JPH06283125A - 走査形電子顕微鏡 - Google Patents
走査形電子顕微鏡Info
- Publication number
- JPH06283125A JPH06283125A JP15373992A JP15373992A JPH06283125A JP H06283125 A JPH06283125 A JP H06283125A JP 15373992 A JP15373992 A JP 15373992A JP 15373992 A JP15373992 A JP 15373992A JP H06283125 A JPH06283125 A JP H06283125A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- foreign matter
- stage
- wafer
- foreign object
- electron microscope
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Abstract
(57)【要約】
【構成】異物情報を元に、異物の大きさに合った適正倍
率に設定し、観察視野面積１１に位置的に再現されない
微小異物でもステージ５をうず巻き状に順次移動させる
ことにより、形状観察できるようにした。 【効果】ウェハ異物検査装置で測定した、微小異物を走
査形電子顕微鏡の適正倍率において、うず巻き状にステ
ージを移動させることにより、容易に短時間で検索が行
え、微小異物の形状観察が行える効果がある。
率に設定し、観察視野面積１１に位置的に再現されない
微小異物でもステージ５をうず巻き状に順次移動させる
ことにより、形状観察できるようにした。 【効果】ウェハ異物検査装置で測定した、微小異物を走
査形電子顕微鏡の適正倍率において、うず巻き状にステ
ージを移動させることにより、容易に短時間で検索が行
え、微小異物の形状観察が行える効果がある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＳＥＭの広域観察の手法
に係り、特にウェハ異物検査装置から出力された異物座
標を元に、適正倍率で異物観察像をＳＥＭのＣＲＴに迅
速に再現させるに好適なＳＥＭの広域観察手法に関す
る。
に係り、特にウェハ異物検査装置から出力された異物座
標を元に、適正倍率で異物観察像をＳＥＭのＣＲＴに迅
速に再現させるに好適なＳＥＭの広域観察手法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来のＳＥＭにおいて、ウェハ異物検査
装置の異物座標をＳＥＭのステージ座標に変換再現し
て、ウェハ異物検査装置からのある異物の位置データを
元に、ＳＥＭのステージを駆動し、ある異物を適当な倍
率で像観察する。
装置の異物座標をＳＥＭのステージ座標に変換再現し
て、ウェハ異物検査装置からのある異物の位置データを
元に、ＳＥＭのステージを駆動し、ある異物を適当な倍
率で像観察する。
【０００３】異物の形状が大きい場合には、ＳＥＭのス
テージ位置精度及びウェハ異物検査装置の異物座標精度
が多少悪くても、観察倍率を小さくすることで観察視野
を大きくすることにより、ＳＥＭのＣＲＴ上に異物観察
像を比較的容易に再現することができた。しかしながら
異物の形状が小さくなると（例えば０.２μｍ)異物の大
きさに適正な観察倍率に設定する必要が生じる。そうす
ると、ステージ位置精度及びウェハ異物検査装置の座標
精度のずれ量が観察視野面積より大きくなり、ＣＲＴ上
に異物像を再現する有効な手段がなかった。
テージ位置精度及びウェハ異物検査装置の異物座標精度
が多少悪くても、観察倍率を小さくすることで観察視野
を大きくすることにより、ＳＥＭのＣＲＴ上に異物観察
像を比較的容易に再現することができた。しかしながら
異物の形状が小さくなると（例えば０.２μｍ)異物の大
きさに適正な観察倍率に設定する必要が生じる。そうす
ると、ステージ位置精度及びウェハ異物検査装置の座標
精度のずれ量が観察視野面積より大きくなり、ＣＲＴ上
に異物像を再現する有効な手段がなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、高倍
率での微小異物形状再現観察において配慮がされておら
ず、作業効率の点で問題があった。
