JPH06279987A - 真空処理装置により工作物をマスキングする方法及び装置 - Google Patents
真空処理装置により工作物をマスキングする方法及び装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 真空表面処理により工作物をマスキングする
方法及び装置において、マスクの交換と装置の開放に必
要な長い静止時間と再調節時間を短縮し、工作物の処理
件数を増すと共に、マスキング機構の寿命を増大し、か
つ粒子形成が減少する手段を提供する。 【構成】 特に円形ディスク状の工作物２２を被覆する
ために少くとも１つのマスキング機構５８が別体の部材
として工作物２２を処理しようとする途上で工作物２２
に取り付けられ、かつ、取り外され、その取り付けが真
空条件下で行われ、また、工作物２２，１０２をチャン
バ装置１，２，１１０内へ出入させる移送手段１４，１
００に沿って、少くとも１つのマスキング機構５８，１
０８をそれぞれの工作物２２，１０２に取り付けるステ
ーション２０，１０４が設けられている構成とする。
方法及び装置において、マスクの交換と装置の開放に必
要な長い静止時間と再調節時間を短縮し、工作物の処理
件数を増すと共に、マスキング機構の寿命を増大し、か
つ粒子形成が減少する手段を提供する。 【構成】 特に円形ディスク状の工作物２２を被覆する
ために少くとも１つのマスキング機構５８が別体の部材
として工作物２２を処理しようとする途上で工作物２２
に取り付けられ、かつ、取り外され、その取り付けが真
空条件下で行われ、また、工作物２２，１０２をチャン
バ装置１，２，１１０内へ出入させる移送手段１４，１
００に沿って、少くとも１つのマスキング機構５８，１
０８をそれぞれの工作物２２，１０２に取り付けるステ
ーション２０，１０４が設けられている構成とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は請求項１の前提部分に記
載の方法と請求項７の前提部分に記載の真空処理装置に
関するものである。
載の方法と請求項７の前提部分に記載の真空処理装置に
関するものである。
【０００２】非反応性あるいは反応性の真空プロセスに
よって、例えばエッチング、グロー放電支援を有するあ
るいは有しない物理的あるいは化学的コーティング方法
によって、工作物の表面処理をする場合に、処理すべき
表面の領域を実施される１つあるいは複数の処理プロセ
スないしはその作用から被覆することが必要になること
が多い。本発明が特に関係するが、必ずしもそれのみに
関係しない代表的な例は、例えばＣＤ、磁気メモリプレ
ートあるいは磁気・光学的メモリプレートなどメモリプ
レートの製造ないし処理の場合のような、円形ディスク
状工作物の表面処理の例である。
よって、例えばエッチング、グロー放電支援を有するあ
るいは有しない物理的あるいは化学的コーティング方法
によって、工作物の表面処理をする場合に、処理すべき
表面の領域を実施される１つあるいは複数の処理プロセ
スないしはその作用から被覆することが必要になること
が多い。本発明が特に関係するが、必ずしもそれのみに
関係しない代表的な例は、例えばＣＤ、磁気メモリプレ
ートあるいは磁気・光学的メモリプレートなどメモリプ
レートの製造ないし処理の場合のような、円形ディスク
状工作物の表面処理の例である。
【０００３】
【従来の技術】そのために、それぞれ考察される処理ス
テーションに、上述の円形ディスク状プレートの、例え
ば中心および周辺領域用にマスキング（遮蔽）機構を固
定的に設けることが知られている。マスキング機構は、
それぞれの処理プロセスにさらされるので、規則的に変
えなければならない。そのためには通常それぞれの処理
装置あるいは少なくとも該当する処理ステーションを標
準大気に接するようにしなければならず、それによって
長い静止時間とそれに伴う再調節が必要となる。
テーションに、上述の円形ディスク状プレートの、例え
ば中心および周辺領域用にマスキング（遮蔽）機構を固
定的に設けることが知られている。マスキング機構は、
それぞれの処理プロセスにさらされるので、規則的に変
えなければならない。そのためには通常それぞれの処理
装置あるいは少なくとも該当する処理ステーションを標
準大気に接するようにしなければならず、それによって
長い静止時間とそれに伴う再調節が必要となる。
【０００４】当業者にはさらに、上述のマスキング機構
をそれぞれ装置内で処理される工作物に固定的に対応さ
せること、すなわちマスキング薄板などを工作物支持体
に設けること、および（工作物支持体は装置内で可
動）、工作物と共に装置を通して案内することが知られ
ている。しかしここでもマスクの交換には装置の開放と
それに伴う長い静止時間と再調節時間が必要である。
をそれぞれ装置内で処理される工作物に固定的に対応さ
せること、すなわちマスキング薄板などを工作物支持体
に設けること、および（工作物支持体は装置内で可
動）、工作物と共に装置を通して案内することが知られ
ている。しかしここでもマスクの交換には装置の開放と
それに伴う長い静止時間と再調節時間が必要である。
【０００５】ＵＳ−４８５７１６０からは、標準大気領
域内に用意されているマスクを工作物が真空処理領域内
にエアロックを通して挿入される場合にその工作物へ供
給して、工作物が処理されて真空処理領域からエアロッ
クを通して取り出されるとすぐに、工作物から取り除く
ことが知られている。この方法はその場合必然的にいず
れかの時点で標準大気から処理真空雰囲気内へ挿入すべ
き工作物自体だけでなく、それに加えてマスキング機構
も標準大気から処理真空雰囲気内へ工作物自体と同一の
クロックで挿入されるので、きわめて不都合である。従
って付加的な重大な汚染源が処理真空雰囲気内へエアロ
ックを介して挿入され、それによってさらにガス抜き時
間ないしは条件調節時間が必要となる。
域内に用意されているマスクを工作物が真空処理領域内
にエアロックを通して挿入される場合にその工作物へ供
給して、工作物が処理されて真空処理領域からエアロッ
クを通して取り出されるとすぐに、工作物から取り除く
ことが知られている。この方法はその場合必然的にいず
れかの時点で標準大気から処理真空雰囲気内へ挿入すべ
き工作物自体だけでなく、それに加えてマスキング機構
も標準大気から処理真空雰囲気内へ工作物自体と同一の
クロックで挿入されるので、きわめて不都合である。従
って付加的な重大な汚染源が処理真空雰囲気内へエアロ
ックを介して挿入され、それによってさらにガス抜き時
間ないしは条件調節時間が必要となる。
【０００６】ＤＥ−ＯＳ３９１２２９７からは、マスキ
ング機構をスパッタステーションに対して固定的に設
け、かつそれをそれぞれ処理ステーション内に移動され
た工作物上へ軸方向に下降させ、ないしはそれから持ち
上げることが知られている。ここではマスキング機構は
真空処理雰囲気内に留まるが、その一方で上述したよう
に、使い古されたマスキング機構を交換するためには、
装置全体でなくても、少なくとも該当する処理ステーシ
ョンは静止される。
ング機構をスパッタステーションに対して固定的に設
け、かつそれをそれぞれ処理ステーション内に移動され
た工作物上へ軸方向に下降させ、ないしはそれから持ち
上げることが知られている。ここではマスキング機構は
真空処理雰囲気内に留まるが、その一方で上述したよう
に、使い古されたマスキング機構を交換するためには、
装置全体でなくても、少なくとも該当する処理ステーシ
ョンは静止される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述
の欠点を除去することである。
の欠点を除去することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この目的のために、請求
項１ないし２の特徴部分に記載の冒頭で述べた方法が適
している。
項１ないし２の特徴部分に記載の冒頭で述べた方法が適
している。
【０００９】
【作用】それによって、例えば上述のＤＥ−ＯＳ３９１
２２９７に記載の方法に示す利点、すなわちマスキング
機構を比較的長い期間にわたって真空処理雰囲気内に放
置するということが維持され、さらにＵＳ−ＰＳ４８５
７１６０に示す利点、例えばマスキング機構を必要なガ
ス抜き時間に従って充分に早く真空雰囲気内に挿入する
ことによって、装置を静止させることなしに、マスキン
グ機構をその消耗後に交換することができるという利点
と組み合わせられる。
２２９７に記載の方法に示す利点、すなわちマスキング
機構を比較的長い期間にわたって真空処理雰囲気内に放
置するということが維持され、さらにＵＳ−ＰＳ４８５
７１６０に示す利点、例えばマスキング機構を必要なガ
ス抜き時間に従って充分に早く真空雰囲気内に挿入する
ことによって、装置を静止させることなしに、マスキン
グ機構をその消耗後に交換することができるという利点
と組み合わせられる。
【００１０】それによってそれぞれ考察されるマスキン
グ機構は別体の部材として処理に向かう途中に工作物に
供給され、その後工作物から取り除かれ、それによって
マスキング機構を処理プロセスによるその消耗度が許す
回数だけ、新たな工作物に使用することが可能になる。
さらにマスキング機構が真空雰囲気内の工作物に供給さ
れ、かつそのために真空雰囲気内に用意されることによ
って、絶対的に必要なものより、すなわち工作物自体よ
り多い部材が標準大気から真空処理雰囲気内へ挿入され
ることがない。マスキング機構を交換するためには、本
方法が使用される処理装置を静止させ、かつマスク交換
後に条件調節し直す必要はない。
グ機構は別体の部材として処理に向かう途中に工作物に
供給され、その後工作物から取り除かれ、それによって
マスキング機構を処理プロセスによるその消耗度が許す
回数だけ、新たな工作物に使用することが可能になる。
さらにマスキング機構が真空雰囲気内の工作物に供給さ
れ、かつそのために真空雰囲気内に用意されることによ
って、絶対的に必要なものより、すなわち工作物自体よ
り多い部材が標準大気から真空処理雰囲気内へ挿入され
ることがない。マスキング機構を交換するためには、本
方法が使用される処理装置を静止させ、かつマスク交換
後に条件調節し直す必要はない。
【００１１】すなわちマスキング機構はできるだけ真空
条件内に残し、従って条件調節されたままにすべきであ
る。というのはしばしば標準大気にさらすことによっ
て、ガスおよび水蒸気を吸着し、すでに形成されている
層が剥離し、かつ処理雰囲気内に粒子が形成されてしま
うからである。マスキング機構を真空雰囲気内に残すこ
とによって、その寿命が増大し、かつ粒子形成が減少す
る。
条件内に残し、従って条件調節されたままにすべきであ
る。というのはしばしば標準大気にさらすことによっ
て、ガスおよび水蒸気を吸着し、すでに形成されている
層が剥離し、かつ処理雰囲気内に粒子が形成されてしま
うからである。マスキング機構を真空雰囲気内に残すこ
とによって、その寿命が増大し、かつ粒子形成が減少す
る。
【００１２】さらに、真空処理装置内部で、すなわち真
空条件下で、工作物の移動路上のどこかで上述の取付け
を行うことは可能であるが、好ましくは請求項３の文言
に従って行われる。
空条件下で、工作物の移動路上のどこかで上述の取付け
を行うことは可能であるが、好ましくは請求項３の文言
に従って行われる。
【００１３】工作物が処理装置の１つのチャンバから次
のチャンバへ移動され、ないしは戻される期間は、上述
のマスキング機構の取付けに最適であることが明らかに
されている。
のチャンバへ移動され、ないしは戻される期間は、上述
のマスキング機構の取付けに最適であることが明らかに
されている。
【００１４】マスキング機構を最適に利用し、かつ処理
装置内へ条件調節されていないマスキング表面を新たに
供給する頻度を少なくすることは、請求項４の文言によ
れば、同一のマスキング機構が処理済みの工作物から取
り除かれて、これから処理すべき工作物に取り付けられ
ることによって行われる。その場合に新しいマスキング
機構が周期的に供給される。
装置内へ条件調節されていないマスキング表面を新たに
