JPH06308758A - 光センサー、情報記録装置および情報記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高感度の情報記録用のセンサーおよび情報記
録システムを得る。 【構成】 電極上に、光導電層が積層された光センサー
と、電極層上に液晶相および樹脂相からなる情報記録層
を積層した情報記録媒体とを、光センサーあるいは情報
記録媒体の電極層の少なくともいずれか一方を透明電極
として、光軸上に電極層を互いに外側にして対向して間
隙を形成して配置して、両電極層間に電圧を印加可能に
結線した情報記録装置用の光センサーの表面に樹脂層を
被覆した。 【効果】 硬度の大きな光センサーが得られ、また情報
記録時の切断面からの異常放電を防止することができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、情報記録媒体へ光情報
を可視情報または静電情報の形で記録することができる
光センサーと情報記録媒体とからなる情報記録システ
ム、更に情報記録方法に関し、特に情報記録媒体への情
報記録性能が著しく増幅される光センサーからなる情報
記録システム及び情報記録方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の電子写真技術においては、一対の
電極間に光導電層上にネマチック液晶を封入した液晶セ
ル、液晶配向用絶縁層を順次積層した情報記録媒体が知
られ、情報記録に際しては電極間に電圧を印加した状態
で情報露光して情報露光部における光導電層の抵抗を下
げて液晶を配向させ、偏向板を使用して可視像を得るも
のが知られている。

【０００３】この情報記録媒体は、液晶を封入するため
にセル化する必要があり、しかも初期においてツイスト
ネマチック配向を行うためにセル両面をラビング処理等
により配向処理した絶縁膜を設けたり、更にセルギャッ
プを一定に保つためにスペーサーを混合する必要があ
り、解像度の高い像を得ることができない。また、正確
にギャップを保持したセルを作製するためにリジッドで
透明性のある支持体が必要であり光学的が問題もある。
更に、このように初期状態において配向処理を施したも
のは、読み取りの際に偏光板を用いなければ検出するこ
とができないという問題もある。

【０００４】本発明者らは、先に前面に電極層が設けら
れた光導電層からなる光センサーと、該光センサーに対
向し、後面に電極層が設けられた電荷保持層からなる情
報記録媒体とを光軸上に配置し、両導電層間に電圧を印
加しつつ露光し、入射光学像に応じて、電荷保持層に静
電電荷を記録させ、情報記録の再生にあたっては透過光
あるいは反射光により可視情報として再生する情報記録
再生方法を出願（特開平平４−７０８８７号、特願平３
−１０８４７号）した。この情報記録再生方法は、上記
液晶セルとは異なり偏光板を使用しなくとも記録された
情報を可視化し得るものである。しかしながら、この種
の情報記録媒体に情報記録を行うために使用される光セ
ンサーとして、電荷発生層におけるバインダー樹脂とし
て塩化ビニル樹脂や酢酸ビニル樹脂が使用される場合、
記録部と未記録部とのコントラスト電位差が低く、光セ
ンサーの情報形成能に課題を有していることが判明し
た。しかしながら、この種の情報記録媒体に情報記録を
行うために使用される光センサーは、情報記録性能の点
では優れているものの、表面硬度が低く耐久性に劣る問
題がある。さらに、この種の光センサーをその基材に垂
直な面で切断して、所定形状の光センサーを得る場合に
は、光センサーの切断面に光導電層が露出し、切断面に
凹凸を生じることとなり、情報記録時に異常放電を生じ
易いという問題もある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、液晶相およ
び樹脂相を情報記録層とする情報記録媒体への情報形成
に使用されるセンサーであって、情報形成能に優れ、さ
らに耐久性に優れる情報記録密度の向上した光センサー
および情報記録装置、情報記録再生方法の提供を課題と
する。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の光センサーは、
電極上に光導電層が積層され、さらにその表面に樹脂層
を被覆した光センサーである。また、電極上に積層した
光導電層の表面に樹脂層を積層した光センサーと、電極
層上に液晶相および樹脂相からなる情報記録層を積層し
た情報記録媒体とを、光センサーあるいは情報記録媒体
の電極層の少なくともいずれか一方を透明電極として、
光軸上に電極層を互いに外側にして対向して間隙を形成
して配置して、両電極層間に電圧を印加可能に結線した
情報記録装置である。また、電極上に積層した光導電層
の表面に樹脂層を積層した光センサーと、電極層上に液
晶相および樹脂相からなる情報記録層を積層した情報記
録媒体とを、光センサーあるいは情報記録媒体の電極層
の少なくともいずれか一方を透明電極として、光軸上に
電極層を互いに外側にして対向して間隙を形成して配置
して、両電極層間に電圧を印加しつつ情報露光し液晶相
を配向させて情報記録を行い、情報記録の再生にあたっ
ては透過光あるいは反射光により可視情報として再生す
る情報記録再生方法である。基材上に形成した電極層上
に電荷発生層、誘電体層、情報記録層、電極層が積層さ
れた情報記録媒体の少なくともいずれか一方の電極層が
透明であり、更に情報記録層が液晶相および樹脂相から
なり、両電極層間に電圧印加可能に結線した情報記録装
置である。

【０００７】以下、本発明を詳細に説明する。まず、本
発明の情報記録システムにおける光センサーは、電極層
上に光導電層を積層してなり、その光導電層は単層系の
ものと電荷発生層及び電荷輸送層を積層した積層系のも
のがある。光導電層は、一般には光が照射されると照射
部分で光キャリア（電子、正孔）が発生し、それらのキ
ャリアが層幅を移動することができる機能を有するもの
であり、特に電界が存在する場合にその効果が顕著であ
る層であるが、本発明の光センサーは、後述する光導電
層と電極層とを適宜組合せることにより、光センサーへ
の光照射時において情報記録媒体に付与される電界また
は電荷量が光照射につれて増幅され、また光照射を終了
した後でも電圧を印加し続けるとその導電性を持続し、
引続き電界または電荷量を情報記録媒体に付与し続ける
作用を有するに到るものである。

【０００８】図１（ａ）は、光センサーを説明するため
の断面図であり、図１（ｂ）は光センサーの他の実施例
を示す断面図である。図中１３は電極層、１４′は電荷
発生層、１４″は電荷輸送層、１５は基板であり、１７
は電荷注入防止層である。電荷発生層１４′および電荷
輸送層１４″は光導電層であり、光が照射されると照射
部分で電子、正孔等の光キャリアが発生し、それらのキ
ャリアが層幅を移動することができる導電性層であり、
とくに電界が存在する場合に、その効果が顕著である層
であり、電極層上に電荷発生層、電荷輸送層が積層され
ている。

