JPH06336980A - 排気装置 - Google Patents
排気装置Info
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- JPH06336980A JPH06336980A JP5151441A JP15144193A JPH06336980A JP H06336980 A JPH06336980 A JP H06336980A JP 5151441 A JP5151441 A JP 5151441A JP 15144193 A JP15144193 A JP 15144193A JP H06336980 A JPH06336980 A JP H06336980A
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- housing
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
- F04B37/06—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means
- F04B37/08—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means by condensing or freezing, e.g. cryogenic pumps
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 特定空間内のガスをリリーフ弁を通じて排気
するにあたり、希釈ガスを導入して希釈してから排気す
る場合、大量の希釈ガスを導入しても、リリーフ弁を確
実に開放させてガスを放出させる。 【構成】 放出対象となるガスを蓄えたクライオポンプ
１３の排気ポート２３に、ハウジング２４の一端部を接
続し、該ハウジング２４の他端部に排気口２５を設け
る。ハウジング２４内にリリーフ弁２７を設ける。希釈
ガスをハウジング２４内に導入する導入管４０の吐出口
４１を排気口に向ける。 【効果】 希釈ガスを大量に導入してもハウジング内の
圧力は上昇せず、リリーフ弁の機能に影響はない。
するにあたり、希釈ガスを導入して希釈してから排気す
る場合、大量の希釈ガスを導入しても、リリーフ弁を確
実に開放させてガスを放出させる。 【構成】 放出対象となるガスを蓄えたクライオポンプ
１３の排気ポート２３に、ハウジング２４の一端部を接
続し、該ハウジング２４の他端部に排気口２５を設け
る。ハウジング２４内にリリーフ弁２７を設ける。希釈
ガスをハウジング２４内に導入する導入管４０の吐出口
４１を排気口に向ける。 【効果】 希釈ガスを大量に導入してもハウジング内の
圧力は上昇せず、リリーフ弁の機能に影響はない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、特定空間内のガスをリ
リーフ弁を通じて排気するための排気装置に関するもの
である。
リーフ弁を通じて排気するための排気装置に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】例えば半導体ウエハ（以下、「ウエハ」
という）の処理を例にとって説明すると、例えばイオン
注入処理やエッチング処理などの各種処理を実行する場
合、これらの処理は気密に構成された処理室内に、適宜
の処理ガス、例えばイオン注入処理の場合にはＰＨ3と
Ｈ2との混合ガス、エッチング処理の場合にはＣＨＦ3ガ
スなどを導入し、所定の減圧雰囲気下で処理を行ってい
る。
という）の処理を例にとって説明すると、例えばイオン
注入処理やエッチング処理などの各種処理を実行する場
合、これらの処理は気密に構成された処理室内に、適宜
の処理ガス、例えばイオン注入処理の場合にはＰＨ3と
Ｈ2との混合ガス、エッチング処理の場合にはＣＨＦ3ガ
スなどを導入し、所定の減圧雰囲気下で処理を行ってい
る。
【０００３】そして上記処理室内を所定の減圧値にする
ため上記処理室内は真空ポンプなどの排気手段によって
排気されるが、当該排気ガスは上記のような可燃性の強
いガスや有毒性のあるガスであるため、これらをそのま
ま大気中に排気する訳にはいかず、大気中に排気する前
段階で適宜の希釈ガス例えばＡｒガス、Ｎ2などを混合
して希釈させてから、排気するようにしている。
ため上記処理室内は真空ポンプなどの排気手段によって
排気されるが、当該排気ガスは上記のような可燃性の強
いガスや有毒性のあるガスであるため、これらをそのま
ま大気中に排気する訳にはいかず、大気中に排気する前
段階で適宜の希釈ガス例えばＡｒガス、Ｎ2などを混合
して希釈させてから、排気するようにしている。
