JP3153338B2 - 走査形電子顕微鏡 - Google Patents
走査形電子顕微鏡Info
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- JP3153338B2 JP3153338B2 JP15373992A JP15373992A JP3153338B2 JP 3153338 B2 JP3153338 B2 JP 3153338B2 JP 15373992 A JP15373992 A JP 15373992A JP 15373992 A JP15373992 A JP 15373992A JP 3153338 B2 JP3153338 B2 JP 3153338B2
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- foreign matter
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- electron microscope
- wafer
- scanning electron
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Description
下ＳＥＭと称する場合もある）に係り、特に異物を検索
するのに好適な装置に関する。
装置の異物座標をＳＥＭのステージ座標に変換再現し
て、ウェハ異物検査装置からのある異物の位置データを
元に、ＳＥＭのステージを駆動し、ある異物を適当な倍
率で像観察する。
テージ位置精度及びウェハ異物検査装置の異物座標精度
が多少悪くても、観察倍率を小さくすることで観察視野
を大きくすることにより、ＳＥＭのＣＲＴ上に異物観察
像を比較的容易に再現することができた。しかしながら
異物の形状が小さくなると（例えば０.２μｍ)異物の大
きさに適正な観察倍率に設定する必要が生じる。そうす
ると、ステージ位置精度及びウェハ異物検査装置の座標
精度のずれ量が観察視野面積より大きくなり、ＣＲＴ上
に異物像を再現する有効な手段がなかった。
率での微小異物形状再現観察において配慮がされておら
ず、作業効率の点で問題があった。
する異物等を検索するのに好適な走査電子顕微鏡の提供
にあり、具体的には試料の位置指定に基づいて、観察視
野を移動した際、その観察視野の中に所望の観察対象を
認められなかったときの、観察対象の検索を容易に可能
ならしめることを目的とするものである。
に、本発明では電子線を試料上で走査し、当該走査領域
を観察視野として表示する走査形電子顕微鏡において、
前記試料上の観察視野を移動するための試料ステージ
と、前記試料の任意の位置を指定する指定手段と、当該
指定手段によって指定された個所に前記観察視野を設定
する設定手段とを備え、当該設定手段によって設定され
た観察視野を中心として渦巻き状に観察視野を移動させ
ると共に、当該移動軌道の内周と外周に位置付けられる
観察視野が接するように前記試料ステージを移動するこ
とを特徴とする走査形電子顕微鏡を提供する。
には、異物位置座標の他に異物の大きさがある。そこで
ウェハ上の異物位置をＳＥＭのステージにて実行再現さ
せる前に異物データからの異物の大きさに合った適性倍
率に設定する。ところでこの異物形状が非常に小さくな
ると、倍率を大きくする必要があるが倍率を大きくする
と観察視野面積が小さくなるため、異物検査装置やＳＥ
Ｍステージの位置精度の関係から、ＳＥＭのＣＲＴ上に
異物が現れない場合がある。本発明では上記構成によ
り、漏れなく視野面積を広げることができ、非常に小さ
い観察対象でも適正倍率で迅速に観察ができるようにな
る。
て詳細に説明する。
ある。最初に測定したウェハ１をウェハ異物検査装置２
に搬送する。ウェハ異物検査装置２では、被測定ウェハ
１上のどの点に異物が存在するかを特定するために、ウ
ェハ上の任意の点を基準にしたウェハ座標を決定する。
ウェハ異物検査装置２内部での異物の検査方法は、ウェ
ハ座標を用いて光をウェハ上全面に照射することによ
り、異物からの錯乱光を捕らえ、ウェハ上のどの位置に
どのくらいの大きさの異物が存在するのかを容易に知る
ことができる。これらの異物情報（異物の存在位置，大
きさの情報等）は、ウェハ異物検査装置２内部のコンピ
ュータ３で管理されている。ウェハ異物検査装置１に光
学顕微鏡が装備している場合には、コンピュータ３から
の制御により、測定異物の形状観察することは容易であ
る。しかしながら光学顕微鏡では、光の波長の限界から
約×１０００倍程度までしか拡大できず、異物の大きさ
としては１μｍ程度までしか形状観察できない。そこで
１μｍ以下の微小異物の大きさの形状観察をするために
は、被測定ウェハ１をＳＥＭ４のステージ５に搬送して
観察する。ところが、ＳＥＭ４側ではウェハ１上の異物
の存在を探すことは困難なため、同時にウェハ異物検査
装置１から異物情報媒体６（通信又はＦ・Ｄを通す）を
通じ、コンピュータ７を介して、異物情報の提供を受け
る。この異物情報を利用することにより、微小異物の存
在位置や大きさ等が判り、ＳＥＭ側での異物位置を指定
でき、その指定位置における微小異物の形状観察が容易
となる。
図である。被測定ウェハ上の異物Ｐ８をＳＥＭ側で再現
観察する場合を考える。ステージ５に搬送された被測定
ウェハはステージ座標９上のＸ軸方向とウェハオリフラ
直線部を正確に平行に合わせることは不可能である。し
かしながらウェハ外周の離れた円弧部３点及びウェハオ
リフラ直線部の離れた２点のウェハ形状を観察ＣＲＴの
中央で像観察できるよう、ステージ５を移動し、各点
（ウェハ外周５点）のステージ座標９上での位置を記憶
計算処理（コンピュータは記入していない）することに
より、ウェハ座標１０とステージ座標９上の位置関係が
容易に分かり、異物Ｐ８のウェハ座標Ｐｗ(Ｘｗ，Ｙｗ)
はステージ座標Ｐｓ(Ｘｓ，Ｙｓ)に容易に変換でき、ス
テージ５をＰｓ位置に移動することにより、微小異物Ｐ