供給する頻度を少なくすることは、請求項４の文言によ
れば、同一のマスキング機構が処理済みの工作物から取
り除かれて、これから処理すべき工作物に取り付けられ
ることによって行われる。その場合に新しいマスキング
機構が周期的に供給される。
【００１５】全く実現可能な機械的な供給装置、交換器
などの代わりに、請求項５の文言によれば、マスキング
機構の取付けとその取り外しを磁場制御で行い、その場
合に好ましくは取付け位置においてマスキング機構を工
作物に固定することを磁気的に行い、好ましくは永久磁
石で行うことが提案されている。
などの代わりに、請求項５の文言によれば、マスキング
機構の取付けとその取り外しを磁場制御で行い、その場
合に好ましくは取付け位置においてマスキング機構を工
作物に固定することを磁気的に行い、好ましくは永久磁
石で行うことが提案されている。
【００１６】それによってマスキング機構を操作しなけ
ればならない段階において、それを電磁的に制御するこ
とが可能となり、それは装置内部で局地的に行われる。
マスキング機構を工作物と共に移送する場合には、好ま
しい実施例においては、マスキング機構の保持とそれに
伴って場合によっては工作物の保持も、永久磁石で行わ
れる。
ればならない段階において、それを電磁的に制御するこ
とが可能となり、それは装置内部で局地的に行われる。
マスキング機構を工作物と共に移送する場合には、好ま
しい実施例においては、マスキング機構の保持とそれに
伴って場合によっては工作物の保持も、永久磁石で行わ
れる。
【００１７】マスキング機構を交換する場合の好ましい
シーケンスサイクルは、請求項６の文言に記載されてい
る。
シーケンスサイクルは、請求項６の文言に記載されてい
る。
【００１８】本発明による真空処理装置は、請求項７の
特徴部分に記載のように、冒頭で述べた課題を解決する
ために効果的であって、その好ましい実施例が請求項８
から１２に記載されている。
特徴部分に記載のように、冒頭で述べた課題を解決する
ために効果的であって、その好ましい実施例が請求項８
から１２に記載されている。
【００１９】
【実施例】次に、図面に示す実施例を用いて本発明を説
明する。まず、図１、２、２ａを用いて、本発明方法を
含む現在の好ましい装置構成について説明する。図１
は、概要を示すために図２よりもずっと概略化されてい
る。図１から２ａにおいて同一の参照符号が用いられて
いる。
明する。まず、図１、２、２ａを用いて、本発明方法を
含む現在の好ましい装置構成について説明する。図１
は、概要を示すために図２よりもずっと概略化されてい
る。図１から２ａにおいて同一の参照符号が用いられて
いる。
【００２０】装置には第１のチャンバ１と第２のチャン
バ２が設けられており、これらは接続開口部４を介して
互いに連通している。緩衝室として形成された第１のチ
ャンバ１は供給ないし排出開口部６（エアロック開口
部）を有し（図２（ａ））、開口部は駆動操作される供
給および閉鎖操作部材８によって密封閉鎖可能である。
第１のチャンバ１のハウジングの中央に軸承されて回転
駆動装置１０が設けられており、この回転駆動装置は駆
動軸１２を介してカルーセル（円形コンベア）１４を駆
動する。カルーセルには上方支持体プレート１６が設け
られており、上方支持体プレートには板ばね１８（図２
ｂも参照）を介して円形ディスク状の工作物２２を収容
する収容部２０が取り付けられている。板ばねに懸架さ
れていることによって収容部２０は、図１に符号Ｓ１で
示すように、径方向外側に弾性的に撓むことができる。
バ２が設けられており、これらは接続開口部４を介して
互いに連通している。緩衝室として形成された第１のチ
ャンバ１は供給ないし排出開口部６（エアロック開口
部）を有し（図２（ａ））、開口部は駆動操作される供
給および閉鎖操作部材８によって密封閉鎖可能である。
第１のチャンバ１のハウジングの中央に軸承されて回転
駆動装置１０が設けられており、この回転駆動装置は駆
動軸１２を介してカルーセル（円形コンベア）１４を駆
動する。カルーセルには上方支持体プレート１６が設け
られており、上方支持体プレートには板ばね１８（図２
ｂも参照）を介して円形ディスク状の工作物２２を収容
する収容部２０が取り付けられている。板ばねに懸架さ
れていることによって収容部２０は、図１に符号Ｓ１で
示すように、径方向外側に弾性的に撓むことができる。
【００２１】カルーセル１４に設けられた８つの収容部
２０は、特に図２ｂから明らかなように、ほぼフレーム
として形成されている。収容部には、工作物２２の延長
面に対して垂直に見て、差込み開口部２４と、差込み開
口部２４の上方で工作物２２を固定する舌片状に作用す
る固定機構２６（展望上の理由から図２ｂにのみ記載）
が設けられている。板ばね１８が端縁側に配置されてい
ることによって（図２ｂ）差込み開口部２４は露出され
ている。
２０は、特に図２ｂから明らかなように、ほぼフレーム
として形成されている。収容部には、工作物２２の延長
面に対して垂直に見て、差込み開口部２４と、差込み開
口部２４の上方で工作物２２を固定する舌片状に作用す
る固定機構２６（展望上の理由から図２ｂにのみ記載）
が設けられている。板ばね１８が端縁側に配置されてい
ることによって（図２ｂ）差込み開口部２４は露出され
ている。
【００２２】工作物（ここではメモリプレート）には中
央開口部２８が形成されている。カルーセル１４を歩進
的に回転させることによって収容部２０はチャンバ１の
開口部４と６の上方へ順次回転してくる。
央開口部２８が形成されている。カルーセル１４を歩進
的に回転させることによって収容部２０はチャンバ１の
開口部４と６の上方へ順次回転してくる。
【００２３】特に図２ｂから明らかなように、チャンバ
１内のカルーセル１４の軸Ａ１４に関して上方支持体１
６に対向して軸受台２９がチャンバ１のハウジングに固
定的に取り付けられており、軸受台にはここで例示され
た２つの開口部４と６に整合して互いに独立して径方向
に出入り可能な２つの皿部３０ａと３０ｂが配置されて
いる。皿部３０ａと３０ｂの駆動機構は蛇腹３２ａ、ｂ
を介して真空技術的に密封ないし被包されている。図１
に概略図示するように空気式の制御パイプ３４ａないし
ｂがブロック２９内へ導入されている。さらに図１に符
号３６で概略図示するように、チャンバ１にはチャンバ
の条件調節のためのポンプスリーブ３６が設けられ、場
合によってはガススリーブも設けられる。
１内のカルーセル１４の軸Ａ１４に関して上方支持体１
６に対向して軸受台２９がチャンバ１のハウジングに固
定的に取り付けられており、軸受台にはここで例示され
た２つの開口部４と６に整合して互いに独立して径方向
に出入り可能な２つの皿部３０ａと３０ｂが配置されて
いる。皿部３０ａと３０ｂの駆動機構は蛇腹３２ａ、ｂ
を介して真空技術的に密封ないし被包されている。図１
に概略図示するように空気式の制御パイプ３４ａないし
ｂがブロック２９内へ導入されている。さらに図１に符
号３６で概略図示するように、チャンバ１にはチャンバ
の条件調節のためのポンプスリーブ３６が設けられ、場
合によってはガススリーブも設けられる。
【００２４】チャンバ１において実現される、工作物用
の多数の収容部２０と径方向に作用する皿部３０とを有
するカルーセルの原理によって、図から明らかなよう
に、設けられている開口部を通して現在処理されるより
多くの数の工作物がこの室内に保持されており、それに
よって、上述の開口部に関して現在処理されてない工作
物がこのチャンバ内で条件調節され、特にガス抜きされ
ることが可能であるという大きな利点が得られる。この
ことをヒーティングによってあるいは他の公知の前処理
によって支援することができる。
の多数の収容部２０と径方向に作用する皿部３０とを有
するカルーセルの原理によって、図から明らかなよう
に、設けられている開口部を通して現在処理されるより
多くの数の工作物がこの室内に保持されており、それに
よって、上述の開口部に関して現在処理されてない工作
物がこのチャンバ内で条件調節され、特にガス抜きされ
ることが可能であるという大きな利点が得られる。この
ことをヒーティングによってあるいは他の公知の前処理
によって支援することができる。
【００２５】さらに、工作物の取扱いが上述の開口部に
関して、カルーセルによって工作物がチャンバ１内で回
転されるその同一の平面内で行われることに、利点が見
られる。それによってチャンバ１とその開口部に配置さ
れた他のチャンバを有する装置全体を、他のチャンバが
他の移送ないし分配チャンバであっても、あるいは処理
チャンバあるいはエアロックチャンバであっても、モジ
ュラーとして径方向にもコンパクトに、それによって必
要な場合には平坦に形成する可能性が開かれる。
関して、カルーセルによって工作物がチャンバ１内で回
転されるその同一の平面内で行われることに、利点が見
られる。それによってチャンバ１とその開口部に配置さ
れた他のチャンバを有する装置全体を、他のチャンバが
他の移送ないし分配チャンバであっても、あるいは処理
チャンバあるいはエアロックチャンバであっても、モジ
ュラーとして径方向にもコンパクトに、それによって必
要な場合には平坦に形成する可能性が開かれる。
【００２６】もちろん、現在考察されているチャンバ１
に２つより多い開口部を設けて、それに応じて配置され
た皿部３０によって径方向に操作することも可能であ
る。その場合には、カルーセルがきわめて容易に駆動可
能であり、かつ径方向の取扱い動作を固定的な中心から
駆動することが可能であることによって、構造の簡易性
が維持され、従ってこの駆動も回転運動と軸方向運動が
組み合わせられる場合よりもずっと容易である。しかし
原則的にはこの簡易な構造を維持したままで、軸受台２
９を皿部３０と共に軸Ａ１４を中心に駆動し、しかしカ
ルーセル１４からは独立して回転させることも全く可能
である。それによってより少ない皿部３０で多数の開口
部を操作することができる。このことは特に、開口部を
気密に閉鎖する必要がない場合、例えば考察される使用
目的のためには拡散ギャップシールによる密封で充分な
場合である。
に２つより多い開口部を設けて、それに応じて配置され
た皿部３０によって径方向に操作することも可能であ
る。その場合には、カルーセルがきわめて容易に駆動可
能であり、かつ径方向の取扱い動作を固定的な中心から
駆動することが可能であることによって、構造の簡易性
が維持され、従ってこの駆動も回転運動と軸方向運動が
組み合わせられる場合よりもずっと容易である。しかし
原則的にはこの簡易な構造を維持したままで、軸受台２
９を皿部３０と共に軸Ａ１４を中心に駆動し、しかしカ
ルーセル１４からは独立して回転させることも全く可能
である。それによってより少ない皿部３０で多数の開口
部を操作することができる。このことは特に、開口部を
気密に閉鎖する必要がない場合、例えば考察される使用
目的のためには拡散ギャップシールによる密封で充分な
場合である。
【００２７】ここで説明した実施例においては開口部６
の開口領域は工作物を出し入れする本来の挿入および排
出エアロックとして作用するが、チャンバ１自体は外気
から挿入された工作物をそれが開口部４を通して上述の
方法で処理ステーションへ移送される前に、条件調節す
るために用いられる。
の開口領域は工作物を出し入れする本来の挿入および排
出エアロックとして作用するが、チャンバ１自体は外気
から挿入された工作物をそれが開口部４を通して上述の
方法で処理ステーションへ移送される前に、条件調節す
るために用いられる。
【００２８】次にチャンバ１の上述の構造において、本
来のエアロックとして形成された開口部６を通して工作
物を供給および排出するガイドの機能について考察す
る。
来のエアロックとして形成された開口部６を通して工作
物を供給および排出するガイドの機能について考察す
る。
【００２９】カルーセル１４を図２（ａ）において符号
Ｓ２で記載された方向へ回転させることによって、皿部
３０ａと、もちろんシール３８を介して密封閉鎖されて
いる供給／閉鎖操作部材８が戻される際に、例えば処理
済みの工作物を有する収容部２０が開口領域へ回動され