【０００４】これを例えばイオン注入装置に付設されて
いる排気装置について、図８を基にして具体的に説明す
ると、処理室から排気された処理ガスは、ゲートバルブ
（図示せず）を介して、クライオポンプ５１内にため込
まれる。このクライオポンプ５１の排気ポート５２に
は、ハウジング５３が設けられており、このハウジング
５３内に係止体５４、スプリング５５、弁体５６、フラ
ンジ５７などによって構成されるリリーフ弁５８が設け
られている。上記クライオポンプ５１は、その中に設け
られた極低温パネル（図示せず）に処理室の処理ガスを
吸着させることによって該チャンバ内を減圧しており、
また上記クライオポンプ５１内は、常に１０-7Ｔｏｒｒ
以下、例えば１０-8〜１０-9Ｔｏｒｒの高真空度に保た
れている。
いる排気装置について、図８を基にして具体的に説明す
ると、処理室から排気された処理ガスは、ゲートバルブ
（図示せず）を介して、クライオポンプ５１内にため込
まれる。このクライオポンプ５１の排気ポート５２に
は、ハウジング５３が設けられており、このハウジング
５３内に係止体５４、スプリング５５、弁体５６、フラ
ンジ５７などによって構成されるリリーフ弁５８が設け
られている。上記クライオポンプ５１は、その中に設け
られた極低温パネル（図示せず）に処理室の処理ガスを
吸着させることによって該チャンバ内を減圧しており、
また上記クライオポンプ５１内は、常に１０-7Ｔｏｒｒ
以下、例えば１０-8〜１０-9Ｔｏｒｒの高真空度に保た
れている。
【０００５】そして一定期間の運転後、即ちクライオポ
ンプ５１のガス蓄積量が限界に近づいたとき、クライオ
ポンプ５１の「再生」という作業が行われる。この再生
は、クライオポンプ５１の運転を停止すると同時に、こ
のクライオポンプ５１内に例えばＮ2ガスを導入して、
前記極低温パネルの温度を上昇させて吸着されていた処
理ガスを放出させることによって行われる。そしてその
ようにして放出されたガスと、導入した前記Ｎ2ガスが
混合して、やがてクライオポンプ５１内が大気圧とな
り、さらに圧力が上昇して、上記リリーフ弁５８の設定
圧となったとき、この放出ガスとＮ2ガスとの混合ガス
が上記リリーフ弁５８からハウジング５３内に放出させ
るのである。
ンプ５１のガス蓄積量が限界に近づいたとき、クライオ
ポンプ５１の「再生」という作業が行われる。この再生
は、クライオポンプ５１の運転を停止すると同時に、こ
のクライオポンプ５１内に例えばＮ2ガスを導入して、
前記極低温パネルの温度を上昇させて吸着されていた処
理ガスを放出させることによって行われる。そしてその
ようにして放出されたガスと、導入した前記Ｎ2ガスが
混合して、やがてクライオポンプ５１内が大気圧とな
り、さらに圧力が上昇して、上記リリーフ弁５８の設定
圧となったとき、この放出ガスとＮ2ガスとの混合ガス
が上記リリーフ弁５８からハウジング５３内に放出させ
るのである。
【０００６】一方上記のようにして放出された混合ガス
をさらに希釈するために希釈ガス供給管５９によって供
給される希釈ガスは、上記ハウジング５３の壁体に設け
た供給口６０を通じてこのハウジング５３内に導入され
るように構成されており、リリーフ弁５８を通じて上記
ハウジング５３内に排気された処理ガスと混合室６１で
混合してこれを希釈した後、上記ハウジング５３の壁体
に設けた排気口６２、並びにこの排気口６２に接続され
た排気ホース６３を通じて、外部に排気されるようにな
っている。そして上述の如きクライオポンプ５１の再生
時に、クライオポンプ５１の内圧が所定値にまで上昇し
た時点で、リリーフ弁５８の弁体５６が開放し、クライ
オポンプ５１内の処理ガス（混合ガス）はハウジング５
３内の混合室６１内に放出され、そこで供給口６０から
供給される希釈ガスと混合されてさらに希釈され、排気
口６２から排気ホース６３を通じて排気される。
をさらに希釈するために希釈ガス供給管５９によって供
給される希釈ガスは、上記ハウジング５３の壁体に設け
た供給口６０を通じてこのハウジング５３内に導入され
るように構成されており、リリーフ弁５８を通じて上記
ハウジング５３内に排気された処理ガスと混合室６１で
混合してこれを希釈した後、上記ハウジング５３の壁体
に設けた排気口６２、並びにこの排気口６２に接続され
た排気ホース６３を通じて、外部に排気されるようにな
っている。そして上述の如きクライオポンプ５１の再生
時に、クライオポンプ５１の内圧が所定値にまで上昇し
た時点で、リリーフ弁５８の弁体５６が開放し、クライ
オポンプ５１内の処理ガス（混合ガス）はハウジング５
３内の混合室６１内に放出され、そこで供給口６０から
供給される希釈ガスと混合されてさらに希釈され、排気
