JPH06331467A - 圧力測定フィルムと圧力測定方法 - Google Patents
圧力測定フィルムと圧力測定方法Info
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- JPH06331467A JPH06331467A JP11626193A JP11626193A JPH06331467A JP H06331467 A JPH06331467 A JP H06331467A JP 11626193 A JP11626193 A JP 11626193A JP 11626193 A JP11626193 A JP 11626193A JP H06331467 A JPH06331467 A JP H06331467A
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- JP
- Japan
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- film
- pressure
- pressure measuring
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- microcapsules
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 圧力測定フィルムとその測定方法に関し、微
少圧力の測定を目的とする。 【構成】 マイクロカプセル化した発色剤を塗布したフ
ィルムと顕色剤を塗布したフィルムとを組合せて圧力分
布測定位置に挟んで加圧し、顕色剤を塗布したフィルム
の発色の濃度より圧力分布の測定を行なうのに使用する
圧力測定フィルムとして、顕色剤を塗布したフィルムが
表面に微細な凹凸を均一に有して形成してあるのを使用
するか、或いは圧力分布を測定するのに使用する定盤と
して、表面に微細な凹凸を均一に有するものを使用する
ことを特徴として圧力測定方法を構成する。
少圧力の測定を目的とする。 【構成】 マイクロカプセル化した発色剤を塗布したフ
ィルムと顕色剤を塗布したフィルムとを組合せて圧力分
布測定位置に挟んで加圧し、顕色剤を塗布したフィルム
の発色の濃度より圧力分布の測定を行なうのに使用する
圧力測定フィルムとして、顕色剤を塗布したフィルムが
表面に微細な凹凸を均一に有して形成してあるのを使用
するか、或いは圧力分布を測定するのに使用する定盤と
して、表面に微細な凹凸を均一に有するものを使用する
ことを特徴として圧力測定方法を構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は微少な圧力分布の測定が
可能な圧力測定フィルムの構成と微少な圧力分布の測定
方法に関する。
可能な圧力測定フィルムの構成と微少な圧力分布の測定
方法に関する。
【０００２】電子部品の小形化に対応して微少圧力を測
定する必要性が増加している。例えば半導体集積回路は
厚さが500 μm 程度の半導体基板の上に薄膜形成技術,
写真蝕刻技術（フォトリソグラフィ），不純物注入技術
などを駆使して作られているが、シリコン（Si) を基板
とする半導体集積回路においては単位素子の小形化によ
りＬＳＩやＶＬＳＩが実用化されており、更にＵＬＳＩ
の実用化が進められているが、量産化の見地からSi基板
の大きさは増加し、８インチ径のものまで実用化されて
いる。
定する必要性が増加している。例えば半導体集積回路は
厚さが500 μm 程度の半導体基板の上に薄膜形成技術,
写真蝕刻技術（フォトリソグラフィ），不純物注入技術
などを駆使して作られているが、シリコン（Si) を基板
とする半導体集積回路においては単位素子の小形化によ
りＬＳＩやＶＬＳＩが実用化されており、更にＵＬＳＩ
の実用化が進められているが、量産化の見地からSi基板
の大きさは増加し、８インチ径のものまで実用化されて
いる。
【０００３】こゝで、集積回路の大きさは高々10 mm 角
であり、この中に配線パターンが形成されており、この
上に形成される絶縁層を介して立体回路を形成する場合
があるが、絶縁層の形成を気相反応（ＣＶＤ）を用いて
行なうと配線パターンによる凹凸が忠実に上面に反映さ
れるために絶縁層上に段差を生じており、信頼性を損な
うと云う問題がある。そこで、絶縁層を研磨して平坦化
