JPH06313189A - 洗浄剤組成物 - Google Patents
洗浄剤組成物Info
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- JPH06313189A JPH06313189A JP5128465A JP12846593A JPH06313189A JP H06313189 A JPH06313189 A JP H06313189A JP 5128465 A JP5128465 A JP 5128465A JP 12846593 A JP12846593 A JP 12846593A JP H06313189 A JPH06313189 A JP H06313189A
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- cleaning
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 （Ａ）炭素数１〜６のアルコールのアルキレ
ンオキシド付加物、（Ｂ）炭素数８〜２５のアルコール
またはアルキルフェノールのアルキレンオキシド付加物
および（Ｃ）化１の第４級アンモニウムハイドライド類
（テトラメチルアンモニウムハイドライド等）を含有す
る洗浄剤組成物。 【効果】 浸透性の向上により洗浄性能が飛躍的に改善
され、洗浄剤濃度、洗浄時間、洗浄温度等の洗浄条件を
緩和することができ、また、スプレー圧、撹拌力、超音
波照射強度・時間等の洗浄時に必要な物理力を低減でき
る。多量の加工油・焼き付け油等が付着した被洗物の洗
浄性能が向上し、複雑な構造をもつ精密機器部品に対す
る洗浄性能も向上した。 【化１】 （Ｒ3〜Ｒ6：水素または炭素数１〜４のアルキル基、ヒ
ドロキシアルキル基またはアルケニル基）
ンオキシド付加物、（Ｂ）炭素数８〜２５のアルコール
またはアルキルフェノールのアルキレンオキシド付加物
および（Ｃ）化１の第４級アンモニウムハイドライド類
（テトラメチルアンモニウムハイドライド等）を含有す
る洗浄剤組成物。 【効果】 浸透性の向上により洗浄性能が飛躍的に改善
され、洗浄剤濃度、洗浄時間、洗浄温度等の洗浄条件を
緩和することができ、また、スプレー圧、撹拌力、超音
波照射強度・時間等の洗浄時に必要な物理力を低減でき
る。多量の加工油・焼き付け油等が付着した被洗物の洗
浄性能が向上し、複雑な構造をもつ精密機器部品に対す
る洗浄性能も向上した。 【化１】 （Ｒ3〜Ｒ6：水素または炭素数１〜４のアルキル基、ヒ
ドロキシアルキル基またはアルケニル基）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子部品、精密機器等
の洗浄に有効な洗浄剤組成物に関する。
の洗浄に有効な洗浄剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、電子部品、精密機器部品に付
着した加工油、焼き付け油等の洗浄、プリント基板の半
田フラックスの洗浄、その他の金属加工部品、ガラス等
の非金属部品の洗浄においては、高度な洗浄性能が要求
されており、主としてフロン系溶剤や塩素系溶剤が使用
されてきた。しかしながら、地球環境上の諸問題により
これらの溶剤が使用できなくなるため、これらの溶剤と
同等以上の洗浄性能を有し、しかも環境上の問題がない
洗浄剤に対する要求が高まってきている。
着した加工油、焼き付け油等の洗浄、プリント基板の半
田フラックスの洗浄、その他の金属加工部品、ガラス等
の非金属部品の洗浄においては、高度な洗浄性能が要求
されており、主としてフロン系溶剤や塩素系溶剤が使用
されてきた。しかしながら、地球環境上の諸問題により
これらの溶剤が使用できなくなるため、これらの溶剤と
同等以上の洗浄性能を有し、しかも環境上の問題がない
洗浄剤に対する要求が高まってきている。
【０００３】例えば、特開平２−２９２３９９号公報に
は、本発明の一成分である水酸化第１級アンモニウム塩
を含む水性フラックス洗浄剤が示されているが、フラッ
クスに対する浸透性が遅く洗浄速度に難点があり、ま
た、電子部品、精密機器、液晶等の油状汚垢に対しての
洗浄性能が劣る。
は、本発明の一成分である水酸化第１級アンモニウム塩
を含む水性フラックス洗浄剤が示されているが、フラッ
クスに対する浸透性が遅く洗浄速度に難点があり、ま
た、電子部品、精密機器、液晶等の油状汚垢に対しての