る。その後皿部３０ａによって、ばね１８の作用に抗し
て、考察される収容部２０がシール４０によって密封さ
れてチャンバ１の壁へ当接され、その場合に収容部２０
と皿部３０ａ間の不図示のシールによって開口部６のチ
ャンバ１に対する真空密の仕切りが保証される。
Ｓ２で記載された方向へ回転させることによって、皿部
３０ａと、もちろんシール３８を介して密封閉鎖されて
いる供給／閉鎖操作部材８が戻される際に、例えば処理
済みの工作物を有する収容部２０が開口領域へ回動され
る。その後皿部３０ａによって、ばね１８の作用に抗し
て、考察される収容部２０がシール４０によって密封さ
れてチャンバ１の壁へ当接され、その場合に収容部２０
と皿部３０ａ間の不図示のシールによって開口部６のチ
ャンバ１に対する真空密の仕切りが保証される。
【００３０】操作タペットの作用によって固定機構２６
が緩められた後に、図２ｂにＳ３で示すように、工作物
２２が収容部２０から供給／閉鎖操作部材８によって例
えば磁気的、空気的あるいは機械的に引き取られる。皿
部３０ａの密封閉鎖を維持したまま収容部２０を介して
チャンバ１の壁に接して供給／閉鎖操作部材８が引き下
ろされ、処理済みの工作物が供給／閉鎖操作部材から取
り除かれて、新しく処理すべき工作物が挿入される。皿
部８は新しく処理すべき工作物と共に再び密封閉鎖さ
れ、固定機構２６のいまは自由になった収容部２０に新
しく処理すべき工作物が引き取られ、その後皿部３０ａ
が図２に点線で示す復帰位置へ移動される。それによっ
てカルーセルはＳ２方向に１ストローク自由に回転する
ことができる。
が緩められた後に、図２ｂにＳ３で示すように、工作物
２２が収容部２０から供給／閉鎖操作部材８によって例
えば磁気的、空気的あるいは機械的に引き取られる。皿
部３０ａの密封閉鎖を維持したまま収容部２０を介して
チャンバ１の壁に接して供給／閉鎖操作部材８が引き下
ろされ、処理済みの工作物が供給／閉鎖操作部材から取
り除かれて、新しく処理すべき工作物が挿入される。皿
部８は新しく処理すべき工作物と共に再び密封閉鎖さ
れ、固定機構２６のいまは自由になった収容部２０に新
しく処理すべき工作物が引き取られ、その後皿部３０ａ
が図２に点線で示す復帰位置へ移動される。それによっ
てカルーセルはＳ２方向に１ストローク自由に回転する
ことができる。
【００３１】チャンバ１内の雰囲気に対する最大の純度
要請がなされる場合には、４２で示すように（図２
（ａ））、開口部６をポンプスリーブを介してポンプ４
２と接続することができる。しかしエアロックとして作
用する開口領域６の容積が極端に小さいことに直面し
て、チャンバ１の容積に対する開口部領域６内の容積に
よって与えられる希釈比は、チャンバ１内の雰囲気のほ
ぼ充分な純度を保証するのに充分である。
要請がなされる場合には、４２で示すように（図２
（ａ））、開口部６をポンプスリーブを介してポンプ４
２と接続することができる。しかしエアロックとして作
用する開口領域６の容積が極端に小さいことに直面し
て、チャンバ１の容積に対する開口部領域６内の容積に
よって与えられる希釈比は、チャンバ１内の雰囲気のほ
ぼ充分な純度を保証するのに充分である。
【００３２】すでに説明したように、皿部８を移送皿部
として形成し、かつ開口部６にフランジ止めされた他の
チャンバ内の移送機構の一部とすることができ、あるい
は他の種類の移送機構が工作物を開口部６を通してカル
ーセル１４に供給し、ないしはそれから取り出すように
することができる。さらに、例えば径方向位置Ｂに取り
出しエアロックを設け、例えば開口部６との関連におい
て説明したのと同様に構成し、異なる２つの領域で工作
物をチャンバ１に供給し、かつチャンバから再び取り出
すことが容易に可能となる。
として形成し、かつ開口部６にフランジ止めされた他の
チャンバ内の移送機構の一部とすることができ、あるい
は他の種類の移送機構が工作物を開口部６を通してカル
ーセル１４に供給し、ないしはそれから取り出すように
することができる。さらに、例えば径方向位置Ｂに取り
出しエアロックを設け、例えば開口部６との関連におい
て説明したのと同様に構成し、異なる２つの領域で工作
物をチャンバ１に供給し、かつチャンバから再び取り出
すことが容易に可能となる。
【００３３】すでに説明したように、２つより多い皿部
３０を設けて、チャンバ１内に設けた対応する数の開口
部を操作することができ、極端な場合には収容部２０と
同一の皿部が設けられる。
３０を設けて、チャンバ１内に設けた対応する数の開口
部を操作することができ、極端な場合には収容部２０と
同一の皿部が設けられる。
【００３４】図２（ａ）から明らかなように、工作物を
チャンバ１内に挿入してからチャンバ１からそれを処理
ステーションへ向けて排出するまでの移送路は、処理ス
テーションからチャンバ１内へ戻り、そこから工作物を
チャンバ１から排出するための移送路よりもずっと長
い。原則的には、チャンバ１が、常に形成されるよう
に、処理前に工作物の条件調節チャンバとして利用され
る場合には、挿入／排出開口部が図２（ａ）に図示する
ようであっても、例えば挿入／排出エアロックとして組
み合わされていても、処理すべき工作物用の収容開口部
から排出開口部までの工作物移送路は、処理済みの工作
物をそれに関する収容開口部からそれに関する排出開口
部まで移送する移送路よりも長く選択される。それによ
って工作物がチャンバ１内に滞留する滞留時間は前チャ
ンバよりも延長され、その間に工作物は水蒸気およびガ
スを放出することができる。従って工作物は後からの処
理ステップのために準備（条件調節）される。このこと
は特に、例えば通常メモリプレート用に使用されるプラ
スチックなど、大きなガスないし水分吸収性を有する材
料の場合に重要である。従ってプロセスステーションに
おける工作物の強すぎるガス放出は許容できない。とい
うのはそれによって小作物のコーティングが使用不可能
になる恐れがあるからである。
チャンバ１内に挿入してからチャンバ１からそれを処理
ステーションへ向けて排出するまでの移送路は、処理ス
テーションからチャンバ１内へ戻り、そこから工作物を
チャンバ１から排出するための移送路よりもずっと長
い。原則的には、チャンバ１が、常に形成されるよう
に、処理前に工作物の条件調節チャンバとして利用され
る場合には、挿入／排出開口部が図２（ａ）に図示する
ようであっても、例えば挿入／排出エアロックとして組
み合わされていても、処理すべき工作物用の収容開口部
から排出開口部までの工作物移送路は、処理済みの工作
物をそれに関する収容開口部からそれに関する排出開口
部まで移送する移送路よりも長く選択される。それによ
って工作物がチャンバ１内に滞留する滞留時間は前チャ
ンバよりも延長され、その間に工作物は水蒸気およびガ
スを放出することができる。従って工作物は後からの処
理ステップのために準備（条件調節）される。このこと
は特に、例えば通常メモリプレート用に使用されるプラ
スチックなど、大きなガスないし水分吸収性を有する材
料の場合に重要である。従ってプロセスステーションに
おける工作物の強すぎるガス放出は許容できない。とい
うのはそれによって小作物のコーティングが使用不可能
になる恐れがあるからである。
【００３５】次に、チャンバ２およびそのチャンバ１と
の相互作用について考察する。チャンバ２内には例えば
６つの移送アーム４６を有する移送スター（星形部）４
４が設けられており、移送スターは駆動装置４８によっ
て、軸５０を介して回転駆動される。アーム４６の端部
には真空密に封入された駆動機構によって径方向に前進
および後退駆動可能な皿部５２が固定配置されている。
皿部５２は開口部４を介してチャンバ１に対して、かつ
１つあるは複数の付加的な開口部５４に対して揺動可能
であって、開口部には図示の実施例に示すように、１つ
あるいは複数の処理ステーションおよび／または他の移
送チャンバないしエアロックチャンバを配置することが
できる。図示の実施例においては、１つの処理チャンバ
５６が設けられている。
の相互作用について考察する。チャンバ２内には例えば
６つの移送アーム４６を有する移送スター（星形部）４
４が設けられており、移送スターは駆動装置４８によっ
て、軸５０を介して回転駆動される。アーム４６の端部
には真空密に封入された駆動機構によって径方向に前進
および後退駆動可能な皿部５２が固定配置されている。
皿部５２は開口部４を介してチャンバ１に対して、かつ
１つあるは複数の付加的な開口部５４に対して揺動可能
であって、開口部には図示の実施例に示すように、１つ
あるいは複数の処理ステーションおよび／または他の移
送チャンバないしエアロックチャンバを配置することが
できる。図示の実施例においては、１つの処理チャンバ
５６が設けられている。
【００３６】次に工作物をチャンバ１からチャンバ２へ
移送することについて考える。工作物はその表面処理の
ために開口部４の下流、すなわち工作物の移動方向にお
いて開口部４の後方の処理位置において、所望の表面領
域を被覆されなければならない。ここで考察するメモリ
プレートの場合には、処理のために開口部２８を中心と
する中心領域とその周辺領域を処理ステーションの少な
くとも１つにおいて覆われなければならない。
移送することについて考える。工作物はその表面処理の
ために開口部４の下流、すなわち工作物の移動方向にお
いて開口部４の後方の処理位置において、所望の表面領
域を被覆されなければならない。ここで考察するメモリ
プレートの場合には、処理のために開口部２８を中心と
する中心領域とその周辺領域を処理ステーションの少な
くとも１つにおいて覆われなければならない。
【００３７】後述する方法で、ルーズに（緩く）供給さ
れるマスキング部材による中央マスキングによってそれ
ぞれ加工（処理）すべき工作物が保護され、マスキング
部材は上述のように処理前に工作物に取り付けられ、処
理後に工作物から除去される。工作物の処理後に皿部５
２上へ戻された工作物に取り付けられているマスキング
機構５８は開口部４の領域でこのすでに処理済みの工作
物から除去され、チャンバ２内で皿部５２上に新たに載
置された工作物に取り付けられ、工作物はその後移送ス
ター４４の回転によって処理位置へ移動される。そのた
めにチャンバ１の回転しない皿部３０ｂの中央には永久
磁石が配置されている。
れるマスキング部材による中央マスキングによってそれ
ぞれ加工（処理）すべき工作物が保護され、マスキング
部材は上述のように処理前に工作物に取り付けられ、処
理後に工作物から除去される。工作物の処理後に皿部５
２上へ戻された工作物に取り付けられているマスキング
機構５８は開口部４の領域でこのすでに処理済みの工作
物から除去され、チャンバ２内で皿部５２上に新たに載
置された工作物に取り付けられ、工作物はその後移送ス
ター４４の回転によって処理位置へ移動される。そのた
めにチャンバ１の回転しない皿部３０ｂの中央には永久
磁石が配置されている。
【００３８】例えば図２（ａ）に示す回転方向Ｓ４にお
いて上述の種類のディスク状の工作物２２は開口部４に
対向する図１に示す位置へ移動される。該当する皿部５
２がシール６２によって開口部４の周縁に密着される。
磁石６４好ましくは永久磁石によって保持された、皿部
に乗って移動する工作物２２はそれによって開口部４内
へ移動される。軸５０ないしＡ４４を中心として皿部５
２が回転運動する間、工作物のない収容部２０、従って
空の収容部２０は開口部４の上方に位置決めされる。そ
の場合に皿部３０ｂはこの空の収容部２０をシール６６
とシール６８を介して開口部４のチャンバ１側の周縁に
押圧するので、移送スター４４の回転運動の間に両チャ
ンバ１と２は気密に、場合によっては真空密に分離され
ている。
いて上述の種類のディスク状の工作物２２は開口部４に
対向する図１に示す位置へ移動される。該当する皿部５
２がシール６２によって開口部４の周縁に密着される。
磁石６４好ましくは永久磁石によって保持された、皿部
に乗って移動する工作物２２はそれによって開口部４内
へ移動される。軸５０ないしＡ４４を中心として皿部５
２が回転運動する間、工作物のない収容部２０、従って
空の収容部２０は開口部４の上方に位置決めされる。そ