する必要があるが、この場合、研磨するのに加える圧力
は微少であり、かゝる基板を研磨機の研磨プレートに固
定して研磨を行なう場合は予め定盤との間との平行度を
調べ、基板の平行性を確認した上で研磨を行なう必要が
ある。
であり、この中に配線パターンが形成されており、この
上に形成される絶縁層を介して立体回路を形成する場合
があるが、絶縁層の形成を気相反応（ＣＶＤ）を用いて
行なうと配線パターンによる凹凸が忠実に上面に反映さ
れるために絶縁層上に段差を生じており、信頼性を損な
うと云う問題がある。そこで、絶縁層を研磨して平坦化
する必要があるが、この場合、研磨するのに加える圧力
は微少であり、かゝる基板を研磨機の研磨プレートに固
定して研磨を行なう場合は予め定盤との間との平行度を
調べ、基板の平行性を確認した上で研磨を行なう必要が
ある。
【０００４】
【従来の技術】Si基板（以下ウエハ) のように大面積の
試料面を均一に僅か研磨する場合は研磨量を均一化する
ために定盤との間の圧力分布を測定する必要がある。こ
ゝで、研磨時に加える圧力は１kg/cm2以下であり、この
ような低圧力の測定には圧電素子からなる荷重センサを
マトリックス状に配列したものが使用されている。然
し、かゝる荷重センサの使用には増幅器や計算機などの
周辺機器を整えることが必要であり、測定系が高価につ
くと云う問題がある。
試料面を均一に僅か研磨する場合は研磨量を均一化する
ために定盤との間の圧力分布を測定する必要がある。こ
ゝで、研磨時に加える圧力は１kg/cm2以下であり、この
ような低圧力の測定には圧電素子からなる荷重センサを
マトリックス状に配列したものが使用されている。然
し、かゝる荷重センサの使用には増幅器や計算機などの
周辺機器を整えることが必要であり、測定系が高価につ
くと云う問題がある。
【０００５】一方、簡便に圧力分布を測定する方法とし
て圧力測定フィルムが市販されている。例えば品名プレ
スケール（富士フィルムKK）。このフイルムは一枚構成
（モノシートタイプ）のものと二枚構成（ツウシートタ
イプ）のものとがあり、二枚構成のものはマイクロカプ
セル化した発色剤を塗布したフィルムと顕色剤を塗布し
たフィルムを組合せるもので、圧力により発色剤の入っ
ているマイクロカプセルが破裂し、その中に入っている
無色の染料が別のフィルムに塗布してある顕色剤に吸着
して反応し発色するものであり、また、一枚構成のもの
は顕色剤を塗布してある層の上にマイクロカプセル化し
た発色剤を塗布したものである。
て圧力測定フィルムが市販されている。例えば品名プレ
スケール（富士フィルムKK）。このフイルムは一枚構成
（モノシートタイプ）のものと二枚構成（ツウシートタ
イプ）のものとがあり、二枚構成のものはマイクロカプ
セル化した発色剤を塗布したフィルムと顕色剤を塗布し
たフィルムを組合せるもので、圧力により発色剤の入っ
ているマイクロカプセルが破裂し、その中に入っている
無色の染料が別のフィルムに塗布してある顕色剤に吸着
して反応し発色するものであり、また、一枚構成のもの
は顕色剤を塗布してある層の上にマイクロカプセル化し
た発色剤を塗布したものである。
【０００６】こゝで、フィルムとしてはポリエチレンテ
レフタレート（一般名マイラー）が使用されており、圧
力測定フィルムには極超低圧用（２〜６kgf/cm2),超低
圧用（５〜25kgｆ/cm2), 低圧用（25〜100kgf/cm2),中
圧用（100 〜500kgf/cm2），高圧用（500 〜1300kgf/cm
2)など各種のものがあるが、低圧用以下のものは何れも
二枚構成であり、この理由は輸送中の衝撃などにより容
易にマイクロカプセルが破壊して発色するために、品質
の維持が困難なことによる。
レフタレート（一般名マイラー）が使用されており、圧
力測定フィルムには極超低圧用（２〜６kgf/cm2),超低
圧用（５〜25kgｆ/cm2), 低圧用（25〜100kgf/cm2),中
圧用（100 〜500kgf/cm2），高圧用（500 〜1300kgf/cm
2)など各種のものがあるが、低圧用以下のものは何れも
二枚構成であり、この理由は輸送中の衝撃などにより容
易にマイクロカプセルが破壊して発色するために、品質
の維持が困難なことによる。
【０００７】なお、発色剤としてはトリフェニルメタン
フタリド類，フルオラン類，スピロピラン類，フェノチ
