JPH06319951A - 排ガスの浄化方法と装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 触媒層直前の流路域での局所的なモル比の相
違による平均脱硝率の低下あるいは未反応ＮＨ₃の流出
を抑え、高脱硝率を得ることにある。 【構成】 ＮＨ₃を還元剤として触媒層上流の排ガス流
路域に加えるが、その触媒として窒素酸化物のＮＨ₃に
よる還元活性を有する第一成分とＮＨ₃からＮＯｘを生
成させる活性およびＣＯからＣＯ₂を生成させる活性の
うちの少なくともいずれかの活性を有する第二成分とか
らなる触媒を使用する。この触媒を用いることで、触媒
層直前の排ガス流路域での局所的なＮＨ₃／ＮＯｘのモ
ル比の相違に制約されないで、排ガスのＮＯｘは還元さ
れ、同時に未反応ＮＨ₃およびＣＯが分解される。こう
して、前記触媒層直前の排ガス流路域での局所的なＮＨ
₃／ＮＯｘのモル比が１以上の条件下でも排ガス処理が
可能となり、高脱硝率を得て、しかも未反応ＮＨ₃の分
解およびＣＯの酸化が効率的に行える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は排煙脱硝装置を用いる排
ガス脱硝方法に係り、特に触媒層直前の流路域での局所
的なＮＨ₃／ＮＯｘモル比の相違による平均脱硝率の低
下の影響を小さくするための脱硝方法に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】発電所、各種工場、自動車などから排出
される排煙中の窒素酸化物（ＮＯｘ）は光化学スモッグ
の原因物質であり、その効果的な除去方法として選択的
接触還元による排煙脱硝法が火力発電所を中心に幅広く
用いられている。近年、産業の発展からＮＯｘを含む排
ガス量は増大する傾向にあり、環境基準を遵守するため
今後さらに高効率な脱硝が要求されるすう勢にある。排
煙脱硝法に用いられる触媒には酸化チタン系のものが多
く使用され、還元剤としてはアンモニア（ＮＨ₃）が使
用される。ここで排煙脱硝法で還元剤として使用される
ＮＨ₃は脱硝触媒部の上流側の排ガス流路において設計
条件に基づいた量が注入されるが、このとき脱硝触媒の
上流において注入されたＮＨ₃はガス中で完全には混合
しないため、図８のばらつきのモデル図に示すように触
媒層１の直前の排ガス流路域において局所的なＮＨ₃／
ＮＯｘモル比（以下モル比と略す）の相違２、つまりモ
ル比の不均一が生じる。

【０００３】この触媒層１直前の排ガス流路域での局所
的なモル比の相違が存在すると、図３の脱硝率とＡＶ値
（単位時間当りの処理ガス流量（Ｎｍ³／ｈ）／触媒面
積（ｍ²））との関係図において、破線で示すように、
触媒量を増やすことによって達成できる平均脱硝率には
限界が生じ、また、図７に示すように前記モル比の不均
一により平均脱硝率（破線）は当量反応線（実線）より
低下するが、その低下はモル比＝１で最大となる。従っ
て平均脱硝率の低下を抑えるためには、図８の触媒層１
直前の排ガス流路域で局所的なモル比の相違を小さくし
なければならない。触媒層１の直前の流路域での局所的
なモル比の相違を小さくする方法として、排ガス流路で
のＮＨ₃注入ノズルの改良、ガスミキサーの設置など、
幾つか提案されているが、これらの方法では限界があ
る。

