JPH06291023A - 露光光投射装置 - Google Patents
露光光投射装置Info
- Publication number
- JPH06291023A JPH06291023A JP5078400A JP7840093A JPH06291023A JP H06291023 A JPH06291023 A JP H06291023A JP 5078400 A JP5078400 A JP 5078400A JP 7840093 A JP7840093 A JP 7840093A JP H06291023 A JPH06291023 A JP H06291023A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure light
- segments
- mirror
- light
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】従来、行なっていたアパーチャの交換操作を無
くして光学部品の汚染を防止するとともに無駄な時間の
浪費を無くす。また、転写パターンに適合する露光光の
遮光形状に瞬時に変えられるようにして適切なコヒーレ
ンスファクタをもつ照明光を投射する。 【構成】露光光５を一方向に反射するミラー１を四角形
状のセグメント１ａに分割し、これらセグメント１ａの
一端を支点として回転し得るようにし、これらセグメン
ト１ａの中から任意に選択し選ばれたセグメント１ａを
回転させミラーの反射面から外し、セグメント１ａの回
転により生ずる開口より露光光２を通過させ所望の遮光
形状を形成する。
くして光学部品の汚染を防止するとともに無駄な時間の
浪費を無くす。また、転写パターンに適合する露光光の
遮光形状に瞬時に変えられるようにして適切なコヒーレ
ンスファクタをもつ照明光を投射する。 【構成】露光光５を一方向に反射するミラー１を四角形
状のセグメント１ａに分割し、これらセグメント１ａの
一端を支点として回転し得るようにし、これらセグメン
ト１ａの中から任意に選択し選ばれたセグメント１ａを
回転させミラーの反射面から外し、セグメント１ａの回
転により生ずる開口より露光光２を通過させ所望の遮光
形状を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は露光装置における照明系
である露光光投射装置に関する。
である露光光投射装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体装置の高集積化に伴ない微
細化技術が進み、特にフォトリソグラフィ技術の進歩が
目まぐるしい。このフォトリソグラフィ技術の進歩は露
光装置の開発に負うところが多い。しかしながら、年々
微細化が進む現在では、投影レンズの開発だけで解像力
や焦点深度の向上を行なうには限界があり対応できなく
なる。ところが、最近、照明レンズ系をもつ露光光投射
装置の投射光の遮光分の形状を変えることで解像度、焦
点深度を向上させる方法が検討されている。
細化技術が進み、特にフォトリソグラフィ技術の進歩が
目まぐるしい。このフォトリソグラフィ技術の進歩は露
光装置の開発に負うところが多い。しかしながら、年々
微細化が進む現在では、投影レンズの開発だけで解像力
や焦点深度の向上を行なうには限界があり対応できなく
なる。ところが、最近、照明レンズ系をもつ露光光投射
装置の投射光の遮光分の形状を変えることで解像度、焦
点深度を向上させる方法が検討されている。
【０００３】図４は従来の露光光投射装置の一例を説明
するための露光装置の構成の概略を示す図、図５は従来
の露光光投射装置の他の例を説明するためのアパーチャ
を保持する円板を示す平面図である。従来、この種の露
光光投射装置は、例えば、図４に示すように、光源から
の露光光を透過する蠅の目レンズ９と、蠅の目レンズ９
を透過した露光光を部分的に遮光するアパーチャ１０
と、アパーチャ１０を透過した露光光を一方向に反射す
るミラー１１とで構成されていた。
するための露光装置の構成の概略を示す図、図５は従来
の露光光投射装置の他の例を説明するためのアパーチャ
を保持する円板を示す平面図である。従来、この種の露
光光投射装置は、例えば、図４に示すように、光源から
の露光光を透過する蠅の目レンズ９と、蠅の目レンズ９
を透過した露光光を部分的に遮光するアパーチャ１０
と、アパーチャ１０を透過した露光光を一方向に反射す
るミラー１１とで構成されていた。
【０００４】この露光光投射装置で遮光形状（またはコ
ヒーレンスファクターσ値）を変える場合は、アパーチ
ャ１０を変えることで行なっていた。また、他の装置例
としては、図５に示すように、何種類かの遮光形状をも
つアパーチャ１０が保持された円板１６を回転し、適切
なアパーチャ１０をミラー１１と蠅の目レンズ９との間
に挿入していた。
ヒーレンスファクターσ値）を変える場合は、アパーチ
ャ１０を変えることで行なっていた。また、他の装置例
としては、図５に示すように、何種類かの遮光形状をも
つアパーチャ１０が保持された円板１６を回転し、適切
なアパーチャ１０をミラー１１と蠅の目レンズ９との間
に挿入していた。
【０００５】そして、アパーチャ１０で遮光形状が変え
られた露光光はコンデンサレンズ１２を介してレチクル
１３に投射され、投影レンズ１４でレチクル１３のパタ
ーンを縮小しウェーハ１５に転写していた。
られた露光光はコンデンサレンズ１２を介してレチクル
１３に投射され、投影レンズ１４でレチクル１３のパタ
ーンを縮小しウェーハ１５に転写していた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の露光光
投射装置では、遮光形状を変えるのにアパーチャを交換
しなければらない。このことは自動にせよ手動にせよ、
機械的にアパーチャを動かす動作が伴なう。その結果、
交換時に発塵し光学系に損傷をもたらす恐れがある。ま
た、遮光形状に制限があるため露光するパターンに適合
する遮光形状にすることが困難となる。さらに、この交