洗浄性能が劣る。
【０００４】また、特開平４−５７８９７号公報には、
アルキレンオキサイド付加型の溶剤ないしはノニオン界
面活性剤とジエタノールアミン等のアミン系化合物とを
併用した精密部品用の洗浄剤組成物が示されている。し
かし、この洗浄剤は、塩基性が弱く鹸化作用による洗浄
性能が劣る。
アルキレンオキサイド付加型の溶剤ないしはノニオン界
面活性剤とジエタノールアミン等のアミン系化合物とを
併用した精密部品用の洗浄剤組成物が示されている。し
かし、この洗浄剤は、塩基性が弱く鹸化作用による洗浄
性能が劣る。
【０００５】さらに、特開平４−５７８９８号公報には
アルキレンオキシド付加型の溶剤、アミン系化合物およ
び水からなる精密部品または治工具類用水系洗浄剤組成
物が開示されているが、これも前記と同様に洗浄性能の
点で劣る。
アルキレンオキシド付加型の溶剤、アミン系化合物およ
び水からなる精密部品または治工具類用水系洗浄剤組成
物が開示されているが、これも前記と同様に洗浄性能の
点で劣る。
【０００６】また、第４級アンモニウム水酸化物と、ノ
ニオン界面活性剤と、過酸化水素あるいはヒドラジンと
を含有する半導体処理剤についても報告されている（特
開昭６３−２７４１４９号公報、特開平１−１４９２４
号公報）。
ニオン界面活性剤と、過酸化水素あるいはヒドラジンと
を含有する半導体処理剤についても報告されている（特
開昭６３−２７４１４９号公報、特開平１−１４９２４
号公報）。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高度な洗浄
性能を有し、地球環境に対して安全な洗浄剤を提供する
ものである。
性能を有し、地球環境に対して安全な洗浄剤を提供する
ものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の洗浄剤組成物
は、下記の（Ａ），（Ｂ）および（Ｃ）成分を含有する
ことを特徴とする。
は、下記の（Ａ），（Ｂ）および（Ｃ）成分を含有する
ことを特徴とする。
【０００９】（Ａ） 化４の一般式（Ｉ）で表わされる
化合物
化合物
【化４】Ｒ1−Ｏ−(Ａ1Ｏ)n−Ｈ …（Ｉ） （Ｒ1 ：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基また
はフェニル基 Ａ1 ：炭素数２〜４のアルキレン基 ｎ：１〜６）
はフェニル基 Ａ1 ：炭素数２〜４のアルキレン基 ｎ：１〜６）
【００１０】 （Ｂ） 化５の一般式（II）で表わされる化合物
【化５】Ｒ2−Ｏ−(Ａ2Ｏ)m−Ｈ …（II） （Ｒ2 ：炭素数８〜２５のアルキル基、アルケニル基、
アルキルフェニル基またはアルケニルフェニル基 Ａ2 ：炭素数２〜４のアルキレン基 ｍ：５〜２５）
アルキルフェニル基またはアルケニルフェニル基 Ａ2 ：炭素数２〜４のアルキレン基 ｍ：５〜２５）
【００１１】（Ｃ） 化６の一般式（III） で表わされ
る第４級アンモニウムハイドライド類
る第４級アンモニウムハイドライド類
【化６】 （Ｒ3〜Ｒ6：水素または炭素数１〜４のアルキル基、ヒ
ドロキシアルキル基またはアルケニル基）
ドロキシアルキル基またはアルケニル基）
【００１２】
【発明の実施態様】本発明で（Ａ）成分として用いられ
る一般式（Ｉ）の化合物は、界面活性を示さない炭素数
１〜６の飽和または不飽和脂肪族アルコールあるいはフ
ェノールのアルキレンオキシド付加物である。一般式
（Ｉ）中のＡ1Ｏ は、オキシエチレン、オキシプロピレ
ン、オキシブチレンが単独または混合物として付加して
いることを示し、特にオキシエチレンとオキシプロピレ
ンのブロック付加物が好適である。ｎはアルキレンオキ
シドの付加モル数を示し、１〜６の範囲で変化させるこ
とができる。オキシエチレンとオキシプロピレンの混合
ブロック付加体の場合、オキシエチレン１〜３モルおよ
びオキシプロピレン１〜３モルが付加したものが好適で
ある。オキシエチレンとオキシプロピレンを組合せ、水
への溶解性を落とし浸透性を上げることにより、顕著な
洗浄性能の向上効果が得られる。特に、（Ａ）成分の溶
剤として、（Ａ）成分：水＝３０：７０（重量比）の混
合系で、５０℃において均一溶解しないものを用いる
と、優れた洗浄性能が得られる。
る一般式（Ｉ）の化合物は、界面活性を示さない炭素数
１〜６の飽和または不飽和脂肪族アルコールあるいはフ
ェノールのアルキレンオキシド付加物である。一般式
