JPH0635330B2 - 六フツ化ウランを二酸化ウランに変換する方法 - Google Patents
六フツ化ウランを二酸化ウランに変換する方法Info
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- JPH0635330B2 JPH0635330B2 JP59206098A JP20609884A JPH0635330B2 JP H0635330 B2 JPH0635330 B2 JP H0635330B2 JP 59206098 A JP59206098 A JP 59206098A JP 20609884 A JP20609884 A JP 20609884A JP H0635330 B2 JPH0635330 B2 JP H0635330B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業分野） 本発明は原子炉燃料製造に適した高活性、低下含量でか
つ流動性のよい UO2 粉末を六フツ化ウランの変換によ
り乾式にて製造する方法に関する。
つ流動性のよい UO2 粉末を六フツ化ウランの変換によ
り乾式にて製造する方法に関する。
（従来技術とその欠点） 六フツ化ウランを原子炉燃料用二酸化ウラン粉末に変換
する方法には従来から湿式法と乾式法がある。湿式法は
工程数が多く複雑でかつ廃液発生量が多いなどの欠点を
有する。一方、乾式法は一般的に製品二酸化ウラン粉末
の活性度が低く、かつ製品中の残留Ｆ量が多いなどの欠
点があるが、工程が単純で廃液発生量が少ないなどの利
点を有するので、上記欠点を克服しつつ近年多く採用さ
れる傾向にある。
する方法には従来から湿式法と乾式法がある。湿式法は
工程数が多く複雑でかつ廃液発生量が多いなどの欠点を
有する。一方、乾式法は一般的に製品二酸化ウラン粉末
の活性度が低く、かつ製品中の残留Ｆ量が多いなどの欠
点があるが、工程が単純で廃液発生量が少ないなどの利
点を有するので、上記欠点を克服しつつ近年多く採用さ
れる傾向にある。
上記乾式法にはロータリーキルンによる方法、流動層反
応装置による方法、火炎燃焼反応装置による方法などが
あるが、流動層反応装置による方法が流動性のきわめて
良好な製品二酸化ウランを生成するため、他の方法に比
べて、後続工程での粉末のハンドリングが容易であると
いう大きな利点をもつている。しかしながら、流動層反
応装置による場合、他の方法に比べて製品二酸化ウラン
の活性度が小さくなり、また残留Ｆ量の低減化への負担
が大きいという欠点があつた。
応装置による方法、火炎燃焼反応装置による方法などが
あるが、流動層反応装置による方法が流動性のきわめて
良好な製品二酸化ウランを生成するため、他の方法に比
べて、後続工程での粉末のハンドリングが容易であると
いう大きな利点をもつている。しかしながら、流動層反
応装置による場合、他の方法に比べて製品二酸化ウラン
の活性度が小さくなり、また残留Ｆ量の低減化への負担
が大きいという欠点があつた。
従来の乾式法、特に流動層反応装置による方法はそのほ
とんどが次の２次反応によるものである。
とんどが次の２次反応によるものである。
ＵＦ6＋２Ｈ2Ｏ→ＵＯ2Ｆ2＋４ＨＦ (1) ＵＯ2Ｆ2＋Ｈ2 →ＵＯ2＋２ＨＦ (2) この方法では(2)のステツプで次の反応式により逆反応
によりＵＦ4を生成し易い。
によりＵＦ4を生成し易い。
ＵＯ2＋４ＨＦ＝ＵＦ4＋２Ｈ2Ｏ (3) ＵＦ4は比較的低融点（約1000℃）で焼結し易い物質で
あり、(2)のステツプの操作温度範囲で焼結を開始し、