アジン類などがあり、クリスタルバイオレットラクトン
は代表的な化合物である。一方、顕色剤にはフェノール
性樹脂，酸性白土，サルチル酸誘導体の亜鉛塩などが用
いられている。
フタリド類，フルオラン類，スピロピラン類，フェノチ
アジン類などがあり、クリスタルバイオレットラクトン
は代表的な化合物である。一方、顕色剤にはフェノール
性樹脂，酸性白土，サルチル酸誘導体の亜鉛塩などが用
いられている。
【０００８】図５はこの圧力測定フィルムを用いて半導
体ウエハの圧力分布を測定する方法を示すもので、真空
吸着法などにより研磨プレート１に接着してある半導体
ウエハ２を定盤３の上に接着してある研磨布４に当接
し、研磨プレート１に荷重を加え、研磨剤を供給しなが
ら研磨プレート１と定盤３を同一方向にそれぞれ独立に
回転させて研磨を行なうが、この研磨工程に先立ち、半
導体ウエハ２と研磨布４との間に圧力測定フィルム６を
置き、荷重を加えることにより圧力分布を測定してい
る。
体ウエハの圧力分布を測定する方法を示すもので、真空
吸着法などにより研磨プレート１に接着してある半導体
ウエハ２を定盤３の上に接着してある研磨布４に当接
し、研磨プレート１に荷重を加え、研磨剤を供給しなが
ら研磨プレート１と定盤３を同一方向にそれぞれ独立に
回転させて研磨を行なうが、この研磨工程に先立ち、半
導体ウエハ２と研磨布４との間に圧力測定フィルム６を
置き、荷重を加えることにより圧力分布を測定してい
る。
【０００９】然し、先に記したように極超低圧用の圧力
測定フィルムでも測定下限は１kgf/cm2 以上と大きいた
めに半導体ウエハの研磨には使用できないと云う問題が
あり、圧力測定フィルムは簡便ではあるが半導体ウエハ
の製造工程には使用することができなかった。
測定フィルムでも測定下限は１kgf/cm2 以上と大きいた
めに半導体ウエハの研磨には使用できないと云う問題が
あり、圧力測定フィルムは簡便ではあるが半導体ウエハ
の製造工程には使用することができなかった。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】半導体集積回路の製造
工程で行なわれる半導体ウエハの研磨はウエハ上に生じ
ている段差の除去など、何れも研磨する膜厚は微少であ
り、１kgf/cm2 未満の圧力を加えて行なわれている。そ
して、圧力分布の不均一が検出された場合は研磨プレー
トに固定してある半導体ウエハの位置を調整し、圧力分
布の均一を確認した上で研磨が行なわれている。そのた
め、目視により圧力分布を測定できる圧力測定フィルム
の使用が好ましいが、現状では使用することができな
い。そこで、１kgf/cm2 未満の微少荷重まで測定が可能
なように感度を向上することが課題である。
工程で行なわれる半導体ウエハの研磨はウエハ上に生じ
ている段差の除去など、何れも研磨する膜厚は微少であ
り、１kgf/cm2 未満の圧力を加えて行なわれている。そ
して、圧力分布の不均一が検出された場合は研磨プレー
トに固定してある半導体ウエハの位置を調整し、圧力分
布の均一を確認した上で研磨が行なわれている。そのた
め、目視により圧力分布を測定できる圧力測定フィルム
の使用が好ましいが、現状では使用することができな
い。そこで、１kgf/cm2 未満の微少荷重まで測定が可能
なように感度を向上することが課題である。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記の課題はマイクロカ
プセル化した発色剤を塗布したフィルムと顕色剤を塗布
したフィルムとを組合せて圧力分布測定位置に挟んで加
圧し、顕色剤を塗布したフィルムの発色の濃度より圧力
分布の測定を行なうのに使用する圧力測定フィルムとし
て、顕色剤を塗布したフィルムが表面に微細な凹凸を均
一に有して形成してあるのを使用するか、或いは圧力分
布を測定するのに使用する定盤として、表面に微細な凹
凸を均一に有するものを使用することを特徴として圧力
測定方法を構成することにより解決することができる。
プセル化した発色剤を塗布したフィルムと顕色剤を塗布
したフィルムとを組合せて圧力分布測定位置に挟んで加
圧し、顕色剤を塗布したフィルムの発色の濃度より圧力
分布の測定を行なうのに使用する圧力測定フィルムとし
て、顕色剤を塗布したフィルムが表面に微細な凹凸を均
一に有して形成してあるのを使用するか、或いは圧力分