換動作を行なうのに時間がかかり、何種類のパターンを
連続して転写するのに不都合が生じ、量産性を阻害させ
る問題もある。
投射装置では、遮光形状を変えるのにアパーチャを交換
しなければらない。このことは自動にせよ手動にせよ、
機械的にアパーチャを動かす動作が伴なう。その結果、
交換時に発塵し光学系に損傷をもたらす恐れがある。ま
た、遮光形状に制限があるため露光するパターンに適合
する遮光形状にすることが困難となる。さらに、この交
換動作を行なうのに時間がかかり、何種類のパターンを
連続して転写するのに不都合が生じ、量産性を阻害させ
る問題もある。
【０００７】従って、本発明の目的は、交換動作を必要
とすること無くパターンに適合する露光光の遮光形状に
瞬時に変えられる量産向きの露光光投射装置を提供する
ことである。
とすること無くパターンに適合する露光光の遮光形状に
瞬時に変えられる量産向きの露光光投射装置を提供する
ことである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、光源部
から蠅の目レンズを介して投射される露光光を一方向に
反射するミラーを備える露光光投射装置において、前記
ミラーを四角形状または輪帯形状の複数のセグメントに
分割し、分割されたこれらセグメントの中から任意に選
択して反射面から外し、残りの該セグメントで構成され
る反射面で前記露光光を反射する露光光投射装置であ
る。
から蠅の目レンズを介して投射される露光光を一方向に
反射するミラーを備える露光光投射装置において、前記
ミラーを四角形状または輪帯形状の複数のセグメントに
分割し、分割されたこれらセグメントの中から任意に選
択して反射面から外し、残りの該セグメントで構成され
る反射面で前記露光光を反射する露光光投射装置であ
る。
【０００９】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【００１０】図１（ａ）および（ｂ）は本発明の露光光
投射装置の一実施例を説明するためのミラーを示す平面
図およびミラーを含めた付近にある構成部品を示す断面
図である。この露光光投射装置は、図１に示すように、
露光光２を一方向に反射するミラー１を四角形状のセグ
メント１に分割し、これらセグメント１ａの一端を支点
として回転し得るようにし、これらセグメント１ａの中
から任意に選択し選ばれたセグメント１ａを回転させミ
ラーの反射面から外し、セグメント１ａの回転により生
ずる開口より露光光２を通過させ所望の遮光形状を形成
することである。
投射装置の一実施例を説明するためのミラーを示す平面
図およびミラーを含めた付近にある構成部品を示す断面
図である。この露光光投射装置は、図１に示すように、
露光光２を一方向に反射するミラー１を四角形状のセグ
メント１に分割し、これらセグメント１ａの一端を支点
として回転し得るようにし、これらセグメント１ａの中
から任意に選択し選ばれたセグメント１ａを回転させミ
ラーの反射面から外し、セグメント１ａの回転により生
ずる開口より露光光２を通過させ所望の遮光形状を形成
することである。
【００１１】なお、このセグメント１ａで構成する領域
は、短径に対して長径が√２倍である楕円形状の領域と
したことである。さらに、このセグメント１ａを反射面
に対して４５度回転するように回転自在ピンを介して棒
部材６を連結したことである。勿論、図面には示してい
ないが、棒部材６の後端には、棒部材６を直線案内用の
ブッシュと直線移動駆動用の電磁ソレノイドとスプリン
グがそれぞれに備えられている。また、セグメント１の
裏面側に回転支点となる蝶番機構が取付けられている。
また、通過した露光光２が他の光路に干渉しないように
吸収板３を設けることが望ましい。
は、短径に対して長径が√２倍である楕円形状の領域と
したことである。さらに、このセグメント１ａを反射面
に対して４５度回転するように回転自在ピンを介して棒
部材６を連結したことである。勿論、図面には示してい
ないが、棒部材６の後端には、棒部材６を直線案内用の
ブッシュと直線移動駆動用の電磁ソレノイドとスプリン
グがそれぞれに備えられている。また、セグメント１の
裏面側に回転支点となる蝶番機構が取付けられている。
また、通過した露光光２が他の光路に干渉しないように
吸収板３を設けることが望ましい。
【００１２】図２（ａ）〜（ｃ）は図１のミラーによる
各種遮光形状のパターンを示す図である。このようにセ
グメントを選択し、セグメントを回転させ窓を明け、任
意の遮光形状を形成することが出来る。例えば、図２
（ａ）に示す二分割照明や図２（ｂ）に示す四分割照明
あるいは図２（ｃ）の輪帯照明といった照明パターンを
瞬時に変えることが出来る。また、これらセグメントを
選択し開閉する制御技術は市販のコンピュータ内蔵のプ
ログラムシーケンサで容易に実現できる。
各種遮光形状のパターンを示す図である。このようにセ
グメントを選択し、セグメントを回転させ窓を明け、任
意の遮光形状を形成することが出来る。例えば、図２
（ａ）に示す二分割照明や図２（ｂ）に示す四分割照明
あるいは図２（ｃ）の輪帯照明といった照明パターンを
瞬時に変えることが出来る。また、これらセグメントを
選択し開閉する制御技術は市販のコンピュータ内蔵のプ
ログラムシーケンサで容易に実現できる。
【００１３】図３（ａ）および（ｂ）は本発明の露光光
投射装置の他の実施例を説明するためのミラーを示す平
面図およびミラーを含めた付近にある構成部品を示す断
面図である。この露光光投射装置は、図３に示すよう
に、セグメント１ｂを輪帯形状としたことである。そし
て、セグメント１ｂを選択し、棒部材６ａで引き抜いた
り戻したりして所望の径や幅をもつ輪帯形状の遮光を行
なう。この輪帯形状の遮光パターンは前述の実施例でも
可能であるが、この実施例の場合はより精密な輪帯形状
の遮光パターンを形成できる。
投射装置の他の実施例を説明するためのミラーを示す平
面図およびミラーを含めた付近にある構成部品を示す断
面図である。この露光光投射装置は、図３に示すよう
