JPH0631174A - 排気ガス浄化用触媒 - Google Patents
排気ガス浄化用触媒Info
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- JPH0631174A JPH0631174A JP4189391A JP18939192A JPH0631174A JP H0631174 A JPH0631174 A JP H0631174A JP 4189391 A JP4189391 A JP 4189391A JP 18939192 A JP18939192 A JP 18939192A JP H0631174 A JPH0631174 A JP H0631174A
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- JP
- Japan
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- catalyst
- parts
- zsm
- exhaust gas
- zeolite
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N2240/00—Combination or association of two or more different exhaust treating devices, or of at least one such device with an auxiliary device, not covered by indexing codes F01N2230/00 or F01N2250/00, one of the devices being
- F01N2240/18—Combination or association of two or more different exhaust treating devices, or of at least one such device with an auxiliary device, not covered by indexing codes F01N2230/00 or F01N2250/00, one of the devices being an adsorber or absorber
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N2570/00—Exhaust treating apparatus eliminating, absorbing or adsorbing specific elements or compounds
- F01N2570/12—Hydrocarbons
Abstract
(57)【要約】
【目的】 炭化水素の吸着能を改善し、エンジン始動直
後に排出される大量のＨＣの大気中への排出が防止さ
れ、同時に大気中へのＮＯX の排出を防止し得る排気ガ
ス浄化用触媒を提供する。 【構成】 モノリス担体に、銅および／またはパラジウ
ムでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライトと粒子径３〜
１０nmの酸性シリカゾル及び水を混合して調製したスラ
リーにより形成した触媒層を備えた排気ガス浄化用触
媒。
後に排出される大量のＨＣの大気中への排出が防止さ
れ、同時に大気中へのＮＯX の排出を防止し得る排気ガ
ス浄化用触媒を提供する。 【構成】 モノリス担体に、銅および／またはパラジウ
ムでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライトと粒子径３〜
１０nmの酸性シリカゾル及び水を混合して調製したスラ
リーにより形成した触媒層を備えた排気ガス浄化用触
媒。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、自動車等の内燃機関の
排気ガス浄化用触媒、特にはゼオライトの２次粒子どう
しの凝集を抑えることにより比表面積を増やし、炭化水
素の細孔中の活性点へのガス拡散性を高めた排気ガス浄
化用ゼオライト触媒に関するものである。
排気ガス浄化用触媒、特にはゼオライトの２次粒子どう
しの凝集を抑えることにより比表面積を増やし、炭化水
素の細孔中の活性点へのガス拡散性を高めた排気ガス浄
化用ゼオライト触媒に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】自動車等の内燃機関の排気ガス浄化用触
媒としては、一酸化炭素（ＣＯ）及び炭化水素（ＨＣ）
の酸化と、窒素酸化物（ＮＯX ）の還元を同時に行なう
三元触媒が汎用されている。このような触媒は、例えば
特公昭５８−２０３０７号公報にもみられるように、耐
火性担体上のアルミナコート層に、パラジウム（Ｐ
