JPH0630177B2 - 光デイスクの製造方法 - Google Patents
光デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPH0630177B2 JPH0630177B2 JP3080184A JP3080184A JPH0630177B2 JP H0630177 B2 JPH0630177 B2 JP H0630177B2 JP 3080184 A JP3080184 A JP 3080184A JP 3080184 A JP3080184 A JP 3080184A JP H0630177 B2 JPH0630177 B2 JP H0630177B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- reactive
- recording film
- optical disc
- mixed gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
- C23C14/0036—Reactive sputtering
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はビデオディスク,ディジタルオーディオディス
ク,静止画,文書ファイルなどのディジタル信号記録再
生ディスクである光ディスクの製造方法に関するもので
ある。
ク,静止画,文書ファイルなどのディジタル信号記録再
生ディスクである光ディスクの製造方法に関するもので
ある。
従来例の構成とその問題点 この種の光ディスクは、その情報密度が極めて大きいこ
とや、S/Nが大きく、ノイズが小さいことなど情報媒
体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオー
ディオディスクとして商品化され、ディジタル信号記録
再生ディスクとして近年研究開発が行われている。
とや、S/Nが大きく、ノイズが小さいことなど情報媒
体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオー
ディオディスクとして商品化され、ディジタル信号記録
再生ディスクとして近年研究開発が行われている。
第1図に一般的なディジタル信号記録再生ディスクの概
要を示す。これは、樹脂基板に、同心円状またはラセン
状に案内溝が形成され、その上に記録膜が設けられ、レ
ーザを照射することにより記録膜の一部を黒化させピッ
トを形成し記録する。その後ピット列状に記録されたデ
ィジタル信号をレーザにより再生するものである。
要を示す。これは、樹脂基板に、同心円状またはラセン
状に案内溝が形成され、その上に記録膜が設けられ、レ
ーザを照射することにより記録膜の一部を黒化させピッ
トを形成し記録する。その後ピット列状に記録されたデ
ィジタル信号をレーザにより再生するものである。
第1図において1はディスク全体、2は樹脂基板、3は
ラセン状に形成された案内溝、4はその表面に形成され
た記録膜、5は記録膜4の表面にコーティングされた保
護膜、6はディスク読取面より照射される半導体レーザ
である。
ラセン状に形成された案内溝、4はその表面に形成され
た記録膜、5は記録膜4の表面にコーティングされた保
護膜、6はディスク読取面より照射される半導体レーザ
である。
ここで記録膜4は、レーザを照射し黒化させ、反射率の
差によるディジタル信号を形成するため必要なもので、
テルル(Te) またはTe の低級酸化物TeOx (x<2)に
て構成される。
差によるディジタル信号を形成するため必要なもので、
テルル(Te) またはTe の低級酸化物TeOx (x<2)に
て構成される。
第2図に記録膜を作成する従来の光ディスクの製造方法
を示す。
を示す。
7は電子ビーム蒸着装置を示す。あらかじめ、TeとO2と
の組成比が決まった固体のTe 低級酸化物TeOx (x<
2)8がるつぼ9に置かれている。電子ビームガン10
よりるつぼ9内に電子エネルギーが当たり、TeOx 8が
蒸発し、樹脂基板2上に記録膜が形成される。しかし、
この方法によればTeOx のTeとO2との組成比は蒸発中に
容易に変化することや、その組成比を任意にコントロー
ルできないこと、1回の蒸発で1枚のディスクしか作成
できないことなど、膜の組成の信頼性が悪く、るつぼの
数に限りあるため量産性に欠けるなどの問題点を有して
いた。
の組成比が決まった固体のTe 低級酸化物TeOx (x<
2)8がるつぼ9に置かれている。電子ビームガン10
よりるつぼ9内に電子エネルギーが当たり、TeOx 8が
蒸発し、樹脂基板2上に記録膜が形成される。しかし、
この方法によればTeOx のTeとO2との組成比は蒸発中に
容易に変化することや、その組成比を任意にコントロー
ルできないこと、1回の蒸発で1枚のディスクしか作成
できないことなど、膜の組成の信頼性が悪く、るつぼの
数に限りあるため量産性に欠けるなどの問題点を有して
いた。
発明の目的 本発明はこれらの問題点を解消するものであり、組成比
の正確な、また組成比を任意にコントロールできる膜質
の安定した、信頼性の高い、量産可能な記録膜を形成す
ることのできる光ディスクの製造方法を提供するもので
ある。
の正確な、また組成比を任意にコントロールできる膜質
の安定した、信頼性の高い、量産可能な記録膜を形成す
ることのできる光ディスクの製造方法を提供するもので
ある。
発明の構成 本発明は、基板上に記録膜として、O2濃度比を変化させ
た混合ガスを導入させ、反応性蒸着法によりTe とO2と
の組成比を任意に制御することにより、Te 低級酸化物
であるTeOx (x<2)を形成することにより、光ディ
