JPH06300921A - ホログラム素子及び光ヘッド装置 - Google Patents
ホログラム素子及び光ヘッド装置Info
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- JPH06300921A JPH06300921A JP5089018A JP8901893A JPH06300921A JP H06300921 A JPH06300921 A JP H06300921A JP 5089018 A JP5089018 A JP 5089018A JP 8901893 A JP8901893 A JP 8901893A JP H06300921 A JPH06300921 A JP H06300921A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ホログラム素子を用いて光利用率の高い光ヘ
ッド装置の小型化を図る。 【構成】 本発明の光ヘッド装置では、反射型の格子層
３の裏面に偏光ビームスプリッタ層１を有するホログラ
ム素子１７を用い、モジュール６０内に光源である半導
体レーザチップ２５とエラー信号及び記録信号検出用の
光検出素子群２６とを一体化して、光ヘッド装置の光学
系を非常に簡素化及び小型化している。
ッド装置の小型化を図る。 【構成】 本発明の光ヘッド装置では、反射型の格子層
３の裏面に偏光ビームスプリッタ層１を有するホログラ
ム素子１７を用い、モジュール６０内に光源である半導
体レーザチップ２５とエラー信号及び記録信号検出用の
光検出素子群２６とを一体化して、光ヘッド装置の光学
系を非常に簡素化及び小型化している。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はビデオディスクや追記
型光ディスク及び書き替え型の相変化光ディスク用光ヘ
ッド装置に関する。
型光ディスク及び書き替え型の相変化光ディスク用光ヘ
ッド装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ビデオディスクや追記型光ディスク及び
書き替え型の相変化光ディスク用光ヘッド装置では、光
利用率を高めるためプリズムタイプの偏光ビームスプリ
ッタや偏光性を有するホログラム素子が用いられてい
る。後者の例として特開平３−２９１２９号公報記載の
偏光子機能を持つホログラム素子を利用した方法があ
る。
書き替え型の相変化光ディスク用光ヘッド装置では、光
利用率を高めるためプリズムタイプの偏光ビームスプリ
ッタや偏光性を有するホログラム素子が用いられてい
る。後者の例として特開平３−２９１２９号公報記載の
偏光子機能を持つホログラム素子を利用した方法があ
る。
【０００３】図５はそのホログラム素子の偏光子機能を
説明するための素子断面図である。基板として複屈折結
晶であるニオブ酸リチウム基板２７を用いてプロトン交
換領域２９と誘電体の位相補償膜２８により格子層を形
成しており、基板結晶の常光は回折させずに素通りさ
せ、異常光は完全に回折させる偏光子機能を有してい
る。
説明するための素子断面図である。基板として複屈折結
晶であるニオブ酸リチウム基板２７を用いてプロトン交
換領域２９と誘電体の位相補償膜２８により格子層を形
成しており、基板結晶の常光は回折させずに素通りさ
せ、異常光は完全に回折させる偏光子機能を有してい
る。
【０００４】格子パターンは光ヘッドの焦点誤差信号、
トラック誤差信号を検出するために図６（ａ）に示すよ
うに回折方向が異なる複数の格子領域から形成されてい
る。同様な格子パターンとして図６（ｂ）のように格子
領域が分割されたパターンもある。
トラック誤差信号を検出するために図６（ａ）に示すよ
うに回折方向が異なる複数の格子領域から形成されてい
る。同様な格子パターンとして図６（ｂ）のように格子
領域が分割されたパターンもある。
【０００５】図７（ａ）はそのホログラム素子を用いた
光ヘッド装置の光学系を説明するための図である。半導
体レーザ１０から出射した光は、ホログラム素子２０に
常光として入射し回折されずに透過して、コリメーティ
ングレンズ１１、１／４波長板１３、対物レンズ１２を
通過後、光ディスク１４上に集光される。光ディスク１
４からの戻り光は逆の経路を通り、ホログラム素子２０
に再入射する。この戻り光はその偏光面が１／４波長板
１３により元の偏光に対して９０度回転しており、ホロ
グラム素子２０に対して異常光として入射するため完全