【０００９】電荷発生層は、バインダー樹脂と電荷発生
物質からなり、電荷発生物質としては、特願平５−４７
２１号に記載されているようなピリリウム系染料、チア
ピリリウム系染料、アズレニウム系染料、シアニン系染
料、アズレニウム系染料等のカチオン系染料、スクバリ
リウム塩系染料、フタロシアニン系顔料、ペリレン系顔
料、ピラントロン系顔料等の多環キノン系顔料、インジ
ゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ピロール系顔料、アゾ
系顔料等の染料、顔料を単独もしくは複数のものを組み
合わせて使用することができ、アモルファスセレン、ア
モルファスシリコン等を用いることができる。

【００１０】また、電荷発生層には、電子受容性物質を
添加してもよい。電子受容性物質を添加してもよい。電
子受容性物質としては、２，４，７−トリニトロフルオ
レノン、テトラフルオロ−Ｐ−ベンゾキノン、テトラシ
アノキノジメタン、トリフェニルメタン、無水マレイン
酸、ヘキサシアノブタジエン等を使用することができ
る。

【００１１】バインダー樹脂としては、例えばポリ塩化
ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、ポリ
エステル樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリビニル
ブチラール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ポリブチルメタクリレート樹脂、ポリ塩化ビニリ
デン樹脂、エチルセルロース樹脂、シリコーン樹脂、エ
ポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、紫外線硬
化性樹脂、熱硬化性樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体樹脂、塩化ビニル−アクリル共重合体樹脂、塩化ビ
ニル−エチレン共重合体樹脂、アクリル−スチレン共重
合体樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、エチレ
ン−酢酸ビニル共重合体樹脂等が挙げられる。使用する
バインダー樹脂は、分子量が大きくなると塗布特性が好
ましくないので、平均分子量が１，０００〜１００，０
００のものを使用することが好ましい。これらの電荷発
生剤とバインダー樹脂との混合比は、電荷発生剤１重量
部に対してバインダーを０〜１０重量部、好ましくは
０．３〜１重量部の割合で使用するとことが望ましい。
電子受容性物質は、電荷発生物質１重量部に対して０，
００１〜１０重量部の割合で使用することができる。電
荷発生層は乾燥後膜厚として０．０１〜１μｍであり、
好ましくは０．１〜０．３μｍとするとよい。

【００１２】電荷輸送層１４″は電荷輸送物質とバイン
ダーとから構成されている。電荷輸送物質は、電荷発生
物質で発生した電荷の輸送特性が良い物質であり、例え
ば下記に化学構造を示すオキサジアゾール系、オキサゾ
ール系、トリアゾール系、チアゾール系、トリフェニル
メタン系、スチリル系、ピラゾリン系、ヒドラゾン系、
芳香族アミン系、カルバゾール系、ポリビニルカルバゾ
ール系、スチルベン系、エナミン系、アジン系、アミン
系、ブタジエン系、多環芳香族化合物系等があり、ホー
ル輸送性の良い物質とすることが必要である。

【００１３】好ましくは、ブタジエン系、スチルベン系
電荷輸送剤が挙げられ、具体的には特開昭６２−２８７
２５７号公報、特開昭５８−１８２６４０号公報、特開
昭４８−４３９４２号公報、特公昭３４−５４６６号公
報、特開昭５８−１９８０４３号公報、特開昭５７−１
０１８４４号公報、特開昭５９−１９５６６０号公報、
特開昭６０−６９６５７号公報、特開昭６４−６５５５
５号公報、特開平１−１６４９５２号公報、特開昭６４
−５７２６３号公報、特開昭６４−６８７６１号公報、
特開平１−２３００５５号公報、特開平１−１４２６５
４号公報、特開平１−１４２６５５号公報、特開平１−
１５５３５８号公報、特開平１−１５５３５７号公報、
特開平１−１６１２４５号公報、特開平１−１４２６４
３号公報等に記載した電荷輸送材料が挙げられる。これ
らの電荷発生物質と電荷輸送物質の組合せとしては、例
えばフルオレノンアゾ顔料（電荷発生物質）とスチルベ
ン系、トリフェニルアミン系の電荷輸送剤の組合せ、ビ
スアゾ系顔料（電荷発生物質）とブタジエン系、ヒドラ
ゾン系の電荷輸送剤の組合せ等が良好である。また、以
上のように電荷として正孔を輸送することに代えて電子
を輸送する場合には、電子輸送物質としては、特願平５
−４７２１号に記載の電子輸送物質を用いることができ
る。

【００１４】バインダー樹脂としては、上記した電荷発
生層におけるバインダー樹脂と同様のものが使用できる
が、好ましくはポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹
脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリビニルホル
マール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリスチレン
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリブチルメタクリレー
ト樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、エチルセルロース樹
脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、
メラミン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、
塩化ビニル−アクリル共重合体樹脂、塩化ビニル−エチ
レン共重合体樹脂、アクリル−スチレン共重合体樹脂、
スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体樹脂等ポリビニルアセタール樹脂、スチレ
ン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂が挙げられ
るが、電荷輸送物質がバインダー樹脂としての作用を有
する場合にはバインダー樹脂の使用は必要がない。使用
するバインダー樹脂は、分子量が大きくなると塗布特性
が劣化するので、平均分子量が１，０００〜１００，０
００のものを使用することが好ましい。バインダー樹脂
は、電荷輸送剤１重量部に対して０．０５〜１重量部の
割合で使用することが望ましい。電荷輸送層は乾燥後膜
厚として１〜５０μｍであり、好ましくは１０〜３０μ
ｍとするとよい。

【００１５】また、電荷輸送層には、電荷発生層の項で
記載した電子受容性物質を同様に電荷輸送物質１重量部
に対して電子受容物質を０．００１〜１０重量部の割合
で、配合することができる。電荷輸送層は、電荷輸送性
物質、バインダー樹脂、電子受容物質を電荷発生層の項
で記載したと同様の溶剤に溶解、または分散させ、同様
の塗布法により電荷発生層上への塗布、乾燥工程を経
て、乾燥後膜厚１〜５０μｍに形成される。

【００１６】次に、電荷注入制御層について説明する。
電荷注入制御層は、必要に応じて電極１３と光導電層１
４または電荷発生層１４′間に設けられるもので、光セ
ンサーを後述する情報記録媒体と対向配置し、両電極間
に電圧を印加しつつ情報露光し、両電極間に電圧を印加
しつつ情報露光し、情報記録媒体に情報を記録する際
に、光センサーにおける電極１３から電荷発生層１４′
への電荷注入性を制御して情報記録媒体に実質的に印加
される電圧を調節するために設けられるものである。