の場合に皿部３０ｂはこの空の収容部２０をシール６６
とシール６８を介して開口部４のチャンバ１側の周縁に
押圧するので、移送スター４４の回転運動の間に両チャ
ンバ１と２は気密に、場合によっては真空密に分離され
ている。
【００３９】皿部５２が、チャンバ２の側からシール６
２によってこの分離を保証する位置へ移動されると、皿
部３０ｂの電磁石６０が能動化され、磁気材料からなる
マスキング機構５８が保持されて、皿部３０ｂの引き戻
しによって工作物２２および皿部５２との係合を脱す
る。図１において符号７０で概略図示するように、タペ
ットの操作によって、図２（ｂ）に示す固定機構２６が
収容部２０内で処理済みの工作物２２を把持する。磁気
的に皿部３０ｂに固定されているマスキング機構５８と
共に皿部３０ｂが引き戻された後に、カルーセル１４が
１クリックＳ２方向へさらに回動され、それによってま
だ処理されていない工作物を装填された収容部２０が開
口部４上へ回動される。その前に処理され、マスキング
機構から解放された工作物はいま、図２に示すそれに対
応する収容部２０と共に角度位置Ｂにある。さらにその
前に収容されているマスキング機構５８と共に皿部３０
ｂが前進することによって、マスキング機構は新たに供
給された工作物２２に取り付けられる。新たに挿入され
た収容部２０に接するシール６６と６８によってこの場
合にもチャンバの分離が保証される。
２によってこの分離を保証する位置へ移動されると、皿
部３０ｂの電磁石６０が能動化され、磁気材料からなる
マスキング機構５８が保持されて、皿部３０ｂの引き戻
しによって工作物２２および皿部５２との係合を脱す
る。図１において符号７０で概略図示するように、タペ
ットの操作によって、図２（ｂ）に示す固定機構２６が
収容部２０内で処理済みの工作物２２を把持する。磁気
的に皿部３０ｂに固定されているマスキング機構５８と
共に皿部３０ｂが引き戻された後に、カルーセル１４が
１クリックＳ２方向へさらに回動され、それによってま
だ処理されていない工作物を装填された収容部２０が開
口部４上へ回動される。その前に処理され、マスキング
機構から解放された工作物はいま、図２に示すそれに対
応する収容部２０と共に角度位置Ｂにある。さらにその
前に収容されているマスキング機構５８と共に皿部３０
ｂが前進することによって、マスキング機構は新たに供
給された工作物２２に取り付けられる。新たに挿入され
た収容部２０に接するシール６６と６８によってこの場
合にもチャンバの分離が保証される。
【００４０】電磁石５８が非能動化され、それによって
磁石６４がマスキング機構５８を工作物と共に皿部５２
に引き付けて保持する。そのために気密に、好ましくは
真空密に（蛇腹）構成されたタペットによって固定機構
２６が緩められる。
磁石６４がマスキング機構５８を工作物と共に皿部５２
に引き付けて保持する。そのために気密に、好ましくは
真空密に（蛇腹）構成されたタペットによって固定機構
２６が緩められる。
【００４１】それによって工作物は皿部５２上でマスキ
ングされている。収容部２０は空になり、次のサイクル
の処理済みの工作物を収容する用意が整う。新しく装填
された皿部５２は引き戻され、チャンバ分離は皿部３０
ｂと空の収容部２０によって保証される。移送スター４
４の回動によってちょうど装填された工作物がその処理
位置へさらに回動され、またすでに処理済みの工作物は
空の収容部２０と対向する位置へ回動される。シール６
８は、例えば収容部２０に設けられており、かつ図示の
装置においては開口部６においてエアロックする課題を
有する。余り慎重な取扱いを要しない処理プロセスにお
いてチャンバ１と２間の真空密の分離が必要とされない
場合、あるいは例えばチャンバ２の後段に接続された処
理および／または移送チャンバそれ自体が分離機構と条
件調節手段を有する場合には、シール６８と同様にシー
ル６６および／または６２も拡散ギャップシールとして
形成することができる。
ングされている。収容部２０は空になり、次のサイクル
の処理済みの工作物を収容する用意が整う。新しく装填
された皿部５２は引き戻され、チャンバ分離は皿部３０
ｂと空の収容部２０によって保証される。移送スター４
４の回動によってちょうど装填された工作物がその処理
位置へさらに回動され、またすでに処理済みの工作物は
空の収容部２０と対向する位置へ回動される。シール６
８は、例えば収容部２０に設けられており、かつ図示の
装置においては開口部６においてエアロックする課題を
有する。余り慎重な取扱いを要しない処理プロセスにお
いてチャンバ１と２間の真空密の分離が必要とされない
場合、あるいは例えばチャンバ２の後段に接続された処
理および／または移送チャンバそれ自体が分離機構と条
件調節手段を有する場合には、シール６８と同様にシー
ル６６および／または６２も拡散ギャップシールとして
形成することができる。
【００４２】それぞれ移送スター４４のアーム４６が処
理ステーションないしはそれに通じる開口部（５４な
ど）に対向して位置決めされた場合に、その皿部５２が
前進されて、かつ必要な場合には、シール６２によって
開口部５４の周縁に当接される。それが例えばエッチン
グプロセスによるものであろうと、あるいはコーティン
グプロセスによるものであろうと、マスキングされた工
作物２３の表面処理が行われる。図示のメモリプレート
に関する実施例においては、マスキングリング７２によ
る周辺マスキングは処理ステーション５６の固定位置に
取り付けられ、実現され、マスキングリングは弾性的に
形成することができる。しかし、必要な場合には、周辺
マスキング機構あるいは他のマスキング機構を中央マス
キング機構５８と原則的に同様に取り扱うことも可能で
あって、それについては図４を用いてさらに説明する。
理ステーションないしはそれに通じる開口部（５４な
ど）に対向して位置決めされた場合に、その皿部５２が
前進されて、かつ必要な場合には、シール６２によって
開口部５４の周縁に当接される。それが例えばエッチン
グプロセスによるものであろうと、あるいはコーティン
グプロセスによるものであろうと、マスキングされた工
作物２３の表面処理が行われる。図示のメモリプレート
に関する実施例においては、マスキングリング７２によ
る周辺マスキングは処理ステーション５６の固定位置に
取り付けられ、実現され、マスキングリングは弾性的に
形成することができる。しかし、必要な場合には、周辺
マスキング機構あるいは他のマスキング機構を中央マス
キング機構５８と原則的に同様に取り扱うことも可能で
あって、それについては図４を用いてさらに説明する。
【００４３】すでに説明したように、チャンバ２に多数
の処理ステーションを設けることができ、かつ／または
設けられている開口部のうちあるものを他の移送ないし
分配チャンバあるいは他のエアロックチャンバに連通さ
せることも可能である。符号７４で概略図示するよう
に、図示の装置においてはチャンバ２はそれ自体排気さ
れ、ないしは条件調節される。
の処理ステーションを設けることができ、かつ／または
設けられている開口部のうちあるものを他の移送ないし
分配チャンバあるいは他のエアロックチャンバに連通さ
せることも可能である。符号７４で概略図示するよう
に、図示の装置においてはチャンバ２はそれ自体排気さ
れ、ないしは条件調節される。
【００４４】皿部５２の駆動装置用の制御線は、スター
４４の軸５０を通して案内される（不図示）。
４４の軸５０を通して案内される（不図示）。
【００４５】図１から図２までには図示されていない
が、マスキング機構５８は、処理によって消耗した場
合、例えば多数回通過した後にそのコーティングが厚く
なってしまたた場合には、もやはチャンバ２内には戻さ
れず、例えば皿部３０ｂと共に、もはや持ち上げられ
ず、処理済みの工作物の所に留まりエアロックを介して
排出される。このことが予め計画されているので、処理
されていない、上述のように収容部２０によって新たに
供給された工作物は、すでにマスキング機構５８と共に
チャンバ１内に挿入され、それによって使い尽くされた
マスキング機構５８が交換される。図１から図２に示す
好ましい特殊な実施例を用いて本発明を説明して来た。
が、マスキング機構５８は、処理によって消耗した場
合、例えば多数回通過した後にそのコーティングが厚く
なってしまたた場合には、もやはチャンバ２内には戻さ
れず、例えば皿部３０ｂと共に、もはや持ち上げられ
ず、処理済みの工作物の所に留まりエアロックを介して
排出される。このことが予め計画されているので、処理
されていない、上述のように収容部２０によって新たに
供給された工作物は、すでにマスキング機構５８と共に
チャンバ１内に挿入され、それによって使い尽くされた
マスキング機構５８が交換される。図１から図２に示す
好ましい特殊な実施例を用いて本発明を説明して来た。
【００４６】図３には、２つの移送機構間のマスク交換
が、それに関するコンセプトが図１、２に示すように行
われる場合に、原則的にどのように行われるかが示され
ている。
が、それに関するコンセプトが図１、２に示すように行
われる場合に、原則的にどのように行われるかが示され
ている。
【００４７】図３（ａ）によれば、２つのチャンバ８０
と７８は開口部８２を有する仕切り壁７６によって分離
されている。各チャンバ内には移送装置が設けられてお
り、ここでは概略的にベルトコンベヤ８４ないし８６で
示されている。それぞれのコンベヤには工作物８８を固
定する制御可能な固定機構が設けられており、概略的に
符号９０で図示されている。工作物８８の処理ステーシ
ョンへの移送方向は、Ｓ５で概略図示するようにチャン
バ７８からチャンバ８０内へ行われる。装置はいま駆動
されたものとする。
と７８は開口部８２を有する仕切り壁７６によって分離
されている。各チャンバ内には移送装置が設けられてお
り、ここでは概略的にベルトコンベヤ８４ないし８６で
示されている。それぞれのコンベヤには工作物８８を固
定する制御可能な固定機構が設けられており、概略的に
符号９０で図示されている。工作物８８の処理ステーシ
ョンへの移送方向は、Ｓ５で概略図示するようにチャン
バ７８からチャンバ８０内へ行われる。装置はいま駆動
されたものとする。
【００４８】その場合に図３（ａ）に示すように、移送
装置８４は空であって、移送装置８６によって工作物８
８が別体の部材として形成されたマスキング機構９２と
一緒にＳ６で示す方向で供給される。最初に供給された
工作物Ｎｏ．１は開口部８２を介して移送され、図３
（ｂ）に示すように、例えばタペットの形状の横移送機
構９４によってコンベヤ８６から開口部８２を通してコ
ンベヤ８４へ移送される。コンベヤ８４は図３（ｂ）に
示すように例示された方向Ｓ７へさらに歩進移動され
る。
装置８４は空であって、移送装置８６によって工作物８
８が別体の部材として形成されたマスキング機構９２と
一緒にＳ６で示す方向で供給される。最初に供給された
工作物Ｎｏ．１は開口部８２を介して移送され、図３
（ｂ）に示すように、例えばタペットの形状の横移送機
構９４によってコンベヤ８６から開口部８２を通してコ
ンベヤ８４へ移送される。コンベヤ８４は図３（ｂ）に
示すように例示された方向Ｓ７へさらに歩進移動され
る。
【００４９】この過程は、サイクリックに回転するコン
ベヤ８４に完全に工作物が装填されるまで行われ、前記
工作物の一部はすでに処理されている。その場合に現在
まで移送方向において開口部８２の下流にあるコンベヤ
８６は常に空にされている。
ベヤ８４に完全に工作物が装填されるまで行われ、前記
工作物の一部はすでに処理されている。その場合に現在
まで移送方向において開口部８２の下流にあるコンベヤ
８６は常に空にされている。
【００５０】コンベヤ８４にｎ箇の工作物を供給するこ
とができるものとする。移送方向において開口部８２の
下流で処理された後に、工作物Ｎｏ．１が図３（ｃ）に
示す開口部８２の前に再度現れる。工作物Ｎｏ．（ｎ＋
１）が今度はマスキング９２なしでコンベヤ８６へ供給
される。図３（ｄ）への移行によって明らかなように、
横移送機構９４によって処理済みの工作物Ｎｏ．１がコ
ンベヤ８４からコンベヤ８６内へ移され、またマスキン