に回折される。そして、＋１次回折光５０及び−１次回
折光５１が第１光検出器３０と第２光検出器３１で受光
される。
光ヘッド装置の光学系を説明するための図である。半導
体レーザ１０から出射した光は、ホログラム素子２０に
常光として入射し回折されずに透過して、コリメーティ
ングレンズ１１、１／４波長板１３、対物レンズ１２を
通過後、光ディスク１４上に集光される。光ディスク１
４からの戻り光は逆の経路を通り、ホログラム素子２０
に再入射する。この戻り光はその偏光面が１／４波長板
１３により元の偏光に対して９０度回転しており、ホロ
グラム素子２０に対して異常光として入射するため完全
に回折される。そして、＋１次回折光５０及び−１次回
折光５１が第１光検出器３０と第２光検出器３１で受光
される。
【０００６】図７（ｂ）は光検出器に集光した回折光の
状態を示す図である。図６（ａ）のホログラム上の領域
Ａ５と領域Ｂ６からの回折光は図７（ｂ）に示す収束点
４０と４１に収束する。焦点誤差信号は図６（ａ）のホ
ログラムパターン上の分割線９がナイフエッヂとして働
き、これらの回折光よりダブルナイフエッヂ法で検出さ
れる。トラック誤差信号は図７（ｂ）の収束点４２、４
３に収束する領域Ｃ７と領域Ｄ８からの回折光の光量差
からプッシュプル法で検出される。記録信号は第１光検
出器３０及び第２光検出器３１で受光した光量の和より
検出される。さらに、高次の回折光を受光することによ
り一層信号量を大きくすることができる。
状態を示す図である。図６（ａ）のホログラム上の領域
Ａ５と領域Ｂ６からの回折光は図７（ｂ）に示す収束点
４０と４１に収束する。焦点誤差信号は図６（ａ）のホ
ログラムパターン上の分割線９がナイフエッヂとして働
き、これらの回折光よりダブルナイフエッヂ法で検出さ
れる。トラック誤差信号は図７（ｂ）の収束点４２、４
３に収束する領域Ｃ７と領域Ｄ８からの回折光の光量差
からプッシュプル法で検出される。記録信号は第１光検
出器３０及び第２光検出器３１で受光した光量の和より
検出される。さらに、高次の回折光を受光することによ
り一層信号量を大きくすることができる。
【０００７】図８はプリズムタイプの偏光ビームスプリ
ッタ１８とホログラム素子２１を用いた例である。偏光
ビームスプリッタ１８はＰ偏光は透過し、Ｓ偏光は反射
する偏光特性をもつ。半導体レーザ１０より出射した光
は偏光ビームスプリッタ１８へＰ偏光として入射するよ
うに設定され、透過後コリメーティングレンズ１１、１
／４波長板１３、対物レンズ１２を通り光ディスク１４
に集光される。戻り光は逆の光路を通り１／４波長板１
３によって偏光方向がＳ偏光に変換されるため偏光ビー
ムスプリッタ１８によって全て反射される。その反射光
はホログラム素子２１により回折され第１光検出器３０
と第２光検出器３１で受光される。
ッタ１８とホログラム素子２１を用いた例である。偏光
ビームスプリッタ１８はＰ偏光は透過し、Ｓ偏光は反射
する偏光特性をもつ。半導体レーザ１０より出射した光
は偏光ビームスプリッタ１８へＰ偏光として入射するよ
うに設定され、透過後コリメーティングレンズ１１、１
／４波長板１３、対物レンズ１２を通り光ディスク１４
に集光される。戻り光は逆の光路を通り１／４波長板１
３によって偏光方向がＳ偏光に変換されるため偏光ビー
ムスプリッタ１８によって全て反射される。その反射光
はホログラム素子２１により回折され第１光検出器３０
と第２光検出器３１で受光される。
【０００８】このホログラム素子２１は特に偏光性を必
要とせず、通常の等方性の基板に図６の格子パターンを
形成したものでよい。記録信号及び誤差信号の検出方法
は上に述べた図７の例と同じである。
要とせず、通常の等方性の基板に図６の格子パターンを
形成したものでよい。記録信号及び誤差信号の検出方法
は上に述べた図７の例と同じである。
【０００９】また、特開平３−１２５３４０号公報にホ
ログラムレンズに偏光ビームスプリッタを形成した素子
を用いた光ヘッドが記載されている。
ログラムレンズに偏光ビームスプリッタを形成した素子
を用いた光ヘッドが記載されている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来の光ヘッド
装置に小型化を図るために用いられていた偏光性を有す
るホログラム素子は複屈折結晶基板を用い、また格子形
成方法としてプロトン交換法が必要であったため、基板
材料のコストが高く、製造方法も複雑であった。また、
