JPH0632321B2 - フアラデ−回転子を用いた紫外線レ−ザ−システム - Google Patents
フアラデ−回転子を用いた紫外線レ−ザ−システムInfo
- Publication number
- JPH0632321B2 JPH0632321B2 JP59263519A JP26351984A JPH0632321B2 JP H0632321 B2 JPH0632321 B2 JP H0632321B2 JP 59263519 A JP59263519 A JP 59263519A JP 26351984 A JP26351984 A JP 26351984A JP H0632321 B2 JPH0632321 B2 JP H0632321B2
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- Japan
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- faraday rotator
- laser system
- ultraviolet laser
- ultraviolet
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、フアラデー回転子を用いた核融合レーザーシ
ステム等紫外線レーザーシステムに関する。
ステム等紫外線レーザーシステムに関する。
(従来の技術) 可視光、赤外光レーザーを用いる核融合レーザーシステ
ムでは、レーザー増幅器が方向性をもたないため、プラ
ズマからの反射が逆方向に増幅され、レーザー初段増幅
に損傷を与えるという問題点があり、これを解決するた
め、通常、第一図のような素子、つまり、偏光子−フア
ラデー回転子−偏光子からなる組み合わせを用いてい
る。
ムでは、レーザー増幅器が方向性をもたないため、プラ
ズマからの反射が逆方向に増幅され、レーザー初段増幅
に損傷を与えるという問題点があり、これを解決するた
め、通常、第一図のような素子、つまり、偏光子−フア
ラデー回転子−偏光子からなる組み合わせを用いてい
る。
先ず偏光子を通過したレーザー光線は、フアラデー回転
子を通過することによつて、その偏光面が先の偏光子軸
に対して45゜回転する。次いで、その軸が、第一段の
偏光子軸に対して45゜傾いた第二段の偏光子を通つて
ターゲツトに当たる。ターゲツトからの反射光は、再び
フアラデー回転子を通過することによつて、その偏光面
が同一方向に45゜回転する。従つて、フアラデー回転
子を通過した反射光は、第一段の偏光子軸に対して、其
の偏光面が90゜の角度で衝突することになり、第一段
偏光子を通過する反射光は、殆ど零になり、初段増幅器
に損傷を与えない。
子を通過することによつて、その偏光面が先の偏光子軸
に対して45゜回転する。次いで、その軸が、第一段の
偏光子軸に対して45゜傾いた第二段の偏光子を通つて
ターゲツトに当たる。ターゲツトからの反射光は、再び
フアラデー回転子を通過することによつて、その偏光面
が同一方向に45゜回転する。従つて、フアラデー回転
子を通過した反射光は、第一段の偏光子軸に対して、其
の偏光面が90゜の角度で衝突することになり、第一段
偏光子を通過する反射光は、殆ど零になり、初段増幅器
に損傷を与えない。
(発明が解決しようとする問題点) 然し乍ら、より高エネルギーが得られる紫外線レーザー
を用いたシステムでは、上記フアラデー回転ガラスの紫
外線吸収係数が高いため、レーザー光が、フアラデー回
転ガラスに吸収されてしまうという問題点がある。
を用いたシステムでは、上記フアラデー回転ガラスの紫
外線吸収係数が高いため、レーザー光が、フアラデー回
転ガラスに吸収されてしまうという問題点がある。
また、従来の紫外線レーザーシステムは、フアラデー回
転子が薄いと充分な回転が得られず、このため光学系シ
ステムに一定の光路長すなわち幅が必要となり、光学系
をコンパクト化することができなかった。
転子が薄いと充分な回転が得られず、このため光学系シ
ステムに一定の光路長すなわち幅が必要となり、光学系
をコンパクト化することができなかった。
(問題点を解決するための手段) 以上のような状況に鑑み、鋭意研究の末、ヴエルデ定数
が、波長の二乗に反比例して増えることに着目、合成石
英ガラス、フツ化カルシウム等を、フアラデー回転子と
して用いることにより、上記問題を解決できることがわ
かつた。
が、波長の二乗に反比例して増えることに着目、合成石
英ガラス、フツ化カルシウム等を、フアラデー回転子と
して用いることにより、上記問題を解決できることがわ
かつた。
つまりフアラデー回転子が、紫外線吸収係数が低いとい
うことは、必須条件であるが、ヴエルデ定数が波長の二
乗に反比例して増えるため、合成石英ガラスとか通常入
手し易い物質で、高い値が得られるため、通常の光路長
で充分な偏光面の回転が得られるとの知見を得て本発明
を完成した。
うことは、必須条件であるが、ヴエルデ定数が波長の二
乗に反比例して増えるため、合成石英ガラスとか通常入
手し易い物質で、高い値が得られるため、通常の光路長
で充分な偏光面の回転が得られるとの知見を得て本発明
を完成した。
本発明の要旨は、合成石英ガラス、フツ化カルシウム等
の紫外線吸収率が低く、かつ、ヴエルデ定数の高い物質
からなるフアラデー回転子を用いたことを特徴とする核
融合レーザーシステム等の紫外線レーザーシステムであ
る。
の紫外線吸収率が低く、かつ、ヴエルデ定数の高い物質
からなるフアラデー回転子を用いたことを特徴とする核
融合レーザーシステム等の紫外線レーザーシステムであ
る。
つまり、200nmに於ける紫外線の透過率が光路長1
0mmにして80%以上、且つ、249nmに於けるヴ
エルデ定数が、0.02min/cmOe以上の合成石
英ガラスまたはフツ化カルシウムからなるフアラデー回
転子を用いたことを特徴とする紫外線レーザーシステム
である。
0mmにして80%以上、且つ、249nmに於けるヴ
エルデ定数が、0.02min/cmOe以上の合成石
英ガラスまたはフツ化カルシウムからなるフアラデー回
転子を用いたことを特徴とする紫外線レーザーシステム
である。
偏光面の回転角θは、磁場の強さH、フアラデー回転子
内の透過長L、ヴエルデ定数Vと次のような関係にあ
る。
内の透過長L、ヴエルデ定数Vと次のような関係にあ
る。
θ=V×H×L 従つて、ヴエルデ定数の範囲は、H、Lに関係して決る
性質のものである。
性質のものである。