グ機構９２が工作物Ｎｏ．１から持ち上げられる。その
後コンベヤ８６は１ステップＳ６方向へ移動される。そ
れによって図３（ｅ）に図示する状況が生じる。すなわ
ち処理済みの工作物Ｎｏ．１はチャンバ７８から排出す
るように移送され、工作物Ｎｏ．（ｎ＋１）が開口部８
２の上方へ来る。横移送機構９４によって、すでに開口
部８２から開口部８２までチャンバ７８を一周して来た
マスキング機構９２が未処理の工作物Ｎｏ．（ｎ＋１）
上に取り付けられ、この工作物は図３ｆから明らかなよ
うに、コンベヤ８６から開口部８２を通してコンベヤ８
４へ引き渡される。それによってコンベヤ８６の工作物
収容部は空になり、それによって図３（ｃ）から３
（ｆ）に示すサイクルを繰り返すことが可能になる。
とができるものとする。移送方向において開口部８２の
下流で処理された後に、工作物Ｎｏ．１が図３（ｃ）に
示す開口部８２の前に再度現れる。工作物Ｎｏ．（ｎ＋
１）が今度はマスキング９２なしでコンベヤ８６へ供給
される。図３（ｄ）への移行によって明らかなように、
横移送機構９４によって処理済みの工作物Ｎｏ．１がコ
ンベヤ８４からコンベヤ８６内へ移され、またマスキン
グ機構９２が工作物Ｎｏ．１から持ち上げられる。その
後コンベヤ８６は１ステップＳ６方向へ移動される。そ
れによって図３（ｅ）に図示する状況が生じる。すなわ
ち処理済みの工作物Ｎｏ．１はチャンバ７８から排出す
るように移送され、工作物Ｎｏ．（ｎ＋１）が開口部８
２の上方へ来る。横移送機構９４によって、すでに開口
部８２から開口部８２までチャンバ７８を一周して来た
マスキング機構９２が未処理の工作物Ｎｏ．（ｎ＋１）
上に取り付けられ、この工作物は図３ｆから明らかなよ
うに、コンベヤ８６から開口部８２を通してコンベヤ８
４へ引き渡される。それによってコンベヤ８６の工作物
収容部は空になり、それによって図３（ｃ）から３
（ｆ）に示すサイクルを繰り返すことが可能になる。
【００５１】図４には、図１に示す装置において概略図
示された開口部４を有する部分を用いて装置の他の実施
例が示されており、本実施例においても周辺マスキング
機構５８ｐは、上述のマスキング機構５８と同様に交換
可能である。必ずしも上述のマスキングコンセプトと結
合されない図示の実施例においては、シール６２を有す
る皿部５２は車両プレート５２ａを支持しており、この
車両プレートは磁気的に、好ましくは永久磁石６４ａに
よって皿部５２に保持されている。
示された開口部４を有する部分を用いて装置の他の実施
例が示されており、本実施例においても周辺マスキング
機構５８ｐは、上述のマスキング機構５８と同様に交換
可能である。必ずしも上述のマスキングコンセプトと結
合されない図示の実施例においては、シール６２を有す
る皿部５２は車両プレート５２ａを支持しており、この
車両プレートは磁気的に、好ましくは永久磁石６４ａに
よって皿部５２に保持されている。
【００５２】車両プレート５２ａ自体は皿部５２側の周
辺磁石６４ｐと中央の磁石６４を支持している。シール
を有する収容部２０は、上述のように、シール６６を有
する皿部３０ｂによって開口部４の周縁へ駆動される。
皿部３０ｂには周辺のマスキング機構５８ｐ用の電磁石
６０ｐと中央のマスキング機構５８用の電磁石６０が設
けられている。磁石６０ｐによって、マスキング機構５
８に関して上述したのと同様に、周辺のマスキング機構
５８ｐの移送が行われる。
辺磁石６４ｐと中央の磁石６４を支持している。シール
を有する収容部２０は、上述のように、シール６６を有
する皿部３０ｂによって開口部４の周縁へ駆動される。
皿部３０ｂには周辺のマスキング機構５８ｐ用の電磁石
６０ｐと中央のマスキング機構５８用の電磁石６０が設
けられている。磁石６０ｐによって、マスキング機構５
８に関して上述したのと同様に、周辺のマスキング機構
５８ｐの移送が行われる。
【００５３】車両プレート５２ａは工作物取付プレート
であって、これはそれぞれ対応する処理すべき工作物２
２に従って交換される。このプレートはそれぞれの工作
物２２と共に工作物移送路の少なくとも一部を通過す
る。概略図示するように、車両プレート５２ａが設けら
れる場合には、固定機構２６が車両プレートに係合す
る。
であって、これはそれぞれ対応する処理すべき工作物２
２に従って交換される。このプレートはそれぞれの工作
物２２と共に工作物移送路の少なくとも一部を通過す
る。概略図示するように、車両プレート５２ａが設けら
れる場合には、固定機構２６が車両プレートに係合す
る。
【００５４】図５には上述のマスキング方法ないし装置
の全般的なことを示すためにそれに関する原理が示され
ている。コンベヤ１００上で、概略図示するように、工
作物１０２ａがマスキングなしでコンベヤ１００とそれ
に伴って工作物１０２の移動路Ｂに沿って作用する取付
けステーション１０４へ供給され、取付けステーション
はマガジン１０６からルーズなマスキング部材１０８を
供給される。取付けステーション１０４、すなわちマス
キング部材１０８が工作物１０２ａに取り付けられるス
テーションの出口側において、マスキング部材１０８を
設けられた工作物１０２ｂが、図５において一般的に真
空表面処理装置１１０で示される１つあるいは複数の処
理ステーションへ供給され、そこで上述の工作物１０２
ｂの片面あるいは両面あるいは周囲が表面処理される。
装置１１０の出口側において処理され、さらにマスキン
グされた工作物１０２ｂが工作物の移動方向Ｂに沿って
作用する取り出しステーション１１２へ供給されて、処
理済みの工作物１０２ｃとしてマスキング部材１０８な
しで取り出しステーション１１２から出て行く。ステー
ション１１２で除去されたマスキング部材１０８は取り
付けステーション１０４へ戻されるか、あるいはそれが
多数回の戻しサイクルの後で処理装置１１０の作用によ
って消耗してしまった場合には、符号１１４で示すよう
に、循環から引き出される。これは概略図示する制御さ
れる選択ユニット１１６を介して行われる。
の全般的なことを示すためにそれに関する原理が示され
ている。コンベヤ１００上で、概略図示するように、工
作物１０２ａがマスキングなしでコンベヤ１００とそれ
に伴って工作物１０２の移動路Ｂに沿って作用する取付
けステーション１０４へ供給され、取付けステーション
はマガジン１０６からルーズなマスキング部材１０８を
供給される。取付けステーション１０４、すなわちマス
キング部材１０８が工作物１０２ａに取り付けられるス
テーションの出口側において、マスキング部材１０８を
設けられた工作物１０２ｂが、図５において一般的に真
空表面処理装置１１０で示される１つあるいは複数の処
理ステーションへ供給され、そこで上述の工作物１０２
ｂの片面あるいは両面あるいは周囲が表面処理される。
装置１１０の出口側において処理され、さらにマスキン
グされた工作物１０２ｂが工作物の移動方向Ｂに沿って
作用する取り出しステーション１１２へ供給されて、処
理済みの工作物１０２ｃとしてマスキング部材１０８な
しで取り出しステーション１１２から出て行く。ステー
ション１１２で除去されたマスキング部材１０８は取り
付けステーション１０４へ戻されるか、あるいはそれが
多数回の戻しサイクルの後で処理装置１１０の作用によ
って消耗してしまった場合には、符号１１４で示すよう
に、循環から引き出される。これは概略図示する制御さ
れる選択ユニット１１６を介して行われる。
【００５５】図６と７を用いて、図１から図２に示す好
ましい装置のチャンバ１内で実現される移送技術の一般
的に該当する原理を説明する。図６に示すように、それ
自体および／または少なくとも２つ設けられているチャ
ンバ開口部１２２のうち少なくとも１つを通して真空技
術的に条件調節可能な移送チャンバ１２０内には、カル
ーセル１２４が設けられており、このカルーセルはω１
で図示するように、回転駆動制御される。カルーセルに
は工作物１２６を固定するための一般的な種類の、場合
によっては制御される固定機構が設けられている。
ましい装置のチャンバ１内で実現される移送技術の一般
的に該当する原理を説明する。図６に示すように、それ
自体および／または少なくとも２つ設けられているチャ
ンバ開口部１２２のうち少なくとも１つを通して真空技
術的に条件調節可能な移送チャンバ１２０内には、カル
ーセル１２４が設けられており、このカルーセルはω１
で図示するように、回転駆動制御される。カルーセルに
は工作物１２６を固定するための一般的な種類の、場合
によっては制御される固定機構が設けられている。
【００５６】図６に示す構成によれば、カルーセル１２
４には例えばディスク状の工作物１２６が、カルーセル
１２４が回転軸を中心に回転する際にそのディスク状面
が円筒面を描くように、保持されかつ移送される。好ま
しい実施例においてはカルーセル１２４の回転軸Ａ１２
４に関して回転しないように径方向に制御されて出入り
可能な送り機構１２８が設けられている。送り機構が回
転しない場合には、その数はチャンバ１２０内のそれに
よって操作すべき開口部１２２の数と同一であるが、そ
の数は必ずしもチャンバ１２０に設けられ、工作物が通
過する開口部の数と同一にする必要はない。
４には例えばディスク状の工作物１２６が、カルーセル
１２４が回転軸を中心に回転する際にそのディスク状面
が円筒面を描くように、保持されかつ移送される。好ま
しい実施例においてはカルーセル１２４の回転軸Ａ１２
４に関して回転しないように径方向に制御されて出入り
可能な送り機構１２８が設けられている。送り機構が回
転しない場合には、その数はチャンバ１２０内のそれに
よって操作すべき開口部１２２の数と同一であるが、そ
の数は必ずしもチャンバ１２０に設けられ、工作物が通
過する開口部の数と同一にする必要はない。
【００５７】カルーセル１２４は好ましくは歩進的に回
転駆動されるので、それぞれ収容部１２５が操作すべき
チャンバ開口部１２２に整合され、その後前述のチャン
バ開口部１２２に固定的に対応する送り機構１２８によ
って位置決めされた工作物１２６がチャンバ１２０から
出る方向へ排出され、あるいは逆に、前述の開口部１２
２を通して工作物がチャンバ１２０の外部から引き戻さ
れあるいは挿入される。
転駆動されるので、それぞれ収容部１２５が操作すべき
チャンバ開口部１２２に整合され、その後前述のチャン
バ開口部１２２に固定的に対応する送り機構１２８によ
って位置決めされた工作物１２６がチャンバ１２０から
出る方向へ排出され、あるいは逆に、前述の開口部１２
２を通して工作物がチャンバ１２０の外部から引き戻さ
れあるいは挿入される。
【００５８】この種の移送チャンバ１２０の所望に条件
調節された雰囲気内には移送機構１２８より多くの工作
物１２６を仮貯蔵して設けることができることは明かで
ある。軸１２４を中心とする回転運動と、送り機構１２
８が行うような径方向運動が分離され、それによって該
当する駆動装置と制御線の実現は著しく簡略化される。
調節された雰囲気内には移送機構１２８より多くの工作
物１２６を仮貯蔵して設けることができることは明かで
ある。軸１２４を中心とする回転運動と、送り機構１２
８が行うような径方向運動が分離され、それによって該
当する駆動装置と制御線の実現は著しく簡略化される。
【００５９】カルーセルの必然的な回転運動と送り機構
の径方向運動が１つの平面内で行われるという事実に基
づいて最適な平坦なチャンバ１２０が得られる。
の径方向運動が１つの平面内で行われるという事実に基
づいて最適な平坦なチャンバ１２０が得られる。
【００６０】このことは必ずしも必要ではないが、好ま
しいことである。図６に一点鎖線で示すように、送り機
構１２８を軸Ａ１２４に対して斜めの角度で配置し、そ
れに従ってホルダをカルーセルに、かつ開口部をチャン
バ１２０に設けることは容易に可能である。さらに図６
に示すカルーセルに、点線で示すように、軸方向Ａ１２
４に見て、２層あるいは多層の工作物を設け、この軸方
向に階段状になった送り機構１２８を用いてチャンバ開
口部１２２を操作し、あるいはＶで示すように、設けら
れている送り機構１２８をさらに回転しないように、し
かし軸方向には制御されて移動可能であるように設ける