プリズムタイプの偏光ビームスプリッタを用いた場合
は、光ヘッド装置の小型化が困難であった。
装置に小型化を図るために用いられていた偏光性を有す
るホログラム素子は複屈折結晶基板を用い、また格子形
成方法としてプロトン交換法が必要であったため、基板
材料のコストが高く、製造方法も複雑であった。また、
プリズムタイプの偏光ビームスプリッタを用いた場合
は、光ヘッド装置の小型化が困難であった。
【００１１】本発明の目的は、安価なガラス基板でも偏
光性機能が得られ作製が容易なホログラム素子及びそれ
を利用した小型化が可能な光ヘッド装置を提供すること
にある。
光性機能が得られ作製が容易なホログラム素子及びそれ
を利用した小型化が可能な光ヘッド装置を提供すること
にある。
【００１２】
（１）本発明のホログラム素子は、基板と前記基板表面
の全面に設けられた光ビームスプリッタ層と前記基板裏
面の全面に形成された格子層から少なくとも構成される
ことを特徴とする。
の全面に設けられた光ビームスプリッタ層と前記基板裏
面の全面に形成された格子層から少なくとも構成される
ことを特徴とする。
【００１３】（２）本発明の光ヘッド装置は、光源と、
前記光源からの光を記録媒体上に絞り込む結像レンズ系
と、前記記録媒体からの戻り光の偏光を前記光源からの
光の偏光と直交するように変換する４分の１波長板と、
前記光源からの光を前記結像レンズ系へ回折せずに反射
し前記戻り光を回折するホログラム素子と、前記の回折
された光を受光する光検出器から少なくとも構成され、
前記ホログラム素子は（１）に記載のホログラム素子で
あることを特徴とする。
前記光源からの光を記録媒体上に絞り込む結像レンズ系
と、前記記録媒体からの戻り光の偏光を前記光源からの
光の偏光と直交するように変換する４分の１波長板と、
前記光源からの光を前記結像レンズ系へ回折せずに反射
し前記戻り光を回折するホログラム素子と、前記の回折
された光を受光する光検出器から少なくとも構成され、
前記ホログラム素子は（１）に記載のホログラム素子で
あることを特徴とする。
【００１４】（３）本発明のホログラム素子は、基板と
前記基板表面全面に設けられた偏光ビームスプリッタ層
と前記基板裏面の全面に形成された格子層と前記格子層
上の全面に形成された全反射膜から少なくとも構成され
ることを特徴とする。
前記基板表面全面に設けられた偏光ビームスプリッタ層
と前記基板裏面の全面に形成された格子層と前記格子層
上の全面に形成された全反射膜から少なくとも構成され
ることを特徴とする。
【００１５】（４）本発明の光ヘッド装置は、光源と、
前記光源からの光を記録媒体上に絞り込む結像レンズ系
と、前記記録媒体からの戻り光の偏光を前記光源からの
光の偏光と直交するように変換する４分の１波長板と、
前記光源からの光を前記結像レンズ系へ回折せずに反射
し前記戻り光を回折するホログラム素子と、前記回折さ
れた光を受光する光検出器から少なくとも構成され、前
記ホログラム素子は（３）に記載のホログラム素子であ
ることを特徴とする。
前記光源からの光を記録媒体上に絞り込む結像レンズ系
と、前記記録媒体からの戻り光の偏光を前記光源からの
光の偏光と直交するように変換する４分の１波長板と、
前記光源からの光を前記結像レンズ系へ回折せずに反射
し前記戻り光を回折するホログラム素子と、前記回折さ
れた光を受光する光検出器から少なくとも構成され、前
記ホログラム素子は（３）に記載のホログラム素子であ
ることを特徴とする。
【００１６】
【作用】本発明のホログラム素子は図１に示すように偏
光性を特に持たない格子層２と反対側の面に偏光ビーム
スプリッタ層１を設けることにより光ヘッドの小型化を
実現する。つまり偏光ビームスプリッタ層１は従来の技
術で述べた偏光ビームスプリッタ１８と同じく光ディス
クへ向かう光と光ディスクからの戻り光の光路の分離を
行ない、偏光ビームスプリッタ層１を透過してきた戻り
光を反対面の格子層２によって回折しながら受光面に導
き誤差信号及び記録信号の検出をおこなう。
光性を特に持たない格子層２と反対側の面に偏光ビーム
スプリッタ層１を設けることにより光ヘッドの小型化を
実現する。つまり偏光ビームスプリッタ層１は従来の技
術で述べた偏光ビームスプリッタ１８と同じく光ディス
クへ向かう光と光ディスクからの戻り光の光路の分離を
行ない、偏光ビームスプリッタ層１を透過してきた戻り
光を反対面の格子層２によって回折しながら受光面に導
き誤差信号及び記録信号の検出をおこなう。