スクを製造するものである。
た混合ガスを導入させ、反応性蒸着法によりTe とO2と
の組成比を任意に制御することにより、Te 低級酸化物
であるTeOx (x<2)を形成することにより、光ディ
スクを製造するものである。
実施例の説明 第3図に本発明の光ディスク製造方法の一実施例を示
す。装置を説明するために、断面を示す模式図にて示
す。
す。装置を説明するために、断面を示す模式図にて示
す。
11はスパッター装置であり、予備真空室12と13と
スパッター室14より構成される。スパッター室14に
は、Teのターゲット15があり、さらに、(1)Ar+O2濃
度5%の混合ガス16、(2)Ar+O2濃度10%の混合ガ
ス17、(3)Ar+O2濃度20%の混合ガス18がガス導
入口19,20,21よりスパッター室に導入される。
スパッター室14より構成される。スパッター室14に
は、Teのターゲット15があり、さらに、(1)Ar+O2濃
度5%の混合ガス16、(2)Ar+O2濃度10%の混合ガ
ス17、(3)Ar+O2濃度20%の混合ガス18がガス導
入口19,20,21よりスパッター室に導入される。
樹脂基板2は12の予備真空室を通過したのち、スパッ
ター室14に入り、ここで導入口19より混合ガス16
が導入され反応性スパッタされる。順次20,21の順
で導入口が開き、混合ガス17,18が導入され、蒸発
中にTe が混合ガス中のO2と反応してTeOx の記録膜が形
成される。
ター室14に入り、ここで導入口19より混合ガス16
が導入され反応性スパッタされる。順次20,21の順
で導入口が開き、混合ガス17,18が導入され、蒸発
中にTe が混合ガス中のO2と反応してTeOx の記録膜が形
成される。
ここで、順次O2濃度の変化した混合ガスを導入する理由
は、Te ターゲット表面には多くのO2が化合物として存
在するため、膜質を一定にするためには、TeOx の初期
形成時にはO2濃度の低い混合ガスにて反応性スパッタリ
ングし、順次O2濃度を増加させ、TeとO2との組成Stoic
hiometryを一定に保つためである。
は、Te ターゲット表面には多くのO2が化合物として存
在するため、膜質を一定にするためには、TeOx の初期
形成時にはO2濃度の低い混合ガスにて反応性スパッタリ
ングし、順次O2濃度を増加させ、TeとO2との組成Stoic
hiometryを一定に保つためである。
第4図は本発明の他の実施例を示し、装置を説明するた
め、断面を示す模式図にて示す。
め、断面を示す模式図にて示す。
22は電子ビーム蒸着装置であり、予備真空室23,2
4と蒸着室25とから構成される。蒸着室25にはるつ
ぼ26があり、この中に蒸着源であるTe 27が置かれ
ている。さらにガス導入口28が設けられ、この中に
(1)Ar+O2濃度5%の混合ガス29、(2)Ar+O2濃度1
0%の混合ガス30、(3)Ar+O2濃度20%の混合ガス
31が設けられ、各々の導入口の前には、ガス流量制御
装置32,33,34が設けられている。
4と蒸着室25とから構成される。蒸着室25にはるつ
ぼ26があり、この中に蒸着源であるTe 27が置かれ
ている。さらにガス導入口28が設けられ、この中に
(1)Ar+O2濃度5%の混合ガス29、(2)Ar+O2濃度1
0%の混合ガス30、(3)Ar+O2濃度20%の混合ガス
31が設けられ、各々の導入口の前には、ガス流量制御
装置32,33,34が設けられている。
樹脂基板2は予備真空室23を通過したのち、蒸着室2
5に入り、ガス導入口28より各々流量が制御された混
合ガスが順次導入され、Te 蒸発時にO2と反応し、TeOx
が樹脂基板2上に形成され、記録膜が形成される。こ
れらの反応性蒸着法を用いれば、Te とO2とのStoichio
metryを一定に制御することが可能である。また、TeOx
のxの値を記録膜の厚さ方向に任意に制御することも可
能である。
5に入り、ガス導入口28より各々流量が制御された混
合ガスが順次導入され、Te 蒸発時にO2と反応し、TeOx
が樹脂基板2上に形成され、記録膜が形成される。こ
れらの反応性蒸着法を用いれば、Te とO2とのStoichio
metryを一定に制御することが可能である。また、TeOx
のxの値を記録膜の厚さ方向に任意に制御することも可
能である。
第5図に本発明の反応性蒸着法により形成されたTeOx
記録膜の断面図を示す。記録膜の初期のStoichiometry
はTeO1.0の記録膜35で、後期のStoichiometryはTeO
1.5の記録膜36が得られた。
記録膜の断面図を示す。記録膜の初期のStoichiometry
はTeO1.0の記録膜35で、後期のStoichiometryはTeO
1.5の記録膜36が得られた。
発明の効果 以上のように本発明は、基板上に記録膜としてO2濃度
比を変化させたO2を含む混合ガスを導入させ、TeとO2
との組成比を変化させる反応性蒸着法により、TeOx を
安定して形成することが可能であり、しかも、記録膜の
厚さ方向にその組成比を任意にコントロールすることが
でき、信頼性の高い優れた記録膜を形成することができ
る。
比を変化させたO2を含む混合ガスを導入させ、TeとO2
との組成比を変化させる反応性蒸着法により、TeOx を
安定して形成することが可能であり、しかも、記録膜の
厚さ方向にその組成比を任意にコントロールすることが
でき、信頼性の高い優れた記録膜を形成することができ
る。
また、本発明によれば、装置の自動化や連続生産が可能
なことより、量産性を図ることができるため、信頼性の
高い良質の記録膜を有する光ディスクを安価に量産する
ことができるという効果がある。