【０００４】したがって、１００％近い処理ガスの脱硝
率を得るためにはモル比を１より大きくする必要があっ
た。しかしながら、従来の酸化チタン系触媒（未反応Ｎ
Ｈ₃の分解機能がない）を用いた脱硝装置で高モル比運
転（モル比＞１）を行うとＮＨ₃過剰条件であるため、
図７に示すようにモル比の増加にほぼ比例した濃度の未
反応ＮＨ₃が脱硝装置から排出されるという問題点があ
った。排ガス中にＳＯ₃が含有される場合、この未反応
のＮＨ₃はＳＯ₃と反応して（ＮＨ₄）₂ＳＯ₄や（ＮＨ₄）
ＨＳＯ₄を生成する。これらの生成物は後流のエアヒー
ターなどの熱交換器に付着し、排ガス流路の閉塞に伴う
圧力損失の増大を引き起こすため、脱硝装置やボイラの
運転に支障を来すことになる。またＬＮＧ焚燃焼装置な
どのＳＯ₃を含まない排ガスに対しても、ＮＨ₃自体が臭
気を伴うためＮＨ₃が分解されないまま高濃度で排出さ
れることには問題があった。また、モル比＜１で運転し
た場合は、図７に示すように当量反応線に従って急激に
脱硝率が低下してしまい、１００％近い脱硝率を得るこ
とは理論上不可能であるという問題点があった。モル比
＝１で運転した場合は、先に述べたように触媒層１直前
の排ガス流路域での局所的なモル比の相違による平均脱
硝率の低下が最大になってしまうという問題点があっ
た。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では、図
８の触媒層１直前の排ガス流路域での局所的なモル比の
相違が存在する状態で、触媒量を増加することによって
到達できる平均脱硝率には限界が生じることが分かる。
また、上記従来技術では高効率脱硝と未反応ＮＨ₃の抑
制の両立を図ることができないため、高脱硝率を得る際
に未反応ＮＨ₃を抑える点について配慮がなされておら
ず、エアヒーターの閉塞などの問題点があった。さらに
高脱硝率と未反応ＮＨ₃のバランスが最も良いと考えら
れるモル比１前後では触媒層１直前の排ガス流路域での
局所的なモル比の相違による平均脱硝率の低下が最大に
なってしまうという問題点があった。本発明の目的は触
媒層直前の流路域での局所的なモル比の相違による平均
脱硝率の低下あるいは未反応ＮＨ₃の流出を抑え、高脱
硝率を得ることにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、次
の構成によって達成される。すなわち、ＮＨ₃を還元剤
として加えて触媒により排ガスを浄化する排ガスの浄化
方法において、触媒層直前の排ガス流路域での局所的な
ＮＨ₃／ＮＯｘのモル比が互いに相違する流体に対し
て、前記触媒として窒素酸化物のＮＨ₃による還元活性
を有する第一成分とＮＨ₃からＮＯｘを生成させる活性
およびＣＯからＣＯ₂を生成させる活性のうちの少なく
ともいずれかの活性を有する第二成分とからなる触媒を
使用する排ガスの浄化方法、または、排ガス流路に配置
された触媒層の上流側に還元剤としてのＮＨ₃を排ガス
中に注入する注入部を設けた排ガスの浄化装置におい
て、触媒層直前の排ガス流路域での局所的なＮＨ₃／Ｎ
Ｏｘのモル比が相違した流体に対して、前記触媒層中の
触媒としてＮＯｘのＮＨ₃による還元活性を有する第一
成分とＮＨ₃からＮＯｘを生成させる活性およびＣＯか
らＣＯ₂を生成させる活性のうちの少なくともいずれか
の活性を有する第二成分とからなる触媒を使用する排ガ
スの浄化装置である。ここで、前記触媒層直前の排ガス
流路域での局所的なＮＨ₃／ＮＯｘのモル比が１以上の
条件下で排ガス処理を行うことが高脱硝率を得て、しか
も未反応ＮＨ₃の分解およびＣＯの酸化が効率的に行え
るので好ましい。

【０００７】

【作用】触媒層直前の排ガス流路域で局所的なＮＨ₃／
ＮＯｘモル比の相違が存在する排ガス浄化装置で、ＮＯ
ｘのＮＨ₃による還元活性を有する第１成分とＮＨ₃から
ＮＯｘを生成させる活性とＣＯからＣＯ₂を生成させる
活性のうちの少なくともいずれかの活性を有する第２成
分とからなる触媒を使用すれば、脱硝反応とともにＮＨ
₃分解反応も行うことができる。そのため、前記触媒を
使用した脱硝装置は排ガス含有流体のＮＨ₃／ＮＯｘモ
ル比＞１でも運転できるようになるので、触媒層直前の
流路域での局所的なモル比の相違による平均脱硝率の低
下を抑えることができ、前記流体中の未反応ＮＨ₃は触
媒のＮＨ₃分解性能により分解されるので多量に流出す
ることがない。