ことも可能である。図６にω２ａで示すように、符号１
２４ｍで示すように、別体の回転駆動装置を用いて、送
り機構１２８を軸Ａ１２４を中心に回転させることも容
易に可能である。当業者には明らかなように、チャンバ
１２０ないし図１から図２ａに示すチャンバ１において
実現される移送原理をそれぞれの要請に併せて修正する
多数の方法がある。
しいことである。図６に一点鎖線で示すように、送り機
構１２８を軸Ａ１２４に対して斜めの角度で配置し、そ
れに従ってホルダをカルーセルに、かつ開口部をチャン
バ１２０に設けることは容易に可能である。さらに図６
に示すカルーセルに、点線で示すように、軸方向Ａ１２
４に見て、２層あるいは多層の工作物を設け、この軸方
向に階段状になった送り機構１２８を用いてチャンバ開
口部１２２を操作し、あるいはＶで示すように、設けら
れている送り機構１２８をさらに回転しないように、し
かし軸方向には制御されて移動可能であるように設ける
ことも可能である。図６にω２ａで示すように、符号１
２４ｍで示すように、別体の回転駆動装置を用いて、送
り機構１２８を軸Ａ１２４を中心に回転させることも容
易に可能である。当業者には明らかなように、チャンバ
１２０ないし図１から図２ａに示すチャンバ１において
実現される移送原理をそれぞれの要請に併せて修正する
多数の方法がある。
【００６１】この多数のうちから新しい方法が図７に他
の方法として示されており、この方法によれば、移送チ
ャンバ１２０の組立て高さを著しく削減することが可能
になる。ここではカルーセル１２４は、最も小さい工作
物がディスク状の工作物として形成されている場合にそ
の厚み方向における寸法がカルーセル軸１２４と平行に
なるように形成されている。送り機構１２８は図６の場
合と同様に形成され、かつ設けられている開口部１２２
ａはスリットとして形成される。
の方法として示されており、この方法によれば、移送チ
ャンバ１２０の組立て高さを著しく削減することが可能
になる。ここではカルーセル１２４は、最も小さい工作
物がディスク状の工作物として形成されている場合にそ
の厚み方向における寸法がカルーセル軸１２４と平行に
なるように形成されている。送り機構１２８は図６の場
合と同様に形成され、かつ設けられている開口部１２２
ａはスリットとして形成される。
【００６２】次に、チャンバ２の一般的な構造と、装置
構造のコンセプトをそれぞれチャンバ１ないしチャンバ
２のコンセプトに従った少なくとも１つのチャンバを用
いて考察する。
構造のコンセプトをそれぞれチャンバ１ないしチャンバ
２のコンセプトに従った少なくとも１つのチャンバを用
いて考察する。
【００６３】図８には図１、２に示すチャンバ２の他の
実施例の横断面図が示されている。チャンバは駆動モー
タ１３０を有し、その軸上には空間軸Ａおよび物理的な
駆動軸１３３として、軸Ａ１３５を有する少なくとも１
つの移送アーム１３５が角度をもって、例えば空間軸Ａ
に対して４５°の角度で固定されている。モータによっ
て駆動軸１３３が、ω２で示すように、回転されるの
で、１つあるいは複数の移送アーム１３５は、ここでは
例えば４５°の円錐開放角度φを有する円錐面を描く。
図８においてはチャンバＫは操作すべき２つの開口部を
有する。第１の開口部１３７は例えば、かつ図示のよう
に直接エアロック開口部として形成されている。その場
合には、図５、６に示すチャンバの原理に従って形成さ
れた他のチャンバ１８０は場合によってはエアロックを
持つ必要がない。チャンバはフレーム１３９を有し、そ
のフレームに接して昇降可能なフレーム１４１がフラン
ジ止めされている。駆動されて昇降するフレーム１４１
の内部にはシールフレーム１４２が設けられており、シ
ールフレームは法線Ａ１４３を有するエアロック体積１
４３を固定する。エアロック開口部１３７にはさらに、
例えばＸ方向に線形に移動可能な天井部１４５を有す
る。天井部はもちろん図７において垂直の軸を中心に揺
動して開閉することも可能である。天井部は図示する閉
鎖位置においては、中間フレーム１４１がｙ方向に下降
することによって、シールフレーム１４２上に密着す
る。それによってエアロック開口部１３７は周囲Ｕに対
して密封される。
実施例の横断面図が示されている。チャンバは駆動モー
タ１３０を有し、その軸上には空間軸Ａおよび物理的な
駆動軸１３３として、軸Ａ１３５を有する少なくとも１
つの移送アーム１３５が角度をもって、例えば空間軸Ａ
に対して４５°の角度で固定されている。モータによっ
て駆動軸１３３が、ω２で示すように、回転されるの
で、１つあるいは複数の移送アーム１３５は、ここでは
例えば４５°の円錐開放角度φを有する円錐面を描く。
図８においてはチャンバＫは操作すべき２つの開口部を
有する。第１の開口部１３７は例えば、かつ図示のよう
に直接エアロック開口部として形成されている。その場
合には、図５、６に示すチャンバの原理に従って形成さ
れた他のチャンバ１８０は場合によってはエアロックを
持つ必要がない。チャンバはフレーム１３９を有し、そ
のフレームに接して昇降可能なフレーム１４１がフラン
ジ止めされている。駆動されて昇降するフレーム１４１
の内部にはシールフレーム１４２が設けられており、シ
ールフレームは法線Ａ１４３を有するエアロック体積１
４３を固定する。エアロック開口部１３７にはさらに、
例えばＸ方向に線形に移動可能な天井部１４５を有す
る。天井部はもちろん図７において垂直の軸を中心に揺
動して開閉することも可能である。天井部は図示する閉
鎖位置においては、中間フレーム１４１がｙ方向に下降
することによって、シールフレーム１４２上に密着す
る。それによってエアロック開口部１３７は周囲Ｕに対
して密封される。
【００６４】移送アーム１３５の端部側には支持体部分
として皿部１４９が支持されており、その上に処理すべ
き工作物、図示の例ではメモリディスク１５１が載置さ
れる。点線で示すように、移送アーム１３５において皿
部１４９はシールフレーム１４２に接する（記載され
た）着座位置から空間軸Ａ方向へ引き戻され、それによ
ってエアロックの移送装置側が開放される。皿部１４９
は、チャンバＫ内で最大の純度要請を満足させる雰囲気
を維持する必要がない場合には、必ずしもフレーム１４
２に密着させる必要はない。工作物１５１は移送アーム
によって、モータ１３０により軸１３３が回転すること
によって図示された第２の開口部１５７へ移送される。
移送アーム１３５に設けられた径方向駆動機構（その構
成は本発明には関係がなく、かつそれについては当業者
には多数の実現方法が開かれている）は、これが大事な
ことであるが、回転可能な移送アームに直接設けられて
おり、蛇腹１５３によってチャンバＫ内の周囲に対して
真空密に密封されている。移送アーム１３５が回転する
ことによって、工作物１５１、すなわちディスクは第２
の開口部１５７の領域へ移送される。開口部１５７は開
放面法線Ａ１５７を定める。点線で示す近似位置Ｑから
移送皿部１４９が工作物１５１と共に、アーム１３５に
設けられた上述の例えば空気式の昇降機構によって実線
で示す位置へ再び持ち上げられるので、皿部１４９は開
口部１５７の端縁に密着する。
として皿部１４９が支持されており、その上に処理すべ
き工作物、図示の例ではメモリディスク１５１が載置さ
れる。点線で示すように、移送アーム１３５において皿
部１４９はシールフレーム１４２に接する（記載され
た）着座位置から空間軸Ａ方向へ引き戻され、それによ
ってエアロックの移送装置側が開放される。皿部１４９
は、チャンバＫ内で最大の純度要請を満足させる雰囲気
を維持する必要がない場合には、必ずしもフレーム１４
２に密着させる必要はない。工作物１５１は移送アーム
によって、モータ１３０により軸１３３が回転すること
によって図示された第２の開口部１５７へ移送される。
移送アーム１３５に設けられた径方向駆動機構（その構
成は本発明には関係がなく、かつそれについては当業者
には多数の実現方法が開かれている）は、これが大事な
ことであるが、回転可能な移送アームに直接設けられて
おり、蛇腹１５３によってチャンバＫ内の周囲に対して
真空密に密封されている。移送アーム１３５が回転する
ことによって、工作物１５１、すなわちディスクは第２
の開口部１５７の領域へ移送される。開口部１５７は開
放面法線Ａ１５７を定める。点線で示す近似位置Ｑから
移送皿部１４９が工作物１５１と共に、アーム１３５に
設けられた上述の例えば空気式の昇降機構によって実線
で示す位置へ再び持ち上げられるので、皿部１４９は開
口部１５７の端縁に密着する。
【００６５】周囲Ｕに対してチャンバＫは好ましくは真
空密に形成されている。それぞれ使用目的に従って（図
示せず）、チャンバＫの開口部に結合されたステーショ
ンおよび／または移送チャンバおよび／またはあるいは
チャンバＫ自体および／またはエアロック開口部１３７
に、それぞれ所望の雰囲気を調節するために装置が設け
られ、すなわちそれらに排気スリーブおよび／またはガ
ス入り口が設けられる。チャンバＫ用のポンプスリーブ
１６０と、場合によってはエアロック開口部１３７が図
８に図示されている。
空密に形成されている。それぞれ使用目的に従って（図
示せず）、チャンバＫの開口部に結合されたステーショ
ンおよび／または移送チャンバおよび／またはあるいは
チャンバＫ自体および／またはエアロック開口部１３７
に、それぞれ所望の雰囲気を調節するために装置が設け
られ、すなわちそれらに排気スリーブおよび／またはガ
ス入り口が設けられる。チャンバＫ用のポンプスリーブ
１６０と、場合によってはエアロック開口部１３７が図
８に図示されている。
【００６６】チャンバが、すべてのチャンバ開口部がそ
れぞれ設けられているアーム１３５のいずれかによって
密封されるように形成されている場合には、それによっ
てそれぞれ開口部に対して設けられている処理ステーシ
ョンおよび／または移送チャンバおよび／またはエアロ
ックステーション内のそれぞれの雰囲気をチャンバＫ内
の雰囲気とは無関係に設定することが可能になる。しか
し所定の場合には少なくとも１つの他のチャンバないし
ステーションとチャンバＫのために共通の雰囲気を設け
るだけで充分であって、それによって例えば図８に、例
えばエアロック開口部１３７とチャンバＫが共通に示さ
れるように、チャンバＫだけが条件調節ないしは排気さ
れる。
れぞれ設けられているアーム１３５のいずれかによって
密封されるように形成されている場合には、それによっ
てそれぞれ開口部に対して設けられている処理ステーシ
ョンおよび／または移送チャンバおよび／またはエアロ
ックステーション内のそれぞれの雰囲気をチャンバＫ内
の雰囲気とは無関係に設定することが可能になる。しか
し所定の場合には少なくとも１つの他のチャンバないし
ステーションとチャンバＫのために共通の雰囲気を設け
るだけで充分であって、それによって例えば図８に、例
えばエアロック開口部１３７とチャンバＫが共通に示さ
れるように、チャンバＫだけが条件調節ないしは排気さ
れる。
【００６７】図９には、図１から図２ａに示すチャンバ
２の原理に基づく一部断面で示すチャンバが示されてお
り、ここではアーム１３５はモーター１３０の軸１３３
から垂直に突出しており、従ってφ＝９０°になる。
２の原理に基づく一部断面で示すチャンバが示されてお
り、ここではアーム１３５はモーター１３０の軸１３３
から垂直に突出しており、従ってφ＝９０°になる。
【００６８】図１０には、図９に示す構成における装置
の一部であるチャンバの上面図が示されている。同一の
参照符号は同一の部材を示す。図９に示すのと同様に、
軸Ａを中心に例えば６つの移送アーム１３５ａから１３
５ｆが配置されており、これらは開口部１５７ａから１
５７ｅを通して例えば工作物（ディスク）１５１を出入
りさせるエアロックステーション１５８ａとステーショ
ン１５８ｂ１を有する移送チャンバ１５８ｂ、他の５つ
のチャンバないし処理ステーションを交互に操作する。
の一部であるチャンバの上面図が示されている。同一の
参照符号は同一の部材を示す。図９に示すのと同様に、
軸Ａを中心に例えば６つの移送アーム１３５ａから１３