製品二酸化ウラン粉末中の残留Ｆ量を低減するために重
要な脱Ｆ反応を阻害する。このため、従来は(2)のステ
ツプで水蒸気を過剰に加えて(3)の逆反応を起こりにく
くする等の工夫が必要であつた。その結果、操作が繁雑
になると共に過剰に加えられた水蒸気が廃液量を増やす
という問題を引き起こしていた。
あり、(2)のステツプの操作温度範囲で焼結を開始し、
製品二酸化ウラン粉末中の残留Ｆ量を低減するために重
要な脱Ｆ反応を阻害する。このため、従来は(2)のステ
ツプで水蒸気を過剰に加えて(3)の逆反応を起こりにく
くする等の工夫が必要であつた。その結果、操作が繁雑
になると共に過剰に加えられた水蒸気が廃液量を増やす
という問題を引き起こしていた。
また、(1)のステツプで水蒸気に水素ガスを混合して行
なう方法（特公昭５５−５１８５５号公報）があるが、
その場合、次の反応式でＵＦ4が生成し、上述の理由で
好ましくない。
なう方法（特公昭５５−５１８５５号公報）があるが、
その場合、次の反応式でＵＦ4が生成し、上述の理由で
好ましくない。
ＵＦ6＋Ｈ2→ＵＦ4＋２ＨＦ (4) さらに、流動層反応装置による他の例（特開昭５２−１
６４９６号公報）として次のステツプによる方法があ
る。
６４９６号公報）として次のステツプによる方法があ
る。
この方法では(6)のステツプで７３０〜７８０℃という
高温操作となるため、(7)で生成する製品二酸化ウラン
粉末は活性度が低くなりかつ焼結性が低下するので原子
炉燃料製造用には適さない。
高温操作となるため、(7)で生成する製品二酸化ウラン
粉末は活性度が低くなりかつ焼結性が低下するので原子
炉燃料製造用には適さない。
また、ＨＦ４ガスを含む腐食性ガス雰囲気では材料腐食
の観点から、従来の金属材料では７００℃近辺が実用性
の限度とされており、これを超える操作温度では材料腐
食、製品中不純物の増大などの点で実用的には大きな問
題を呈する。
の観点から、従来の金属材料では７００℃近辺が実用性
の限度とされており、これを超える操作温度では材料腐
食、製品中不純物の増大などの点で実用的には大きな問
題を呈する。
流動層反応装置を用いる場合の他の欠点は、ＵＦ6から
ＵＯ2Ｆ2を生成させる流動層の操作安定性に関するもの
である。すなわち、同流動層はＵＯ2Ｆ2粒子が層を形成
するが、そこに吹込まれるＵＦ6は流動化ガスとして流
動層底部から導入される水蒸気と反応してＵＯ2Ｆ2を生
成し、すでに存在するＵＯ2Ｆ2粒子の表面に沈着する。
その結果、多くのＵＯ2Ｆ2は粒成長を起こす。これに対
して、一部のＵＯ2Ｆ2粒子は粒子同志の衝突などにより
摩損し微粉化する。流動層の平均粒子径はこれらのバラ
ンスで決まるが、従来の流動層反応装置では粒成長の傾
向が強く、安定な流動層操作を維持するためには、新た
な微粒子を流動層中に供給するなどの工夫を必要とし
た。その結果、装置システムが複雑になり、操作も繁雑
化するという欠点があつた。
ＵＯ2Ｆ2を生成させる流動層の操作安定性に関するもの
である。すなわち、同流動層はＵＯ2Ｆ2粒子が層を形成
するが、そこに吹込まれるＵＦ6は流動化ガスとして流
動層底部から導入される水蒸気と反応してＵＯ2Ｆ2を生
成し、すでに存在するＵＯ2Ｆ2粒子の表面に沈着する。
その結果、多くのＵＯ2Ｆ2は粒成長を起こす。これに対
して、一部のＵＯ2Ｆ2粒子は粒子同志の衝突などにより
摩損し微粉化する。流動層の平均粒子径はこれらのバラ
ンスで決まるが、従来の流動層反応装置では粒成長の傾
向が強く、安定な流動層操作を維持するためには、新た