【００１７】このような電荷注入制御層は、情報記録媒
体における情報記録層が、とくに後述するような高分子
分散型液晶層である場合に、液晶の動作電圧領域に光セ
ンサーの感度を設定することが必要である。つまり、露
光部において情報記録媒体に印加される電位（明電位）
と未露光部において情報記録媒体に印加される電位（暗
電位）との差（コントラスト電位差）を情報記録媒体に
おける液晶の動作領域において大きく取ることが必要で
あるからである。

【００１８】そのため、例えば光センサーの未露光部の
液晶層にかかる暗電位は液晶の動作開始電位程度に設定
する必要がある。そのために光センサーバルクに１０⁵
Ｖ／ｃｍ〜１０⁶ Ｖ／ｃｍの電界が与えられた状態で１
０^-4〜１０^-8Ａ／ｃｍ² の暗電流が生じる程度の導電性
が要求され、好ましくは１０^-5〜１０^-7Ａ／ｃｍ² の範
囲が好ましい。暗電流が１０^-8Ａ／ｃｍ² 以下の光セン
サーでは液晶層が露光状態でも配向せず、また１０^-4Ａ
／ｃｍ² 以上の暗電流の光センサーでは未露光状態でも
電圧印加と同時に電流が多く流れ、液晶が配向し露光し
たとしても露光による透過率の差が得られない。電荷注
入制御層は、このような情報記録媒体の特性との関係で
適宜設けられる。

【００１９】光サンサーにおける暗電位を低く抑えるこ
とが必要な場合には、電荷注入制御層は電荷注入防止性
を有する層とされる。電荷注入防止層は、いわゆるトン
ネル効果を利用した層と整流効果を利用した層との二種
類のものがある。トンネル効果を利用した層の膜厚は電
荷の注入を一定程度防止する絶縁性とトンネル効果の点
を考慮して使用される材質ごとに決められるが、本発明
の光センサーの特性を考慮し、適当な絶縁性とする必要
がある。膜厚は、厚くとも１μｍ以下とする必要があ
り、１μｍ以上であると本発明における光センサーの特
徴を有しないものとなる。

【００２０】このような電荷注入性を一定程度防止する
層は、例えば無機絶縁性膜、有機絶縁性高分子膜、絶縁
性単分子膜等の単層、或いはこれらを積層して形成さ
れ、無機絶縁性膜としては、例えばAs₂O₃ 、B₂O₃、Bi₂O
₃ 、CdS 、CaO 、CeO₂、Cr₂O₃、CoO 、GeO₂、HfO₂、Fe₂
O₃ 、La₂O₃ 、MgO 、MnO₂、Nd₂O₃ 、Nb₂O₅ 、PbO 、Sb ₂
O₃ 、SiO₂、SeO₂、Ta₂O₅ 、TiO₂、WO₃ 、V₂O₅、Y₂O₅、Y
₂O₃、ZrO₂、BaTiO₃、Al₂O₃ 、Bi₂TiO₅ 、CaO-SrO 、CaO
-Y₂O₃、Cr-SiO、LiTaO₃、PbTiO₃、PbZrO₃、ZrO₂-Co 、Z
rO₂-SiO₂ 、AlN 、BN、NbN 、Si₃N₄ 、TaN 、TiN 、V
N、ZrN 、SiC 、TiC 、WC、Al₄C₃ 等をグロー放電、蒸
着、スパッタリング等により形成される。

【００２１】また、整流効果を利用した電荷注入防止層
は、整流効果を利用して電極基板の極性と逆極性の電荷
輸送能を有する電荷輸送層を設ける。すなわち、このよ
うな電荷注入防止層は無機光導電層、有機光導電層、有
機無機複合型光導電層で形成され、その膜厚は、厚くと
も５μｍ以下とする必要があり、５μｍ以上であると本
発明における光センサーの特徴を有しないものとなる。

【００２２】具体的には、電極に負の電圧が印加される
場合はＢ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ等をドープしたアモルファ
スシリコン光導電層、アモルファスセレン、またはオキ
サジアゾール、ピラゾリン、ポリビニルカルバゾール、
スチルベン、アントラセン、ナフタレン、トリジフェニ
ルメタン、トリフェニルメタン、アジン、アミン、芳香
族アミン等を樹脂中に分散して形成した有機光導電層、
電極に正の電圧が印加される場合は、Ｐ、Ｎ、Ａｓ、Ｓ
ｂ、Ｂｉ等をドープしたアモルファスシリコン光導電
層、ＺｎＯ光導電層等をグロー放電、蒸着、スパッタリ
ング、ＣＶＤ、コーティング等の方法により形成され
る。これらの光導電層は、電極側の極性を同じ極性のキ
ャリアーを発生する光導電性材料により形成する必要が
ある。電極を負とする場合はＢ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ等を
ドープしたシリコン光導電層、電極が正の場合は、Ｐ、
Ｎ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ等をドープしたシリコン光導電
層、セレン光導電層、有機光導電層等をグロー放電、蒸
着、スパッタリング、ＣＶＤ、コーティング等の方法に
より形成される。

【００２３】電極層１３は、後述する情報記録媒体が不
透明であれば透明性を有することが必要であるが、情報
記録媒体が透明性を有する場合には透明、不透明いずれ
でもよく、５０〜１０⁴ Ω／cm² の表面抵抗率を安定し
て与える材料、例えば亜鉛、チタン、銅、鉄、錫等の金
属薄膜導電膜、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸
化チタン、酸化タングステン、酸化バナジウム等の無機
金属酸化物導電膜、四級アンモニウム塩等の有機導電膜
等であり、単独か或いは二種以上の複合材料として用い
られる。なかでも酸化物半導体が好ましく、特に酸化イ
ンジウム酸化錫複合酸化物（ＩＴＯ）が好ましい。

【００２４】電極層１３は蒸着、スパッタリング、ＣＶ
Ｄ、コーティング、メッキ、ディッピング、電解重合等
の方法により形成される。またその膜厚は電極を構成す
る材料の電気特性、および情報記録の際の印加電圧によ
り変化させる必要があるが、例えばＩＴＯ膜では１０〜
３００ｎｍ程度であり、情報記録層との間の全面、或い
は光導電層の形成パターンに合わせて形成される。基板
１５は、後述する情報記録媒体が不透明であれば透明性
を有することが必要であるが、情報記録媒体が透明性を
有する場合には透明、不透明いずれでもよく、カード、
フィルム、テープ、ディスク等の形状を有し、光センサ
ーを強度的に支持するものである。光センサー自体が支
持性を有する場合には設ける必要がないが、光センサー
を支持することができるある程度の強度を有していれ
ば、その材質、厚みは特に制限がない。例えば可撓性の
あるプラスチックフィルム、或いはガラス、ポリエステ
ル、ポリカーボネート等のプラスチックシート、カード
等の剛体が使用される。なお、基板の電極層１３が設け
られる面の他方の面には、電極層１３が透明であれば必
要に応じて反射防止効果を有する層を積層するか、また
反射防止効果を発現しうる膜厚に透明基板を調整する
か、更に両者を組み合わせることにより反射防止性を付
与するとよい。