（Ｉ）中のＡ1Ｏ は、オキシエチレン、オキシプロピレ
ン、オキシブチレンが単独または混合物として付加して
いることを示し、特にオキシエチレンとオキシプロピレ
ンのブロック付加物が好適である。ｎはアルキレンオキ
シドの付加モル数を示し、１〜６の範囲で変化させるこ
とができる。オキシエチレンとオキシプロピレンの混合
ブロック付加体の場合、オキシエチレン１〜３モルおよ
びオキシプロピレン１〜３モルが付加したものが好適で
ある。オキシエチレンとオキシプロピレンを組合せ、水
への溶解性を落とし浸透性を上げることにより、顕著な
洗浄性能の向上効果が得られる。特に、（Ａ）成分の溶
剤として、（Ａ）成分：水＝３０：７０（重量比）の混
合系で、５０℃において均一溶解しないものを用いる
と、優れた洗浄性能が得られる。
【００１３】また、炭素数４〜６のアルコールのアルキ
レンオキシド付加物が好適に用いられ、炭素数４のアル
コールの場合はオキシエチレン１〜３モルおよびオキシ
プロピレン１〜３モル付加物が好ましく、炭素数６のア
ルコールの場合はオキシエチレン１〜３モル付加物が好
ましい。
レンオキシド付加物が好適に用いられ、炭素数４のアル
コールの場合はオキシエチレン１〜３モルおよびオキシ
プロピレン１〜３モル付加物が好ましく、炭素数６のア
ルコールの場合はオキシエチレン１〜３モル付加物が好
ましい。
【００１４】（Ｂ）成分の一般式（II）の化合物は、炭
素数８〜１８の飽和または不飽和アルコールのアルキレ
ンオキシド付加物と、ベンゼン環も含めて炭素数１２〜
２５のアルキルフェノールのアルキレンオキシド付加物
とを包含する。前者の場合は炭素数１０〜１６の二級ア
ルコールが好ましく、後者の場合はオクチルフェノー
ル、ノニルフェノールが好ましい。一般式（II）中の
（Ａ2Ｏ）mは、オキシエチレン、オキシプロピレン、オ
キシブチレンが単独または混合物として５〜２５モル、
好ましくは８〜１５モル付加していることを示す。
素数８〜１８の飽和または不飽和アルコールのアルキレ
ンオキシド付加物と、ベンゼン環も含めて炭素数１２〜
２５のアルキルフェノールのアルキレンオキシド付加物
とを包含する。前者の場合は炭素数１０〜１６の二級ア
ルコールが好ましく、後者の場合はオクチルフェノー
ル、ノニルフェノールが好ましい。一般式（II）中の
（Ａ2Ｏ）mは、オキシエチレン、オキシプロピレン、オ
キシブチレンが単独または混合物として５〜２５モル、
好ましくは８〜１５モル付加していることを示す。
【００１５】（Ｃ）成分の第４級アンモニウムハイドラ
イド類は前述の一般式（III） で表わされ、一般式（II
I） 中のＲ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6としては、水素、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヒドロキシエチ
ル基が例示される。
イド類は前述の一般式（III） で表わされ、一般式（II
I） 中のＲ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6としては、水素、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヒドロキシエチ
ル基が例示される。
【００１６】本発明の洗浄剤組成物は上記の（Ａ），
（Ｂ），（Ｃ）各成分を任意の割合で配合することがで
きるが、洗浄性、取扱い性を考慮すると、各成分をそれ
ぞれ下記の量比で配合するのが最も効果的であり、ま
た、使用に際してはこの洗浄剤組成物を水で３〜３０％
程度に希釈して使用するのが望ましい。 （Ａ）：３〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重量％ （Ｂ）：１〜３０重量％、好ましくは５〜２０重量％ （Ｃ）：０．０５〜８重量％、好ましくは０．１〜３重
量％
（Ｂ），（Ｃ）各成分を任意の割合で配合することがで
きるが、洗浄性、取扱い性を考慮すると、各成分をそれ
ぞれ下記の量比で配合するのが最も効果的であり、ま
た、使用に際してはこの洗浄剤組成物を水で３〜３０％
程度に希釈して使用するのが望ましい。 （Ａ）：３〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重量％ （Ｂ）：１〜３０重量％、好ましくは５〜２０重量％ （Ｃ）：０．０５〜８重量％、好ましくは０．１〜３重