な微粒子を流動層中に供給するなどの工夫を必要とし
た。その結果、装置システムが複雑になり、操作も繁雑
化するという欠点があつた。
（発明の目的） 以上のような背景のもとで、本発明者らは流動層反応装
置によれば、流動性の良い粉体が得られるという点に着
目すると共に脱Ｆ反応を阻害するＵＦ4を生成させるこ
となく、また二酸化ウラン粉末の活性度を低下させるこ
となく、さらに装置材料の問題を回避するため、高温で
の処理を必要としない、流動層反応装置による六フツ化
ウランを原子炉燃料用に適する二酸化ウラン粉末に変換
する方法を提供すべく検討した結果、ＵＦ6からＵＯ2Ｆ
2を生成させる流動層においてＵＯ2Ｆ2粒子径の成長を
抑え、流動層操作の安定性が容易に得られる方法を見出
し、本発明に到達した。
置によれば、流動性の良い粉体が得られるという点に着
目すると共に脱Ｆ反応を阻害するＵＦ4を生成させるこ
となく、また二酸化ウラン粉末の活性度を低下させるこ
となく、さらに装置材料の問題を回避するため、高温で
の処理を必要としない、流動層反応装置による六フツ化
ウランを原子炉燃料用に適する二酸化ウラン粉末に変換
する方法を提供すべく検討した結果、ＵＦ6からＵＯ2Ｆ
2を生成させる流動層においてＵＯ2Ｆ2粒子径の成長を
抑え、流動層操作の安定性が容易に得られる方法を見出
し、本発明に到達した。
（発明の構成） すなわち、本発明によれば、流動層反応装置を用いて六
フツ化ウランを二酸化ウランに変換する方法において、 (a) １３０〜２５０℃の温度に維持した第１反応塔に
ＵＦ6ガスと水蒸気とを吹込みＵＯ2Ｆ2とする第１ステ
ツプ、 (b) ５００〜７００℃の温度に維持した第２反応塔で
第１ステツプからのＵＯ2Ｆ2を水蒸気によりＵＯ2およ
び／またはＵ3Ｏ8とする第２ステップ、及び (c) ５００〜６００℃の温度に維持した第３反応塔で
第２ステツプからのＵＯ3および／またはＵ3Ｏ8を水素
ガス及び水蒸気によりＵＯ2とする第３ステップ、 の組合せによりなる六フツ化ウランを二酸化ウランに変
換する方法、が得られる。
フツ化ウランを二酸化ウランに変換する方法において、 (a) １３０〜２５０℃の温度に維持した第１反応塔に
ＵＦ6ガスと水蒸気とを吹込みＵＯ2Ｆ2とする第１ステ
ツプ、 (b) ５００〜７００℃の温度に維持した第２反応塔で
第１ステツプからのＵＯ2Ｆ2を水蒸気によりＵＯ2およ
び／またはＵ3Ｏ8とする第２ステップ、及び (c) ５００〜６００℃の温度に維持した第３反応塔で
第２ステツプからのＵＯ3および／またはＵ3Ｏ8を水素
ガス及び水蒸気によりＵＯ2とする第３ステップ、 の組合せによりなる六フツ化ウランを二酸化ウランに変
換する方法、が得られる。
なお(a)のステツプは流動層反応装置以外の造粒機能を
有する反応装置でも可能である。
有する反応装置でも可能である。
本発明方法において、六フツ化ウランを二酸化ウラン粉
末に変換するステツプは次の通りである。
末に変換するステツプは次の通りである。
第１ステップ 第２ステップ または 第３ステップ または 脱Ｆ反応を阻害するＵＦ4を生成させないためには、六
フツ化ウランと水素ガスとの共存、二酸化ウランとフツ
化水素ガスとの共存を避けることが有効であり、そのた
めには上記(8)，(9a)(9b)のステツプでは水素ガスを用
いずれに反応ガスとしては水蒸気のみとする。製品二酸
化ウラン粉末の活性度を高めるためには各ステツプの操
作温度を低めに抑えることが必要である。すなわち、第
１ステツプでは１３０〜２５０℃、特に１３０〜２００
℃の範囲、第２ステツプでは５００〜７００℃、特にＵ