【００１７】
【実施例】図１は本発明の透過型のホログラム素子の第
１の実施例の断面図である。この素子の偏光ビームスプ
リッタ層１は特定の偏光を全て反射し、それに直交する
偏光は全て透過させる偏光分離特性をもち、誘電体多層
膜で実現できる。格子層２はガラス等の誘電体やプラス
チックの基板に図１に示すような凹凸を形成しており、
基板を侵食して凹部分を形成するか、誘電体やフォトレ
ジスト等の新たな物質を堆積して凸部分を形成してい
る。或は、基板表面に光硬化性樹脂を塗布し、格子パタ
ーンを持った凹凸形状の金型を押し付けながら光で硬化
させて形成したり、熱等で軟化したプラスチック基板に
金型を押し付けて転写して格子層２を形成することもで
きる。また、凹凸形状でなく屈折率の高低で対応させて
もよく、その方法としてガラス等の誘電体に対してはイ
オン交換法などがある。
１の実施例の断面図である。この素子の偏光ビームスプ
リッタ層１は特定の偏光を全て反射し、それに直交する
偏光は全て透過させる偏光分離特性をもち、誘電体多層
膜で実現できる。格子層２はガラス等の誘電体やプラス
チックの基板に図１に示すような凹凸を形成しており、
基板を侵食して凹部分を形成するか、誘電体やフォトレ
ジスト等の新たな物質を堆積して凸部分を形成してい
る。或は、基板表面に光硬化性樹脂を塗布し、格子パタ
ーンを持った凹凸形状の金型を押し付けながら光で硬化
させて形成したり、熱等で軟化したプラスチック基板に
金型を押し付けて転写して格子層２を形成することもで
きる。また、凹凸形状でなく屈折率の高低で対応させて
もよく、その方法としてガラス等の誘電体に対してはイ
オン交換法などがある。
【００１８】図１０は透過型のホログラム素子の第２の
実施例の断面図である。偏光ビームスプリッタ層のみを
有する偏光ビームスプリッタ板５５を格子基板５６に張
り付けることによっても構成が可能である。
実施例の断面図である。偏光ビームスプリッタ層のみを
有する偏光ビームスプリッタ板５５を格子基板５６に張
り付けることによっても構成が可能である。
【００１９】図２（ａ）は透過型ホログラム素子を用い
た本発明の光ヘッド装置の実施例の図である。ホログラ
ム素子１６は上で述べた構造となっており、その格子パ
ターンはエラー信号検出用に従来の技術で述べた図６に
示すパターンとなっている。光源の半導体レーザ１０か
らの光はホログラム素子１６にこの偏光ビームスプリッ
タ層１で全反射される偏光で入射する。その反射光はコ
リメーティングレンズ１１でコリーメートされ、１／４
波長板１３、対物レンズ１２を通過後、光ディスク１４
上に集光される。光ディスク１４で反射された戻り光は
逆の光路をとおりホログラム素子１６に再入射する。こ
の時の偏光は１／４波長板１３の往復の通過により元の
偏光方向から９０度回転しているためホログラム素子１
６の偏光ビームスプリッタ層１を透過後、裏面の格子層
２により回折され、その回折光は第１及び第２光検出器
３０、３１で受光される。
た本発明の光ヘッド装置の実施例の図である。ホログラ
ム素子１６は上で述べた構造となっており、その格子パ
ターンはエラー信号検出用に従来の技術で述べた図６に
示すパターンとなっている。光源の半導体レーザ１０か
らの光はホログラム素子１６にこの偏光ビームスプリッ
タ層１で全反射される偏光で入射する。その反射光はコ
リメーティングレンズ１１でコリーメートされ、１／４
波長板１３、対物レンズ１２を通過後、光ディスク１４
上に集光される。光ディスク１４で反射された戻り光は
逆の光路をとおりホログラム素子１６に再入射する。こ
の時の偏光は１／４波長板１３の往復の通過により元の
偏光方向から９０度回転しているためホログラム素子１
６の偏光ビームスプリッタ層１を透過後、裏面の格子層
２により回折され、その回折光は第１及び第２光検出器
３０、３１で受光される。
【００２０】図２（ｂ）は各光検出器での回折光の状態
を示しており、従来の技術で述べた方法と同様にして焦
点、トラック誤差信号及び記録信号が検出される。
を示しており、従来の技術で述べた方法と同様にして焦
点、トラック誤差信号及び記録信号が検出される。
【００２１】図３は本発明の反射型のホログラム素子の
第１の実施例の断面図である。偏光ビームスプリッタ層
１は図１の透過型と同じ特性をもっており、全反射膜４
は金属膜或は、誘電体膜で形成する。
第１の実施例の断面図である。偏光ビームスプリッタ層
１は図１の透過型と同じ特性をもっており、全反射膜４