【００２５】次に、図１（ａ）に示すように、光センサ
ー１４″上に、樹脂層２１が積層されている。樹脂層
は、熱可塑性樹脂膜、熱硬化性樹脂膜、紫外線硬化性樹
脂等の電離放射線硬化型樹脂膜等を塗布法により形成す
ると良い。また、有機溶媒に対して相溶性の少ない水溶
性樹脂であるポリビニルアルコール、水系ポリウレタン
等が挙げられ、その水溶液をブレードコーター、ロール
コーター、あるいはスピンコーター等により塗布した積
層してもよい。さらに、ポリテトラフルオロエチレン、
フッ素化エチレンプロピレン、テトラフルオロエチレン
パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、またポ
リイミド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリパラキシ
リレン等の樹脂をフッ素系樹脂溶媒に溶解し、塗布して
積層することもできる。さらに、このような塗布方法に
代えて、上記の各種ポリマーのフイルムを情報記録層表
面に積層あるいは接着剤等を介して接着することにより
層形成せさてもよい。

【００２６】樹脂層の形成材料としては、特に好ましく
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、紫外線および電子線硬化型樹脂等が挙げら
れ、薄膜に形成しても、表面硬度の高いハードコート層
とすることができるので、情報記録媒体の耐久性を向上
させることが可能となる。樹脂層の膜厚は、０．１〜２
０μｍ、好ましくは０．１〜５μｍとすると良い。ただ
し、樹脂層の膜厚が厚い場合には、情報記録に際して、
液晶層にかかる動作電圧が低くなるので、情報記録形態
として後述する光センサーを使用するような場合には、
その印加電圧を高くする必要がある。このような樹脂層
の積層により、光センサー表面の硬度を高めることがで
き、耐久性のあるものとすることができる。また、光セ
ンサーは、その使用態様に応じて適宜の大きさにその切
断して使用されるが、切断面には光導電層が露出し、凹
凸が生じるため、情報記録時に切断面から異常放電が生
じ易い。これを防止するためには、光センサーを所定の
形状に切断した後に、その切断面に光導電層表面と同様
に樹脂を塗布あるいは積層し、切断面を保護および均一
化すると良い。

【００２７】次に、本発明の情報記録システムについて
説明する。図２は、情報記録システムの態様をその断面
により模式的に説明するための図で、情報記録層１１、
電極層１３′を順次積層した情報記録媒体２と上述した
光センサー１とをスペーサー１９を介して対向配置し積
層して構成される。情報記録媒体２について説明する。
まず、本発明における情報記録媒体としては、その情報
記録層が高分子分散型液晶とする場合が挙げられる。高
分子分散型液晶は液晶相中に樹脂粒子が分散した構造を
有しているが、液晶材料は、スメクチック液晶、ネマチ
ック液晶、コレステリック液晶あるいはこれらの混合物
を使用することができる。液晶としては、その配向性を
保持し、情報を永続的に保持させるのでメモリー性の観
点から、スメクチック液晶を使用するのが好ましい。ス
メクチック液晶としては、液晶性を呈する物質の末端基
の炭素鎖が長いシアノビフェニル系、シアノターフェニ
ル系、フェニルエステル系、更に弗素系等のスメクチッ
クＡ相を呈する液晶物質、強誘電性液晶として用いられ
るスメクチックＣ相を呈する液晶物質、或いはスメクチ
ックＨ、Ｇ、Ｅ、Ｆ等を呈する液晶物質等が挙げられ
る。

【００２８】又、ネマチック液晶を使用してもよく、ス
メクチック或いはコレステリック液晶と混合することに
よりメモリー性を向上させることができ、例えば、シッ
フ塩基系、アゾキシ系、アゾ系、安息香酸フェニルエス
テル系、シクロヘキシル酸フェニルエステル系、ビフェ
ニル系、ターフェニル系、フェニルシクロヘキサン系、
フェニルピリジン系、フェニルオキサジン系、多環エタ
ン系、フェニルシクロヘキセン系、シクロヘキシルピリ
ミジン系、フェニル系、トラン系等の公知のネマチック
液晶を使用できる。又、ポリビニルアルコール等と液晶
材料を混合してマイクロカプセル化したものも使用でき
る。なお、液晶材料を選ぶ際には、屈折率の異方向性の
大きい材料の方がコントラストがとれるので好ましい。

【００２９】樹脂粒子を形成する材料としては、例え
ば、紫外線硬化型樹脂であって、モノマー、オリゴマー
の状態で液晶材料と相溶性を有するもの、或いはモノマ
ー、オリゴマーの状態で液晶材料と共通の溶媒に相溶性
を有するものを好ましく使用できる。このような紫外線
硬化型樹脂としては、例えばアクリル酸エステル、メタ
クリル酸エステル等が挙げられ、モノマー、オリゴマー
の状態で、例えばジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ポ
リエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレン
グリコールジアクリレート、イソシアヌール酸（エチレ
ンオキサイド変性）トリアクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトール
テトラアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート等の多官能性
モノマー或いは多官能性ウレタン系、エステル系オリゴ
マー、更にノニルフェノール変性アクリレート、Ｎ−ビ
ニル−２−ピロリドン、２−ヒドロキシ−３−フェノキ
シプロピルアクリレート等の単官能性モノマー或いはオ
リゴマー等が挙げられる。

【００３０】溶媒としては、使用材料に共通の溶媒であ
れば特に問題はなく、例えばキシレン等に代表される炭
化水素系溶媒、クロロホルム等に代表されるハロゲン化
炭化水素系溶媒、メチルセロソルブ等に代表されるアル
コール誘導体系溶媒、ジオキサン等に代表されるエーテ
ル系溶媒等が挙げられる。