Ｏ3の生成する５００〜６００℃の範囲（(9b)の反
応）、第３ステツプでは５００〜６００℃、特に＝（５
００〜５５０℃の範囲がそれぞれ好ましい操作温度であ
る。
フツ化ウランと水素ガスとの共存、二酸化ウランとフツ
化水素ガスとの共存を避けることが有効であり、そのた
めには上記(8)，(9a)(9b)のステツプでは水素ガスを用
いずれに反応ガスとしては水蒸気のみとする。製品二酸
化ウラン粉末の活性度を高めるためには各ステツプの操
作温度を低めに抑えることが必要である。すなわち、第
１ステツプでは１３０〜２５０℃、特に１３０〜２００
℃の範囲、第２ステツプでは５００〜７００℃、特にＵ
Ｏ3の生成する５００〜６００℃の範囲（(9b)の反
応）、第３ステツプでは５００〜６００℃、特に＝（５
００〜５５０℃の範囲がそれぞれ好ましい操作温度であ
る。
また、第２ステツプの操作温度５００〜７００℃は装置
材料腐食軽減の点からも極めて重要なことである。
材料腐食軽減の点からも極めて重要なことである。
実際の操作では第２ステツプで未反応分として残留する
ＵＯ2Ｆ2が微量であるが、第３ステツプに到るので第３
ステツプで水蒸気および水素ガスにより処理をして脱Ｆ
を促進させる。この場合、残留しているＵＯ2Ｆ2が微量
であるめに反応(2)によるＨＦガス量が微量であり、反
応(3)によるＵＦ4の生成は起こらず、脱Ｆ反応が阻害さ
れることはない。
ＵＯ2Ｆ2が微量であるが、第３ステツプに到るので第３
ステツプで水蒸気および水素ガスにより処理をして脱Ｆ
を促進させる。この場合、残留しているＵＯ2Ｆ2が微量
であるめに反応(2)によるＨＦガス量が微量であり、反
応(3)によるＵＦ4の生成は起こらず、脱Ｆ反応が阻害さ
れることはない。
第１ステツプの流動層においてＵＯ2Ｆ2の粒子径を好適
な大きさにコントロールするには、ＵＦ6の噴霧ノズル
を二流体ノズルとし、中央部からＵＦ6ガス、周辺部か
ら水蒸気を噴霧させる方法が有効である。これはノズル
出口近傍でＵＦ6ガスと水蒸気が反応してその後の造粒
の核となるＵＯ2Ｆ2の微粒子を生成し、流動層を形成す
るＵＯ2Ｆ2の平均粒子径を下げる役目を果たすためであ
る。
な大きさにコントロールするには、ＵＦ6の噴霧ノズル
を二流体ノズルとし、中央部からＵＦ6ガス、周辺部か
ら水蒸気を噴霧させる方法が有効である。これはノズル
出口近傍でＵＦ6ガスと水蒸気が反応してその後の造粒
の核となるＵＯ2Ｆ2の微粒子を生成し、流動層を形成す
るＵＯ2Ｆ2の平均粒子径を下げる役目を果たすためであ
る。
次に、本発明を実施例によつて具体的に説明するが、以
下の実施例が本発明の範囲を限定するものではない。
下の実施例が本発明の範囲を限定するものではない。
実施例 添付図面に示す流動層反応装置は本実施例において使用
される装置である。
される装置である。
六フツ化ウランは気化器１で気化され、第１流動層反応
装置２内の二流体ノズル（図示せず）により水蒸気と共
に装置２内に導入される。同時に反応ガスおよび流動化
ガスとしての水蒸気が導管５より装置２の底部に導入さ
れる。二流体ノズル中央部から噴霧されたＵＦ6の一部
は、導管１０を経て二流体ノズルの周辺部から噴霧され
る水蒸気と直ちに反応してＵＯ2Ｆ2の微粒子を形成し、
一部はすでに流動層を形成しているＵＯ2Ｆ2粒子の表面
で水蒸気と反応してＵＯ2Ｆ2となつて該粒子表面に沈着
し、粒子が成長する。また、これらのＵＯ2Ｆ2の一部は
粒子同志の衝突等により摩損し、微粒子化する。ＵＯ2
Ｆ2粒径はこれらの過程によりコントロールされ、流動