249nmに於けるヴエルデ定数が、0.02min/
cmOe以上あることが必要である。
cmOe以上あることが必要である。
200nmに於ける紫外線の透過率が、光路長10mm
にして、80%以上あることが必要である。
にして、80%以上あることが必要である。
(実施例) フアラデー回転子として合成石英ガラス(紫外線透過率
は、光路長10mm、波長249nmで測定して、90
%以上、同じく波長249nmで測定してヴエルデ定数
0.1084min/cmOe、長さ30mm)を用
い、波長249nmのKrFレーザーシステムにおい
て、1.5〜2テスラーの磁場を加えたところ、90゜
の偏光面の回転が得られた。
は、光路長10mm、波長249nmで測定して、90
%以上、同じく波長249nmで測定してヴエルデ定数
0.1084min/cmOe、長さ30mm)を用
い、波長249nmのKrFレーザーシステムにおい
て、1.5〜2テスラーの磁場を加えたところ、90゜
の偏光面の回転が得られた。
従つて、磁場強度と、フアラデー回転子のレザー透過長
を調節することにより、45゜の回転が得られることが
わかつた。
を調節することにより、45゜の回転が得られることが
わかつた。
尚、核融合レーザーシステムに限らず、反射光(もどり
光)の発振器動作への有害な干渉及び高利得増巾器間の
結合を、排除できる紫外線レーザーシステムを上記フア
ラデー回転子を用いて得られることがわかつた。
光)の発振器動作への有害な干渉及び高利得増巾器間の
結合を、排除できる紫外線レーザーシステムを上記フア
ラデー回転子を用いて得られることがわかつた。
(発明の効果) 1)核融合システムでは、光学素子の損傷防止ができ、
またレーザー増巾器が高利得でも安定した動作が得られ
る。
またレーザー増巾器が高利得でも安定した動作が得られ
る。
2)他のレーザビーム描画装置において発振器の安定化
が可能なため、ビームのスポツト径を小さくできる。
が可能なため、ビームのスポツト径を小さくできる。
ヴエルデ定数が波長の二乗に反比例して増えるため、紫
外域のように波長の短いものでは、ヴエルデ定数が大き
くなり「通常の光路長」つまりファラデー回転子の厚さ
が薄くても充分な偏光面の回転が得られ、紫外線レーザ
ーシステムの光学系をコンパクト化することができる。
外域のように波長の短いものでは、ヴエルデ定数が大き
くなり「通常の光路長」つまりファラデー回転子の厚さ
が薄くても充分な偏光面の回転が得られ、紫外線レーザ
ーシステムの光学系をコンパクト化することができる。
等の効果がある。
図は紫外線レーザーシステムの組合せを示す。 1……偏光子 2……フアラデー硝子 3……偏光子
Claims (1)
- 【請求項1】200nmに於ける紫外線の透過率が光路
長10mmにして80%以上、且つ、249nmに於け
るヴエルデ定数が、0.02min/cmOe以上の合
成石英ガラスまたはフツ化カルシウムからなるフアラデ
ー回転子を用いたことを特徴とする紫外線レーザーシス
テム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59263519A JPH0632321B2 (ja) | 1984-12-13 | 1984-12-13 | フアラデ−回転子を用いた紫外線レ−ザ−システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59263519A JPH0632321B2 (ja) | 1984-12-13 | 1984-12-13 | フアラデ−回転子を用いた紫外線レ−ザ−システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61141189A JPS61141189A (ja) | 1986-06-28 |
JPH0632321B2 true JPH0632321B2 (ja) | 1994-04-27 |
Family
ID=17390662
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59263519A Expired - Lifetime JPH0632321B2 (ja) | 1984-12-13 | 1984-12-13 | フアラデ−回転子を用いた紫外線レ−ザ−システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0632321B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0626271B2 (ja) * | 1984-12-13 | 1994-04-06 | 憲一 植田 | 紫外線レ−ザ−装置 |
JPS6346870U (ja) * | 1986-09-12 | 1988-03-30 | ||
JPWO2022195895A1 (ja) * | 2021-03-19 | 2022-09-22 | ||
CN116830018A (zh) * | 2021-03-19 | 2023-09-29 | 极光先进雷射株式会社 | 紫外线激光装置和电子器件的制造方法 |
WO2023007545A1 (ja) * | 2021-07-26 | 2023-02-02 | ギガフォトン株式会社 | 紫外線レーザ装置及び電子デバイスの製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61140188A (ja) * | 1984-12-13 | 1986-06-27 | Kenichi Ueda | 紫外線レ−ザ−装置 |
-
1984
- 1984-12-13 JP JP59263519A patent/JPH0632321B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61140188A (ja) * | 1984-12-13 | 1986-06-27 | Kenichi Ueda | 紫外線レ−ザ−装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61141189A (ja) | 1986-06-28 |
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Legal Events
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