【００３１】紫外線硬化型樹脂を硬化させる光硬化剤と
しては、例えば２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェ
ニルプロパン−１−オン（メルク社製 ダロキュア１１
７３）、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
（チバ・ガイギー社製 イルガキュア１８４）、１−
（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−
メチルプロパン−１−オン（メルク社製 ダロキュア１
１１６）、ベンジルジメチルケタール（チバ・ガイギー
社製 イルガキュア６５１）、２−メチル−１−〔４−
（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロパノン
−１（チバ・ガイギー社製 イルガキュア９０７）、
２，４−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製 カヤ
キュアＤＥＴＸ）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル
（日本化薬社製カヤキュアＥＰＡ）との混合物、イソプ
ロピルチオキサントン（ワードブレキンソップ社製 ク
ンタキュア・ＩＴＸ）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エ
チルとの混合物等が挙げられるが、液状である２−ヒド
ロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
が液晶材料、重合体形成性モノマー若しくはオリゴマー
との相溶性の面で特に好ましい。

【００３２】液晶材料と樹脂の使用割合は、液晶の含有
量が１０重量％〜９０重量％、好ましくは４０重量％〜
８０重量％となるように使用するとよく、１０重量％未
満であると情報記録により液晶相が配向しても光透過性
が低く、また、９０重量％を越えると液晶の滲み出し等
の現象が生じ、画像ムラが生じ好ましくない。液晶は情
報記録相中に多く存在させることにより、コントラスト
比を向上させ、動作電圧を低くすることができる。

【００３３】情報記録層の形成方法は、樹脂形成用材料
と液晶、光硬化剤等を溶媒に溶解または分散させた混合
溶液を、電極層上にブレードコーター、ロールコータ
ー、或いはスピンコーター等の塗布方法により塗布し、
光または熱により樹脂形成用材料を硬化させることによ
り形成される。なお、必要に応じて、溶液の塗布適性を
向上させ、表面性を良くするためにレベリング剤を添加
してもよい。

【００３４】情報記録層形成にあたっては、樹脂形成用
材料と液晶との混合液が等方相を保持する温度以上に混
合溶液を加熱し、液晶と紫外線硬化型樹脂形成材料とを
完全に相溶させることが必要であり、これにより、樹脂
相と液晶相とが均一に分散した情報記録層とすることが
できる。液晶が等方相を示す温度以下で紫外線硬化させ
ると、液晶と紫外線硬化型樹脂材料との相分離が大きく
なるという問題が生じる。すなわち、液晶ドメインが成
長しすぎ、情報記録層表面にスキン層が完全に形成され
ず、液晶の滲み出し現象が生じたり、また紫外線硬化型
樹脂がマット化し、正確に情報を取り込むことが困難と
なり、好ましくなく、紫外線硬化型樹脂が液晶を保持で
きず、情報記録層を形成されないことすらある。他方、
溶媒を蒸発させる際に、等方相を保持するために加熱が
必要な場合には、特に電極層に対する濡れ性が低下し、
均一な情報記録層が得られないという問題がある。

【００３５】電極層に対する濡れ性を維持するとともに
樹脂の表面に被膜を形成することを目的として、情報記
録層に弗素系界面活性剤を添加するとよい。このような
弗素系界面活性剤としては、例えば住友スリーエム
（株）製、フロラードＦＣ−４３０、同フロラードＦＣ
−４３１、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−（β−アクリロ
キシエチル）−パーフルオロオクチルスルホン酸アミド
（三菱マテリアル（株）製ＥＦ−１２５Ｍ）、Ｎ−（ｎ
−プロピル）−Ｎ−（β−メタクリロキシエチル）−パ
ーフルオロオクチルスルホン酸アミド（三菱マテリアル
（株）製ＥＦ−１３５Ｍ）、パーフルオロオクタンスル
ホン酸（三菱マテリアル（株）製ＥＦ−１０１）、パー
フルオロカプリル酸（三菱マテリアル（株）製ＥＦ−２
０１）、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−パーフルオロオク
タンスルホン酸アミドエタノール（三菱マテリアル
（株）製ＥＦ−１２１）、更に三菱マテリアル（株）製
ＥＦ−１０２、同ＥＦ−１０３、同ＥＦ−１０４、同Ｅ
Ｆ−１０５、同ＥＦ−１１２、同ＥＦ−１２１、同ＥＦ
−１２２Ａ、同ＥＦ−１２２Ｂ、同ＥＦ−１２２Ｃ、同
ＥＦ−１２２Ａ３、同ＥＦ−１２３Ａ、同ＥＦ−１２３
Ｂ、同ＥＦ−１３２、同ＥＦ−３０１、同ＥＦ−３０
３、同ＥＦ−３０５、同ＥＦ−３０６Ａ、同ＥＦ−５０
１、同ＥＦ−７００、同ＥＦ−２０１、同ＥＦ−２０
４、同ＥＦ−３５１、同ＥＦ−３５２、同ＥＦ−８０
１、同ＥＦ−８０２、同ＥＦ−１２５ＤＳ、同ＥＦ−１
２００、同ＥＦ−Ｌ１０２、同ＥＦ−Ｌ１５５、同ＥＦ
−Ｌ１７４、同ＥＦ−Ｌ２１５等が挙げられる。また、
３−（２−パーフルオロヘキシル）エトキシ−１，２−
ジヒドロキシプロパン（三菱マテリアル（株）製ＭＦ−
１００）、Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−２，３−ジヒドロキ
シプロピルパーフルオロオクチルスルホンアミド（三菱
マテリアル（株）製ＭＦ−１１０）、３−（２−パーフ
ルオロヘキシル）エトキシ−１，２−エポキシプロパン
（三菱マテリアル（株）製ＭＦ−１２０）、Ｎ−ｎ−プ
ロピル−Ｎ−２，３−エポキシプロピルパーフルオロオ
クチルスルホンアミド（三菱マテリアル（株）製ＭＦ−
１３０）、パーフルオロヘキシルエチレン（三菱マテリ
アル（株）製ＭＦ−１４０）、Ｎ−（３−トリメトキシ
シリル）プロピル）パーフルオロヘプチルカルボン酸ア
ミド（三菱マテリアル（株）製ＭＦ−１５０）、Ｎ−
（３−トリメトキシシリル）プロピル）パーフルオロヘ
プチルスルホンアミド（三菱マテリアル（株）製ＭＦ−
１６０）等が挙げられる。弗素系界面活性剤は、液晶と
樹脂形成材料との合計量に対して０．１〜２０重量％の
割合で添加される。

【００３６】また、情報記録層形成における塗布溶液に
おける固形分濃度は１０〜６０重量％とするとよく、硬
化に際して、樹脂の種類、濃度、塗布層温度、また紫外
線照射条件等の硬化条件を適宜に設定することにより、
外表皮層として液晶相を有しない樹脂層のみからなるス
キン層を良好に形成させることができ、これにより情報
記録層における液晶の使用割合を増大することができ、
また液晶の滲み出しを無くすることができる。