【０００８】

【実施例】本発明の実施例を説明する。 （触媒成分あるいは触媒製法）本発明で使用される触媒
は、ＮＯｘのＮＨ₃による還元活性を有する第１成分と
ＮＨ₃からＮＯｘを生成させる活性とＣＯからＣＯ₂を生
成させる活性を有する第２成分とから構成され、その成
分あるいは調製方法は、前記活性を有する成分構成が実
現できれば、どのような成分内容あるいは調製方法であ
っても採用できる。しかし、次のような成分内容あるい
は調製方法を用いれば、より優れた触媒を得ることがで
きる。触媒成分の内、まず第１成分は、触媒成分として
Ｔｉ−Ｖ、Ｔｉ−Ｖ−Ｍｏ、Ｔｉ−Ｗ−Ｖなどの元素か
らなる酸化物触媒を用いた場合に好結果をもたらす。こ
れらは、メタチタン酸などの含水酸化チタンのスラリ
に、バナジウム（Ｖ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングス
テン（Ｗ）の酸素酸塩をはじめとする塩類を添加し、加
熱ニーダを用いて水を蒸発させながらペースト状にし、
乾燥後、４００℃から７００℃で焼成し、必要に応じて
粉砕することによって得られる。また、第２成分は、白
金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｂ）、ロジウム（Ｒｈ）か
ら選ばれる貴金属の塩類もしくは前記貴金属をあらかじ
めゼオライト、アルミナ、シリカなとの多孔体のミクロ
ポア内にイオン交換や混練により担持した組成物を用い
た場合に好結果をもたらす。

【０００９】ゼオライトはモルデナイト、クリノプチロ
ライト、エリオナイト、Ｙ型ゼオライトなどの中から選
ばれるゼオライトの水素置換型、ナトリウム型、カルシ
ウム型のものを用いることができる。シリカ、アルミナ
は含水酸化物を低温で焼成した表面積が１００ｍ²／ｇ
から５００ｍ²／ｇのものが用いられる。多孔体の粒径
は１〜１０μｍ程度であり、ゼオライトなどの構造が破
壊されない程度に粉砕して用いることもできる。これら
の多孔体を、貴金属の塩化物、硝酸塩、あるいはアミン
錯体の水溶液中に浸漬し、イオン交換するか、水溶液と
共に蒸発乾固することにより第２成分が得られる。得ら
れた第１、第２成分は第２成分／第１成分重量比として
２０／８０〜０．５／９９．５の範囲で混合され、これ
に水、無機バインダ、成形助剤、無機繊維など周知の成
形性向上剤が添加されてニーダにより混練されてペース
ト状触媒混合物にされ金属基板などに塗布され、板状触
媒に成形されるか、押し出し成形機により柱状あるいは
ハニカム状に成形される。上記触媒の製法は本出願人の
特願平３−３１２３０８号、特願平５−１０９０８８号
に開示した方法を用いることができる。

【００１０】触媒の製造例 メタチタン酸スラリ（ＴｉＯ₂含有量：３０ｗｔ％、Ｓ
Ｏ₄含有量：８ｗｔ％）６７ｋｇにパラタングステン酸
アンモニウム（（ＮＨ₄）₁₀Ｈ₁₀・Ｗ₁₂Ｏ₄₆・６Ｈ₂Ｏ）
を３．５９ｋｇおよびメタバナジウム酸アンモン１．２
９ｋｇとを加え加熱ニーダを用いて水を蒸発させながら
混練し水分約３６％のペーストを得た。これを３¢の柱
状に押し出し造粒後、流動層乾燥機で乾燥し、次に大気
中５５０℃で２時間焼成した。得られた顆粒をハンマー
ミルで１μｍの粒径が６０％以上になるように粉砕し、
第１成分である脱硝触媒粉末を得た。このときの組成は
Ｖ／Ｗ／Ｔｉ＝４／５／９１（原子比）である。

【００１１】一方、塩化白金酸（Ｈ₂［ＰｔＣｌ₆］・６
Ｈ₂Ｏ）０．６６５ｇを水１リットルに溶解したもの
に、市販微粒シリカ粉末（富田製薬（株）製；マイコン
Ｆ（商品名））５００ｇを加えて砂浴上で蒸発乾固して
白金（Ｐｔ）を担持した。これを１８０℃で２時間乾燥
後、空気中で５００℃で２時間焼成し０．０５ｗｔ％Ｐ
ｔ−ＳｉＯ₂を調製し第２成分にした。これとは別に繊
維径９μｍのＥガラス性繊維１４００本の捻糸を１０本
／インチの荒さで平織りした網状物にチタニア４０％、
シリカゾル２０％、ポリビニールアルコール１％のスラ
リーを含浸させ、１５０℃で乾燥して剛性を持たせ触媒
基材を得た。