口６２から排気ホース６３を通じて排気される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら以上のよ
うな構成に係る従来の排気装置によれば、次のような問
題が生ずる。即ち、希釈ガス供給管５９によって供給さ
れる希釈ガスは、上記ハウジング５３の壁体に設けた供
給口６０から供給されるため、このハウジング５３内の
混合室６１内の圧力は、希釈ガスの供給流量に対応して
大きくなってしまう。そのため希釈ガスの供給流量を増
加させると、混合室６１内の圧力もそれに伴って増加し
てしまい、リリーフ弁５８の弁体５６を排気ポート５２
側へと押圧してしまうのである。
うな構成に係る従来の排気装置によれば、次のような問
題が生ずる。即ち、希釈ガス供給管５９によって供給さ
れる希釈ガスは、上記ハウジング５３の壁体に設けた供
給口６０から供給されるため、このハウジング５３内の
混合室６１内の圧力は、希釈ガスの供給流量に対応して
大きくなってしまう。そのため希釈ガスの供給流量を増
加させると、混合室６１内の圧力もそれに伴って増加し
てしまい、リリーフ弁５８の弁体５６を排気ポート５２
側へと押圧してしまうのである。
【０００８】その結果、クライオポンプ５１内の圧力が
所期の値に達しても、弁体５６が開放せず、また一回の
開放によって排気される処理ガスの量も少なくなってし
まい、クライオポンプ５１を始めとして排気系の各装置
に故障が生じたり、処理装置そのものも正常に機能しな
くなるおそれが出てくる。
所期の値に達しても、弁体５６が開放せず、また一回の
開放によって排気される処理ガスの量も少なくなってし
まい、クライオポンプ５１を始めとして排気系の各装置
に故障が生じたり、処理装置そのものも正常に機能しな
くなるおそれが出てくる。
【０００９】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり、希釈ガスの供給量の如何に関わらず、リリーフ弁
が常に正常に機能するこの種の排気装置を提供して、上
記問題の解決を図るものである。
あり、希釈ガスの供給量の如何に関わらず、リリーフ弁
が常に正常に機能するこの種の排気装置を提供して、上
記問題の解決を図るものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明では、特定空間内のガスをリリーフ弁を通じ
て排気するにあたり、前記リリーフ弁をハウジング内に
設け、さらに当該ハウジング内に希釈ガスを導入して上
記ガスを希釈させて、前記ハウジングに設けた排気口か
ら排気するように構成した装置において、前記希釈ガス
をハウジング内に導入するための導入口を前記ハウジン
グ内部にまで導き、さらに当該導入口を前記排気口側に
向けたことを特徴とする、排気装置を提供する。
め、本発明では、特定空間内のガスをリリーフ弁を通じ
て排気するにあたり、前記リリーフ弁をハウジング内に
設け、さらに当該ハウジング内に希釈ガスを導入して上
記ガスを希釈させて、前記ハウジングに設けた排気口か
ら排気するように構成した装置において、前記希釈ガス
をハウジング内に導入するための導入口を前記ハウジン
グ内部にまで導き、さらに当該導入口を前記排気口側に
向けたことを特徴とする、排気装置を提供する。
【００１１】
【作用】希釈ガスを導入するための導入口はハウジング
内部にまで導かれ、しかもその導入口は、排気口に向け
られているため、希釈ガスの導入量を増加しても、希釈
ガスは当該導入口をあたかもノズルの吹出し口とするよ
うにして排気口側へと吹き出される。従って、ハウジン
グ内の圧力が上昇してリリーフ弁の弁体が閉鎖側に押圧
されることもなく、リリーフ弁は所期の開放動作を確実
に実施する。
内部にまで導かれ、しかもその導入口は、排気口に向け
られているため、希釈ガスの導入量を増加しても、希釈
ガスは当該導入口をあたかもノズルの吹出し口とするよ
うにして排気口側へと吹き出される。従って、ハウジン
グ内の圧力が上昇してリリーフ弁の弁体が閉鎖側に押圧
されることもなく、リリーフ弁は所期の開放動作を確実
に実施する。
【００１２】
【実施例】以下、本発明をイオン注入装置の排気系に適
用した実施例を図面に基づき説明すると、図１は上記イ
オン注入装置１を平面から説明した図であって、このイ
オン注入装置１は、ターミナルモジュール２とエンドス
テーションモジュール３によって構成されている。
用した実施例を図面に基づき説明すると、図１は上記イ
オン注入装置１を平面から説明した図であって、このイ
オン注入装置１は、ターミナルモジュール２とエンドス
テーションモジュール３によって構成されている。
【００１３】上記ターミナルモジュール２には、所定の