に、セグメント１ｂを輪帯形状としたことである。そし
て、セグメント１ｂを選択し、棒部材６ａで引き抜いた
り戻したりして所望の径や幅をもつ輪帯形状の遮光を行
なう。この輪帯形状の遮光パターンは前述の実施例でも
可能であるが、この実施例の場合はより精密な輪帯形状
の遮光パターンを形成できる。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、露光光を
反射するミラーを複数のセグメントに分割し、これらセ
グメントを任意に選択し、選択されたセグメントを反射
面から外すことによって、従来のように遮光パターンを
もつアパーチャの交換作業をすることなく瞬時に種々の
遮光形状を変えることができるという効果がある。ま
た、清浄な筐体内で操作ができるので光学部品を汚染す
ることもない。さらに、転写パターンごとに露光光の遮
光パターンを変えて適合するコヒーレンスファクタの露
光光で転写できるので、量産向きであるとと同時により
精密な転写ができるという効果がある。
反射するミラーを複数のセグメントに分割し、これらセ
グメントを任意に選択し、選択されたセグメントを反射
面から外すことによって、従来のように遮光パターンを
もつアパーチャの交換作業をすることなく瞬時に種々の
遮光形状を変えることができるという効果がある。ま
た、清浄な筐体内で操作ができるので光学部品を汚染す
ることもない。さらに、転写パターンごとに露光光の遮
光パターンを変えて適合するコヒーレンスファクタの露
光光で転写できるので、量産向きであるとと同時により
精密な転写ができるという効果がある。
【図１】本発明の露光光投射装置の一実施例を説明する
ためのミラーを示す平面図およびミラーを含めた付近に
ある構成部品を示す断面図である。
ためのミラーを示す平面図およびミラーを含めた付近に
ある構成部品を示す断面図である。
【図２】図１のミラーによる各種遮光形状のパターンを
示す図である。
示す図である。
【図３】本発明の露光光投射装置の他の実施例を説明す
るためのミラーを示す平面図およびミラーを含めた付近
にある構成部品を示す断面図である。
るためのミラーを示す平面図およびミラーを含めた付近
にある構成部品を示す断面図である。
【図４】従来の露光光投射装置の一例を説明するための
露光装置の構成の概略を示す図である。
露光装置の構成の概略を示す図である。
【図５】従来の露光光投射装置の他の例を説明するため
のアパーチャを保持する円板を示す平面図である。
のアパーチャを保持する円板を示す平面図である。
１，１１ ミーラー １ａ，１ｂ セグメント ２ 露光光 ３ 吸収板 ４ 反射光 ５ 通過光 ６，６ａ 棒部材 ９ 蠅の目レンズ １０ アパーチャ １２ コンデンサレンズ １３ レチクル １４ 投影レンズ １５ ウェーハ １６ 円板
Claims (1)
- 【請求項１】 光源部から蠅の目レンズを介して投射さ
れる露光光を一方向に反射するミラーを備える露光光投
射装置において、前記ミラーを四角形状または輪帯形状
の複数のセグメントに分割し、分割されたこれらセグメ
ントの中から任意に選択して反射面から外し、残りの該
セグメントで構成される反射面で前記露光光を反射する
ことを特徴とする露光光投射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5078400A JPH0777191B2 (ja) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | 露光光投射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5078400A JPH0777191B2 (ja) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | 露光光投射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06291023A true JPH06291023A (ja) | 1994-10-18 |
| JPH0777191B2 JPH0777191B2 (ja) | 1995-08-16 |
Family
ID=13660981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5078400A Expired - Lifetime JPH0777191B2 (ja) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | 露光光投射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0777191B2 (ja) |
Cited By (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1262836A1 (en) * | 2001-06-01 | 2002-12-04 | Asml | Lithographic apparatus |
| WO2003067304A1 (de) * | 2002-02-09 | 2003-08-14 | Carl Zeiss Smt Ag | Facettenspiegel mit mehreren spiegelfacetten |
| US7015491B2 (en) | 2001-06-01 | 2006-03-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby, control system |
| JP2006339634A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
| JP2007531327A (ja) * | 2004-03-31 | 2007-11-01 | インテル コーポレイション | フォトリソグラフィ用光源 |
| JP2009016558A (ja) * | 2007-07-04 | 2009-01-22 | Harison Toshiba Lighting Corp | 紫外線照射ユニット |
| EP1870772A3 (en) * | 2002-03-18 | 2010-10-06 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US8094290B2 (en) | 2007-11-06 | 2012-01-10 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US8144308B2 (en) | 2007-11-08 | 2012-03-27 | Nikon Corporation | Spatial light modulation unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US8279405B2 (en) | 2002-03-18 | 2012-10-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US8792081B2 (en) | 2007-11-06 | 2014-07-29 | Nikon Corporation | Controller for optical device, exposure method and apparatus, and method for manufacturing device |
| US9097981B2 (en) | 2007-10-12 | 2015-08-04 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9116346B2 (en) | 2007-11-06 | 2015-08-25 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
-
1993
- 1993-04-06 JP JP5078400A patent/JPH0777191B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6737662B2 (en) | 2001-06-01 | 2004-05-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, device manufactured thereby, control system, computer program, and computer program product |
| US7015491B2 (en) | 2001-06-01 | 2006-03-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby, control system |
| EP1262836A1 (en) * | 2001-06-01 | 2002-12-04 | Asml | Lithographic apparatus |
| WO2003067304A1 (de) * | 2002-02-09 | 2003-08-14 | Carl Zeiss Smt Ag | Facettenspiegel mit mehreren spiegelfacetten |
| EP1870772A3 (en) * | 2002-03-18 | 2010-10-06 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US8279405B2 (en) | 2002-03-18 | 2012-10-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9885959B2 (en) | 2003-04-09 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator |
| US9760014B2 (en) | 2003-10-28 | 2017-09-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US10281632B2 (en) | 2003-11-20 | 2019-05-07 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction |
| US10241417B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10234770B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10007194B2 (en) | 2004-02-06 | 2018-06-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| JP2007531327A (ja) * | 2004-03-31 | 2007-11-01 | インテル コーポレイション | フォトリソグラフィ用光源 |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| JP2006339634A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
| JP2009016558A (ja) * | 2007-07-04 | 2009-01-22 | Harison Toshiba Lighting Corp | 紫外線照射ユニット |
| US9097981B2 (en) | 2007-10-12 | 2015-08-04 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9857599B2 (en) | 2007-10-24 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US8094290B2 (en) | 2007-11-06 | 2012-01-10 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9551942B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-01-24 | Nikon Corporation | Controller for optical device, exposure method and apparatus, and method for manufacturing device |
| US9946162B2 (en) | 2007-11-06 | 2018-04-17 | Nikon Corporation | Controller for optical device, exposure method and apparatus, and method for manufacturing device |
| US9268235B2 (en) | 2007-11-06 | 2016-02-23 | Nikon Corporation | Controller for optical device, exposure method and apparatus, and method for manufacturing device |
| US9116346B2 (en) | 2007-11-06 | 2015-08-25 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US8792081B2 (en) | 2007-11-06 | 2014-07-29 | Nikon Corporation | Controller for optical device, exposure method and apparatus, and method for manufacturing device |
| US10261421B2 (en) | 2007-11-06 | 2019-04-16 | Nikon Corporation | Controller for optical device, exposure method and apparatus, and method for manufacturing device |
| US8953147B2 (en) | 2007-11-08 | 2015-02-10 | Nikon Corporation | Spatial light modulation unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US8144308B2 (en) | 2007-11-08 | 2012-03-27 | Nikon Corporation | Spatial light modulation unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0777191B2 (ja) | 1995-08-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH06291023A (ja) | 露光光投射装置 | |
| KR100306953B1 (ko) | 투영노광장치및방법 | |
| KR100480620B1 (ko) | 마이크로 미러 어레이를 구비한 노광 장치 및 이를 이용한노광 방법 | |
| US5610684A (en) | Projection exposure apparatus | |
| US5467166A (en) | Projection exposure method and apparatus | |
| JPH06120110A (ja) | 投影露光装置及び露光方法 | |
| JP3391404B2 (ja) | 投影露光方法及び回路素子製造方法 | |
| JPH06252021A (ja) | 投影露光方法および装置 | |
| JPH07122469A (ja) | 投影露光装置 | |
| JP3647272B2 (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
| JP2936190B2 (ja) | 投影露光装置、露光方法および半導体集積回路の製造方法 | |
| JP3296296B2 (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
| JP3647270B2 (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
| JPH06177010A (ja) | 投影露光装置及び投影露光方法 | |
| JP3357928B2 (ja) | 露光方法、デバイス形成方法、及び露光装置 | |
| JPH08148411A (ja) | 投影露光装置 | |
| JP2000031028A (ja) | 露光方法および露光装置 | |
| JP3647271B2 (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
| JP3255297B2 (ja) | 露光方法及び装置、並びに半導体素子の製造方法 | |
| JPH1050590A (ja) | 投影露光装置 | |
| JP2001035777A (ja) | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 | |
| JPH06349698A (ja) | 投影露光方法及び装置 | |
| JPH09312256A (ja) | 投影露光装置 | |
| JPS59117121A (ja) | 投影型マスクアライナ | |
| JPH06224106A (ja) | 投影露光装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19960206 |