【００１２】第１成分２０ｋｇと第２成分８１６ｇにシ
リカ・アルミナ系無機繊維５．３ｋｇ、水１７ｋｇを加
えてニーダで混練し、触媒ペーストを得た。上記基材２
枚の間に調製したペースト状触媒混合物を置き、加圧ロ
ーラを通過させることにより基材の編目間および表面に
触媒を圧着して厚さ約１ｍｍ板状触媒を得た。得られた
触媒は、１８０℃で２時間乾燥後大気中で５００℃−２
時間焼成した。本触媒中の第１成分と第２成分の第２成
分／第１成分比は４／９６で有り、Ｐｔ含有量は触媒基
材・無機繊維を除いて２０ｐｐｍに相当する。表１に作
製した触媒の成分等についてまとめて示した。

【００１３】

【表１】

【００１４】試験例 触媒装置部断面積が２２５ｃｍ²の水平流小型試験装置
に、触媒表面積４ｍ²を１単位とする板状触媒を直列に
１２単位配置し、表２に示した条件で触媒層入口、出口
のＮＯ濃度とＮＨ₃濃度とともに各単位毎にＮＯ濃度と
ＮＨ₃濃度を測定した。

【００１５】

【表２】

【００１６】実施例１ 上記触媒を用いて、上記排ガス条件で排ガス処理をした
場合の詳細を次に説明する。図８に示す触媒層１直前の
排ガス流路域での局所的なモル比の相違を表す尺度とし
て、データのばらつきを示す標準偏差から求めることが
できる変動係数を用い、下記の（３）式により計算し
た。表１の触媒１を小型の脱硝装置に充填し、表２の条
件Ａで試験を行い、触媒層１直前の流路域での局所的な
モル比の相違のほとんどない状態での脱硝率および未反
応ＮＨ₃濃度を測定し、触媒層直前の流路域での局所的
なモル比の相違によって変化した脱硝率および未反応Ｎ
Ｈ₃濃度を（１）式および（２）式により計算した。

【００１７】

【数１】 ｘ，ｚ ：モル比（−） μ ：モル比の平均値（−） σ ：モル比の標準偏差 ｆ（ｘ）：触媒を触媒層直前の流路域での局所的なモル
比の相違のない状態で使用した時の脱硝率のモル比特性 Ｆ（μ）：触媒を触媒層直前の流路域での局所的なモル
比の相違が存在する状態で平均モル比μで使用した時の
脱硝率 ｇ（ｘ）：触媒を触媒層直前の流路域での局所的なモル
比の相違のない状態で使用した時の未反応ＮＨ₃濃度モ
ル比特性 Ｇ（μ）：触媒を触媒層直前の流路域での局所的なモル
比の相違が存在する状態で平均モル比μで使用した時の
未反応ＮＨ₃濃度 ＣＶ ：モル比の変動係数（％）

【００１８】（１）式および（２）式を簡単に説明す
る。触媒層１直前の排ガス流路域での局所的なモル比は
正規分布に従って分散していると仮定し、触媒層１直前
の排ガス流路域での局所的なモル比の相違のない状態で
測定したモル比μでの脱硝率および未反応ＮＨ₃濃度
と、モル比μを平均値としたモル比の確率密度を掛けた
ものを、モル比０〜∞の範囲で積分し、それをモル比μ
を平均値とし、モル比０〜∞の範囲の累積確率密度で除
することにより、触媒層１直前の排ガス流路域での局所
的なモル比の相違によって変化した脱硝率および未反応
ＮＨ₃濃度を求めた。

【００１９】図１に触媒１（本発明で使用する触媒）の
未反応ＮＨ₃濃度が５ｐｐｍの時の脱硝率のモル比の変
動係数に対する関係を示す。比較例として触媒２（脱硝
活性だけを有する触媒）を用いた場合の結果も併せて示
す。触媒１、２ともにモル比の変動係数の増加に従い、
脱硝率が低下するが、本発明で使用される触媒であるＮ
ＯｘのＮＨ₃による還元活性を有する第１成分とＮＨ₃か
らＮＯｘを生成させる活性とＣＯからＣＯ₂を生成させ
る活性を有する第２成分とからなる触媒１を使用した場
合は、モル比の変動係数の増加に対する脱硝率の低下割
合が小さく、触媒層１直前の流路域での局所的なモル比
の相違の影響を受けにくいことがわかる。