原料ガスからイオンを発生させるためのイオンソース
４、質量分析電磁石５、イオンを加速するための加速管
６が設けられており、イオンソース４から発生したイオ
ンは、上記質量分析電磁石５によって選別されて、上記
加速管６によって加速され、例えば２〜２００ＫｅＶの
エネルギーを有するイオンビームとなって、上記エンド
ステーションモジュール３のメインチャンバ７内へと照
射されるようになっている。
原料ガスからイオンを発生させるためのイオンソース
４、質量分析電磁石５、イオンを加速するための加速管
６が設けられており、イオンソース４から発生したイオ
ンは、上記質量分析電磁石５によって選別されて、上記
加速管６によって加速され、例えば２〜２００ＫｅＶの
エネルギーを有するイオンビームとなって、上記エンド
ステーションモジュール３のメインチャンバ７内へと照
射されるようになっている。
【００１４】上記メインチャンバ７内には、図１、図２
に示されたように、被処理体であるウエハＷをその一側
面に多数保持可能に構成された円板状のディスク８が設
けられている。このディスク８は、図２の往復回動矢印
に示したように、水平状態から垂直に立てることが自在
なように構成されており、図２の一点鎖線で示した垂直
状態にてこのディスク８は回転されて、上記の如く保持
した多数のウエハＷに対して、上記イオンビームが照射
されるように構成されている。
に示されたように、被処理体であるウエハＷをその一側
面に多数保持可能に構成された円板状のディスク８が設
けられている。このディスク８は、図２の往復回動矢印
に示したように、水平状態から垂直に立てることが自在
なように構成されており、図２の一点鎖線で示した垂直
状態にてこのディスク８は回転されて、上記の如く保持
した多数のウエハＷに対して、上記イオンビームが照射
されるように構成されている。
【００１５】そして上記メインチャンバ７内は、図２に
示したように、排気口９を通じてロータリーポンプやド
ライポンプなどのいわゆる荒引きポンプ１０によって荒
引きされた後、さらに排気口１１、ゲートバルブ１２を
介して設けられているクライオポンプ１３によって減圧
されて、例えば１０-7Ｔｏｒｒ以下の高真空度に設定自
在なように構成されている。
示したように、排気口９を通じてロータリーポンプやド
ライポンプなどのいわゆる荒引きポンプ１０によって荒
引きされた後、さらに排気口１１、ゲートバルブ１２を
介して設けられているクライオポンプ１３によって減圧
されて、例えば１０-7Ｔｏｒｒ以下の高真空度に設定自
在なように構成されている。
【００１６】さらにこのメインチャンバ７には、図１、
図２に示したような３つのロードロック室１４、１５、
１６が並列に設けられている。これら各ロードロック室
１４、１５、１６は同一構成であり、図２を基にして一
端部に位置するロードロック室１６について説明する
と、このロードロック室１６は、下部のカセットチャン
バ１７と、適宜の昇降装置（図示せず）によって上下動
されてこのカセットチャンバ１７の上に気密に接続自在
なベルジャ１８によって構成されている。
図２に示したような３つのロードロック室１４、１５、
１６が並列に設けられている。これら各ロードロック室
１４、１５、１６は同一構成であり、図２を基にして一
端部に位置するロードロック室１６について説明する
と、このロードロック室１６は、下部のカセットチャン
バ１７と、適宜の昇降装置（図示せず）によって上下動
されてこのカセットチャンバ１７の上に気密に接続自在
なベルジャ１８によって構成されている。
【００１７】そしてこのカセットチャンバ１７の上部に
は、前出荒引きポンプ１０や別設のクライオポンプ１８
に通ずる排気口１９が設けられており、これら荒引きポ
ンプ１０やクライオポンプ１８によって真空引きされ
て、このベルジャ１８内は所定の高真空度、例えば１０
-7Ｔｏｒｒ以下の減圧雰囲気に設定自在なように構成さ
れている。
は、前出荒引きポンプ１０や別設のクライオポンプ１８
に通ずる排気口１９が設けられており、これら荒引きポ
ンプ１０やクライオポンプ１８によって真空引きされ
て、このベルジャ１８内は所定の高真空度、例えば１０
-7Ｔｏｒｒ以下の減圧雰囲気に設定自在なように構成さ
れている。
【００１８】上記カセットチャンバ１７内には、適宜の
昇降装置（図示せず）によって上下動自在なテーブル２
０が設けられ、さらにこのテーブル２０の上に、載置台
２０ａが設けられており、ウエハＷを例えば２５枚収納
する収納カセット２１は、この載置台２０ａの上に載置
されるように構成されている。
昇降装置（図示せず）によって上下動自在なテーブル２
０が設けられ、さらにこのテーブル２０の上に、載置台
２０ａが設けられており、ウエハＷを例えば２５枚収納