率での微小異物形状再現観察において配慮がされておら
ず、作業効率の点で問題があった。
【０００５】本発明の目的は、ＳＥＭの異物形状再現像
観察において、ウェハ異物検査装置の異物位置座標を変
換して、ＳＥＭのステージにてウェハ上の観察すべき異
物をＳＥＭの観察位置へ移動する。その点に異物が存在
しない場合はＳＥＭのステージを順に移動することによ
り、視野面積を広げることができる。これにより高倍率
観察像で異物形状の像観察の再現を迅速にできる作業効
率の良いＳＥＭを提供することにある。
観察において、ウェハ異物検査装置の異物位置座標を変
換して、ＳＥＭのステージにてウェハ上の観察すべき異
物をＳＥＭの観察位置へ移動する。その点に異物が存在
しない場合はＳＥＭのステージを順に移動することによ
り、視野面積を広げることができる。これにより高倍率
観察像で異物形状の像観察の再現を迅速にできる作業効
率の良いＳＥＭを提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、ＳＥＭのステージのＸ，Ｙ軸制御信号をコントロー
ルしながら、ウェハ異物検査装置の異物位置座標を基
に、目的とする異物をＳＥＭのステージにてＳＥＭの観
察位置へ移動する。異物検査装置及びＳＥＭのステージ
の位置精度の問題で観察位置に異物がない場合は最初の
ステージ位置を中心として、観察倍率に応じて観察視野
の一部（例えば約１０％）をオーバーラップしながら、
ステージをうず巻き状に移動するようにしたものであ
る。
に、ＳＥＭのステージのＸ，Ｙ軸制御信号をコントロー
ルしながら、ウェハ異物検査装置の異物位置座標を基
に、目的とする異物をＳＥＭのステージにてＳＥＭの観
察位置へ移動する。異物検査装置及びＳＥＭのステージ
の位置精度の問題で観察位置に異物がない場合は最初の
ステージ位置を中心として、観察倍率に応じて観察視野
の一部（例えば約１０％）をオーバーラップしながら、
ステージをうず巻き状に移動するようにしたものであ
る。
【０００７】
【作用】ウェハ異物検査装置からの異物データには、異
物位置座標の他に異物の大きさがある。そこでウェハ上
の異物位置をＳＥＭのステージにて実行再現させる前に
異物データからの異物の大きさに合った適正倍率に設定
することができる。ところで異物形状が非常に小さくな
ると、適正倍率を大きくする必要がある。倍率を大きく
すると観察視野面積が小さくなり、異物検査装置での位
置精度、及びSEMのステージの位置精度の関係によりＳ
ＥＭのＣＲＴ上に異物が現われないことが生じる。そこ
で異物データから読みとったステージ座標を原点として
うず巻き状に移動することにより、視野面積を広げるこ
とができ、非常に小さい異物形状でも適正倍率で迅速に
再現観察ができるようになる。
物位置座標の他に異物の大きさがある。そこでウェハ上
の異物位置をＳＥＭのステージにて実行再現させる前に
異物データからの異物の大きさに合った適正倍率に設定
することができる。ところで異物形状が非常に小さくな
ると、適正倍率を大きくする必要がある。倍率を大きく
すると観察視野面積が小さくなり、異物検査装置での位
置精度、及びSEMのステージの位置精度の関係によりＳ
ＥＭのＣＲＴ上に異物が現われないことが生じる。そこ
で異物データから読みとったステージ座標を原点として
うず巻き状に移動することにより、視野面積を広げるこ
とができ、非常に小さい異物形状でも適正倍率で迅速に
再現観察ができるようになる。
【０００８】
【実施例】以下図面を参照し、本発明の一実施例につい
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【０００９】図１は、本発明の装置構成を示す概念図で
ある。最初に測定したウェハ１をウェハ異物検査装置２
に搬送する。ウェハ異物検査装置２では、被測定ウェハ
１上のどの点に異物が存在するかを特定するために、ウ
ェハ上の任意の点を基準にしたウェハ座標を決定する。
ウェハ異物検査装置２内部での異物の検査方法は、ウェ
ハ座標を用いて光をウェハ上全面に照射することによ
り、異物からの錯乱光を捕らえ、ウェハ上のどの位置に
どのくらいの大きさの異物が存在するのかを容易に知る
ことができる。これらの異物情報（異物の存在位置，大
きさの情報等）は、ウェハ異物検査装置２内部のコンピ
ュータ３で管理されている。ウェハ異物検査装置１に光
学顕微鏡が装備している場合には、コンピュータ３から