量％
【００１７】本発明の洗浄剤組成物には、上記必須成分
に加え、炭素数８〜１６のアルキル基を有する直鎖アル
キルベンゼンスルホン酸塩、炭素数１０〜２０のα−オ
レフィンスルホン酸塩、アルキル基またはアルケニル基
の炭素数が４〜１０のジアルキルスルホコハク酸塩等の
アニオン界面活性剤；エチレングリコール、プロピレン
グリコール等のハイドロトロープ剤；エチレンジアミン
テトラ酢酸塩、グルコン酸塩、ポリ燐酸塩等のキレート
剤；流動パラフィン、α−オレフィン、ナフタレン誘導
体等の油状物質などを配合することができる。
に加え、炭素数８〜１６のアルキル基を有する直鎖アル
キルベンゼンスルホン酸塩、炭素数１０〜２０のα−オ
レフィンスルホン酸塩、アルキル基またはアルケニル基
の炭素数が４〜１０のジアルキルスルホコハク酸塩等の
アニオン界面活性剤；エチレングリコール、プロピレン
グリコール等のハイドロトロープ剤；エチレンジアミン
テトラ酢酸塩、グルコン酸塩、ポリ燐酸塩等のキレート
剤；流動パラフィン、α−オレフィン、ナフタレン誘導
体等の油状物質などを配合することができる。
【００１８】
【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物によれば、浸透性
の向上により洗浄性能が飛躍的に改善され、洗浄剤濃
度、洗浄時間、洗浄温度等の洗浄条件を緩和することが
でき、また、スプレー圧、撹拌力、超音波照射強度・時
間等の洗浄時に必要な物理力を低減することが可能とな
った。さらに、強塩基である第４級アンモニウムハイド
ライドが油内部まで浸透することが可能となり、多量の
加工油・焼き付け油等が付着した被洗物の洗浄性能が飛
躍的に向上した。また、浸透作用に優れていることか
ら、複雑な構造をもつ精密機器部品に対する洗浄性能も
大幅に向上した。
の向上により洗浄性能が飛躍的に改善され、洗浄剤濃
度、洗浄時間、洗浄温度等の洗浄条件を緩和することが
でき、また、スプレー圧、撹拌力、超音波照射強度・時
間等の洗浄時に必要な物理力を低減することが可能とな
った。さらに、強塩基である第４級アンモニウムハイド
ライドが油内部まで浸透することが可能となり、多量の
加工油・焼き付け油等が付着した被洗物の洗浄性能が飛
躍的に向上した。また、浸透作用に優れていることか
ら、複雑な構造をもつ精密機器部品に対する洗浄性能も
大幅に向上した。
【００１９】
【実施例】表１〜３に示した組成の洗浄剤組成物を調製
し、以下の通り洗浄性能を評価してその結果を表１〜３
に示した。
し、以下の通り洗浄性能を評価してその結果を表１〜３
に示した。
【００２０】（１） 金属部品洗浄性評価方法 ステンレス・鉄のテストピースに、鉱油系切削油を塗布
し、６０℃、１時間放置する。調製した種々の洗浄剤を
２０％に希釈し洗浄液とする。５０℃に調製した洗浄液
中に油の付着したテトスピースを浸漬し、撹拌揺動洗浄
を１分行い、多量の水で充分すすぐ。乾燥した後、目視
により以下の評価基準で洗浄性を評価した。 ◎：表面に油の残存が全くない ○：表面に油の残存がほとんどない △：表面に油の残存が僅かにある ×：表面に油の残存がある
し、６０℃、１時間放置する。調製した種々の洗浄剤を
２０％に希釈し洗浄液とする。５０℃に調製した洗浄液
中に油の付着したテトスピースを浸漬し、撹拌揺動洗浄
を１分行い、多量の水で充分すすぐ。乾燥した後、目視
により以下の評価基準で洗浄性を評価した。 ◎：表面に油の残存が全くない ○：表面に油の残存がほとんどない △：表面に油の残存が僅かにある ×：表面に油の残存がある
【００２１】（２） ガラス板洗浄性評価方法 カッティング加工して切り屑、研磨屑が付着したガラス
板に、さらに多数の指紋を付着させ１１０℃で１時間放
置してテトスピースとし、（１）と同様に洗浄試験す
る。評価方法はすすぎ時におけるガラスの水濡れ性によ
り、以下の評価基準で評価した。 ◎：表面全体が均一に水に濡れている ○：表面全体が濡れているが若干不均一な所を有する △：表面の一部が水を弾いている ×：表面の大部分が水を弾いている
板に、さらに多数の指紋を付着させ１１０℃で１時間放
置してテトスピースとし、（１）と同様に洗浄試験す
る。評価方法はすすぎ時におけるガラスの水濡れ性によ
り、以下の評価基準で評価した。 ◎：表面全体が均一に水に濡れている ○：表面全体が濡れているが若干不均一な所を有する △：表面の一部が水を弾いている ×：表面の大部分が水を弾いている
