転させながら適用する。この塗膜は、例え
ば、赤外線輻射によつて乾燥する。次いでシヤドウマス
クを通して、次にホトレジスト塗膜を露光し、このよう
にして後に燐光体(phosphor)区域で燐光体が沈着するで
あろう区域を硬化させる。
て、水溶性ポリマー物質（ポリビニルアルコール）およ
び重クロム酸ナトリウムで増感した成分で構成するホト
レジストによつてその内部表面を塗布する。塗布は面板
の表面上にホトレジストの均一塗膜を生じさせるために
通常面板を回転させながら適用する。この塗膜は、例え
ば、赤外線輻射によつて乾燥する。次いでシヤドウマス
クを通して、次にホトレジスト塗膜を露光し、このよう
にして後に燐光体(phosphor)区域で燐光体が沈着するで
あろう区域を硬化させる。
露光後、ホトレジストは８０から１００％までの極端に
高い相対湿度および３０から５０℃までの温度を有する
雰囲気にさらすことによつて現像される。好ましくは相
対湿度は９０％そして温度は４０℃である。この雰囲気
中にさらす時間は、例えば２０秒である。
高い相対湿度および３０から５０℃までの温度を有する
雰囲気にさらすことによつて現像される。好ましくは相
対湿度は９０％そして温度は４０℃である。この雰囲気
中にさらす時間は、例えば２０秒である。
次にホトレジスト塗膜の全未露光区域はすつかり洗つて
除きそして面板の全内部表面は黒鉛懸濁物で形成される
黒色マトリツクス層で塗布される。
除きそして面板の全内部表面は黒鉛懸濁物で形成される
黒色マトリツクス層で塗布される。
黒色化層の乾燥およびホトレジスト塗膜の残部を上に横
たわる黒色化層と共に除去した後に３色のための燐光体
を３区域内に普通の方法で連続的に沈着させる。
たわる黒色化層と共に除去した後に３色のための燐光体
を３区域内に普通の方法で連続的に沈着させる。
記載した方法はホトレジスト塗膜の総ての露光した区域
の均一な現像を確実にする。これはホトレジスト塗膜上
のいたる所の高湿度の同時的存在から生じる。このよう
にして、均一な反応が起りこれが露光区域の一様な現像
を生じる。連続製造においてはこの方法によつて各面板
におけるホトレジスト塗膜の一様な現像が達成できる。
の均一な現像を確実にする。これはホトレジスト塗膜上
のいたる所の高湿度の同時的存在から生じる。このよう
にして、均一な反応が起りこれが露光区域の一様な現像
を生じる。連続製造においてはこの方法によつて各面板
におけるホトレジスト塗膜の一様な現像が達成できる。
黒色マトリツクス層を製造するための全製造ラインのう
ち、ホトレジスト塗膜を現像するための装置のみが図面
中に示される。その前および引き続く場所は示されてい
ない。装置は基板１を有しその上に支持具２を経て面板
３が取り付けられる。面板３の内側表面４は囲い５の内
側に面している。囲い５の中には多数のノズル７を有す
るノズル板６がある。ノズル７は温度を調節した水に対
する供給水への連結部８がある。面板３とノズル板６の
間には緩衝板９をノズル７の噴射水がぶつかるような具
合に位置させる。水はこのようにして噴霧化させられそ
して雰囲気１２が８０−１００％、好ましくは９０％の
比較的高い湿度およびおよそ３０−５０℃まで、好まし
くは４０℃の温度で作り出される。面板３上のホトレジ
スト塗膜がこの雰囲気に約２０秒間さらされた後、水の
供給を止めそして面板３と共に基板１を取り除けるよう
なやり方（矢印１０）で囲い５を動かす。新たな基板を
新たな面板と共に挿入した後、囲いを再度閉じ（矢印１
１）そして比較的高湿度の雰囲気を再度生じさせる。
ち、ホトレジスト塗膜を現像するための装置のみが図面
中に示される。その前および引き続く場所は示されてい
ない。装置は基板１を有しその上に支持具２を経て面板
３が取り付けられる。面板３の内側表面４は囲い５の内
側に面している。囲い５の中には多数のノズル７を有す
るノズル板６がある。ノズル７は温度を調節した水に対
する供給水への連結部８がある。面板３とノズル板６の
間には緩衝板９をノズル７の噴射水がぶつかるような具
合に位置させる。水はこのようにして噴霧化させられそ
して雰囲気１２が８０−１００％、好ましくは９０％の
比較的高い湿度およびおよそ３０−５０℃まで、好まし
くは４０℃の温度で作り出される。面板３上のホトレジ
スト塗膜がこの雰囲気に約２０秒間さらされた後、水の
供給を止めそして面板３と共に基板１を取り除けるよう
なやり方（矢印１０）で囲い５を動かす。新たな基板を
新たな面板と共に挿入した後、囲いを再度閉じ（矢印１
１）そして比較的高湿度の雰囲気を再度生じさせる。
囲いは定置することもできる；その場合には、それは基
板と接触する区域に可動性の覆いを有する。
板と接触する区域に可動性の覆いを有する。
添付した図面は本発明の黒色基材層製造装置のうちホト
レジスト塗膜を現像するための装置部分を示すもので、
図面中に記される数字はそれぞれ下記のものを表わす： １……基板、２……支持装置、 ３……面板、４……内側表面、 ５……囲い、６……ノズル板、 ７……ノズル、８……連結部、 ９……緩衝板、１０……矢印、 １１……矢印、１２……雰囲気。
レジスト塗膜を現像するための装置部分を示すもので、
図面中に記される数字はそれぞれ下記のものを表わす： １……基板、２……支持装置、 ３……面板、４……内側表面、 ５……囲い、６……ノズル板、 ７……ノズル、８……連結部、 ９……緩衝板、１０……矢印、 １１……矢印、１２……雰囲気。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭57−119343（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−136646（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−90636（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−114938（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−161238（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−58374（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−152129（ＪＰ，Ａ)
Claims (5)
- 【請求項１】カラー画管の面板の内側表面上の燐光体区
域間に黒色マトリックス層をつくる方法において、 面板の内側表面にホトレジストを塗布し、 このホトレジスト塗膜の特定の部分を露光し、 約30℃〜50℃の温度および約80〜100パーセントの相対
湿度を有する水蒸気の形態においてのみの水にホトレジ
スト塗膜をさらすことにより露光部分を現像し、 ホトレジスト塗膜の未露光部分を除去し、 面板の内側全表面に、黒色懸濁物から形成された黒色マ
トリックス層を与え、そして 燐光体区域が形成されるべき黒色マトリックス層の部分