の制御により、測定異物の形状観察することは容易であ
る。しかしながら光学顕微鏡では、光の波長の限界から
約×１０００倍程度までしか拡大できず、異物の大きさ
としては１μｍ程度までしか形状観察できない。そこで
１μｍ以下の微小異物の大きさの形状観察をするために
は、被測定ウェハ１をＳＥＭ４のステージ５に搬送して
観察する。ところが、ＳＥＭ４側ではウェハ１上の異物
の存在を探すことは困難なため、同時にウェハ異物検査
装置１から異物情報媒体６（通信又はＦ・Ｄを通す）を
通じ、コンピュータ７を介して、異物情報の提供を受け
る。この異物情報を利用することにより、微小異物の存
在場所が分かり、ＳＥＭ側での異物位置を再現させ、微
小異物の形状観察が容易となる。
ある。最初に測定したウェハ１をウェハ異物検査装置２
に搬送する。ウェハ異物検査装置２では、被測定ウェハ
１上のどの点に異物が存在するかを特定するために、ウ
ェハ上の任意の点を基準にしたウェハ座標を決定する。
ウェハ異物検査装置２内部での異物の検査方法は、ウェ
ハ座標を用いて光をウェハ上全面に照射することによ
り、異物からの錯乱光を捕らえ、ウェハ上のどの位置に
どのくらいの大きさの異物が存在するのかを容易に知る
ことができる。これらの異物情報（異物の存在位置，大
きさの情報等）は、ウェハ異物検査装置２内部のコンピ
ュータ３で管理されている。ウェハ異物検査装置１に光
学顕微鏡が装備している場合には、コンピュータ３から
の制御により、測定異物の形状観察することは容易であ
る。しかしながら光学顕微鏡では、光の波長の限界から
約×１０００倍程度までしか拡大できず、異物の大きさ
としては１μｍ程度までしか形状観察できない。そこで
１μｍ以下の微小異物の大きさの形状観察をするために
は、被測定ウェハ１をＳＥＭ４のステージ５に搬送して
観察する。ところが、ＳＥＭ４側ではウェハ１上の異物
の存在を探すことは困難なため、同時にウェハ異物検査
装置１から異物情報媒体６（通信又はＦ・Ｄを通す）を
通じ、コンピュータ７を介して、異物情報の提供を受け
る。この異物情報を利用することにより、微小異物の存
在場所が分かり、ＳＥＭ側での異物位置を再現させ、微
小異物の形状観察が容易となる。
【００１０】図２では、本発明の実施例を示す座標概念
図である。被測定ウェハ上の異物Ｐ８をＳＥＭ側で再現
観察する場合を考える。ステージ５に搬送された被測定
ウェハはステージ座標９上のＸ軸方向とウェハオリフラ
直線部を正確に平行に合わせることは不可能である。し
かしながらウェハ外周の離れた円弧部３点及びウェハオ
リフラ直線部の離れた２点のウエハ形状を観察ＣＲＴの
中央で像観察できるよう、ステージ５を移動し、各点
（ウェハ外周５点）のステージ座標９上での位置を記憶
計算処理（コンピュータは記入していない）することに
より、ウェハ座標１０とステージ座標９上の位置関係が
容易に分かり、異物Ｐ８のウェハ座標Ｐｗ(Ｘｗ，Ｙｗ)
はステージ座標Ｐｓ(Ｘｓ，Ｙｓ)に容易に変換でき、ス
テージ５をＰｓ位置に移動することにより、微小異物Ｐ
８の形状観察ができる。しかし、走査形電子顕微鏡のス
テージ位置精度には精度誤差を有する。また、アライメ
ント（ウェハ座標をステージ座標に変換設定）精度，異
物の検出精度などにより、異物Ｐ８の再現精度には誤差
を有する。この誤差は微小異物観察には無視することは
出来ない。ここで仮に再現精度誤差を２５μｍとし、微
小異物の大きさが０.１μｍの場合、倍率×10,000倍
（ＣＲＴの大きさ１００mm×１００mm)の視野面積は１
０×１０μｍでＣＲＴの中に再現されない。ここで観察
倍率を×2,000倍に下げれば、視野面積が５０×５０μ
ｍに広がり、異物Ｐの存在は、この視野面積内に入って
いるが、観察倍率からＣＲＴ上の拡大像は０.２mm と小
さく、ＣＲＴ上に存在していることが認められない。ま
た観察倍率を上げれば視野面積が小さくなり、異物Ｐ８
の存在を認められない。ところで異物情報には異物の大
きさが入っているため、ＣＲＴ上に現われたとき、確認
できる倍率に設定しておくことができる。そこで観察視
野面積に再現されない異物に対しては図３に示すような
ステージを順次移動させる。適正倍率に設定された異物
がＣＲＴ上に現われない場合でも、観察視野面積１１の
近傍に存在していると考えられる。そこで観察視野面積
１１の一部をオーバーラップしながらうず巻きにステー