ｄ）、白金（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）等の貴金属、及
び場合により助触媒成分としてセリウム（Ｃｅ）、ラン
タン（Ｌａ）等の希土類金属またはニッケル（Ｎｉ）等
のベースメタル酸化物を添加したものがほとんどであ
る。
媒としては、一酸化炭素（ＣＯ）及び炭化水素（ＨＣ）
の酸化と、窒素酸化物（ＮＯX ）の還元を同時に行なう
三元触媒が汎用されている。このような触媒は、例えば
特公昭５８−２０３０７号公報にもみられるように、耐
火性担体上のアルミナコート層に、パラジウム（Ｐ
ｄ）、白金（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）等の貴金属、及
び場合により助触媒成分としてセリウム（Ｃｅ）、ラン
タン（Ｌａ）等の希土類金属またはニッケル（Ｎｉ）等
のベースメタル酸化物を添加したものがほとんどであ
る。
【０００３】かかる触媒は、排気ガス温度とエンジンの
設定空燃比の影響を強く受ける。自動車用触媒が浄化能
を発揮する排気ガス温度としては、一般に３００℃以上
必要であり、また空燃比は、ＨＣとＣＯの酸化とＮＯX
の還元のバランスがとれる理論空燃比（Ａ／Ｆ＝１４．
６）付近で触媒が最も有効に働く。従って、従来の三元
触媒を用いる排気ガス浄化装置を取り付けた自動車で
は、三元触媒が有効に働くような位置に設置されてお
り、また排気系の酸素濃度を検出して、混合気を理論空
燃比付近に保つようフィードバッグ制御が行なわれてい
る。
設定空燃比の影響を強く受ける。自動車用触媒が浄化能
を発揮する排気ガス温度としては、一般に３００℃以上
必要であり、また空燃比は、ＨＣとＣＯの酸化とＮＯX
の還元のバランスがとれる理論空燃比（Ａ／Ｆ＝１４．
６）付近で触媒が最も有効に働く。従って、従来の三元
触媒を用いる排気ガス浄化装置を取り付けた自動車で
は、三元触媒が有効に働くような位置に設置されてお
り、また排気系の酸素濃度を検出して、混合気を理論空
燃比付近に保つようフィードバッグ制御が行なわれてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の三元触媒をエキ
ゾーストマニホールド直後に設置しても、排気ガス温度
が低い（３００℃以下）エンジン始動直後には触媒活性
が低く、始動直後に大量に排出されるＨＣは浄化されず
にそのまま排出されてしまうという問題がある。このよ
うなコールド・スタート時のＨＣを低減する排気ガス浄
化装置としては例えば、特開平２−１３５１２６号公
報、特開平１−１３５５４０号公報に記載されているよ
うなものがあるが、ゼオライトのＳｉ／Ａｌ比に対する
ゾルのＳｉ／Ａｌ比しか規定されておらず、ゼオライト
どうしの凝集による比表面積の低下を防ぐためのゾル粒
子径について考慮されていない。そのため、吸着力が十
分ではなく、吸着能力を満足するためには、触媒容量も
非常に大きいものとなってしまう。
ゾーストマニホールド直後に設置しても、排気ガス温度
が低い（３００℃以下）エンジン始動直後には触媒活性
が低く、始動直後に大量に排出されるＨＣは浄化されず
にそのまま排出されてしまうという問題がある。このよ
うなコールド・スタート時のＨＣを低減する排気ガス浄
化装置としては例えば、特開平２−１３５１２６号公
報、特開平１−１３５５４０号公報に記載されているよ
うなものがあるが、ゼオライトのＳｉ／Ａｌ比に対する
ゾルのＳｉ／Ａｌ比しか規定されておらず、ゼオライト
どうしの凝集による比表面積の低下を防ぐためのゾル粒
子径について考慮されていない。そのため、吸着力が十
分ではなく、吸着能力を満足するためには、触媒容量も
非常に大きいものとなってしまう。
【０００５】また、自動車の低燃費化を満足するために
は、通常走行時なるべく酸素過剰の混合気を燃焼させれ
ばよいことが知られている。しかしそうすると、空燃比
がリーン側の酸素過剰雰囲気となって、排気ガス中の有
害成分のうちＨＣ、ＣＯは酸化除去できても、ＮＯX は
触媒床に吸着した酸素によって活性金属との接触が妨げ
られるために、還元除去できないという問題があった。
このようなリーン側でのＮＯX を還元除去する例とし
て、一般的にＺＳＭ−５に銅（Ｃｕ）をイオン交換した
触媒が知られている。ここでＮＯX の還元にはＨＣの部
分酸化が関与しており、ＮＯX 濃度に対するＨＣ濃度が
高いほどＮＯX 転化率が高い。つまり、高活性なＮＯX
触媒にはＨＣのゼオライト細孔中の活性点への効果的な
ガス拡散が必要である。
は、通常走行時なるべく酸素過剰の混合気を燃焼させれ
ばよいことが知られている。しかしそうすると、空燃比
がリーン側の酸素過剰雰囲気となって、排気ガス中の有
害成分のうちＨＣ、ＣＯは酸化除去できても、ＮＯX は
触媒床に吸着した酸素によって活性金属との接触が妨げ
られるために、還元除去できないという問題があった。
このようなリーン側でのＮＯX を還元除去する例とし