【００２２】（３） プリント基板上のフラックス洗浄性評価方法 半田付けをした後のプリント基板を用い、（１）と同様
の洗浄実験を行ない、その洗浄性能を目視、顕微鏡観察
により以下の評価基準で評価した。 ◎：フロン洗浄品以上にフラックス、付着粒子等が洗浄
されている ○：フロン洗浄品並に洗浄されている △：フロン洗浄品ほどは洗浄されていない ×：フロン洗浄品には全くおよばない
の洗浄実験を行ない、その洗浄性能を目視、顕微鏡観察
により以下の評価基準で評価した。 ◎：フロン洗浄品以上にフラックス、付着粒子等が洗浄
されている ○：フロン洗浄品並に洗浄されている △：フロン洗浄品ほどは洗浄されていない ×：フロン洗浄品には全くおよばない
【００２３】（４） 液晶表示素子洗浄性評価方法 液晶セル空隙部に液晶剤を塗布し、室温で１０分間静置
し、テトスピースとする。上記テストピースを（１）で
調製した種々の洗浄液中で４０℃、１０分間の浸漬洗浄
を行ない、純水で充分すすいだ後、偏光顕微鏡で以下の
評価基準で洗浄性を評価した。 ◎：空隙部が完全に洗浄されている ○：空隙部がほとんど洗浄されている △：空隙部に液晶の残りが多い ×：空隙部がほとんど洗浄されていない
し、テトスピースとする。上記テストピースを（１）で
調製した種々の洗浄液中で４０℃、１０分間の浸漬洗浄
を行ない、純水で充分すすいだ後、偏光顕微鏡で以下の
評価基準で洗浄性を評価した。 ◎：空隙部が完全に洗浄されている ○：空隙部がほとんど洗浄されている △：空隙部に液晶の残りが多い ×：空隙部がほとんど洗浄されていない
【００２４】
【表１】 実 施 例 １ ２ ３ ４ ５ ６ 配合組成(wt％)： i-C4H9O(EO)1H − − − − − 10 i-C4H9O(EO)1(PO)1H*1 − − − − − − i-C4H9O(EO)1(PO)2H − − − 10 10 10 C6H13O(EO)1H 10 10 10 − − − C6H13O(EO)3H 10 10 10 − − − C6H5O(EO)1H − − − 10 10 − C12H25O(EO)8H − − − 10 − − i-C14H29O(EO)8H 10 10 10 − 8 8 i-C14H29O(EO)15H − − − − 5 5 i-C9H19O(EO)6H 5 5 5 − − − TMAH*2 2 − − 4 4 − TBAH*3 − 2 − − − 4 HETMAH*4 − − 2 − − − 評価結果(洗浄性能)： 金属部品 ◎ ○〜◎ ○〜◎ ○ ◎ ○〜◎ ガラス板 ◎ ○〜◎ ○〜◎ ○ ◎ ○〜◎ プリント基板 ○〜◎ ○ ○ ◎ ◎ ◎ 液晶表示素子 ◎ ○〜◎ ○〜◎ ○ ◎ ○〜◎
【００２５】
【表２】 実 施 例 ７ ８ ９ 10 11 12 配合組成(wt％)： i-C4H9O(EO)1H 10 10 − 10 − − i-C4H9O(EO)1(PO)1H*1 − − − 20 − − i-C4H9O(EO)1(PO)2H 10 10 − − − 10 C6H13O(EO)1H − − − − 10 − C6H13O(EO)3H − − − − 10 − i-C6H13O(EO)1H − − 10 − − − i-C6H13O(EO)3(PO)1H − − 10 − − − C12H25O(EO)8H − − − − − − i-C14H29O(EO)8H − 5 − − 5 − i-C14H29O(EO)15H − 5 5 − 5 − ノニルフェノール(EO)9H 5 − 5 10 − 10 ノニルフェノール(EO)20H 5 − − 5 − − TMAH*2 − − 8 − − 2 TBAH*3 4 − − − 4 − HETMAH*4 − 8 − 6 − − α-オレフィン(C14) − − − 3 − − 流動パラフィン(C14) − − − − 3 − EDTA*5 − − − − − 1 評価結果(洗浄性能)： 金属部品 ◎ ○〜◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ガラス板 ◎ ○〜◎ ◎ ◎ ◎ ◎ プリント基板 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 液晶表示素子 ◎ ○〜◎ ◎ ◎ ◎ ◎
【００２６】