ジを移動させることにより、適正倍率で観察視野面積を
大きくしたのと等価になり、微小異物の形状観察が確実
に実施され、検索もれをなくす効果がある。
図である。被測定ウェハ上の異物Ｐ８をＳＥＭ側で再現
観察する場合を考える。ステージ５に搬送された被測定
ウェハはステージ座標９上のＸ軸方向とウェハオリフラ
直線部を正確に平行に合わせることは不可能である。し
かしながらウェハ外周の離れた円弧部３点及びウェハオ
リフラ直線部の離れた２点のウエハ形状を観察ＣＲＴの
中央で像観察できるよう、ステージ５を移動し、各点
（ウェハ外周５点）のステージ座標９上での位置を記憶
計算処理（コンピュータは記入していない）することに
より、ウェハ座標１０とステージ座標９上の位置関係が
容易に分かり、異物Ｐ８のウェハ座標Ｐｗ(Ｘｗ，Ｙｗ)
はステージ座標Ｐｓ(Ｘｓ，Ｙｓ)に容易に変換でき、ス
テージ５をＰｓ位置に移動することにより、微小異物Ｐ
８の形状観察ができる。しかし、走査形電子顕微鏡のス
テージ位置精度には精度誤差を有する。また、アライメ
ント（ウェハ座標をステージ座標に変換設定）精度，異
物の検出精度などにより、異物Ｐ８の再現精度には誤差
を有する。この誤差は微小異物観察には無視することは
出来ない。ここで仮に再現精度誤差を２５μｍとし、微
小異物の大きさが０.１μｍの場合、倍率×10,000倍
（ＣＲＴの大きさ１００mm×１００mm)の視野面積は１
０×１０μｍでＣＲＴの中に再現されない。ここで観察
倍率を×2,000倍に下げれば、視野面積が５０×５０μ
ｍに広がり、異物Ｐの存在は、この視野面積内に入って
いるが、観察倍率からＣＲＴ上の拡大像は０.２mm と小
さく、ＣＲＴ上に存在していることが認められない。ま
た観察倍率を上げれば視野面積が小さくなり、異物Ｐ８
の存在を認められない。ところで異物情報には異物の大
きさが入っているため、ＣＲＴ上に現われたとき、確認
できる倍率に設定しておくことができる。そこで観察視
野面積に再現されない異物に対しては図３に示すような
ステージを順次移動させる。適正倍率に設定された異物
がＣＲＴ上に現われない場合でも、観察視野面積１１の
近傍に存在していると考えられる。そこで観察視野面積
１１の一部をオーバーラップしながらうず巻きにステー
ジを移動させることにより、適正倍率で観察視野面積を
大きくしたのと等価になり、微小異物の形状観察が確実
に実施され、検索もれをなくす効果がある。
【００１１】
【発明の効果】本発明によれば、ウェハ異物検査装置で
測定した微小異物でも走査形電子顕微鏡の適正倍率にお
いて、うず巻き状にステージを移動させることにより、
容易に短時間で異物の検索が行え、異物の外観形状およ
びＸ線分析が行える効果がある。
測定した微小異物でも走査形電子顕微鏡の適正倍率にお
いて、うず巻き状にステージを移動させることにより、
容易に短時間で異物の検索が行え、異物の外観形状およ
びＸ線分析が行える効果がある。
【図１】本発明の装置構成を示す概略図。
【図２】本発明の一実施例を示す座標概略図。
【図３】本発明の一実施例を示すステージ移動の概略
図。
図。
１…被測定ウェハ、２…ウェハ異物検査装置、３…コン
ピュータ、４…走査形電子顕微鏡(ＳＥＭ)、５…ステー
ジ、６…異物情報媒体、７…コンピュータ、８…異物
Ｐ、９…ステージ座標、１０…ウェハ座標、１１…観察
視野面積。
ピュータ、４…走査形電子顕微鏡(ＳＥＭ)、５…ステー
ジ、６…異物情報媒体、７…コンピュータ、８…異物
Ｐ、９…ステージ座標、１０…ウェハ座標、１１…観察
視野面積。
フロントページの続き (72)発明者 大野 輝昭 東京都町田市原町田二丁目３番地１号 有 限会社 電子光学研究所内 (72)発明者 古屋 寿宏 茨城県勝田市市毛882番地 株式会社日立 製作所計測器事業部内 (72)発明者 中泉 泰 茨城県勝田市市毛882番地 株式会社日立 製作所計測器事業部内
Claims (5)
- 【請求項１】ウェハ異物検査装置の異物位置座標に基づ
いて走査形電子顕微鏡のステージを制御し、異物の形状
観察または分析を行う走査形電子顕微鏡(以下ＳＥＭと
呼ぶ)において、上記異物位置座標をＳＥＭのステージ
座標に指示した後、上記異物検査装置から出力された異
物位置座標に近いところから遠いところへ順次ＳＥＭの
ステージを自動的に移動することを特徴とする走査形電
子顕微鏡。 - 【請求項２】請求項１において、前記ＳＥＭのステージ