布を測定するのに使用する定盤として、表面に微細な凹
凸を均一に有するものを使用することを特徴として圧力
測定方法を構成することにより解決することができる。
【００１２】
【作用】本発明は測定感度を向上する方法として荷重が
加わる実効面積を減らすもので、図１はこの原理図であ
る。すなわち、圧力測定フィルムは発色剤を含むマイク
ロカプセル８を塗布してある第１のフィルム９と顕色剤
10を塗布してある第２のフィルム11を塗膜形成面を接触
させて圧力測定物の下に置いて加圧し、圧力によりマイ
クロカプセル８が破裂して無色の色素前駆体が顕色剤10
と云われる酸性化合物と反応して発色するのを利用する
ものであり、従来は第１のフィルム９と第２のフィルム
11の接触面は共に平坦であり、一面に接触していた。
加わる実効面積を減らすもので、図１はこの原理図であ
る。すなわち、圧力測定フィルムは発色剤を含むマイク
ロカプセル８を塗布してある第１のフィルム９と顕色剤
10を塗布してある第２のフィルム11を塗膜形成面を接触
させて圧力測定物の下に置いて加圧し、圧力によりマイ
クロカプセル８が破裂して無色の色素前駆体が顕色剤10
と云われる酸性化合物と反応して発色するのを利用する
ものであり、従来は第１のフィルム９と第２のフィルム
11の接触面は共に平坦であり、一面に接触していた。
【００１３】これに対し、本発明は第２のフィルムの表
面に微細な凹凸を均一に形成し、第１のフィルム９と第
２のフィルム11との接触面積を均等に減らすことにより
感度を向上するものである。すなわち、両者の接触面積
を1/2 にすれば感度は２倍に向上し、1/3 に減らせば感
度は３倍となり、僅かな圧力で発色が可能となる。
面に微細な凹凸を均一に形成し、第１のフィルム９と第
２のフィルム11との接触面積を均等に減らすことにより
感度を向上するものである。すなわち、両者の接触面積
を1/2 にすれば感度は２倍に向上し、1/3 に減らせば感
度は３倍となり、僅かな圧力で発色が可能となる。
【００１４】こゝで、表面に微細な凹凸を均一に形成す
るには必ずしも第２のフィルムについて行なう必要はな
いが、第１のフィルム９は加工によりマイクロカプセル
が破壊し、中の色素前駆体が滲みでる恐れがあることか
ら製造歩留りの点から第２のフィルム11を加工する場合
の方が有利である。なお、微細な凹凸を均一に形成する
方法としては図１に示すようにフィルム自体に凹凸を付
けてもよいが、図２に示すようにスリット状に打ち抜く
か、図３に示すようにマトリックス状に打ち抜いて使用
してもよい。
るには必ずしも第２のフィルムについて行なう必要はな
いが、第１のフィルム９は加工によりマイクロカプセル
が破壊し、中の色素前駆体が滲みでる恐れがあることか
ら製造歩留りの点から第２のフィルム11を加工する場合
の方が有利である。なお、微細な凹凸を均一に形成する
方法としては図１に示すようにフィルム自体に凹凸を付
けてもよいが、図２に示すようにスリット状に打ち抜く
か、図３に示すようにマトリックス状に打ち抜いて使用
してもよい。
【００１５】また、従来と同じように表面が平坦な第１
のフィルムと第２のフイルムを用いても微細な凹凸が均
一に形成してある定盤を用いることにより目的を達成す
ることができる。図４はこの原理を示すもので、研磨布
４が貼着してある定盤３の上に凹凸のある定盤13を置
き、従来の圧力測定フィルム６を置いて加圧すれば、凹
凸のある定盤13の接触面積比に反比例して測定感度を向
上することができる。
のフィルムと第２のフイルムを用いても微細な凹凸が均
一に形成してある定盤を用いることにより目的を達成す
ることができる。図４はこの原理を示すもので、研磨布
４が貼着してある定盤３の上に凹凸のある定盤13を置
き、従来の圧力測定フィルム６を置いて加圧すれば、凹
凸のある定盤13の接触面積比に反比例して測定感度を向
上することができる。
【００１６】
実施例１：（請求項１，図１対応） 厚さが100 μm のマイラーフィルムの上に従来のように
一面にマイクロカプセル化した発色剤を塗布してある第
１のフィルム９に対し、第２のフィルム11は厚さが100
μm のマイラーフィルムをプレス加工により凸部の幅が
２ mm ，繰り返しピッチ５ mm ，深さ50μm の溝を設
け、この凸部に顕色剤を塗布した。そして第１のフィル
ムと第２のフィルムの塗膜形成面を重ね合わして研磨機