【表３】 比 較 例 １ ２ ３ ４ ５ 配合組成(wt％)： i-C4H9O(EO)1H − − − − − i-C4H9O(EO)1(PO)1H*1 − − − − − i-C4H9O(EO)1(PO)2H − − − − − C6H13O(EO)1H − − − − − C6H13O(EO)3H − − − − − i-C6H13O(EO)1H − − − − − i-C6H13O(EO)3(PO)1H − − − − − C12H25O(EO)8H − − − − − i-C14H29O(EO)8H − − − − − i-C14H29O(EO)15H − − − 15 15 ノニルフェノール(EO)9H − − − − − ノニルフェノール(EO)20H − − − − − TMAH*2 5 − 5 15 − TBAH*3 − 10 − − − HETMAH*4 − − − − − メタノール − − 95 − − ジエタノールアミン − − − − 5 評価結果(洗浄性能)： 金属部品 △〜× △〜× △ △ △ ガラス板 △〜× △〜× △〜× △ △ プリント基板 △ △ △〜○ △〜○ △〜○ 液晶表示素子 △〜× △〜× △ △ △ ＊１） イソブタノールのエチレンオキサイド（ＥＯ）
１モルおよびプロピレンオキシド（ＰＯ）１モル付加物 ＊２） テトラメチルアンモニウムハイドライド ＊３） テトラブチルアンモニウムハイドライド ＊４） ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムハイ
ドライド(化７の通り)
１モルおよびプロピレンオキシド（ＰＯ）１モル付加物 ＊２） テトラメチルアンモニウムハイドライド ＊３） テトラブチルアンモニウムハイドライド ＊４） ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムハイ
ドライド(化７の通り)
【００２７】
【化７】 ＊５） エチレンジアミンテトラ酢酸
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 //(Ｃ１１Ｄ 7/60 7:26 7:32）
Claims (2)
- 【請求項１】 下記の（Ａ），（Ｂ）および（Ｃ）成分
を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。 （Ａ） 化１の一般式（Ｉ）で表わされる化合物 【化１】Ｒ1−Ｏ−(Ａ1Ｏ)n−Ｈ …（Ｉ） （Ｒ1 ：炭素数１〜６のアルキル基、アルケニル基また
はフェニル基 Ａ1 ：炭素数２〜４のアルキレン基 ｎ：１〜６） （Ｂ） 化２の一般式（II）で表わされる化合物 【化２】Ｒ2−Ｏ−(Ａ2Ｏ)m−Ｈ …（II） （Ｒ2 ：炭素数８〜２５のアルキル基、アルケニル基、
アルキルフェニル基またはアルケニルフェニル基 Ａ2 ：炭素数２〜４のアルキレン基 ｍ：５〜２５） （Ｃ） 化３の一般式（III） で表わされる第４級アン
モニウムハイドライド類 【化３】 （Ｒ3〜Ｒ6：水素または炭素数１〜４のアルキル基、ヒ
ドロキシアルキル基またはアルケニル基） - 【請求項２】 前記（Ａ）成分が、重量比で（Ａ）成
分：水＝３０：７０の混合系において、５０℃で水に均
一溶解しない水低溶性の溶剤である請求項１に記載の洗
浄剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12846593A JP3227022B2 (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | 洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12846593A JP3227022B2 (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | 洗浄剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06313189A true JPH06313189A (ja) | 1994-11-08 |
| JP3227022B2 JP3227022B2 (ja) | 2001-11-12 |
Family
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