は金属膜或は、誘電体膜で形成する。
【００２２】図１１は反射型のホログラム素子の第２の
実施例の断面図である。偏光ビームスプリッタ層のみを
有する偏光ビームスプリッタ板５５を全反射膜を有する
格子基板５７に張り付けることによっても構成が可能で
ある。
実施例の断面図である。偏光ビームスプリッタ層のみを
有する偏光ビームスプリッタ板５５を全反射膜を有する
格子基板５７に張り付けることによっても構成が可能で
ある。
【００２３】図４は反射型のホログラム素子を用いた本
発明の光ヘッド装置の第１の実施例の図である。ホログ
ラム素子１７は上で述べた構造となっており、その格子
パターンはエラー信号検出用に従来の技術で述べた図６
に示すパターンとなっている。光源の半導体レーザ１０
からの光はホログラム素子１７にこの偏光ビームスプリ
ッタ層１で反射される偏光で入射する。その反射光はコ
リメーティングレンズ１１でコリーメートされ、１／４
波長板１３、対物レンズ１２を通過後、光ディスク１４
上に集光される。
発明の光ヘッド装置の第１の実施例の図である。ホログ
ラム素子１７は上で述べた構造となっており、その格子
パターンはエラー信号検出用に従来の技術で述べた図６
に示すパターンとなっている。光源の半導体レーザ１０
からの光はホログラム素子１７にこの偏光ビームスプリ
ッタ層１で反射される偏光で入射する。その反射光はコ
リメーティングレンズ１１でコリーメートされ、１／４
波長板１３、対物レンズ１２を通過後、光ディスク１４
上に集光される。
【００２４】光ディスク１４で反射された戻り光は逆の
光路のとおりホログラム素子１７に再入射する。この時
の偏光は１／４波長板１３の往復の通過により元の偏光
方向から９０度回転しているためホログラム素子１７の
偏光ビームスプリッタ層１を透過後、裏面に全反射膜４
が形成された格子層３により回折され、その回折光は第
１及び第２光検出器３０、３１で受光される。この回折
光は偏光ビームスプリッタ層１を通過できる偏光のため
損失なく光検出器へ向かう。
光路のとおりホログラム素子１７に再入射する。この時
の偏光は１／４波長板１３の往復の通過により元の偏光
方向から９０度回転しているためホログラム素子１７の
偏光ビームスプリッタ層１を透過後、裏面に全反射膜４
が形成された格子層３により回折され、その回折光は第
１及び第２光検出器３０、３１で受光される。この回折
光は偏光ビームスプリッタ層１を通過できる偏光のため
損失なく光検出器へ向かう。
【００２５】図４（ｂ）は各光検出器での回折光の状態
を示しており、従来の技術で述べた方法と同様にして焦
点、トラック誤差信号及び記録信号が検出される。
を示しており、従来の技術で述べた方法と同様にして焦
点、トラック誤差信号及び記録信号が検出される。
【００２６】図９（ａ）は反射型のホログラム素子を用
いた本発明の光ヘッド装置の第２の実施例の図で、上記
の第１の実施例の半導体レーザと光検出器をモジュール
６０内に一体化している。図９（ｂ）はそのモジュール
６０の図である。半導体レーザチップ２５から出射した
光は立ち上げミラー２４で反射されホログラム素子１７
へ向かう。また、ホログラム素子１７からの戻り光は光
検出素子群２６に入射して従来の技術で述べたように誤
差信号及び記録信号が検出される。
いた本発明の光ヘッド装置の第２の実施例の図で、上記
の第１の実施例の半導体レーザと光検出器をモジュール
６０内に一体化している。図９（ｂ）はそのモジュール
６０の図である。半導体レーザチップ２５から出射した
光は立ち上げミラー２４で反射されホログラム素子１７
へ向かう。また、ホログラム素子１７からの戻り光は光
検出素子群２６に入射して従来の技術で述べたように誤
差信号及び記録信号が検出される。
【００２７】上で述べた光ヘッド装置の記録信号検出に
は、＋１次回折光と−１次回折光のみを用いているが、
＋１次回折光、−１次回折光以外に０次回折光及び高次
の回折光それぞれ又は、それらの光量和よりも検出する
ことができる。
は、＋１次回折光と−１次回折光のみを用いているが、
＋１次回折光、−１次回折光以外に０次回折光及び高次
の回折光それぞれ又は、それらの光量和よりも検出する
ことができる。
【００２８】上で述べたホログラム素子の格子パターン
は図６に示す分割されたパターン以外にも種々のものが
可能で、特に光ヘッド装置構成は格子パターンに制限さ
れない。例えば、非点収差法によるフォーカス信号検出
用に、非点収差を有する回折光を発生する格子パターン