なことより、量産性を図ることができるため、信頼性の
高い良質の記録膜を有する光ディスクを安価に量産する
ことができるという効果がある。
第1図a,b,cは一般的な光ディスクであるディジタ
ル信号記録再生ディスクの平面図,断面図、および要部
拡大図、第2図は従来の光ディスクの記録膜作成装置の
断面図、第3図は本発明の一実施例を示す断面を示す模
式図、第4図は本発明の他の実施例の断面を示す模式
図、第5図は本発明の光ディスク製造方法により得られ
た光ディスクの断面図である。 1……ディスク、2……樹脂基板、3……案内溝、4…
…記録膜、5……保護膜、6……半導体レーザ、11…
…スパッター装置、12,13,23,24……予備真
空室、14……スパッター室、15……Te ターゲッ
ト、26……るつぼ、27……Te 、25……蒸着室、
16,29……Ar+O2濃度5%の混合ガス、17,3
0……Ar+O2濃度10%の混合ガス、18,31……A
r+O2濃度20%の混合ガス、19,20,21,28
……ガス導入口、32,33,34……ガス流量制御装
置、35……TeO1.0の記録膜、36……TeO1.5の記録
膜。
ル信号記録再生ディスクの平面図,断面図、および要部
拡大図、第2図は従来の光ディスクの記録膜作成装置の
断面図、第3図は本発明の一実施例を示す断面を示す模
式図、第4図は本発明の他の実施例の断面を示す模式
図、第5図は本発明の光ディスク製造方法により得られ
た光ディスクの断面図である。 1……ディスク、2……樹脂基板、3……案内溝、4…
…記録膜、5……保護膜、6……半導体レーザ、11…
…スパッター装置、12,13,23,24……予備真
空室、14……スパッター室、15……Te ターゲッ
ト、26……るつぼ、27……Te 、25……蒸着室、
16,29……Ar+O2濃度5%の混合ガス、17,3
0……Ar+O2濃度10%の混合ガス、18,31……A
r+O2濃度20%の混合ガス、19,20,21,28
……ガス導入口、32,33,34……ガス流量制御装
置、35……TeO1.0の記録膜、36……TeO1.5の記録
膜。
Claims (4)
- 【請求項1】基板上に記録膜として、酸素濃度比を連続
的に変化させた酸素を含む混合ガスを導入させることに
より、テルル(Te) と酸素との組成比を変化させる反応
性蒸着法によりテルル酸化物を形成することを特徴とす
る光ディスクの製造方法。 - 【請求項2】蒸着室内に、あらかじめ酸素濃度比の異な
る数種の混合ガスと同数のガス導入口を設け、上記蒸着
室内で反応性蒸着法によりテルル酸化物を形成すること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光ディスクの
製造方法。 - 【請求項3】蒸着室内にガス導入口を設け、上記ガス導
入口の前にO2の濃度比を制御するためのガス流量制御装
置を設け、上記蒸着室内で反応性蒸着法によりテルル酸
化物を形成することを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の光ディスクの製造方法。 - 【請求項4】反応性蒸着法としては、反応性スパッタリ
ング,反応性電子ビーム蒸着,反応性イオンプレーティ
ング法であり、連続的に反応性蒸着により記録膜が作成
できる連続蒸着装置を用いて上記記録膜が形成できるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光ディスク
の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3080184A JPH0630177B2 (ja) | 1984-02-21 | 1984-02-21 | 光デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3080184A JPH0630177B2 (ja) | 1984-02-21 | 1984-02-21 | 光デイスクの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60175227A JPS60175227A (ja) | 1985-09-09 |
JPH0630177B2 true JPH0630177B2 (ja) | 1994-04-20 |
Family
ID=12313779
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3080184A Expired - Lifetime JPH0630177B2 (ja) | 1984-02-21 | 1984-02-21 | 光デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0630177B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1691362B1 (en) * | 2003-12-01 | 2010-04-21 | Sony Corporation | Process for producing original disc for optical disc and original disc for optical disc |
-
1984
- 1984-02-21 JP JP3080184A patent/JPH0630177B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60175227A (ja) | 1985-09-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |