JPH0629520A - 電界効果トランジスタ - Google Patents
電界効果トランジスタInfo
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- JPH0629520A JPH0629520A JP4179429A JP17942992A JPH0629520A JP H0629520 A JPH0629520 A JP H0629520A JP 4179429 A JP4179429 A JP 4179429A JP 17942992 A JP17942992 A JP 17942992A JP H0629520 A JPH0629520 A JP H0629520A
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- JP
- Japan
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- gates
- gate
- effect transistor
- voltage
- drain
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- Pending
Links
- 230000005669 field effect Effects 0.000 title claims abstract description 15
- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 3
- 241000710542 Chrysichthys cranchii Species 0.000 description 1
- 238000013528 artificial neural network Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
-
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
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- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/7831—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate with multiple gate structure
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- Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 LSIにおけるより高度な機能的集約を実現
し得る電界効果トランジスタを提供することを目的とす
る。 【構成】 ゲートを複数G1…Gn有し、各ゲートには
独立の電極が接続されており、これらゲードの「ゲート
電圧VSドレイン電流」特性の総和の形で出力を生じさ
せる。
し得る電界効果トランジスタを提供することを目的とす
る。 【構成】 ゲートを複数G1…Gn有し、各ゲートには
独立の電極が接続されており、これらゲードの「ゲート
電圧VSドレイン電流」特性の総和の形で出力を生じさ
せる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は電界効果トランジスタ
に関する。
に関する。
【0002】
【従来技術】近年LSI技術の進歩は著しく、高速、大
容量、低消費電力のデバイスが次々と商品化されてい
る。しかしこれらの進歩の原動力は、大部分微細加工技
術の進歩に依存しており、今後の飛躍のためには新たな
LSIプロセスの設備投資が必要になる。因に、1ギガ
バイトDRAMの生産設備投資は1.5兆円と見積もら
れており、1企業の負担限度を越えている。従って、今
後は微細加工技術に依存しないLSI技術の生長が望ま
れる。
容量、低消費電力のデバイスが次々と商品化されてい
る。しかしこれらの進歩の原動力は、大部分微細加工技
術の進歩に依存しており、今後の飛躍のためには新たな
LSIプロセスの設備投資が必要になる。因に、1ギガ
バイトDRAMの生産設備投資は1.5兆円と見積もら
れており、1企業の負担限度を越えている。従って、今
後は微細加工技術に依存しないLSI技術の生長が望ま
れる。
【0003】このような現状において、ニューラルネッ
トワークの研究等、ノイマン型コンピュータからの脱
却、あるいはLSIレベルでのより高度な機能集約とデ
ータ多値化はブレークスルーとなる可能性が高いが、現
在これらに関して確定的な方向付けは為されていない。
トワークの研究等、ノイマン型コンピュータからの脱
却、あるいはLSIレベルでのより高度な機能集約とデ
ータ多値化はブレークスルーとなる可能性が高いが、現
在これらに関して確定的な方向付けは為されていない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】この発明はこのような
現状に鑑みて創案されたもので、LSIにおけるより高
度な機能集約を実現し得る電界効果トランジスタを提供
することを目的とする。
現状に鑑みて創案されたもので、LSIにおけるより高
度な機能集約を実現し得る電界効果トランジスタを提供
することを目的とする。
【0005】
【課題を解決する手段】この発明に係る電界効果トラン
ジスタは、ゲートを複数有し、これらゲートの「ゲート
電圧vsドレイン電流」特性の総和の形で出力を生じさ
せるものである。
ジスタは、ゲートを複数有し、これらゲートの「ゲート
電圧vsドレイン電流」特性の総和の形で出力を生じさ
せるものである。
【0006】
【実施例】次にこの発明に係る電界効果トランジスタの
1実施例を図面に基づいて説明する。 図1は電界効果
トランジスタの平面パターンであり、ソースSとドレイ
ンDとの間に、複数のゲートG1、G2、・・・、Gnが
設けられている。各ゲートに電圧を印加するための導線
は上方に導かれ、上位のレイヤ(図2参照)から給電さ
れる。従って、ゲート両側に位置するソースSおよびド
レインDとの干渉を生じることなく、ゲートに給電し得
る。
1実施例を図面に基づいて説明する。 図1は電界効果
トランジスタの平面パターンであり、ソースSとドレイ
ンDとの間に、複数のゲートG1、G2、・・・、Gnが
設けられている。各ゲートに電圧を印加するための導線
は上方に導かれ、上位のレイヤ(図2参照)から給電さ
れる。従って、ゲート両側に位置するソースSおよびド
レインDとの干渉を生じることなく、ゲートに給電し得
る。
【0007】ここに、単一ゲートにおける、ゲート電圧
vgに対するドレイン電流の特性を I(vg) とすると、複数ゲートにおける特性は、 vgi:i番目のゲートのゲート電圧 と表現される。これらの特性をグラフに表示すると図
3、図4のようになる。
vgに対するドレイン電流の特性を I(vg) とすると、複数ゲートにおける特性は、 vgi:i番目のゲートのゲート電圧 と表現される。これらの特性をグラフに表示すると図
3、図4のようになる。
【0008】従って、電界効果トランジスタは単体で加
算機能を持つことになり、機能の集約化が実現され、L
SIにおける機能レベルでの実装密度を著しく高め得
る。
算機能を持つことになり、機能の集約化が実現され、L
SIにおける機能レベルでの実装密度を著しく高め得
る。
【0009】
【発明の効果】前述のとおり、この発明に係る電界効果
トランジスタは、ゲートを複数設け、これらゲートの
「ゲート電圧vsドレイン電流」特性の総和の形で出力
を生じさせるので、高度な機能集約を実現し得るという
優れた効果を有する。
トランジスタは、ゲートを複数設け、これらゲートの
「ゲート電圧vsドレイン電流」特性の総和の形で出力
を生じさせるので、高度な機能集約を実現し得るという
優れた効果を有する。
【図1】この発明に係る電界効果トランジスタの1実施
例における平面パターンを示す平面図である。
例における平面パターンを示す平面図である。
【図2】同実施例の垂直断面に示す断面図である。
【図3】同実施例の電界効果トランジスタのドレイン電
流特性を示すグラフである。
流特性を示すグラフである。
【図4】従来の電界効果トランジスタのドレイン電流特
性を示すグラフである。
性を示すグラフである。
G ゲート S ソース D ドレイン gv ゲート電圧
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 寿 国梁 東京都世田谷区北沢3−5−18 株式会社 鷹山内 (72)発明者 高取 直 東京都世田谷区北沢3−5−18 株式会社 鷹山内 (72)発明者 山本 誠 東京都世田谷区北沢3−5−18 株式会社 鷹山内
Claims (3)
- 【請求項1】 ソース、ゲートおよびドレインを有する
電界効果トランジスタにおいて、ゲートは複数設けら
れ、各ゲートには独立の電極が接続されていることを特
徴とする電界効果トランジスタ。 - 【請求項2】 ソース、ゲートおよびドレインはLSI
の同一レイヤに形成され、各ゲートに電圧を印加するた
めの導線は、前記レイヤより上位のレイヤに導かれてい
ることを特徴とする請求項1記載の電界効果トランジス
タ。 - 【請求項3】 各ゲートは均一に形成されていることを
特徴とする請求項1記載の電界効果トランジスタ。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4179429A JPH0629520A (ja) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | 電界効果トランジスタ |
KR1019930009886A KR940001458A (ko) | 1992-06-12 | 1993-06-02 | 전계효과 트랜지스터 |
EP93109418A EP0577998B1 (en) | 1992-06-12 | 1993-06-11 | Field effect transistor |
DE69317480T DE69317480T2 (de) | 1992-06-12 | 1993-06-11 | Feldeffekttransistor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4179429A JPH0629520A (ja) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | 電界効果トランジスタ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0629520A true JPH0629520A (ja) | 1994-02-04 |
Family
ID=16065708
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4179429A Pending JPH0629520A (ja) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | 電界効果トランジスタ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0577998B1 (ja) |
JP (1) | JPH0629520A (ja) |
KR (1) | KR940001458A (ja) |
DE (1) | DE69317480T2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3355598A (en) * | 1964-11-25 | 1967-11-28 | Rca Corp | Integrated logic arrays employing insulated-gate field-effect devices having a common source region and shared gates |
JPS5753151A (en) * | 1980-09-16 | 1982-03-30 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | And circuit |
JPH0695570B2 (ja) * | 1985-02-07 | 1994-11-24 | 三菱電機株式会社 | 半導体集積回路装置 |
US5005059A (en) * | 1989-05-01 | 1991-04-02 | Motorola, Inc. | Digital-to-analog converting field effect device and circuitry |
-
1992
- 1992-06-12 JP JP4179429A patent/JPH0629520A/ja active Pending
-
1993
- 1993-06-02 KR KR1019930009886A patent/KR940001458A/ko not_active Application Discontinuation
- 1993-06-11 DE DE69317480T patent/DE69317480T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-06-11 EP EP93109418A patent/EP0577998B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69317480T2 (de) | 1998-07-09 |
KR940001458A (ko) | 1994-01-11 |
DE69317480D1 (de) | 1998-04-23 |
EP0577998A3 (ja) | 1994-02-16 |
EP0577998B1 (en) | 1998-03-18 |
EP0577998A2 (en) | 1994-01-12 |
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