て、一般的にＺＳＭ−５に銅（Ｃｕ）をイオン交換した
触媒が知られている。ここでＮＯX の還元にはＨＣの部
分酸化が関与しており、ＮＯX 濃度に対するＨＣ濃度が
高いほどＮＯX 転化率が高い。つまり、高活性なＮＯX
触媒にはＨＣのゼオライト細孔中の活性点への効果的な
ガス拡散が必要である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明は、このような
従来の問題点について着目してなされたもので、モノリ
ス担体に、銅（Ｃｕ）とパラジウム（Ｐｄ）の少なくと
も１種以上の金属でイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライ
トと粒子径が３〜１０nmの酸性シリカゾル及び水を混合
して調製したスラリーにより形成したゼオライト触媒層
を備えたことを特徴とする。この発明の触媒において
は、このようにしてゼオライトの２次粒子どうしの凝集
を抑えることにより比表面積を増やし、ゼオライト細孔
中の活性点へのガス拡散性を高め有害成分の転化率を向
上させた。
従来の問題点について着目してなされたもので、モノリ
ス担体に、銅（Ｃｕ）とパラジウム（Ｐｄ）の少なくと
も１種以上の金属でイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライ
トと粒子径が３〜１０nmの酸性シリカゾル及び水を混合
して調製したスラリーにより形成したゼオライト触媒層
を備えたことを特徴とする。この発明の触媒において
は、このようにしてゼオライトの２次粒子どうしの凝集
を抑えることにより比表面積を増やし、ゼオライト細孔
中の活性点へのガス拡散性を高め有害成分の転化率を向
上させた。
【０００７】この発明の触媒を製造する際に用いる酸性
シリカゾルはその粒子径を３〜１０nmとするが、この理
由はこの範囲内でハニカム触媒担体にコーティングした
場合、ゼオライトの２次粒子どうしの凝集が防止でき、
この範囲を外れるとゼオライトの２次粒子が凝集してし
まい、浄化性能が低下するからである。上記の粒子径３
〜１０ｎｍの酸性シリカゾルは、同じ粒子径を有するア
ルカリ性シリカゾルのアルカリを陽イオン交換すること
により、作成することができる。上記アルカリ性シリカ
ゾルは公知の製造法により製造したものを使用すること
ができ、市販品として容易に入手できる。
シリカゾルはその粒子径を３〜１０nmとするが、この理
由はこの範囲内でハニカム触媒担体にコーティングした
場合、ゼオライトの２次粒子どうしの凝集が防止でき、
この範囲を外れるとゼオライトの２次粒子が凝集してし
まい、浄化性能が低下するからである。上記の粒子径３
〜１０ｎｍの酸性シリカゾルは、同じ粒子径を有するア
ルカリ性シリカゾルのアルカリを陽イオン交換すること
により、作成することができる。上記アルカリ性シリカ
ゾルは公知の製造法により製造したものを使用すること
ができ、市販品として容易に入手できる。
【０００８】
【実施例】以下、実施例、比較例および試験例により本
発明をさらに詳細に説明する。尚、例中の部は特記しな
い限り重量部を表す。 実施例１ 粒子径７〜９ｎｍのアルカリ性シリカゾルスノーテック
ス−Ｓ（日産化学工業（株）製、比重 １．２１２、 p
Ｈ ９．９８、粘度 ６．２c.p 、 ＳｉＯ2３０．３
４重量％、Ｎａ2 Ｏ ０．４３重量％）を陽イオン交換
することにより、粒子径７〜９ｎｍの酸性シリカゾル
（比重 １．１２９、 pＨ ２．２０、粘度 １．５c.
p 、ＳｉＯ2 ２０．５０重量％）を得た。Ｐｄをイオ
ン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（以下、Ｐｄ／ＺＳＭ
−５と記す）１００部、上記酸性シリカゾル６５部、水
６５部を磁器ポットに仕込み、振動ミル装置で４０分間
もしくは、ユニバーサルボールミル装置で６．５時間混
合粉砕して、ウォシュコートスラリーを製造した。コー
ディライト製モノリス担体に、前記で製造したスラリー
を担体表面全体に均一にコーティングし、その後、乾燥
を行ない、４００℃で約１時間仮焼成した。これによ
り、Ｐｄ／ＺＳＭ−５が約７０ｇ／Ｌのコート量で担体
にコートされた。上記のウォシュコート、乾燥及び焼成
を合計３回繰り返し、合計２００ｇ／ＬのＰｄ／ＺＳＭ
−５ゼオライトをコートし、空気雰囲気下で６５０℃×
４時間の焼成を行ない、（触媒１）を得た。
発明をさらに詳細に説明する。尚、例中の部は特記しな
い限り重量部を表す。 実施例１ 粒子径７〜９ｎｍのアルカリ性シリカゾルスノーテック
ス−Ｓ（日産化学工業（株）製、比重 １．２１２、 p
Ｈ ９．９８、粘度 ６．２c.p 、 ＳｉＯ2３０．３
４重量％、Ｎａ2 Ｏ ０．４３重量％）を陽イオン交換
することにより、粒子径７〜９ｎｍの酸性シリカゾル
（比重 １．１２９、 pＨ ２．２０、粘度 １．５c.