する収納カセット２１は、この載置台２０ａの上に載置
されるように構成されている。
【００１９】そして図２に示したように、上記テーブル
２０が上昇してその上面周縁部が、カセットチャンバ１
７の開口部の内側周縁部と密着することにより、カセッ
トチャンバ１７とベルジャ１８内空間とは、当該テーブ
ル２０によって気密に仕切られ、このベルジャ１８はロ
ードロック機能を有するように構成されている。
２０が上昇してその上面周縁部が、カセットチャンバ１
７の開口部の内側周縁部と密着することにより、カセッ
トチャンバ１７とベルジャ１８内空間とは、当該テーブ
ル２０によって気密に仕切られ、このベルジャ１８はロ
ードロック機能を有するように構成されている。
【００２０】そして以上のように構成されているロード
ロック室１４、１５、１６に対向するメインチャンバ７
内には、前出ディスク８と収納カセット２１との間で、
ウエハＷを搬送するための搬送装置Ｔが設けられてい
る。
ロック室１４、１５、１６に対向するメインチャンバ７
内には、前出ディスク８と収納カセット２１との間で、
ウエハＷを搬送するための搬送装置Ｔが設けられてい
る。
【００２１】而して本実施例は、以上の構成を有するイ
オン注入装置１のメインチャンバ７の排気系に適用され
ている。即ちメインチャンバ７及びロードロック室１
４、１５、１６から排気される処理ガス等を含むガス
（以下、単に「処理ガス」という）は、前出クライオポ
ンプ１３内の極低温パネル（図示せず）に吸着されてた
め込まれ、これによってメインチャンバ７及びロードロ
ック室１４、１５、１６上記の所定の減圧雰囲気に維持
されている。
オン注入装置１のメインチャンバ７の排気系に適用され
ている。即ちメインチャンバ７及びロードロック室１
４、１５、１６から排気される処理ガス等を含むガス
（以下、単に「処理ガス」という）は、前出クライオポ
ンプ１３内の極低温パネル（図示せず）に吸着されてた
め込まれ、これによってメインチャンバ７及びロードロ
ック室１４、１５、１６上記の所定の減圧雰囲気に維持
されている。
【００２２】上記クライオポンプ１３の排気ポート２３
には、図３、図４、図５に示されたような略円筒形のハ
ウジング２４の一端側開口部が接続されており、他方排
気口２５を形成する他端側開口部には、他の排気系から
の排気とともに大気中に排気するための集中排気装置
（図示せず）に通ずる、可撓性を有する排気ホース２６
が接続されている。
には、図３、図４、図５に示されたような略円筒形のハ
ウジング２４の一端側開口部が接続されており、他方排
気口２５を形成する他端側開口部には、他の排気系から
の排気とともに大気中に排気するための集中排気装置
（図示せず）に通ずる、可撓性を有する排気ホース２６
が接続されている。
【００２３】上記ハウジング２４の内部空間にはリリー
フ弁２７が設けられている。このリリーフ弁２７は、流
路となる貫通孔２２を複数個有しかつハウジング２４の
内部空間を軸方向と直角に仕切るように上記ハウジング
２４内壁に固着されたフランジ２８、上記フランジ２８
の中心孔に挿入される支持軸２９、この支持軸２９の排
気ポート２３側に設けられた円板状の係止体３０、上記
支持軸２９の排気口２５側に設けられ上記貫通孔２２を
閉塞する弁体３１、上記係止体３０とフランジ２８との
間に設けられたスプリング３２よって構成され、さらに
上記弁体３１のフランジ２８側端面には、気密性を確保
するためのＯリングなどのシール材３３が設けられてい
る。
フ弁２７が設けられている。このリリーフ弁２７は、流
路となる貫通孔２２を複数個有しかつハウジング２４の
内部空間を軸方向と直角に仕切るように上記ハウジング
２４内壁に固着されたフランジ２８、上記フランジ２８
の中心孔に挿入される支持軸２９、この支持軸２９の排
気ポート２３側に設けられた円板状の係止体３０、上記
支持軸２９の排気口２５側に設けられ上記貫通孔２２を
閉塞する弁体３１、上記係止体３０とフランジ２８との
間に設けられたスプリング３２よって構成され、さらに
上記弁体３１のフランジ２８側端面には、気密性を確保
するためのＯリングなどのシール材３３が設けられてい
る。
【００２４】そして上記ハウジング２４内における上記
フランジ２８と排気口２５との間の空間は、混合室３４
として構成される。上記ハウジング２４の外周壁には、
希釈ガス供給管３５の継手部材３６が接続されている。
この希釈ガス供給管３５は、図２に示したように、バル
ブ３７、流量制御を行う流量調整弁３８を介してガスボ
ンベ３９に通じており、当該ガスボンベ３９内には、希
釈ガスとして、例えばＮ2ガスが充填されている。
フランジ２８と排気口２５との間の空間は、混合室３４