などがあり、それに応じて光検出器の受光面パターンの
みを変えればよい。
は図６に示す分割されたパターン以外にも種々のものが
可能で、特に光ヘッド装置構成は格子パターンに制限さ
れない。例えば、非点収差法によるフォーカス信号検出
用に、非点収差を有する回折光を発生する格子パターン
などがあり、それに応じて光検出器の受光面パターンの
みを変えればよい。
【００２９】
【発明の効果】本発明のホログラム素子は通常の製造が
簡単な偏光性を持たない格子基板の裏面に偏光ビームス
プリッタ層を設けるだけで構成でき、これにより光利用
率が高く、小型な光ヘッド装置を構成することができ
る。また、ホログラム素子を反射型にすることにより、
光源と光検出器をモジュール化することも可能となり、
光ヘッド装置の一層の小型化及び、薄型化が実現でき
る。
簡単な偏光性を持たない格子基板の裏面に偏光ビームス
プリッタ層を設けるだけで構成でき、これにより光利用
率が高く、小型な光ヘッド装置を構成することができ
る。また、ホログラム素子を反射型にすることにより、
光源と光検出器をモジュール化することも可能となり、
光ヘッド装置の一層の小型化及び、薄型化が実現でき
る。
【図１】本発明の透過型のホログラム素子の第１の実施
例を示す断面図である。
例を示す断面図である。
【図２】本発明の透過型のホログラム素子を用いた光ヘ
ッド装置の実施例を説明する図である。
ッド装置の実施例を説明する図である。
【図３】本発明の反射型ホログラム素子の第１の実施例
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図４】本発明の反射型のホログラム素子を用いた光ヘ
ッド装置の第１の実施例を説明する図である。
ッド装置の第１の実施例を説明する図である。
【図５】従来のホログラム素子の断面図である。
【図６】従来のホログラム素子の格子パターンを示す図
である。
である。
【図７】従来の光ヘッド装置を説明する図である。
【図８】従来の光ヘッド装置を説明する図である。
【図９】本発明の反射型のホログラム素子を用いた光ヘ
ッド装置の第２の実施例を説明する図である。
ッド装置の第２の実施例を説明する図である。
【図１０】本発明の透過型のホログラム素子の第２の実
施例を示す断面図である。
施例を示す断面図である。
【図１１】本発明の反射型のホログラム素子の第２の実
施例を示す断面図である。
施例を示す断面図である。
１ 偏光ビームスプリッタ層 ２、３ 格子層 ４ 全反射膜 ５ 領域Ａ ６ 領域Ｂ ７ 領域Ｃ ８ 領域Ｄ ９ 分割線 １０ 半導体レーザ １１ コリメーティングレンズ １２ 対物レンズ １３ １／４波長板 １４ 光ディスク １６、１７、２０、２１ ホログラム素子 １８ 偏光ビームスプリッタ １９ レンズ ２４ 立ち上げミラー ２５ 半導体 レーザチップ ２６ 光検出素子群 ２７ ニオブ酸リチウム基板 ２８ 位相補償膜 ２９ プロトン交換領域 ３０ 第１光検出器 ３１ 第２光検出器 ４０、４１、４２、４３ 収束点 ５０ ＋１次回折光 ５１ −１次回折光 ５５ 偏光ビームスプリッタ板 ５６、５７ 格子基板 ６０ モジュール
Claims (4)
- 【請求項１】 基板と前記基板表面の全面に設けられた
偏光ビームスプリッタ層と前記基板裏面全面に形成され
た格子層から構成されることを特徴とするホログラム素
子。 - 【請求項２】 光源と、前記光源からの光を記録媒体上
に絞り込む結像レンズ系と、前記記録媒体からの戻り光
を前記光源からの光の偏光と直交する偏光に変換する４
分の１波長板と、前記光源からの光を前記結像レンズ系
へ回折せずに反射し前記戻り光を回折するホログラム素
子と、前記の回折された光を受光する光検出器から構成
され、前記ホログラム素子は請求項１に記載のホログラ
ム素子であることを特徴とする光ヘッド装置。 - 【請求項３】 基板と前記基板表面の全面に設けられた
偏光ビームスプリッタ層と前記基板裏面全面に形成され
た格子層と前記格子層上の全面に形成された全反射膜か
ら構成されることを特徴とするホログラム素子。 - 【請求項４】 光源と、前記光源からの光を記録媒体上
に絞り込む結像レンズ系と、前記記録媒体からの戻り光
を前記光源からの光の偏光と直交する偏光に変換する４
分の１波長板と、前記光源からの光を前記結像レンズ系
へ回折せずに反射し前記戻り光を回折するホログラム素
子と、前記の回折された光を受光する光検出器から構成
され、前記ホログラム素子は請求項３に記載のホログラ