p 、ＳｉＯ2 ２０．５０重量％）を得た。Ｐｄをイオ
ン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（以下、Ｐｄ／ＺＳＭ
−５と記す）１００部、上記酸性シリカゾル６５部、水
６５部を磁器ポットに仕込み、振動ミル装置で４０分間
もしくは、ユニバーサルボールミル装置で６．５時間混
合粉砕して、ウォシュコートスラリーを製造した。コー
ディライト製モノリス担体に、前記で製造したスラリー
を担体表面全体に均一にコーティングし、その後、乾燥
を行ない、４００℃で約１時間仮焼成した。これによ
り、Ｐｄ／ＺＳＭ−５が約７０ｇ／Ｌのコート量で担体
にコートされた。上記のウォシュコート、乾燥及び焼成
を合計３回繰り返し、合計２００ｇ／ＬのＰｄ／ＺＳＭ
−５ゼオライトをコートし、空気雰囲気下で６５０℃×
４時間の焼成を行ない、（触媒１）を得た。
【０００９】実施例２ Ｃｕをイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（以下、Ｃ
ｕ／ＺＳＭ−５と記す）１００部、実施例１と同じ酸性
シリカゾル６５部、水６５部を磁器ポットに仕込み、実
施例１と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造
し、同様のコート方法でＣｕ／ＺＳＭ−５のコート量が
２００ｇ／Ｌの（触媒２）を得た。
ｕ／ＺＳＭ−５と記す）１００部、実施例１と同じ酸性
シリカゾル６５部、水６５部を磁器ポットに仕込み、実
施例１と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造
し、同様のコート方法でＣｕ／ＺＳＭ−５のコート量が
２００ｇ／Ｌの（触媒２）を得た。
【００１０】実施例３ Ｐｄ／ＺＳＭ−５を９０部、Ｃｕ／ＺＳＭ−５を１０部
と実施例１と同じ酸性シリカゾル６５部及び、水６５部
をポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォシュコ
ートスラリーを製造し、同様のコート方法でＰｄ及び、
Ｃｕ混合のＺＳＭ−５ゼオライトのコート量が２００ｇ
／Ｌの（触媒３）を得た。
と実施例１と同じ酸性シリカゾル６５部及び、水６５部
をポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォシュコ
ートスラリーを製造し、同様のコート方法でＰｄ及び、
Ｃｕ混合のＺＳＭ−５ゼオライトのコート量が２００ｇ
／Ｌの（触媒３）を得た。
【００１１】実施例４ Ｐｄ／ＺＳＭ−５を７５部、Ｃｕ／ＺＳＭ−５を２５部
と実施例１と同じ酸性シリカゾル６５部及び、水６５部
をポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォシュコ
ートスラリーを製造し、同様のコート方法でＰｄ及び、
Ｃｕ混合のＺＳＭ−５ゼオライトのコート量が２００ｇ
／Ｌの（触媒４）を得た。
と実施例１と同じ酸性シリカゾル６５部及び、水６５部
をポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォシュコ
ートスラリーを製造し、同様のコート方法でＰｄ及び、
Ｃｕ混合のＺＳＭ−５ゼオライトのコート量が２００ｇ
／Ｌの（触媒４）を得た。
【００１２】実施例５ Ｐｄ／ＺＳＭ−５を２５部、Ｃｕ／ＺＳＭ−５を７５部
と実施例１と同じ酸性シリカゾル６５部及び、水６５部
をポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォシュコ
ートスラリーを製造し、同様のコート方法でＰｄ及び、
Ｃｕ混合のＺＳＭ−５ゼオライトのコート量が２００ｇ
／Ｌの（触媒５）を得た。
と実施例１と同じ酸性シリカゾル６５部及び、水６５部
をポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォシュコ
ートスラリーを製造し、同様のコート方法でＰｄ及び、
Ｃｕ混合のＺＳＭ−５ゼオライトのコート量が２００ｇ
／Ｌの（触媒５）を得た。
【００１３】実施例６ Ｐｄ／ＺＳＭ−５を１０部、Ｃｕ／ＺＳＭ−５を９０部
と実施例１と同じ酸性シリカゾル６５部及び、水６５部
をポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォシュコ
ートスラリーを製造し、同様のコート方法でＰｄ及び、
Ｃｕ混合のＺＳＭ−５ゼオライトのコート量が２００ｇ
／Ｌの（触媒６）を得た。
と実施例１と同じ酸性シリカゾル６５部及び、水６５部
をポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォシュコ
ートスラリーを製造し、同様のコート方法でＰｄ及び、
Ｃｕ混合のＺＳＭ−５ゼオライトのコート量が２００ｇ
／Ｌの（触媒６）を得た。
【００１４】比較例１ Ｐｄ／ＺＳＭ−５ １００部、酸性シリカゾルスノーテ
ックス−Ｏ（日産化学工業（株）製、比重 １．１２
８、 pＨ ２．６１、粘度１．６c.p 、ＳｉＯ2２０．
４重量％）（粒径１５nm）６５部、水６５部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同様の方法でウォシュコートス
ラリーを製造し、同様のコート方法でＰｄ／ＺＳＭ−５
のコート量が２００ｇ／Ｌの（触媒７）を得た。
ックス−Ｏ（日産化学工業（株）製、比重 １．１２
８、 pＨ ２．６１、粘度１．６c.p 、ＳｉＯ2２０．
４重量％）（粒径１５nm）６５部、水６５部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同様の方法でウォシュコートス
ラリーを製造し、同様のコート方法でＰｄ／ＺＳＭ−５
のコート量が２００ｇ／Ｌの（触媒７）を得た。
【００１５】比較例２ Ｃｕ／ＺＳＭ−５ １００部、比較例１と同じ酸性シリ
カゾル６５部、水６５部を磁器ポットに仕込み、実施例
１と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同
様のコート方法でＣｕ／ＺＳＭ−５のコート量が２００
ｇ／Ｌの（触媒８）を得た。
カゾル６５部、水６５部を磁器ポットに仕込み、実施例
１と同様の方法でウォシュコートスラリーを製造し、同
様のコート方法でＣｕ／ＺＳＭ−５のコート量が２００
ｇ／Ｌの（触媒８）を得た。
【００１６】比較例３ Ｐｄ／ＺＳＭ−５を９０部、Ｃｕ／ＺＳＭ−５を１０部
と比較例１と同じ酸性シリカゾル６５部、水６５部を磁
器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォシュコ
ートスラリーを製造し、同様のコート方法でＰｄ及び、
Ｃｕ混合のＺＳＭ−５ゼオライトのコート量が２００ｇ
／Ｌの（触媒９）を得た。
と比較例１と同じ酸性シリカゾル６５部、水６５部を磁
器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォシュコ
ートスラリーを製造し、同様のコート方法でＰｄ及び、
Ｃｕ混合のＺＳＭ−５ゼオライトのコート量が２００ｇ
／Ｌの（触媒９）を得た。
【００１７】比較例４ Ｐｄ／ＺＳＭ−５を７５部、Ｃｕ／ＺＳＭ−５を２５部
と比較例１と同じ酸性シリカゾル６５部、水６５部を磁
器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォシュコ
ートスラリーを製造し、同様のコート方法でＰｄ及び、
Ｃｕ混合のＺＳＭ−５ゼオライトのコート量が２００ｇ
／Ｌの（触媒１０）を得た。
と比較例１と同じ酸性シリカゾル６５部、水６５部を磁
器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォシュコ
ートスラリーを製造し、同様のコート方法でＰｄ及び、
Ｃｕ混合のＺＳＭ−５ゼオライトのコート量が２００ｇ
／Ｌの（触媒１０）を得た。
【００１８】比較例５ Ｐｄ／ＺＳＭ−５を２５部、Ｃｕ／ＺＳＭ−５を７５部
と比較例１と同じ酸性シリカゾル６５部、水６５部を磁
器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォシュコ
ートスラリーを製造し、同様のコート方法でＰｄ及び、
Ｃｕ混合のＺＳＭ−５ゼオライトのコート量が２００ｇ
／Ｌの（触媒１１）を得た。
と比較例１と同じ酸性シリカゾル６５部、水６５部を磁
器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォシュコ
ートスラリーを製造し、同様のコート方法でＰｄ及び、
Ｃｕ混合のＺＳＭ−５ゼオライトのコート量が２００ｇ
／Ｌの（触媒１１）を得た。
【００１９】比較例６ Ｐｄ／ＺＳＭ−５を１０部、Ｃｕ／ＺＳＭ−５を９０部
と比較例１と同じ酸性シリカゾル６５部、水６５部を磁
器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォシュコ
ートスラリーを製造し、同様のコート方法でＰｄ及び、
Ｃｕ混合のＺＳＭ−５ゼオライトのコート量が２００ｇ
／Ｌの（触媒１２）を得た。
と比較例１と同じ酸性シリカゾル６５部、水６５部を磁
器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォシュコ
ートスラリーを製造し、同様のコート方法でＰｄ及び、
Ｃｕ混合のＺＳＭ−５ゼオライトのコート量が２００ｇ
／Ｌの（触媒１２）を得た。
【００２０】以上の実施例の担体としては、モノリス担
体、メタル担体等任意のものを使用することができる。
体、メタル担体等任意のものを使用することができる。
【００２１】試験例 実施例１〜６及び、比較例１〜６の各触媒に付き下記条
件でＨＣ吸着性能評価を、実施例２及び比較例２につい
て下記条件でリーン雰囲気でのＮＯX 還元性能評価を行
なった。得た結果を表１と２に示す。 １） 触媒容量 １２０cm3 ２） 評価エンジン ＲＢ２０Ｅ ３） ＨＣ吸着性能評価（ＳＶ: ４００００／ｈ） 評価モードは、コールド状態（水温２５℃）からエンジ
ン始動し、アイドル状態（エンジン回転７００rpm ）に
保持（図１）する。吸着率は、ガス流入後２０秒間の積
算値（１−吸着触媒出口／吸着触媒入口）より求めた。 ４） ＮＯX 還元性能評価（ＳＶ: ４００００／ｈ） Ａ／Ｆ＝２０ ＨＣ ３０００ppm ＣＯ ０．２５％ ＮＯ ３０００ppm 触媒性能は、入口温度４００℃の時の転化率から求め
た。 ５） 評価サンプルは、 ＨＣ吸着触媒 ６５０℃×５０ｈ Ｙ４４エンジン耐久
品（耐久モード ６０sec 運転＋５sec 燃料カット） リーンＮＯX 触媒 新品 を用いた。
件でＨＣ吸着性能評価を、実施例２及び比較例２につい
て下記条件でリーン雰囲気でのＮＯX 還元性能評価を行
なった。得た結果を表１と２に示す。 １） 触媒容量 １２０cm3 ２） 評価エンジン ＲＢ２０Ｅ ３） ＨＣ吸着性能評価（ＳＶ: ４００００／ｈ） 評価モードは、コールド状態（水温２５℃）からエンジ
ン始動し、アイドル状態（エンジン回転７００rpm ）に
保持（図１）する。吸着率は、ガス流入後２０秒間の積
算値（１−吸着触媒出口／吸着触媒入口）より求めた。 ４） ＮＯX 還元性能評価（ＳＶ: ４００００／ｈ） Ａ／Ｆ＝２０ ＨＣ ３０００ppm ＣＯ ０．２５％ ＮＯ ３０００ppm 触媒性能は、入口温度４００℃の時の転化率から求め
た。 ５） 評価サンプルは、 ＨＣ吸着触媒 ６５０℃×５０ｈ Ｙ４４エンジン耐久
品（耐久モード ６０sec 運転＋５sec 燃料カット） リーンＮＯX 触媒 新品 を用いた。
【００２２】
【表１】
【００２３】
【表２】
【００２４】
【発明の効果】以上説明してきたように、この発明の排
気ガス浄化用触媒は、空気雰囲気中で高温焼成したＰｄ
および／またはＣｕをイオン交換したＺＳＭ−５ゼオラ
イト粉末を粒子径が３〜１０nmの酸性シリカゾルを用い
てモノリス担体にコートさせたものであるため、ゼオラ
イトの２次粒子どうしの凝集を抑えた触媒となる。従っ
て、本発明の排気ガス浄化用触媒を用いれば、ＨＣの吸
着能が高まり、エンジン始動直後に排出される大量のＨ
Ｃの大気中への排出を防ぐことができる。また、リーン
雰囲気においてもＨＣが選択的にゼオライト細孔中の活
性サイトへと拡散していく。このため、本発明の排気ガ
ス浄化触媒を用いれば、リーン雰囲気走行でのＮＯX 転
化性能が上がり、大気中へのＮＯX の排出を防ぐことが
できる。
気ガス浄化用触媒は、空気雰囲気中で高温焼成したＰｄ
および／またはＣｕをイオン交換したＺＳＭ−５ゼオラ
イト粉末を粒子径が３〜１０nmの酸性シリカゾルを用い
てモノリス担体にコートさせたものであるため、ゼオラ
イトの２次粒子どうしの凝集を抑えた触媒となる。従っ
て、本発明の排気ガス浄化用触媒を用いれば、ＨＣの吸
着能が高まり、エンジン始動直後に排出される大量のＨ
Ｃの大気中への排出を防ぐことができる。また、リーン
雰囲気においてもＨＣが選択的にゼオライト細孔中の活
性サイトへと拡散していく。このため、本発明の排気ガ
ス浄化触媒を用いれば、リーン雰囲気走行でのＮＯX 転
化性能が上がり、大気中へのＮＯX の排出を防ぐことが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】炭化水素吸着性能の評価試験におけるエンジン
始動時からの炭化水素濃度(ppm) の経時変化を示す図で
ある。
始動時からの炭化水素濃度(ppm) の経時変化を示す図で
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 増田 剛司 神奈川県横浜市神奈川区宝町２番地 日産 自動車株式会社内 (72)発明者 高木 宏行 千葉県習志野市谷津５−32−９
Claims (1)
- 【請求項１】 モノリス担体に、銅とパラジウムの少な
くとも１種以上の金属でイオン交換したＺＳＭ−５ゼオ
ライトと粒子径３〜１０nmの酸性シリカゾル及び水を混