層を形成する。第１流動層反応装置２の操作温度は１３
０〜２５０℃、好ましくは１５０〜２００℃の範囲であ
る。
装置２内の二流体ノズル（図示せず）により水蒸気と共
に装置２内に導入される。同時に反応ガスおよび流動化
ガスとしての水蒸気が導管５より装置２の底部に導入さ
れる。二流体ノズル中央部から噴霧されたＵＦ6の一部
は、導管１０を経て二流体ノズルの周辺部から噴霧され
る水蒸気と直ちに反応してＵＯ2Ｆ2の微粒子を形成し、
一部はすでに流動層を形成しているＵＯ2Ｆ2粒子の表面
で水蒸気と反応してＵＯ2Ｆ2となつて該粒子表面に沈着
し、粒子が成長する。また、これらのＵＯ2Ｆ2の一部は
粒子同志の衝突等により摩損し、微粒子化する。ＵＯ2
Ｆ2粒径はこれらの過程によりコントロールされ、流動
層を形成する。第１流動層反応装置２の操作温度は１３
０〜２５０℃、好ましくは１５０〜２００℃の範囲であ
る。
生成したＵＯ2Ｆ2粒子は流動層の上部からオーバーフロ
ーによつて装置外に排出され、第２流動層反応装置３に
送られ、導管６より装置底部に導入される反応ガス兼流
動化ガスとしての、水蒸気と反応して、ＵＯ3もしくは
Ｕ3Ｏ5が生成する。この操作温度は５００〜７００℃と
するが、特にＵＯ3の生成する５００〜６００℃の範囲
が好ましい。なお、操作温度６００℃前後ではＵＯ3と
Ｕ3Ｏ6の両者が生成する。
ーによつて装置外に排出され、第２流動層反応装置３に
送られ、導管６より装置底部に導入される反応ガス兼流
動化ガスとしての、水蒸気と反応して、ＵＯ3もしくは
Ｕ3Ｏ5が生成する。この操作温度は５００〜７００℃と
するが、特にＵＯ3の生成する５００〜６００℃の範囲
が好ましい。なお、操作温度６００℃前後ではＵＯ3と
Ｕ3Ｏ6の両者が生成する。
このＵＯ3もしくはＵ3Ｏ3（残留ＵＯ2Ｆ2を微量含む）
は第３流動層反応装置４に送られ、導管７より装置底部
に導入される反応ガス兼流動化ガスとしての水蒸気及び
水素化ガスの混合ガスと反応してＵＯ2を生成し、製品
二酸化ウラン粉末として容器８に受容される。この操作
温度は５００〜６００℃、特に５００〜５５０℃の範囲
が好ましい。９は排ガス処理である。
は第３流動層反応装置４に送られ、導管７より装置底部
に導入される反応ガス兼流動化ガスとしての水蒸気及び
水素化ガスの混合ガスと反応してＵＯ2を生成し、製品
二酸化ウラン粉末として容器８に受容される。この操作
温度は５００〜６００℃、特に５００〜５５０℃の範囲
が好ましい。９は排ガス処理である。
本実施例で使用した流動層反応装置の反応部の径は３塔
とも８．３cmであり、操作条件は以下の通りであつた。
とも８．３cmであり、操作条件は以下の通りであつた。
第１流動層反応装置 反応温度 180℃ ＵＦ6供給速度 85ｇ／分 二流体ノズル水蒸気供給速度 17ｇ／分 流動化ガス（水蒸気）速度 25cm2／秒 生成ＵＯ2Ｆ2 74ｇ／分 第２流動層反応装置 反応温度 550℃ ＵＦ6供給速度 74ｇ／分 流動化ガス速度 20cm／秒 生成ＵＯ３／ＵＯ2Ｆ2 62／７ｇ／分 第３流動層反応装置 反応温度 550℃ ＵＯ3／ＵＯ2Ｆ2供給速度 62／７ｇ／分 流動化ガス速度 20cm／秒 水素／水蒸気供給比（モル比） １／１ 生成ＵＯ2 64ｇ／分 この様にして得られたＵＯ2粉末の物性は一例として次
の通りである。
の通りである。
カサ密度 2.6g／cm3 比表面積 2.2m2／ｇ 平均粒子径 85μｍ Ｕ（％） 87.9％ 残留Ｆ量（ppm） 70ppm 比較例１ 本発明と比較のため、従来法による場合の生成二酸化ウ