を除去し、 それによる現像中ホトレジスト塗膜の表面上の高い水分
の同時存在によりホトレジスト塗膜の全体の露光された
領域の均一な現像を確実にする、 ことを特徴とする、黒色マトリックスを作る方法。 - 【請求項２】ホトレジスト塗膜が約90％の相対湿度およ
び約40℃の温度にさらされる、特許請求の範囲第(1)項
に記載の方法。 - 【請求項３】ホトレジストが水溶性ポリマー物質である
特許請求の範囲第(1)項に記載の方法。 - 【請求項４】ホトレジストがポリビニルアルコールであ
る特許請求の範囲第(3)項に記載の方法。 - 【請求項５】約80〜100％の相対湿度を有する雰囲気が
水を噴霧することによりつくられる特許請求の範囲第
(1)項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3534414.8 | 1985-09-27 | ||
| DE19853534414 DE3534414A1 (de) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | Verfahren und vorrichtung zur erzeugung einer schwarzmatrixschicht |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6275634A JPS6275634A (ja) | 1987-04-07 |
| JPH0642078B2 true JPH0642078B2 (ja) | 1994-06-01 |
Family
ID=6282061
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61227098A Expired - Lifetime JPH0642078B2 (ja) | 1985-09-27 | 1986-09-25 | 黒色マトリツクス層をつくる方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4889781A (ja) |
| EP (1) | EP0216349B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0642078B2 (ja) |
| CA (1) | CA1258012A (ja) |
| DE (2) | DE3534414A1 (ja) |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56783B2 (ja) * | 1973-03-05 | 1981-01-09 | ||
| JPS50161238A (ja) * | 1974-06-17 | 1975-12-27 | ||
| JPS5258374A (en) * | 1975-11-10 | 1977-05-13 | Toshiba Corp | Improvement in sensitivity of positive type photo resist |
| JPS5660431A (en) * | 1979-10-24 | 1981-05-25 | Hitachi Ltd | Photosensitive composition and pattern forming method |
| DE3045149A1 (de) * | 1980-11-29 | 1982-07-01 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von reliefkopien |
| JPS57136646A (en) * | 1981-02-18 | 1982-08-23 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Positive type photoresist developing method |
| JPS57152129A (en) * | 1981-03-13 | 1982-09-20 | Sanyo Electric Co Ltd | Developing method of resist |
| JPS5817443A (ja) * | 1981-07-24 | 1983-02-01 | Hitachi Ltd | フオトレジスト現像方法および装置 |
| JPS5890636A (ja) * | 1981-11-24 | 1983-05-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物を用いた感光材料による画像形成方法および現像ユニツト |
| JPS60230337A (ja) * | 1984-04-27 | 1985-11-15 | Nec Kansai Ltd | 螢光膜形成方法 |
| JPH05258374A (ja) * | 1992-03-16 | 1993-10-08 | Ricoh Co Ltd | 情報記録媒体 |
-
1985
- 1985-09-27 DE DE19853534414 patent/DE3534414A1/de not_active Withdrawn
-
1986
- 1986-09-19 CA CA000518609A patent/CA1258012A/en not_active Expired
- 1986-09-23 EP EP86113054A patent/EP0216349B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-09-23 DE DE8686113054T patent/DE3677303D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-09-25 JP JP61227098A patent/JPH0642078B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-05-19 US US07/196,855 patent/US4889781A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0216349B1 (de) | 1991-01-30 |
| DE3534414A1 (de) | 1987-04-02 |
| CA1258012A (en) | 1989-08-01 |
| US4889781A (en) | 1989-12-26 |
| EP0216349A2 (de) | 1987-04-01 |
| DE3677303D1 (de) | 1991-03-07 |
| JPS6275634A (ja) | 1987-04-07 |
| EP0216349A3 (en) | 1988-07-06 |
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