合して調製したスラリーにより形成した触媒層を備えた
ことを特徴とする排気ガス浄化用触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18939192A JP3321831B2 (ja) | 1992-07-16 | 1992-07-16 | 排気ガス浄化用触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18939192A JP3321831B2 (ja) | 1992-07-16 | 1992-07-16 | 排気ガス浄化用触媒 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0631174A true JPH0631174A (ja) | 1994-02-08 |
| JP3321831B2 JP3321831B2 (ja) | 2002-09-09 |
Family
ID=16240526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18939192A Expired - Fee Related JP3321831B2 (ja) | 1992-07-16 | 1992-07-16 | 排気ガス浄化用触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3321831B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5858523A (en) * | 1994-11-17 | 1999-01-12 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Porous ceramic film and process for producing the same |
| EP1287886A1 (de) * | 2001-08-09 | 2003-03-05 | OMG AG & Co. KG | Katalysator für die Reinigung der Abgase eines Verbrennungsmotors |
| US8281766B2 (en) | 2006-03-29 | 2012-10-09 | Denso Corporation | Mount structure of fuel injection valve and fuel injection system |
-
1992
- 1992-07-16 JP JP18939192A patent/JP3321831B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5858523A (en) * | 1994-11-17 | 1999-01-12 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Porous ceramic film and process for producing the same |
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| WO2003024589A1 (en) * | 2001-08-09 | 2003-03-27 | Umicore Ag & Co. Kg | Catalyst featuring silicone dioxide based support material for the purification of exhaust gases |
| US7563744B2 (en) | 2001-08-09 | 2009-07-21 | Umicore Ag & Co. Kg | Catalyst featuring silicone dioxide based support material for the purification of exhaust gases |
| US8281766B2 (en) | 2006-03-29 | 2012-10-09 | Denso Corporation | Mount structure of fuel injection valve and fuel injection system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3321831B2 (ja) | 2002-09-09 |
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