として構成される。上記ハウジング２４の外周壁には、
希釈ガス供給管３５の継手部材３６が接続されている。
この希釈ガス供給管３５は、図２に示したように、バル
ブ３７、流量制御を行う流量調整弁３８を介してガスボ
ンベ３９に通じており、当該ガスボンベ３９内には、希
釈ガスとして、例えばＮ2ガスが充填されている。
【００２５】そして上記継手部材３６には導入管４０が
接続されており、この導入管４０は途中で略直角に折曲
成形加工されて、導入口となるその先端部の吐出口４１
は、上記排気口２５に向けられている。
接続されており、この導入管４０は途中で略直角に折曲
成形加工されて、導入口となるその先端部の吐出口４１
は、上記排気口２５に向けられている。
【００２６】本実施例は以上のように構成されており、
次にその排気動作について説明すると、常態、即ち処理
ガスがクライオポンプ１３内にため込まれつつあるとき
には、クライオポンプ１３内は既述の如く１０-7Ｔｏｒ
ｒ以下の減圧雰囲気であるから、その圧力差によって、
リリーフ弁２７の弁体３１はフランジ２８側へと押圧さ
れて貫通孔２２は閉塞され、リリーフ弁２７は閉鎖され
ている。
次にその排気動作について説明すると、常態、即ち処理
ガスがクライオポンプ１３内にため込まれつつあるとき
には、クライオポンプ１３内は既述の如く１０-7Ｔｏｒ
ｒ以下の減圧雰囲気であるから、その圧力差によって、
リリーフ弁２７の弁体３１はフランジ２８側へと押圧さ
れて貫通孔２２は閉塞され、リリーフ弁２７は閉鎖され
ている。
【００２７】そしてクライオポンプ１３の再生時に、別
設の希釈ガス供給装置（図示せず）によってクライオポ
ンプ１３内に例えばＮ2ガスが導入されてクライオポン
プ１３内の圧力が高まり、大気圧を越えて予め定めてあ
るリリーフ弁２７の所定の開放圧、例えば０．３kgf／c
m2に達すると、貫通孔２２を通じて当該クライオポンプ
１３内の圧力で弁体３１が混合室３４側へと押圧され
る。その結果、弁体３１のフランジ２８との密着状態が
解除されてリリーフ弁２７が開放し、クライオポンプ１
３内の処理ガスが上記Ｎ2ガスとともに、フランジ２８
の貫通孔２２から混合室３４内に放出される。
設の希釈ガス供給装置（図示せず）によってクライオポ
ンプ１３内に例えばＮ2ガスが導入されてクライオポン
プ１３内の圧力が高まり、大気圧を越えて予め定めてあ
るリリーフ弁２７の所定の開放圧、例えば０．３kgf／c
m2に達すると、貫通孔２２を通じて当該クライオポンプ
１３内の圧力で弁体３１が混合室３４側へと押圧され
る。その結果、弁体３１のフランジ２８との密着状態が
解除されてリリーフ弁２７が開放し、クライオポンプ１
３内の処理ガスが上記Ｎ2ガスとともに、フランジ２８
の貫通孔２２から混合室３４内に放出される。
【００２８】このとき、予めＮ2ガスと混合された上記
処理ガスが上記所定圧力値に達する前に、バルブ３７を
開放してガスボンベ３９からのＮ2ガスを、希釈ガス供
給管３５及び導入管４０を通じて上記ハウジング２４内
に導入していても、その吐出口４１は排気口２５側へと
向けられているから、Ｎ2ガスのハウジング２４内への
導入によってハウジング２４内の圧力が上昇することは
ない。従って、上記リリーフ弁２７の開放が、所期の圧
力値に達した時点で速やかに行われ、放出された処理ガ
スはＮ2ガスとの混合によってさらに希釈され、排気ホ
ース２６から排気されるものである。
処理ガスが上記所定圧力値に達する前に、バルブ３７を
開放してガスボンベ３９からのＮ2ガスを、希釈ガス供
給管３５及び導入管４０を通じて上記ハウジング２４内
に導入していても、その吐出口４１は排気口２５側へと
向けられているから、Ｎ2ガスのハウジング２４内への
導入によってハウジング２４内の圧力が上昇することは
ない。従って、上記リリーフ弁２７の開放が、所期の圧
力値に達した時点で速やかに行われ、放出された処理ガ
スはＮ2ガスとの混合によってさらに希釈され、排気ホ
ース２６から排気されるものである。
【００２９】しかも上記のように、導入管４０の吐出口
４１が排気口２５側へと向けられているから、例えば希
釈度を高めるために流量調整弁３８によって、Ｎ2ガス
の流量を増大しても、やはりハウジング２４内の圧力が
上昇することはなく、クライオポンプ１３内の処理ガス
の圧力が所定の圧力値に達すれば、リリーフ弁２７の開
放が確実に行われる。
４１が排気口２５側へと向けられているから、例えば希
釈度を高めるために流量調整弁３８によって、Ｎ2ガス
の流量を増大しても、やはりハウジング２４内の圧力が
上昇することはなく、クライオポンプ１３内の処理ガス
の圧力が所定の圧力値に達すれば、リリーフ弁２７の開
放が確実に行われる。