【００３７】以上、樹脂材料として紫外線硬化型樹脂に
ついて説明したが、その他、液晶材料と共通の溶媒に相
溶性を有する溶媒可溶型の熱硬化性樹脂、例えばアクリ
ル樹脂、メタクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチ
レン樹脂、及びこれらを主体とした共重合体等、エポキ
シ樹脂、シリコーン樹脂等を使用してもよい。

【００３８】情報記録層の膜厚は解像性に影響を与える
ので、乾燥後膜厚０．１μｍ〜１０μｍ、好ましくは３
μｍ〜８μｍとするとよく、高解像性を維持しつつ、動
作電圧も低くすることができる。膜厚が薄すぎると情報
記録部のコントラストが低く、また、厚すぎると動作電
圧が高くなるので好ましくない。

【００３９】なお、情報記録層がそれ自体支持性を有
し、支持体を省略する場合には、情報記録層の表面には
スキン層が形成されているので、例えばＩＴＯ膜を蒸着
法、スパッタ法等により積層してもひび割れが生じな
く、導電性の低下のないものとできる。この場合、仮支
持体上に設けた情報記録層上に電極層を設けた後、仮支
持体を剥離して情報記録媒体とするとよい。

【００４０】情報記録媒体における電極層１３′は、上
述の光センサーにおける電極層１３と同様の材料、及び
同様の積層方法で基板１５上に設けられる。この情報記
録媒体は、図３に示すように上述した光センサーとスペ
ーサー１９を介して、対向配置し、両電極層１３、１
３′を電圧源Ｖを介して結線して第１の情報記録システ
ムとされる。このシステムにおける電極層１３、１３′
は、いずれか一方、または両方が透明性であればよい。
スペーサーとしては、ポリエチレンテレフタレート等の
ポリエステル、ポリイミド、ポリエチレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル、ポ
リアミド、ポリプロピレン、酢酸セルロース、エチルセ
ルロース、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリテト
ラフルオロエチレン等の樹脂フィルムを使用して形成す
るとよく、また、上記各樹脂溶液を塗布、乾燥させて形
成してもよい。また、アルミニウム、セレン、テルル、
金、白金等の金属材料又は無機或いは有機化合物を蒸着
して形成してもよい。スペーサーの膜厚は、光センサー
と情報記録媒体との空隙距離となり、情報記録層に印加
される電圧配分に影響を与えるので、少なくとも１００
μｍ以下とするとよく、好ましくは３μｍ〜３０μｍと
するとよい。

【００４１】次に、本発明の情報記録装置への情報記録
方法について説明する。図４は、本発明の情報記録装置
における情報記録方法を説明するための図である。ま
ず、電源により電極１３、１３′間に電圧を印加する。
この情報記録媒体への記録に際して、情報記録媒体を例
えばその支持体中に埋設した抵抗加熱（図示せず）によ
り加熱し、液晶を液晶相を示す温度まで加熱することに
より、よりメモリー性を向上させることができる。電極
１３、１３′間に電圧を印加しつつ、情報光１８を入射
させると、光が入射した部分の電荷発生層１４′、電荷
輸送層１４″からなる光導電層で発生した光キャリア
は、両電極により形成される電界により移動し、電圧の
再配分が行われ、情報記録層における液晶相が配向し、
情報光１８のパターンに応じた記録が行なわれる。な
お、情報光１８を入射しつつ、電圧を所定時間印加して
もよい。

【００４２】また、液晶によって動作電圧及び範囲が異
なるものもあるので、印加電圧及び印加電圧時間を設定
するにあたっては、情報記録媒体における電圧配分を適
宜設定し、情報記録層にかかる電圧配分を液晶の動作電
圧領域に設定するとよい。この情報記録方法は、面状ア
ナログ記録が可能であり、液晶レベルでの記録が得られ
るので、高解像度の記録となり、また露光パターンは液
晶相の配向により可視像化されて保持される。

【００４３】情報記録方法としては、カメラによる方
法、またレーザーによる記録方法がある。カメラによる
方法としては、通常のカメラに使用されている写真フィ
ルムの代わりに情報記録媒体が使用され、記録部材とす
るもので、光学的なシャッタも使用しうるし、また電気
的なシャッタも使用しうるものである。また、プリズム
及びカラーフィルターにより光情報を、Ｒ、Ｇ、Ｂ光成
分に分離し、平行光として取り出しＲ、Ｇ、Ｂの各色用
の３個の情報記録媒体で１コマを形成するか、または１
個の情報記録媒体の異なる部分にＲ、Ｇ、Ｂの各画像を
記録して１コマとすることにより、カラー撮影すること
もできる。

【００４４】また、レーザーによる記録方法としては、
光源としてはアルゴンレーザー（５１４．４８８ｎ
ｍ）、ヘリウム−ネオンレーザー（６３３ｎｍ）、半導
体レーザー（７８０ｎｍ、８１０ｎｍ等）が使用でき、
画像信号、文字信号、コード信号、線画信号に対応した
レーザー露光をスキャニングにより行うものである。画
像のようなアナログ的な記録は、レーザーの光強度を変
調して行い、文字、コード、線画のようなデジタル的な
記録は、レーザー光のＯＮ−ＯＦＦ制御により行う。ま
た画像において網点形成されるものには、レーザー光に
ドットジェネレーターＯＮ−ＯＦＦ制御をかけて形成す
るものである。なお、光センサーにおける光導電層の分
光特性は、パンクロマティックである必要はなく、レー
ザー光源の波長に感度を有していればよい。

【００４５】情報記録媒体に記録された露光情報は、図
４に示すように、情報記録媒体を分離し、透過光により
情報を再生すると、情報記録部では液晶が電界方向に配
向するために光Ａは透過するのに対して、情報を記録し
ていない部位においては光Ｂは散乱し、情報記録部との
コントラストがとれる。また、これらの情報記録装置で
記録された情報は、反射光により読み取ってもよい。液
晶の配向により記録された情報は、目視による読み取り
が可能な可視情報であるが、投影機により拡大して読み
取ることもでき、レーザースキャニング、或いはＣＣＤ
を用いて透過光、または反射光により高精度で情報を読
み取ることができ、必要に応じてシュリーレン光学系を
用いることにより散乱光を防ぐことができる。

【００４６】本発明の情報記録装置における情報記録媒
体は、静電情報を液晶の配向により可視化した状態で記
録するものであるが、液晶と樹脂との組合せを選ぶこと
により、一度配向し可視化した情報は消去せず、メモリ
性が付与される。また、等方相転移付近の高温に加熱す
ると、メモリーを消去することができるので、再度の情
報記録に使用することができる。