移動は異物検査装置から出力された異物位置座標を中心
にうず巻き状に順次外側へＳＥＭのステージを自動的に
移動することを特徴とする走査形電子顕微鏡。 - 【請求項３】請求項１又は請求項２において、前記ＳＥ
Ｍのステージの移動はステップ状に自動的に移動するこ
とを特徴とする走査形電子顕微鏡。 - 【請求項４】請求項３において、前記ステージ一回当り
の移動量は観察倍率に関連させ、観察視野の一部をオー
バーラップしながら移動することを特徴とする走査形電
子顕微鏡。 - 【請求項５】請求項４において、前記一ステップの駆動
後、休止時間を設定できることを特徴とする走査形電子
顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15373992A JP3153338B2 (ja) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | 走査形電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15373992A JP3153338B2 (ja) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | 走査形電子顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06283125A true JPH06283125A (ja) | 1994-10-07 |
| JP3153338B2 JP3153338B2 (ja) | 2001-04-09 |
Family
ID=15569049
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15373992A Expired - Lifetime JP3153338B2 (ja) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | 走査形電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3153338B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008226508A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 撮像倍率調整方法及び荷電粒子線装置 |
| US7795581B2 (en) | 2007-03-02 | 2010-09-14 | Hitachi High-Technologies Corporation | Pattern measuring method and electron microscope |
| CN107516624A (zh) * | 2017-07-14 | 2017-12-26 | 聚束科技（北京）有限公司 | 一种样品位置校准方法和装置 |
-
1992
- 1992-06-12 JP JP15373992A patent/JP3153338B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7795581B2 (en) | 2007-03-02 | 2010-09-14 | Hitachi High-Technologies Corporation | Pattern measuring method and electron microscope |
| JP2008226508A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 撮像倍率調整方法及び荷電粒子線装置 |
| CN107516624A (zh) * | 2017-07-14 | 2017-12-26 | 聚束科技（北京）有限公司 | 一种样品位置校准方法和装置 |
| CN107516624B (zh) * | 2017-07-14 | 2024-03-22 | 聚束科技（北京）有限公司 | 一种样品位置校准方法和装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3153338B2 (ja) | 2001-04-09 |
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