【００３０】なお上記のようにして、所定時間、例えば
１時間程度経過してクライオポンプ１３内の処理ガス放
出作業（再生作業）が終了すると、上述の希釈ガス供給
装置によるクライオポンプ１３内へのＮ2ガスの供給を
停止させれば、上記リリーフ弁２７は閉鎖される。そし
てその後荒引きポンプ１０を作動させて、クライオポン
プ１３内を例えば１０-2Ｔｏｒｒまで減圧させ、さらに
その後クライオポンプ１３自体を作動させて、再びこの
クライオポンプ１３内の極低温パネルを冷却させて所定
の高真空度、例えば１０-7Ｔｏｒｒ以下にした時点で、
ゲートバルブ１２を開放して、通常の運転動作に入るの
である。
１時間程度経過してクライオポンプ１３内の処理ガス放
出作業（再生作業）が終了すると、上述の希釈ガス供給
装置によるクライオポンプ１３内へのＮ2ガスの供給を
停止させれば、上記リリーフ弁２７は閉鎖される。そし
てその後荒引きポンプ１０を作動させて、クライオポン
プ１３内を例えば１０-2Ｔｏｒｒまで減圧させ、さらに
その後クライオポンプ１３自体を作動させて、再びこの
クライオポンプ１３内の極低温パネルを冷却させて所定
の高真空度、例えば１０-7Ｔｏｒｒ以下にした時点で、
ゲートバルブ１２を開放して、通常の運転動作に入るの
である。
【００３１】以上のように希釈ガスであるＮ2ガスの導
入量の如何に関わらず、リリーフ弁２７は常に正常に機
能するので、クライオポンプ２２を始めとする排気系の
各装置に対して過度の負担がかかることはなく、ひいて
はこの排気系が適用されている処理装置の処理が、所期
の設計通り円滑に実施できるものである。
入量の如何に関わらず、リリーフ弁２７は常に正常に機
能するので、クライオポンプ２２を始めとする排気系の
各装置に対して過度の負担がかかることはなく、ひいて
はこの排気系が適用されている処理装置の処理が、所期
の設計通り円滑に実施できるものである。
【００３２】なお、上記実施例における導入管４０は上
記の如く、途中で折曲成形加工された曲管であったが、
これに代えて例えば図６に示したような直管形状の導入
管４５を使用することもできる。
記の如く、途中で折曲成形加工された曲管であったが、
これに代えて例えば図６に示したような直管形状の導入
管４５を使用することもできる。
【００３３】即ちこの直管形状の導入管４５は、その先
端部が閉口した構造を有し、図７に示したようにちょう
どハウジング２４の排気口２５に対向する外周壁に、適
宜の吐出口４６を穿設した構成を有するものである。こ
のような直管形状の導入管４５を用いても、上記実施例
の導入管４０の場合と全く同一の効果が得られ、Ｎ2ガ
スの導入量の如何に関わらず、リリーフ弁２７は常に正
常に機能するものである。
端部が閉口した構造を有し、図７に示したようにちょう
どハウジング２４の排気口２５に対向する外周壁に、適
宜の吐出口４６を穿設した構成を有するものである。こ
のような直管形状の導入管４５を用いても、上記実施例
の導入管４０の場合と全く同一の効果が得られ、Ｎ2ガ
スの導入量の如何に関わらず、リリーフ弁２７は常に正
常に機能するものである。
【００３４】また上記実施例でもわかるように、既存の
排気装置における希釈ガス供給管に対し、継手部材３６
や上記のような簡易な構成の導入管４０、４５を接続す
るだけで本発明を実施することができるので、既に稼働
している既存の装置に対しても、低コストで適用するこ
とが可能である。
排気装置における希釈ガス供給管に対し、継手部材３６
や上記のような簡易な構成の導入管４０、４５を接続す
るだけで本発明を実施することができるので、既に稼働
している既存の装置に対しても、低コストで適用するこ
とが可能である。
【００３５】なお、上記実施例はイオン注入装置の排気
系に適用した例であったが、本発明はこれに限らず、例
えばエッチング装置、アッシング装置、ＣＶＤ装置、ス
パッタ装置を始めとする各種の処理装置の排気系に適用
することが可能である。
系に適用した例であったが、本発明はこれに限らず、例
えばエッチング装置、アッシング装置、ＣＶＤ装置、ス
パッタ装置を始めとする各種の処理装置の排気系に適用
することが可能である。
【００３６】
【発明の効果】本発明によれば、希釈ガスの導入量にか
かわらず、所定圧力値に達するとリリーフ弁は常に確実
に開放される。従って大量の希釈ガスを必要とする場合
であっても、リリーフ弁の機能に支障をきたすことな
く、特定空間内のガスを確実に希釈してこれを排気する
ことが可能である。
かわらず、所定圧力値に達するとリリーフ弁は常に確実
に開放される。従って大量の希釈ガスを必要とする場合
であっても、リリーフ弁の機能に支障をきたすことな
く、特定空間内のガスを確実に希釈してこれを排気する