【００４７】本発明の光センサーは、上述のように高分
子分散型液晶を情報記録層とする情報記録媒体への情報
記録に適しているが、他の情報記録媒体、例えば特開平
４−７０８４２号公報、特開平４−４６３４７号公報、
特開平３−７９４２号公報、特開平４−７３７６９号公
報等に記載された、弗素樹脂等の電荷保持性に優れた絶
縁性樹脂層を情報記録層とする静電情報記録媒体であっ
て、情報を静電荷の形で蓄積し、トナー現像されるか、
電位読み取りにより静電情報を再生することができる情
報記録媒体や、また特開平３−１７０９８５号公報、特
開平３−１７０９８４号公報、特開平３−１９２２８８
号公報等に記載された、熱可塑性樹脂層を情報記録層と
する情報記録媒体であって、上記同様に情報を静電荷の
形で表面に蓄積した後、加熱されることにより、情報を
フロスト像として蓄積し、可視情報として情報再生する
ことが可能な情報記録媒体に対する情報記録にも使用で
きる。

【００４８】

【作用及び発明の効果】本発明においては、光センサー
と情報記録媒体とを対向配置し、電圧を印加しつつ情報
露光することにより、情報記録媒体における液晶を配向
させ、情報露光に応じて光透過性とし、未露光部とのコ
ントラストにより情報記録を行うものであるが、この光
センサー及び情報記録装置においては、液晶の動作電圧
領域において高いコントラスト比を与えることが要求さ
れる。そして、像情報光による光センサーの光キャリア
の発生に伴い、電界が液晶の動作電圧以下であれば、そ
の情報記録層における液晶は配向せず、光散乱により不
透明であるのに対して、液晶の動作電圧以上の電界が印
加されると、情報記録層における液晶が配向し、情報記
録部を透明状態とすることができるものである。本発明
における情報の記録形態は、電界の変調によりアナログ
の画像記録も可能であり、また、情報再生に際して偏向
板が不用であり、又、情報の読み取りに際しての光学系
が単純化しうるものである。

【００４９】本発明者等は、光センサー表面に樹脂層を
設けることにより、光センサー表面の硬度を高めること
ができ、耐久性に優れたものが得られることを見いだし
た。また、この種の光センサーを切断し、所定の形状の
光センサーを得る場合に生じる異常放電を防止し得るこ
とを見いだした。

【００５０】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、実施例
中「部」は重量部、「％」は重量％を示す。 実施例１ 電荷発生物質として下記の化学構造

【００５１】

【化１】

【００５２】を有するフルオレノンアゾ顔料３部使用
し、更にポリエステル樹脂（東洋紡社製、バイロン２０
０）１部、１，４−ジオキサン９８部、アノン９８部を
混合し、混合機により十分に混練を行い、塗布液を作製
した。この塗布液をＩＴＯ透明電極（膜厚５０ｎｍ、抵
抗値８０Ω／□）を有するガラス基板上のＩＴＯ面側に
塗布し、１００℃、１時間乾燥して、膜厚３００ｎｍの
電荷発生層を積層した。次に、電荷輸送物質として、下
記構造を有するパラジメチルスチルベン２５部とポリス
チレン樹脂（デンカスチロール ＨＲＭ−３ 電気化学
工業（株））５部、ジクロロメタン６８部、クロロベン
ゼン１０２部を混合した塗布液を作製し、電極層上に塗
布し、８０℃、２時間乾燥して膜厚１０μｍの電荷輸送
層を形成した。

【００５３】

【化２】

【００５４】この光センサー上に、多官能モノマーであ
るジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（東亞合
成化学製 Ｍ−４００）１０部に光硬化剤として、２−
ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−
オン（チバガイギー社製 ダロキュア１１７３）１部を
溶解した溶液をスピンコートによって塗布し、３００ｍ
Ｊ／ｃｍ² の紫外線光を照射して、厚さ１μｍの樹脂層
を形成した。得られた光センサーの表面の硬度は、１０
００ｇ重の荷重による鉛筆硬度で２Ｈであった。一方、
樹脂層を形成しない点を除いて同様に製造した光センサ
ーの表面の硬度を同様に測定したところ、鉛筆硬度は２
Ｂであった。

【００５５】また、光センサーの電気特性について、図
５に示す測定回路を使用して評価した。図５に示すよう
に情報記録媒体に対応するものとして、コンデンサーＣ
₁ およびＲ₁ と接続し、Ｒ₁ 、Ｃ₁ をそれぞれ１０００
ＭΩ、１５０ｐＦとした。この測定回路において、光セ
ンサー側がプラスとなるように電圧を４００〜６００Ｖ
印加すると同時に光センサーのＩＴＯ面より５００〜６
００ｎｍ、２０ルックスの光を０．１７秒間照射した
後、光照射を止め、その後光照射時間を含め０．１秒間
電圧印加を継続した。光照射時から電圧印加を中止する
までのＲ₁ に流れる電流を記録し、Ｃ₁ に蓄積される電
位を算出した。その測定結果を図６に明電流として示
す。横軸は時間、縦軸はＣ₁ に印加される電圧である。

【００５６】次に、同じ測定回路において、光を照射し
ないで同様に電圧のみを印加した場合について、同様に
Ｃ₁ に蓄積される電圧を算出し、暗電流として同様に結
果を示す。図６における２本の曲線のうち、上部の線は
明部における電位変化を表し、下部の線は暗部での電位
変化を示すが、測定を開始してから０．０４秒経過した
段階での明部と暗部での両者の電位差をコントラストと
し、表１に１Ａ〜１Ｄとして示す。各試料とも、明部と
暗部では電位差を示し、コントラストが得られた。ま
た、本発明の光センサーの電位差が大きいほど、良い光
センサーだといえる。

【００５７】実施例２ 実施例１と同様の方法で作製した、光センサー上に、多
官能モノマーであるジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート（東亞合成化学製 Ｍ−４００）５０部に光硬
化剤として、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニ
ルプロパン−１−オン（チバガイギー社製 ダロキュア
１１７３）３部、界面活性剤（住友スリーエム社製 フ
ロラードＦＣ−４３０）４部をキシレン（純正化学製
試薬特級）５０部中に均一に溶解した溶液をブレードコ
ーターを用いて塗布し、５０℃で２分間乾燥し、次いで
５０℃で２分間減圧乾燥させた後、直ちに５００ｍＪ／
ｃｍ² の紫外線光を照射して、厚さ１μｍの樹脂層を形
成した。得られた光センサーの表面の硬度は、１０００
ｇ重の荷重による鉛筆硬度で２Ｈであった。