ラン粉末の物性例を示す。上記実施例で使用した流動層
反応装置を用いるが、その反応部径はいずれも８．３cm
であつた。
ラン粉末の物性例を示す。上記実施例で使用した流動層
反応装置を用いるが、その反応部径はいずれも８．３cm
であつた。
操作条件： 第１流動層反応装置 反応温度 550℃ ＵＦ6供給速度 85ｇ／分 流動化ガス速度 40cm／秒 供給反応ガス：水蒸気および水素 Ｈ2Ｏ／Ｈ2比（モル比） ３ 生成物 74ｇ／分 第２流動層反応装置 反応温度 630℃ 反応物供給速度 74ｇ／分 流動化ガス速度 50cm／秒 供給反応ガス：水蒸気および水素 Ｈ2Ｏ／Ｈ2比（モル比） ２ 生成物 67ｇ／分 第３流動層反応装置 反応温度 650℃ 反応物供給速度 67ｇ／分 流動化ガス速度 25cm／秒 供給反応ガス：水蒸気および水素 Ｈ2Ｏ／Ｈ2比（モル比） ４ 生成ＵＯ2 64ｇ／分 生成ＵＯ2粉末の物性は一例として次の通りである。
カサ密度 3.1g／cm3 比表面積 1.1m2／ｇ 平均粒子径 192μｍ Ｕ（％） 87.8％ 残留Ｆ量（ppm） 340ppm 比較例２ 本比較例で使用した流動層反応装置は実施例のそれと同
一であり、その反応部径はいずれも８．３であつた。
一であり、その反応部径はいずれも８．３であつた。
操作条件： 第１流動層反応装置 反応温度 700℃ ＵＦ6供給速度 85ｇ／分 流動化ガス速度（水蒸気） 40cm／秒 生成物 74ｇ／分 第２流動層反応装置 反応温度 750℃ 反応物供給速度 74ｇ／分 流動化ガス速度（水蒸気） 30cm／秒 生成物 68ｇ／分 第３流動層反応装置 反応温度 550℃ 反応物供給速度 68ｇ／分 流動化ガス速度 30cm／秒 供給反応ガス：水蒸気および水素 Ｈ2／Ｈ2Ｏモル比 １／１ 生成ＵＯ2 64ｇ／分 生成ＵＯ2粉末の物性は一例として次の通りである。
カサ密度 3.8g／cm3 比表面積 0.6m2／ｇ 平均粒子径 230μｍ Ｕ（％） 87.9％ 残留Ｆ量（ppm） 65ppm 比較例１は反応過程で六フツ化ウランと水素ガス、二酸
化ウランとフツ化水素の共存するケースであり、その結
果脱Ｆが迅速でなく、かつ製品二酸化ウラン粉末中の残
留Ｆ量は340ppm であり、本発明の７０ppmに比べて５倍
という大きな値となる。また、粒径が大きく比表面積が
やや小さくなり、粉末の活性度が低下する。
化ウランとフツ化水素の共存するケースであり、その結
果脱Ｆが迅速でなく、かつ製品二酸化ウラン粉末中の残
留Ｆ量は340ppm であり、本発明の７０ppmに比べて５倍
という大きな値となる。また、粒径が大きく比表面積が
やや小さくなり、粉末の活性度が低下する。
比較例２は操作温度が７００〜７５０℃と高い例で、残
留Ｆ量は小さいものの製品二酸化ウラン粉末のカサ密
度、粒子径が大きくなり、比表面積が著しく小さくなつ
て粉末の活性度の大巾な低下が見られる。その二酸化ウ
ラン粉末は原子炉燃料用二酸化ウランペレツトの製造に
は適しない。
留Ｆ量は小さいものの製品二酸化ウラン粉末のカサ密
度、粒子径が大きくなり、比表面積が著しく小さくなつ
て粉末の活性度の大巾な低下が見られる。その二酸化ウ
ラン粉末は原子炉燃料用二酸化ウランペレツトの製造に
は適しない。
（発明の効果） 本発明によつて製造した二酸化ウラン粉末は従来の流動
層法によるものに比べて活性度が高く、残留Ｆ量が小さ
いというすぐれた特性を有し、原子炉燃料用二酸化ウラ
ンペレツトの製造に適している。
層法によるものに比べて活性度が高く、残留Ｆ量が小さ
いというすぐれた特性を有し、原子炉燃料用二酸化ウラ