８を含む領域に観察視野を設定でき、微小異物Ｐ８の形
状観察を行うことができる。しかし、走査形電子顕微鏡
のステージ位置精度には精度誤差を有する。また、アラ
イメント（ウェハ座標をステージ座標に変換設定）精
度，異物の検出精度などにより、異物Ｐ８の再現精度に
は誤差を有する。この誤差は微小異物観察には無視する
ことは出来ない。ここで仮に再現精度誤差を２５μｍと
し、微小異物の大きさが０.１μｍの場合、倍率×10,00
0倍（ＣＲＴの大きさ１００mm×１００mm）の視野面積
は１０×１０μｍでＣＲＴの中に再現されない。ここで
観察倍率を×2,000 倍に下げれば、視野面積が５０×５
０μｍに広がり、異物Ｐの存在は、この視野面積内に入
っているが、観察倍率からＣＲＴ上の拡大像は０.２mm
と小さく、ＣＲＴ上に存在していることが認められな
い。また観察倍率を上げれば視野面積が小さくなり、異
物Ｐ８の存在を認められない。ところで異物情報には異
物の大きさが入っているため、ＣＲＴ上に現われたと
き、確認できる倍率に設定しておくことができる。そこ
で観察視野面積に再現されない異物に対しては図３に示
すようなステージを順次移動させる。適正倍率に設定さ
れた異物がＣＲＴ上に現われない場合でも、観察視野１
１の近傍に存在していると考えられる。そこで観察視野
面積１１の一部（例えば１０％）をオーバーラップしな
がら、うず巻きにステージを移動させる。このように観
察視野同士が接するようにステージを移動させること
で、適正倍率で観察視野面積を大きくしたのと等価にな
り、微小異物の形状観察が確実に実施され、検索もれを
なくす効果がある。これによって容易かつ短時間で、異
物の検索及び当該異物の適正倍率による観察やＸ線分析
を行うことができる。
で測定した微小異物のような観察対象を、走査形電子顕
微鏡の適正倍率において、容易に検索することができ
る。
図。
ピュータ、４…走査形電子顕微鏡(ＳＥＭ)、５…ステー
ジ、６…異物情報媒体、７…コンピュータ、８…異物
Ｐ、９…ステージ座標、１０…ウェハ座標、１１…観察
視野。
Claims (4)
- 【請求項１】電子線を試料上で走査し、当該走査領域を
観察視野として表示する走査形電子顕微鏡において、 前記試料上の観察視野を移動するための試料ステージ
と、前記試料の任意の位置を指定する指定手段と、 当該指定手段によって指定された個所に前記観察視野を
設定する設定手段とを備え、 当該設定手段によって設定された観察視野を中心として
渦巻き状に観察視野を移動させると共に、当該移動軌道
の内周と外周に位置付けられる観察視野が接するように
前記試料ステージを移動することを特徴とする走査形電
子顕微鏡。 - 【請求項２】請求項１において、 前記指定手段は、異物検査装置から出力された異物位置
座標に基づいて、前記試料上の位置を指定することを特
徴とする走査形電子顕微鏡。 - 【請求項３】請求項１または２において、 前記試料ステージの移動は、ステップ状に行われること
を特徴とする走査形電子顕微鏡。 - 【請求項４】請求項３において、 前記試料ステージの一回当りの移動量は観察倍率に関連
すると共に、前記試料ステージは、前記観察視野の一部
をオーバーラップさせながら移動することを特徴とする
走査形電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15373992A JP3153338B2 (ja) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | 走査形電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15373992A JP3153338B2 (ja) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | 走査形電子顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06283125A JPH06283125A (ja) | 1994-10-07 |
| JP3153338B2 true JP3153338B2 (ja) | 2001-04-09 |
Family
ID=15569049
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15373992A Expired - Lifetime JP3153338B2 (ja) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | 走査形電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3153338B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4959381B2 (ja) | 2007-03-02 | 2012-06-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン測定方法、及び電子顕微鏡 |
| JP5171071B2 (ja) * | 2007-03-09 | 2013-03-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 撮像倍率調整方法及び荷電粒子線装置 |
| CN107516624B (zh) * | 2017-07-14 | 2024-03-22 | 聚束科技（北京）有限公司 | 一种样品位置校准方法和装置 |
-
1992
- 1992-06-12 JP JP15373992A patent/JP3153338B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06283125A (ja) | 1994-10-07 |
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