【００２０】また、図２に脱硝率が９５％の時の未反応
ＮＨ₃濃度のモル比の変動係数に対する関係を示す。触
媒１、２ともにモル比の変動係数の増加に従い、未反応
ＮＨ₃濃度は増加するが、本発明中で使用される触媒１
を使用した場合は、モル比の変動係数の増加に対する未
反応ＮＨ₃濃度の増加割合が小さく、触媒層１直前の排
ガス流路域での局所的なモル比の相違の影響を受けにく
いことがわかる。つまり実機で実際に存在するモル比の
変動係数の領域（５〜３０％）では、本発明中で使用さ
れる触媒１を用いた方が、高脱硝率、低未反応ＮＨ₃濃
度を示し、同一の脱硝率、未反応ＮＨ₃濃度ならば触媒
量を少なくできる。また、本発明中で使用される触媒１
は図１、図２に示す通り、変動係数が大きい程、比較例
の触媒２より効果が大きいことが分かる。

【００２１】図３に未反応ＮＨ₃濃度が５ｐｐｍの時の
触媒１および触媒２を用いた場合の脱硝率−ＡＶ特性を
示す。ここで、ＡＶ値（ｍ／ｈ）は次のように定義され
る。 ＡＶ値（ｍ／ｈ）＝単位時間当りの処理ガス流量（Ｎｍ
³／ｈ）／触媒面積（ｍ²） 触媒層直前の流路域での局所的なモル比の相違のある状
態で触媒２を用いた場合は、触媒量を増やしても脱硝率
がほとんど増加しなくなり、触媒量増加によって到達で
きる脱硝率に限界を生じる。しかし触媒１を用いた場合
は、触媒量増加によって到達できる脱硝率の限界のレベ
ルが触媒２の場合に比べて高いことがわかる。つまり触
媒層１直前の排ガス流路域での局所的なモル比の相違の
ある状態で本発明で使用される触媒１を用いることによ
り、高効率脱硝が可能となる。

【００２２】また、図４には本発明で使用する触媒１を
用いた場合の脱硝率、未反応ＮＨ₃濃度およびモル比分
布の頻度とモル比の関係を示す。図４から明らかなよう
に、触媒１をモル比＞１（図中例はモル比１．３の場
合）で使用することにより、触媒層１直前の排ガス流路
域での局所的なモル比の相違によって生じる脱硝率の低
下および未反応ＮＨ₃濃度の増加を小さく抑えることが
でき、未反応ＮＨ₃濃度の絶対値も低い。比較例として
図７に触媒２を用いた場合の脱硝率、未反応ＮＨ₃濃度
およびモル比分布の頻度とモル比関係を示す。触媒２を
モル比＝１で使用すると、触媒層１直前の排ガス流路域
での局所的なモル比の相違によって、脱硝率の低下およ
び未反応ＮＨ₃濃度の増加が最大となり、モル比＞１だ
と未反応ＮＨ₃濃度が増大し、モル比＜１だと脱硝率が
減少してしまう。このように、触媒層１直前の排ガス流
路域での局所的なモル比の相違ある状態で、本発明で使
用される触媒１を用いることにより、未反応ＮＨ₃を抑
えた条件でモル比＞１の高モル比運転が可能となる。

【００２３】実施例２ 本発明の他の実施例を示す。表１の触媒３（本発明の触
媒）または触媒４（比較例の触媒）を小型の脱硝装置に
充填し、表２の条件Ｂで試験を行った結果を図５および
図６に示す。図５は未反応ＮＨ₃濃度が５ｐｐｍの時の
脱硝率のモル比変動係数に対する関係を示す図、また、
図６は脱硝率が９５％の時の未反応ＮＨ₃濃度のモル比
の変動係数に対する関係を示す図である。図５、図６か
ら明瞭なように、本発明で使用する触媒３は比較例の触
媒４に比べ、変動係数が大きい程、効果がある。すなわ
ち、実施例１同様に本発明中で使用される触媒であるＮ
ＯｘのＮＨ₃による還元活性を有する第１成分とＮＨ₃か
らＮＯｘを生成させる活性とＣＯからＣＯ₂を生成させ
る活性を有する第２成分とからなる触媒３を使用した場
合のほうが比較例の触媒４より触媒層１直前の排ガス流
路域での局所的なモル比の相違の影響を受けにくいこと
がわかる。なお、上記各実施例において、本発明で使用
する触媒の第２成分はＣＯからＣＯ₂を生成させる活性
を有するが、この活性はＮＨ₃／ＮＯｘモル比に無関係
にＣＯ分解率が約１００％に近いので、図中には示して
いない。