５ｆが配置されており、これらは開口部１５７ａから１
５７ｅを通して例えば工作物（ディスク）１５１を出入
りさせるエアロックステーション１５８ａとステーショ
ン１５８ｂ１を有する移送チャンバ１５８ｂ、他の５つ
のチャンバないし処理ステーションを交互に操作する。
【００６９】開口部１５７ｂは、チャンバ１と同様ない
しは図６と７を用いて説明したチャンバと同様に、例え
ば移送チャンバ１５８ｂに対して設けられる。このチャ
ンバ１５８ｂは他の処理ステーションおよび／または他
の移送ステーションと接続されている。開口部１５７ｃ
は例えば図１のチャンバ２に示され、かつさらに図８に
関連して説明されたタイプの他のチャンバ１５８ｃと接
続されており、このチャンバはさらに他の処理および／
または移送および／またはエアロックチャンバと接続さ
れている。装置全体の図示の構成は、図１から図２に示
すチャンバ１のタイプのチャンバおよび図１から図２に
示すチャンバ２のタイプのチャンバによって装置をいか
にフレキシブルにモジュラー構成できるかについての１
つの例を示すものに過ぎない。このフレキシビリティに
ついてはさらに詳しく説明するが、その場合に図１０で
はすでに後で定義しようとしているチャンバタイプのシ
ンボルが使用されている。
しは図６と７を用いて説明したチャンバと同様に、例え
ば移送チャンバ１５８ｂに対して設けられる。このチャ
ンバ１５８ｂは他の処理ステーションおよび／または他
の移送ステーションと接続されている。開口部１５７ｃ
は例えば図１のチャンバ２に示され、かつさらに図８に
関連して説明されたタイプの他のチャンバ１５８ｃと接
続されており、このチャンバはさらに他の処理および／
または移送および／またはエアロックチャンバと接続さ
れている。装置全体の図示の構成は、図１から図２に示
すチャンバ１のタイプのチャンバおよび図１から図２に
示すチャンバ２のタイプのチャンバによって装置をいか
にフレキシブルにモジュラー構成できるかについての１
つの例を示すものに過ぎない。このフレキシビリティに
ついてはさらに詳しく説明するが、その場合に図１０で
はすでに後で定義しようとしているチャンバタイプのシ
ンボルが使用されている。
【００７０】図１１には図１、２、８から１０を用いて
説明したチャンバＫの基本原理がさらに概略的に図示さ
れている。空間軸Ａを中心に回転する、ここに図示する
例えば３つの移送アーム１３５ａから１３５ｃによっ
て、例えば記載されている３つの開口部１５７が操作さ
れる。概略図示する仕切り１５９によってチャンバＫが
囲い込まれている。移送装置はω２に回転する際に開放
角度φを有する円錐面を描き、開口部１５７を操作し、
開口部は面法線１５７を定める。面法線は描かれる円錐
の外側表面線の方向に延びている。開口部１５７は描か
れる円錐面の大円上に位置しており、すなわち開口部は
すべてアーム１３５によって描かれる円錐の先端Ｓから
等距離離れている。
説明したチャンバＫの基本原理がさらに概略的に図示さ
れている。空間軸Ａを中心に回転する、ここに図示する
例えば３つの移送アーム１３５ａから１３５ｃによっ
て、例えば記載されている３つの開口部１５７が操作さ
れる。概略図示する仕切り１５９によってチャンバＫが
囲い込まれている。移送装置はω２に回転する際に開放
角度φを有する円錐面を描き、開口部１５７を操作し、
開口部は面法線１５７を定める。面法線は描かれる円錐
の外側表面線の方向に延びている。開口部１５７は描か
れる円錐面の大円上に位置しており、すなわち開口部は
すべてアーム１３５によって描かれる円錐の先端Ｓから
等距離離れている。
【００７１】図１２には他の可能性が示されている。こ
こではアーム１３５によって描かれる図示の円錐上で大
円１６３上に複数の開口部があり、さらに大円１６５上
に他の開口部があって、そのうち１つが図示されてい
る。開放面法線Ａ１５７はここでも円錐外側面の線ｍの
方向を指している。異なる大円１６３、１６５上に位置
する開口部１５７を操作するために、符号１６７で概略
図示するように、アーム１３５は例えば図８の蛇腹１５
３と同様の不図示の蛇腹によって覆われて、空気式のテ
レスコープ駆動装置を介して延長可能ないし短縮可能に
駆動される。それによって、図８から図１０に示すチャ
ンバに設けられているような１つの大円上だけでなく、
好ましくはアジマス（方位角）φで変位した多数の円錐
大円上に開口部を設けることが可能になる。
こではアーム１３５によって描かれる図示の円錐上で大
円１６３上に複数の開口部があり、さらに大円１６５上
に他の開口部があって、そのうち１つが図示されてい
る。開放面法線Ａ１５７はここでも円錐外側面の線ｍの
方向を指している。異なる大円１６３、１６５上に位置
する開口部１５７を操作するために、符号１６７で概略
図示するように、アーム１３５は例えば図８の蛇腹１５
３と同様の不図示の蛇腹によって覆われて、空気式のテ
レスコープ駆動装置を介して延長可能ないし短縮可能に
駆動される。それによって、図８から図１０に示すチャ
ンバに設けられているような１つの大円上だけでなく、
好ましくはアジマス（方位角）φで変位した多数の円錐
大円上に開口部を設けることが可能になる。
【００７２】図１３に示すチャンバＫの実施例において
は、再び符号１６７で示すようにアーム１３５は引出し
ないし引き戻し可能であって、移送プレート１４９ａを
支持している。さらに円錐角度φが調節可能に駆動され
るので、異なる開放角度φを有する円錐を描くことがで
きる。従って広い範囲で任意に配置した開口部１５７を
操作することができる。さらに支持プレート１４９ａは
角度β＜９０°で傾斜させてそれぞれのアーム１３５に
軸承されており、かつｐで示すように、アーム軸Ａ１３
５を中心に回転可能である。円錐角度調節φも、アーム
の引出しと引き込みも、ｐで示す回転も制御駆動されて
行われ、それによってこの種の装置を用いて、空間的に
実際に任意に配置された開口部１５７を操作することが
可能になる。点線で示すものは、チャンバＫの区切りで
ある。
は、再び符号１６７で示すようにアーム１３５は引出し
ないし引き戻し可能であって、移送プレート１４９ａを
支持している。さらに円錐角度φが調節可能に駆動され
るので、異なる開放角度φを有する円錐を描くことがで
きる。従って広い範囲で任意に配置した開口部１５７を
操作することができる。さらに支持プレート１４９ａは
角度β＜９０°で傾斜させてそれぞれのアーム１３５に
軸承されており、かつｐで示すように、アーム軸Ａ１３
５を中心に回転可能である。円錐角度調節φも、アーム
の引出しと引き込みも、ｐで示す回転も制御駆動されて
行われ、それによってこの種の装置を用いて、空間的に
実際に任意に配置された開口部１５７を操作することが
可能になる。点線で示すものは、チャンバＫの区切りで
ある。
【００７３】図１４によれば、アーム１３５は、回転軸
Ａに対して平行になるようにＬ字状に形成され、かつ軸
承されている。空間軸ないし回転軸Ａが垂直である場合
には、それによって工作物を皿部１４９上に保持する必
要がなくなるという大きな利点が得られる。皿部１４９
の運動Ｖを行わせる駆動装置は蛇腹１５３の内部に配置
される。
Ａに対して平行になるようにＬ字状に形成され、かつ軸
承されている。空間軸ないし回転軸Ａが垂直である場合
には、それによって工作物を皿部１４９上に保持する必
要がなくなるという大きな利点が得られる。皿部１４９
の運動Ｖを行わせる駆動装置は蛇腹１５３の内部に配置
される。
【００７４】次に、次のようなチャンバタイプを定義
し、かつグラフィック的に簡略化するために、図１５に
おいてはここで定義する略称、すなわち文字シンボルを
用いる： （ａ）．挿入および排出エアロックチャンバ（ＥＡＳ
Ｋ） 工作物を両方向にエアロックを介してを通過させるエア
ロックチャンバである。 （ｂ）．挿入エアロックチャンバ（ＥＳＫ） 工作物がその真空表面処理に向かう方向においてのみエ
アロックを介して挿入されるエアロックチャンバであ
る。 （ｃ）．排出エアロックチャンバ（ＡＳＫ） 工作物が真空表面処理から離れる方向にのみエアロック
を通過するエアロックチャンバである。 （ｄ）．処理チャンバ（ＢＥＡＫ） 内部で工作物が、除去、コーティング、浄化、加熱、冷
却など表面処理されるチャンバである。 （ｅ）．径方向に操作されるカルーセルチャンバ（ＲＡ
ＫＡＫ） 図１と図２および図６、７のチャンバ１を用いてないし
はそれによって図示し、かつ説明されたタイプの移送チ
ャンバである。 （ｆ）．径方向に操作される回転スターチャンバ（ＲＡ
ＤＫ） 図１のチャンバ２および図８から１４との関連において
図示し説明されたタイプのチャンバである。 （ｇ）．移送チャンバ（ＴＲ） 内部で工作物が少なくとも２つの開口部間で移動される
チャンバであって、従ってチャンバＥＡＳＫ、ＥＳＫ、
ＡＳＫ、ＲＡＫＡＫおよびＲＡＤＫがこれに含まれる
が、特にチャンバＲＡＫＡＫとＲＡＤＫに関して図示し
説明された移送機構を有するチャンバも含む。
し、かつグラフィック的に簡略化するために、図１５に
おいてはここで定義する略称、すなわち文字シンボルを
用いる： （ａ）．挿入および排出エアロックチャンバ（ＥＡＳ
Ｋ） 工作物を両方向にエアロックを介してを通過させるエア
ロックチャンバである。 （ｂ）．挿入エアロックチャンバ（ＥＳＫ） 工作物がその真空表面処理に向かう方向においてのみエ
アロックを介して挿入されるエアロックチャンバであ
る。 （ｃ）．排出エアロックチャンバ（ＡＳＫ） 工作物が真空表面処理から離れる方向にのみエアロック
を通過するエアロックチャンバである。 （ｄ）．処理チャンバ（ＢＥＡＫ） 内部で工作物が、除去、コーティング、浄化、加熱、冷
却など表面処理されるチャンバである。 （ｅ）．径方向に操作されるカルーセルチャンバ（ＲＡ
ＫＡＫ） 図１と図２および図６、７のチャンバ１を用いてないし
はそれによって図示し、かつ説明されたタイプの移送チ
ャンバである。 （ｆ）．径方向に操作される回転スターチャンバ（ＲＡ
ＤＫ） 図１のチャンバ２および図８から１４との関連において
図示し説明されたタイプのチャンバである。 （ｇ）．移送チャンバ（ＴＲ） 内部で工作物が少なくとも２つの開口部間で移動される
チャンバであって、従ってチャンバＥＡＳＫ、ＥＳＫ、
ＡＳＫ、ＲＡＫＡＫおよびＲＡＤＫがこれに含まれる
が、特にチャンバＲＡＫＡＫとＲＡＤＫに関して図示し
説明された移送機構を有するチャンバも含む。
【００７５】図１６には装置の幾つかの構成が示されて
おり、その中で少なくとも１つのチャンバはＲＡＫＡＫ
あるいはＲＡＤＫチャンバである。図から明らかなよう
に、２つのチャンバタイプおよび他の公知のチャンバを
用いて、図５に示すマスキング機構を有する、あるいは
有しない最高にフレキシブルな任意のモジュラー装置構
成が形成される。本発明方法は特に、磁気光学的なメモ
リプレートの処理に適している。
おり、その中で少なくとも１つのチャンバはＲＡＫＡＫ
あるいはＲＡＤＫチャンバである。図から明らかなよう
に、２つのチャンバタイプおよび他の公知のチャンバを
用いて、図５に示すマスキング機構を有する、あるいは
有しない最高にフレキシブルな任意のモジュラー装置構
成が形成される。本発明方法は特に、磁気光学的なメモ
リプレートの処理に適している。
【００７６】
【発明の効果】以上の説明から明かなように、本発明に
よれば、マスクの交換と装置の開放に必要な従来の長い
静止時間と再調整時間を短縮し、工作物の処理可能件数
を増すと共に、マスキング機構の寿命を増大し、且つ粒
子の形成が減少する効果を奏する。
よれば、マスクの交換と装置の開放に必要な従来の長い
静止時間と再調整時間を短縮し、工作物の処理可能件数
を増すと共に、マスキング機構の寿命を増大し、且つ粒
子の形成が減少する効果を奏する。
【図１】本発明による方法が実施される好ましい装置構
成の概略的な縦断面図である。
成の概略的な縦断面図である。
【図２】図２（ａ）は図１に示す装置の一部断面で示す
上面図であり、図２（ｂ）は図１と２に示す装置のチャ
ンバに設けた工作物収容部の好ましい実施例を示す。
上面図であり、図２（ｂ）は図１と２に示す装置のチャ
ンバに設けた工作物収容部の好ましい実施例を示す。