【００５８】実施例３ 実施例１と同様の方法で作製した光センサー上に、膜厚
１．３μｍのポリエチレンテレフタレートフイルムをロ
ールコーターでと積層し、光センサーを製造した。得ら
れた光センサーの表面の硬度は、１０００ｇ重の荷重に
よる鉛筆硬度で２Ｈであった。

【００５９】実施例４ 実施例１と同様の方法によって製造した光センサーを基
板に垂直な面で切断した後に、光センサー表面および切
断面に、多官能モノマーであるジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート（東亞合成化学製 Ｍ−４００）５
０部に光硬化剤として、２−ヒドロキシ−２−メチル−
１−フェニルプロパン−１−オン（チバガイギー社製
ダロキュア１１７３）３部、界面活性剤（住友スリーエ
ム社製フロラードＦＣ−４３０）４部をキシレン（純正
化学製 試薬特級）５０部中に均一に溶解した溶液中に
ディッピング装置を用いて塗布し、５０℃で２分間乾燥
し、次いで５０℃で２分間減圧乾燥させた後、直ちに５
００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線光を照射して、厚さ１．３μ
ｍの樹脂層を光センサー表面および切断面に形成した。
得られた光センサーの表面の硬度は、１０００ｇ重の荷
重による鉛筆硬度で２Ｈであった。また、切断面に樹脂
層を形成したものは、情報記録時に異常放電が生じるこ
とはなかったが、切断面に樹脂層を形成しないものでは
異常放電を生じた。

【００６０】実施例５ 実施例１と同様の方法で製造した光センサーを基材に垂
直な面で切断した後に、光センサー層および切断面に厚
さ１．３μｍのポリエチレンテレフタレートフイルムを
ロールコート法で被覆した光センサーを得た。

【００６１】得られた光センサーの表面の硬度は、１０
００ｇ重の荷重による鉛筆硬度で２Ｈであった。また、
フイルムを積層したものは、情報記録時に異常放電が生
じることはなかった。

【００６２】実施例６ （情報記録媒体の作製）ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート４部、スメクチック液晶Ｓ６（メルク社
製）６部、フッ素系界面活性剤フロラードＦＣ−４３０
（スリーエム社製）０．２部、光重合開始剤ダロキュア
１１７３（メルク社製）０．２部の混合物をキシレンに
て固形分３０％に調整した。

【００６３】この溶液をＩＴＯ透明電極（膜厚５０ｎ
ｍ、抵抗値：８０Ω／□）を有するガラス基板上のＩＴ
Ｏ面側に５０μｍの間隔のブレードコーターで塗布し、
これを５０℃に保持し、０．３ｍＪ／ｃｍ² のＵＶ光を
照射して、膜厚約６μｍの情報記録層を有する情報記録
媒体を作製した。この情報記録層断面を熱メタノールを
用いて、液晶を抽出し、乾燥させた後、走査型電子顕微
鏡（日立製作所（株）製、Ｓ−８００、１００００倍）
で内部構造を観察したところ、層の表面は０．６μｍ厚
の紫外線硬化型樹脂で覆われ、層内部は粒径０．１μｍ
の樹脂粒子が充填している構造を有していることがわか
った。

【００６４】（情報記録装置の調製）実施例１において
作製した光センサーと、上記で調製した情報記録媒体と
を、膜厚９μｍのポリイミドフィルムをスペーサーと
し、情報記録媒体と光センサーを対向配置して接地し
た。次いで、光センサー側からグレースケールを露光量
０．１〜１０ルックスで投影露光すると同時に、光セン
サー層側電極を正、情報記録媒層側電極を負として直流
電圧９００Ｖを０．１秒間印加した。その結果、グレー
スケールに対応した透過像が情報記録層に形成され、グ
レースケールの低露光量側でも十分なコントラストが得
られる像が透過光により確認できた。更に、この情報記
録媒体をＣＣＤラインセンサーを用いたスキャナーによ
り読み取り、昇華プリンターで出力した結果、階調性を
有し、高解像度のハードコピーが得られた。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１（ａ）は、光センサーを説明するための断
面図であり、同図（ｂ）は他の態様を示す図である。

【図２】本発明の情報記録装置の態様を説明するための
断面図である。

【図３】本発明の情報記録装置における情報記録方法を
説明するための図である。

【図４】情報記録媒体に記録された情報の再生方法を説
明するための図である。

【図５】本発明の光センサーの電気特性を評価するため
に使用した測定回路を説明するための図である。

【図６】図６に示す評価方法により得られた評価結果を
示す図である。

【符号の説明】

１…光センサー、２…情報記録媒体、１１…情報記録
層、１３、１３′…電極層、１４′…電荷発生層、１
４″…電荷輸送層、１５…基板、１７…電荷注入制御
層、１８…情報光、１９…スペーサー、２０…誘電体
層、Ｃ₁ …コンデンサー、Ｒ₁ …抵抗

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電極上に、光導電層が積層された光セン
   サーにおいて、光センサーの表面に樹脂層を被覆したこ
   とを特徴とする光センサー。
2. 【請求項２】 樹脂層の被覆が、光導電層への樹脂の塗
   布または樹脂フイルムの積層によって形成したものであ
   ることを特徴とする請求項１記載の光センサー。
3. 【請求項３】 光センサーを適宜の形状に切断した後
   に、光センサーの切断面を樹脂によって被覆したことを
   特徴とする請求項１記載の光センサー。
4. 【請求項４】 電極上に積層した光導電層の表面に樹脂
   層を積層した光センサーと、電極層上に液晶相および樹
   脂相からなる情報記録層を積層した情報記録媒体とを、
   光センサーあるいは情報記録媒体の電極層の少なくとも
   いずれか一方を透明電極として、光軸上に電極層を互い
   に外側にして対向して間隙を形成して配置して、両電極
   層間に電圧を印加可能に結線したことを特徴とする情報
   記録装置。
5. 【請求項５】 電極上に積層した光導電層の表面に樹脂
   層を積層した光センサーと、電極層上に液晶相および樹
   脂相からなる情報記録層を積層した情報記録媒体とを、
   光センサーあるいは情報記録媒体の電極層の少なくとも
   いずれか一方を透明電極として、光軸上に電極層を互い
   に外側にして対向して間隙を形成して配置して、両電極
   層間に電圧を印加しつつ情報露光し液晶相を配向させて
   情報記録を行い、情報記録の再生にあたっては透過光あ
   るいは反射光により可視情報として再生することを特徴
   とする情報記録再生方法。