ンペレツトの製造に適している。
図面は六フツ化ウランを二酸化ウランに変換する場合に
使用される流動層反応装置の一例のフローシートであ
る。 図において １……気化器 2,3,4……流動層反応装置 5,6,10……水蒸気導管 ７……水蒸気及び水素ガス導管 ８……ＵＯ2受器 ９……排ガス処理
使用される流動層反応装置の一例のフローシートであ
る。 図において １……気化器 2,3,4……流動層反応装置 5,6,10……水蒸気導管 ７……水蒸気及び水素ガス導管 ８……ＵＯ2受器 ９……排ガス処理
Claims (3)
- 【請求項１】流動層反応装置を用いて六フツ化ウランを
二酸化ウランに変換する方法において、 (a) １３０〜２５０℃の温度に維持した第１反応塔にＵ
Ｆ６ガスと水蒸気とを吹込んでＵＯ２Ｆ２とする第１ス
テップ、 (b) ５００〜７００℃の温度に維持した第２反応塔で第
１ステップからのＵＯ２Ｆ２を水蒸気によりＵＯ２およ
び／またはＵ３Ｏ８とする第２ステップ、及び (c) ５００〜６００℃の温度に維持した第３反応塔で第
２ステップからのＵＯ２および／またはＵ３Ｏ８を水素
ガス及び水蒸気によりＵＯ２とする第３ステップ、 の組合せによりなる六フツ化ウランを二酸化ウランに変
換する方法。 - 【請求項２】前記第２ステップの反応温度が５００〜６
００℃の範囲である特許請求の範囲第(1)に記載の方
法。 - 【請求項３】前記第１ステップのＵＦ２と水蒸気の吹込
みを二流体ノズルを用いて行う特許請求の範囲第(1)に
記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59206098A JPH0635330B2 (ja) | 1984-10-01 | 1984-10-01 | 六フツ化ウランを二酸化ウランに変換する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59206098A JPH0635330B2 (ja) | 1984-10-01 | 1984-10-01 | 六フツ化ウランを二酸化ウランに変換する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6183629A JPS6183629A (ja) | 1986-04-28 |
| JPH0635330B2 true JPH0635330B2 (ja) | 1994-05-11 |
Family
ID=16517768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59206098A Expired - Fee Related JPH0635330B2 (ja) | 1984-10-01 | 1984-10-01 | 六フツ化ウランを二酸化ウランに変換する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0635330B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61291419A (ja) * | 1985-06-14 | 1986-12-22 | Mitsubishi Metal Corp | 六フツ化ウランを二酸化ウランに変換する方法 |
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1984
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