ことが可能である。
【図１】排気系に本発明の実施例を適用したイオン注入
装置の平面説明図である。
装置の平面説明図である。
【図２】排気系に本発明の実施例を適用したイオン注入
装置のエンドステーションモジュールの断面説明図であ
る。
装置のエンドステーションモジュールの断面説明図であ
る。
【図３】本発明の実施例の外形を示す斜視図である。
【図４】本発明の実施例の内部構成を示す斜視図であ
る。
る。
【図５】本発明の実施例の一部断面正面図である。
【図６】実施例で使用した導入管の他の例を示す断面図
である。
である。
【図７】本発明の他の実施例の一部断面正面図である。
【図８】従来技術にかかる排気装置の一部断面正面図で
ある。
ある。
１３ クライオポンプ ２２ 貫通孔 ２３ 排気ポート ２４ ハウジング ２５ 排気口 ２６ 排気ホース ２７ リリーフ弁 ３１ 弁体 ３４ 混合室 ３５ 希釈ガス供給管 ４０ 導入管 ４１ 吐出口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/302 Ｂ
Claims (1)
- 【請求項１】 特定空間内のガスをリリーフ弁を通じて
排気するにあたり、前記リリーフ弁をハウジング内に設
け、さらに当該ハウジング内に希釈ガスを導入して上記
ガスを希釈させて、前記ハウジングに設けた排気口から
排気するように構成した装置において、前記希釈ガスを
ハウジング内に導入するための導入口を前記ハウジング
内部にまで導き、さらに当該導入口を前記排気口側に向
けたことを特徴とする、排気装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15144193A JP3483591B2 (ja) | 1993-05-28 | 1993-05-28 | 排気装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15144193A JP3483591B2 (ja) | 1993-05-28 | 1993-05-28 | 排気装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06336980A true JPH06336980A (ja) | 1994-12-06 |
| JP3483591B2 JP3483591B2 (ja) | 2004-01-06 |
Family
ID=15518679
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15144193A Expired - Fee Related JP3483591B2 (ja) | 1993-05-28 | 1993-05-28 | 排気装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3483591B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08193573A (ja) * | 1995-01-17 | 1996-07-30 | Tel Varian Ltd | クライオポンプの安全弁装置 |
| JP2001338891A (ja) * | 2000-05-26 | 2001-12-07 | Nec Kyushu Ltd | 半導体装置の製造装置 |
| CN104179660A (zh) * | 2013-05-27 | 2014-12-03 | 住友重机械工业株式会社 | 低温泵及真空排气方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI545262B (zh) * | 2014-04-07 | 2016-08-11 | 周文三 | 空氣壓縮機 |
-
1993
- 1993-05-28 JP JP15144193A patent/JP3483591B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08193573A (ja) * | 1995-01-17 | 1996-07-30 | Tel Varian Ltd | クライオポンプの安全弁装置 |
| JP2001338891A (ja) * | 2000-05-26 | 2001-12-07 | Nec Kyushu Ltd | 半導体装置の製造装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3483591B2 (ja) | 2004-01-06 |
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