【００２４】

【発明の効果】本発明によれば触媒層直前の排ガス流路
域での局所的なモル比の相違による平均脱硝率の低下を
小さくできるので、触媒層直前の排ガス流路域での局所
的なモル比の相違を小さくしようとする工夫を必要とせ
ず、触媒層直前の排ガス流路域での局所的なモル比の相
違が存在する実機にそのまま適用でき、平均脱硝率が向
上するという効果がある。また、高モル比で運転しても
未反応のＮＨ₃の排出を抑えることができるので高効率
脱硝を実現できるという効果がある。こうして、高効率
脱硝を行う際に従来触媒に比べて触媒量を低減できると
いう効果もある。

【図面の簡単な説明】

【図１】 未反応ＮＨ₃濃度が５ｐｐｍという条件で表
１の触媒１および触媒２を用いた場合の脱硝率のモル比
の変動係数に対する関係を示す図。

【図２】 脱硝率が９５％という条件で表１の触媒１お
よび触媒２を用いた場合の未反応ＮＨ₃濃度のモル比の
変動係数に対する関係を示す図。

【図３】 未反応ＮＨ₃濃度が５ｐｐｍという条件で表
１の触媒１および触媒２を用いた場合の脱硝率のＡＶ特
性を示す図。

【図４】 表１の触媒１を用いた場合の脱硝率、未反応
ＮＨ₃濃度およびモル比分布の頻度とモル比の関係を示
す図。

【図５】 未反応ＮＨ₃濃度が５ｐｐｍという条件で表
１の触媒３および触媒４を用いた場合の脱硝率のモル比
の変動係数に対する関係を示す図。

【図６】 脱硝率が９５％という条件で表１の触媒３お
よび触媒４を用いた場合の未反応ＮＨ₃濃度のモル比の
変動係数に対する関係を示す図。

【図７】 表１の触媒２を用いた場合の脱硝率、未反応
ＮＨ₃濃度およびモル比分布の頻度とモル比の関係を示
す図。

【図８】 触媒層直前の流路域での局所的なモル比の相
違の一例を示す図。

【符号の説明】

１…触媒層、２…触媒層直前の排ガス流路域での局所的
なモル比の相違

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 永岡 正勝 大阪市北区中之島３丁目３番22号 関西電 力株式会社内 (72)発明者 西川 鉄太 大阪市北区中之島３丁目３番22号 関西電 力株式会社内 (72)発明者 石岡 正明 広島県呉市宝町６番９号 バブコック日立 株式会社呉工場内 (72)発明者 向井 正人 広島県呉市宝町６番９号 バブコック日立 株式会社呉工場内 (72)発明者 石川 富久 広島県呉市宝町６番９号 バブコック日立 株式会社呉工場内 (72)発明者 加藤 泰良 広島県呉市宝町３番36号 バブコック日立 株式会社呉研究所内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アンモニアを還元剤として加えて触媒に
   より排ガスを浄化する排ガスの浄化方法において、触媒
   層直前の排ガス流路域での局所的なアンモニア／窒素酸
   化物のモル比が互いに相違した流体に対して、前記触媒
   として窒素酸化物のアンモニアによる還元活性を有する
   第一成分とアンモニアから窒素酸化物を生成させる活性
   および一酸化炭素から二酸化炭素を生成させる活性のう
   ちの少なくともいずれかの活性を有する第二成分とから
   なる触媒を使用することを特徴とする排ガスの浄化方
   法。
2. 【請求項２】 触媒層直前の排ガス流路域での局所的な
   アンモニア／窒素酸化物のモル比が１以上の条件下で排
   ガス処理を行うことを特徴とする請求項１記載の排ガス
   の浄化方法。
3. 【請求項３】 排ガス流路に配置された触媒層の上流側
   に還元剤としてのアンモニアを排ガス中に注入する注入
   部を設けた排ガスの浄化装置において、触媒層直前の排
   ガス流路域での局所的なアンモニア／窒素酸化物のモル
   比が互いに相違した流体に対して、前記触媒層中の触媒
   として窒素酸化物のアンモニアによる還元活性を有する
   第一成分とアンモニアから窒素酸化物を生成させる活性
   および一酸化炭素から二酸化炭素を生成させる活性のう
   ちの少なくともいずれかの活性を有する第二成分とから
   なる触媒を使用することを特徴とする排ガスの浄化装
   置。
4. 【請求項４】 触媒層直前の排ガス流路域での局所的な
   アンモニア／窒素酸化物のモル比が１以上の条件下で排
   ガス処理を行うことを特徴とする請求項３記載の排ガス
   の浄化装置。