【図３】ａからｆは本発明による方法ないし本発明によ
る真空処理装置の原理の好ましい実施方法の概略図であ
る。
る真空処理装置の原理の好ましい実施方法の概略図であ
る。
【図４】図１と２に示す装置の他の実施例におけるマス
キング機構を有する工作物の移送領域を示す断面図であ
る。
キング機構を有する工作物の移送領域を示す断面図であ
る。
【図５】本発明による方法ないしそれを実現する装置の
基本原理を概略図示するブロック図である。
基本原理を概略図示するブロック図である。
【図６】図１と２に示す装置に使用されるチャンバの基
本原理を説明する概略的な部分断面図である。
本原理を説明する概略的な部分断面図である。
【図７】図６に示すものと同様なチャンバの他の実施例
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図８】図１と２に示す装置に使用されるチャンバの原
理の他の実施形態を示す部分的な断面図である。
理の他の実施形態を示す部分的な断面図である。
【図９】図６に示すチャンバの他の実施例の原理を他の
装置構造に組み込んで示す部分的な断面図である。
装置構造に組み込んで示す部分的な断面図である。
【図１０】図９に示す装置の構成を一部断面で示す上面
図である。
図である。
【図１１】図８から１０に示すチャンバと図１および２
に示す装置のチャンバを実現する基本原理を示す概略図
である。
に示す装置のチャンバを実現する基本原理を示す概略図
である。
【図１２】図１１に示す原理に基づき、チャンバ設計の
他の方法を示す概略図である。
他の方法を示す概略図である。
【図１３】図１２に示すチャンバの設計に基づき、さら
に他の設計方法を示す概略図である。
に他の設計方法を示す概略図である。
【図１４】図１に示す装置に使用されるチャンバないし
は図８から１３に示すチャンバと同一の原理に基づく、
チャンバの他の実施形態を概略図示する断面図である。
は図８から１３に示すチャンバと同一の原理に基づく、
チャンバの他の実施形態を概略図示する断面図である。
【図１５】種々のチャンバタイプを定義するグラフィッ
クシンボルである。
クシンボルである。
【図１６】図１と２に示すチャンバの原理に従ってモジ
ュールとして形成されたチャンバのそれぞれ少なくとも
１つを有する装置構成の例を示す説明図である。
ュールとして形成されたチャンバのそれぞれ少なくとも
１つを有する装置構成の例を示す説明図である。
１，２…チャンバ装置 ４…移送開口部 ６…供給乃至排出開口部 ８…供給及び閉鎖操作部材 １０…回転駆動装置 １４…カルーセル（円形コンベア） ２０…収容部 ２２，１０２…工作物 ３０ｂ，５２…移送機構（皿部） ５８，１０８…マスキング機構 ６０…引取り装置（電磁石装置） １００…移送手段（コンベア） １０４…取付けステーション １１０…真空表面処理装置
Claims (12)
- 【請求項１】 真空表面処理の間に工作物をマスキング
する方法であって、メモリプレート形成の場合における
ように、特に円形ディスク状の工作物の中央および／ま
たは周辺領域を被覆する方法において、 少なくとも１つのマスキング機構が別体の部材として工
作物を処理しようとする途上で工作物に取り付けられ、
かつ工作物から取り外されることを特徴とする工作物を
マスキングする方法。 - 【請求項２】 取り付けが真空条件下で行われることを
特徴とする請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 工作物が少なくとも第１のチャンバから
第２のチャンバへ移動され、その後処理位置へさらに案
内され、処理後はその逆が行われ、 マスキング機構は工作物が第１のチャンバから第２のチ
ャンバ内へ移送される際に工作物に取り付けられ、好ま
しくは戻される際あるいは戻された後に工作物から取り
外されることを特徴とする請求項１あるいは２に記載の
方法。 - 【請求項４】 同一のマスキング機構が処理済みの工作
物から取り外され、これらか処理すべき工作物に取り付
けられ、かつ好ましくは周期的に交換されることを特徴
とする請求項２あるいは３に記載の方法。 - 【請求項５】 マスキング機構の取り付けと、好ましく
はその取り外しも磁場制御されて行われ、かつ好ましく
は取り付け位置における工作物への固定も磁気的に、好
ましくは永久磁石によって行われることを特徴とする請
求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項６】 移送する際に、 マスキング機構が引き戻し案内領域において処理済みの
工作物から持ち上げられ、 処理済みの工作物が第１のチャンバへ移動され、かつそ
の中で離れる方向へ移送され、 未処理の工作物が第１のチャンバの移送ガイド位置へ移
送され、 持ち上げられたマスキング機構が未処理の工作物上に取
り付けられ、 未処理の工作物が第２のチャンバへ移送されて、そこで
処理位置へ向けて移送されることを特徴とする請求項１
から５までのいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項７】 排気可能なチャンバ装置と、工作物（１
０２）をチャンバ装置内へ移送し、チャンバ装置を通過
させ、かつチャンバ装置から出るように移送する移送手
段（１００）とを備えた工作物の表面処理のため、特に
ＣＤあるいはメモリプレート製造の場合のように、円形
ディスク状の工作物の中央および／または周辺領域を被
覆するための真空処理装置において、 移送手段（１００）に沿って、それぞれ少なくとも１つ
のルーズなマスキング機構（１０８）をそれぞれ工作物
へ取り付けるための取り付けステーション（１０４）が
設けられていることを特徴とする工作物の真空処理装
置。 - 【請求項８】 少なくとも取り付けステーション（１０
４；４）がチャンバ装置（１、２）の内部に配置されて
いることを特徴とする請求項７に記載の真空処理装置。 - 【請求項９】 チャンバ装置に、移送開口部（４）を介
して少なくとも時々連通する少なくとも２つのチャンバ
（１、２）が設けられており、その中に工作物（２２）
を移送するそれぞれ１つの移送機構（５２；３０ｂ）が
設けられており、 取り付けステーションが開口部領域（４）内に形成され
ていることを特徴とする請求項７あるいは８に記載の真
空処理装置。 - 【請求項１０】 取り付けステーションと取り外しステ
ーションが移送開口部（４）に形成されており、かつ共
に交換ステーションとして形成されており、交換ステー
ションは第２のチャンバ（２）内で移送機構（５２）に
関して、取り外しないしは再取り付けに応じてマスキン
グ機構（５８）を往復移動させることを特徴とする請求
項９に記載の真空処理装置。 - 【請求項１１】 第１のチャンバ（１）内で移送機構
（３０ｂ）に設けられた交換ステーションに、第２のチ
ャンバ（２）内の移送機構（５２）からマスキング機構
（５８）を引き取り、かつ第２のチャンバ（２）内の移
送機構（５２）へマスキング機構（５８）を戻す案内を
する引き取り装置（６０）が設けられていることを特徴
とする請求項１０に記載の真空処理装置。 - 【請求項１２】 取り付けステーションと、好ましくは
また取り外しステーションに、マスキング機構（５８）
を磁場駆動で取り扱う電磁石装置（６０）が設けられて
いることを特徴とする請求項７から１１までのいずれか
１項に記載の真空処理装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH311892 | 1992-10-06 | ||
| CH03118/92-4 | 1992-10-06 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06279987A true JPH06279987A (ja) | 1994-10-04 |
| JP3734843B2 JP3734843B2 (ja) | 2006-01-11 |
Family
ID=4248998
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25076493A Expired - Lifetime JP3734843B2 (ja) | 1992-10-06 | 1993-10-06 | 真空処理装置及びディスク状加工物の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5662785A (ja) |
| JP (1) | JP3734843B2 (ja) |
| KR (1) | KR940009360A (ja) |
| FR (1) | FR2696426B1 (ja) |
| GB (1) | GB2272225B (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0591706B1 (de) * | 1992-10-06 | 2002-04-24 | Unaxis Balzers Aktiengesellschaft | Kammer für den Transport von Werkstücken |
| JPH08273207A (ja) * | 1995-01-31 | 1996-10-18 | Canon Inc | 光情報記録媒体搬送用キヤリア、該キヤリアを用いた光情報記録媒体の製造方法及び製造装置 |
| US6054029A (en) * | 1996-02-23 | 2000-04-25 | Singulus Technologies Gmbh | Device for gripping, holdings and/or transporting substrates |
| ATE212074T1 (de) * | 1996-12-23 | 2002-02-15 | Vakuumbehandlungsanlage | |
| CH693508A5 (de) * | 1997-09-12 | 2003-09-15 | Unaxis Balzers Ag | Sputterstation. |
| DE29716440U1 (de) * | 1997-09-12 | 1997-12-11 | Balzers Ag, Balzers | Sputterstation |
| US6730194B2 (en) * | 1997-11-05 | 2004-05-04 | Unaxis Balzers Aktiengesellschaft | Method for manufacturing disk-shaped workpieces with a sputter station |
| JPH11302878A (ja) * | 1998-04-21 | 1999-11-02 | Speedfam-Ipec Co Ltd | ウエハ平坦化方法，ウエハ平坦化システム及びウエハ |
| US6063244A (en) * | 1998-05-21 | 2000-05-16 | International Business Machines Corporation | Dual chamber ion beam sputter deposition system |
| US6416583B1 (en) | 1998-06-19 | 2002-07-09 | Tokyo Electron Limited | Film forming apparatus and film forming method |
| AU1850101A (en) * | 1999-10-22 | 2001-05-08 | Data Disc Robots Gmbh | Method and device for drying data carrier plates |
| DE502005003731D1 (de) * | 2005-04-20 | 2008-05-29 | Applied Materials Gmbh & Co Kg | Magnetische Maskenhalterung |
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