ム素子であることを特徴とする光ヘッド装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5089018A JPH06300921A (ja) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | ホログラム素子及び光ヘッド装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5089018A JPH06300921A (ja) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | ホログラム素子及び光ヘッド装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06300921A true JPH06300921A (ja) | 1994-10-28 |
Family
ID=13959173
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5089018A Pending JPH06300921A (ja) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | ホログラム素子及び光ヘッド装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06300921A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0954972A (ja) * | 1995-08-15 | 1997-02-25 | Nec Corp | 光ヘッド装置 |
| NL1006614C2 (nl) * | 1996-07-30 | 2000-07-13 | Samsung Electronics Co Ltd | Optische pick-up. |
| KR100403597B1 (ko) * | 2001-08-30 | 2003-10-30 | 삼성전자주식회사 | 홀로그램이 형성된 빔스프리터를 구비하는 광픽업장치 및이를 이용한 광축보정방법 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61219001A (ja) * | 1985-03-25 | 1986-09-29 | Fujitsu Ltd | 回折格子 |
| JPS62124637A (ja) * | 1985-11-25 | 1987-06-05 | Mitsubishi Electric Corp | 光ピツクアツプ |
| JPH0413256A (ja) * | 1990-04-28 | 1992-01-17 | Fujitsu Ltd | 複合ビームスプリッタ素子、及びこれを用いた光磁気ディスク用光学ヘッド |
-
1993
- 1993-04-16 JP JP5089018A patent/JPH06300921A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61219001A (ja) * | 1985-03-25 | 1986-09-29 | Fujitsu Ltd | 回折格子 |
| JPS62124637A (ja) * | 1985-11-25 | 1987-06-05 | Mitsubishi Electric Corp | 光ピツクアツプ |
| JPH0413256A (ja) * | 1990-04-28 | 1992-01-17 | Fujitsu Ltd | 複合ビームスプリッタ素子、及びこれを用いた光磁気ディスク用光学ヘッド |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| NL1006614C2 (nl) * | 1996-07-30 | 2000-07-13 | Samsung Electronics Co Ltd | Optische pick-up. |
| KR100403597B1 (ko) * | 2001-08-30 | 2003-10-30 | 삼성전자주식회사 | 홀로그램이 형성된 빔스프리터를 구비하는 광픽업장치 및이를 이용한 광축보정방법 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19960326 |