の定盤の上に置き、0.5kgｆ/cm2の圧力を半導体ウエハ
に加えた。その結果、従来の圧力測定フィルムを用いる
場合は発色が認められなかったのに対し、顕著な発色を
認めることができた。 実施例２：（請求項２，図３対応） 厚さが100 μm のマイラーフィルムに打抜き加工を行な
って微細な孔が井桁状に開いたフィルムを作り、この片
面に顕色剤を塗布して第２のフィルムを形成した。こゝ
で、フィルムの孔の幅は２ mm ，ピッチは４ mm とし
た。そして実施例１と同様にマイクロカプセルが塗布し
てある第１のフィルムと重り合わせて研磨機の定盤の上
に置き0.5kgｆ/cm2の圧力を半導体ウエハに加えた。そ
の結果、従来の圧力測定フィルムを用いる場合は発色が
認められなかったのに対し、顕著な発色を認めることが
できた。 実施例３：（請求項３，図４対応） 厚さが20 mm の鉄製のブロックを切削加工して幅1.5mm
, ピッチ1.5mm , 深さ1.5mm のマトリックス状の微細
な枡目状の凹凸を作り、これを研磨して凹凸のある定盤
をつくり、これを従来の定盤の上におき、この上に市販
の極超低圧用圧力測定フィルムをおいて、0.5kgｆ/cm2
の圧力を半導体ウエハに加えた。その結果、凹凸のある
定盤を使用しない場合は発色が認められないのに対し、
凹凸のある定盤の使用により顕著な発色を認めることが
できた。
一面にマイクロカプセル化した発色剤を塗布してある第
１のフィルム９に対し、第２のフィルム11は厚さが100
μm のマイラーフィルムをプレス加工により凸部の幅が
２ mm ，繰り返しピッチ５ mm ，深さ50μm の溝を設
け、この凸部に顕色剤を塗布した。そして第１のフィル
ムと第２のフィルムの塗膜形成面を重ね合わして研磨機
の定盤の上に置き、0.5kgｆ/cm2の圧力を半導体ウエハ
に加えた。その結果、従来の圧力測定フィルムを用いる
場合は発色が認められなかったのに対し、顕著な発色を
認めることができた。 実施例２：（請求項２，図３対応） 厚さが100 μm のマイラーフィルムに打抜き加工を行な
って微細な孔が井桁状に開いたフィルムを作り、この片
面に顕色剤を塗布して第２のフィルムを形成した。こゝ
で、フィルムの孔の幅は２ mm ，ピッチは４ mm とし
た。そして実施例１と同様にマイクロカプセルが塗布し
てある第１のフィルムと重り合わせて研磨機の定盤の上
に置き0.5kgｆ/cm2の圧力を半導体ウエハに加えた。そ
の結果、従来の圧力測定フィルムを用いる場合は発色が
認められなかったのに対し、顕著な発色を認めることが
できた。 実施例３：（請求項３，図４対応） 厚さが20 mm の鉄製のブロックを切削加工して幅1.5mm
, ピッチ1.5mm , 深さ1.5mm のマトリックス状の微細
な枡目状の凹凸を作り、これを研磨して凹凸のある定盤
をつくり、これを従来の定盤の上におき、この上に市販
の極超低圧用圧力測定フィルムをおいて、0.5kgｆ/cm2
の圧力を半導体ウエハに加えた。その結果、凹凸のある
定盤を使用しない場合は発色が認められないのに対し、
凹凸のある定盤の使用により顕著な発色を認めることが
できた。
【００１７】
【発明の効果】本発明の実施により半導体ウエハの研磨
工程に圧力測定フィルムを使用できるようになり、これ
により作業効率を大幅に向上することができた。
工程に圧力測定フィルムを使用できるようになり、これ
により作業効率を大幅に向上することができた。
【図１】 本発明の原理図である。
【図２】 顕色剤を塗布してあるフィルムの平面図であ
る。
る。
【図３】 顕色剤を塗布してある別のフィルムの平面図
である。
である。
【図４】 本発明に係る圧力測定法を示す断面図であ
る。
る。
【図５】 従来の圧力測定法を示す断面図である。
１ 研磨プレート ２ 半導体ウエハ ３ 定盤 ４ 研磨布 ６ 圧力測定フィルム ８ マイクロカプセル ９ 第１のフィルム 10 顕色剤 11 第２のフィルム 13 凹凸のある定盤
フロントページの続き (72)発明者 岸井 貞浩 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 マイクロカプセル化した発色剤を塗布し
たフィルムと顕色剤を塗布したフィルムとを組合せて圧
力分布測定位置に挟んで加圧し、顕色剤を塗布したフィ
ルムの発色の濃度より圧力分布の測定を行なうのに使用
する圧力測定フィルムにおいて、前記顕色剤を塗布した
フィルムが表面に微細な凹凸を均一に有して形成してあ
ることを特徴とする圧力測定フィルム。 - 【請求項２】 顕色剤を塗布したフィルムが簾状または
井桁状のスリットを有してなり、該フィルムをマイクロ
カプセル化した発色剤を塗布したフィルムと組合せて使
用することを特徴とする圧力測定フィルム。 - 【請求項３】 マイクロカプセル化した発色剤を塗布し
たフィルムと顕色剤を塗布したフィルムを組合せて圧力
分布を測定するのに使用する定盤として、表面に微細な
凹凸を均一に有するものを使用することを特徴とする圧
力測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11626193A JPH06331467A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | 圧力測定フィルムと圧力測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11626193A JPH06331467A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | 圧力測定フィルムと圧力測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06331467A true JPH06331467A (ja) | 1994-12-02 |
Family
ID=14682724
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11626193A Withdrawn JPH06331467A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | 圧力測定フィルムと圧力測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06331467A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1052486A1 (en) * | 1999-05-11 | 2000-11-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Pressure measuring film for measuring pressure in small contact area |
| JP2007155588A (ja) * | 2005-12-07 | 2007-06-21 | Hitachi Cable Ltd | 衝撃検知光ファイバセンサ |
| JP2009068991A (ja) * | 2007-09-13 | 2009-04-02 | Fujifilm Corp | 凹凸シート |
| JP2009128248A (ja) * | 2007-11-26 | 2009-06-11 | Fujifilm Corp | 圧力分布測定方法 |
| KR101253334B1 (ko) * | 2011-10-07 | 2013-04-11 | 숭실대학교산학협력단 | 안압 센서 및 그 제조 방법 |
| TWI412734B (zh) * | 2012-10-31 | 2013-10-21 | Univ Nat Taipei Technology | 可置於鞋內的足底壓剪力量測裝置 |
| KR20200119857A (ko) * | 2018-02-11 | 2020-10-20 | 바오딩 럭키 이노베이티브 머티리얼즈 컴퍼니 리미티드 | 특정 포뮬라를 갖는 발색성 필름, 압력 시험 필름 및 이의 제조 방법 |
| KR20200120697A (ko) * | 2018-02-11 | 2020-10-21 | 바오딩 럭키 이노베이티브 머티리얼즈 컴퍼니 리미티드 | 요철구조를 갖는 발색성 필름, 압력 시험 필름 및 이의 제조 방법 |
-
1993
- 1993-05-19 JP JP11626193A patent/JPH06331467A/ja not_active Withdrawn
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